KR970018707A - 박막트랜지스터 및 그 제조방법 - Google Patents

박막트랜지스터 및 그 제조방법 Download PDF

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KR970018707A
KR970018707A KR1019950032942A KR19950032942A KR970018707A KR 970018707 A KR970018707 A KR 970018707A KR 1019950032942 A KR1019950032942 A KR 1019950032942A KR 19950032942 A KR19950032942 A KR 19950032942A KR 970018707 A KR970018707 A KR 970018707A
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conductive layer
thin film
film transistor
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KR1019950032942A
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김상갑
서영갑
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김광호
삼성전자 주식회사
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Abstract

박막트랜지스터 및 그 제조방법에 관해 개시한다. 본 발명은 기판위에 형성된 게이트 전극과 게이트 절연막을 사이에 두고 대향배치된 비정질 반도체층, 상기 게이트 전극에 대향하는 채널영역을 제외한 비정질 반도체층의 양측에 접속되고 상기 게이트 전극과 일부 중첩되는 부분을 가지는 n+비정질 반도체층, 상기 n+비정질 반도체층의 표면에 형성된 완충층 및 상기 완충층과 용장층을 사이에 두고 대향배치된 소오스전극과 드레인 전극을 구비하는 것을 특징으로 하는 박막트랜지스터를 제공한다. 본 발명은 또한 상기 박막트랜지스터를 제조하는데 있어서 가장 적합한 제조방법을 제공한다. 본 발명에 의하면 용장층과 n+비정질 반도체층의 반응에 의한 합금화합물의 생성이 방지되므로 박막트랜지스터의 신뢰도가 증가하고, 특성이 우수한 박막트랜지스터를 제조할 수 있게 된다.

Description

박막트랜지스터 및 그 제조방법
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제4도 내지 제8도는 본 발명의 실시예에 의한 박막트랜지스터의 제조방법을 나타내는 단면도들이다.

Claims (7)

  1. 기판위에 형성된 게이트 전극과 게이트 절연막을 사이에 두고 대향배치된 비정질 반도체층; 상기 게이트 전극에 대향하는 채널영역을 제외한 비정질 반도체층의 양측에 접속되고 상기 게이트 전극과 일부 중첩되는 부분을 가지는 n+비정질 반도체층; 상기 n+비정질 반도체층의 표면에 형성된 완충층; 및 상기 완충층과 용장층을 사이에 두고 대향배치된 소오스전극과 드레인 전극을 구비하는 것을 특징으로 하는 박막트랜지스터.
  2. 제1항에 있어서, 상기 완충층은 다결정 실리콘, 몰리브덴, 텅스텐 및 크롬 중에서 어느 하나로 형성된 것을 특징으로 하는 박막트랜지스터.
  3. 제1항에 있어서, 상기 용장층은 알루미늄으로 형성된 것을 특징으로 하는 박막트랜지스터.
  4. 제1항에 있어서, 상기 소오스 전극과 드레인 전극은 크롬, 탄탈륨, 티타늄, 몰리브덴 및 텅스텐 중에서 어느하나의 금속으로 형성된 것을 특징으로 하는 박막트랜지스터.
  5. 기판에 형성된 제1도전층을 박막트랜지스터의 게이트로 패터닝하는 단계; 상기 반도체 기판 전면에 게이트 절연막, 제2도전층 및 제3도전층을 차례대로 적층하는 단계; 상기 제3도전층위에 완충층을 형성한 후 열처리하는 단계; 상기 완충층위에 용장층을 형성하고 제2도전층내의 채널영역과 대응되는 부분의 용장층을 식각하여 용장층패턴을 형성하는 단계; 상기 용장층패턴위에 제4도전층패턴을 형성하는 단계; 상기 제4도전층패턴과 용장층패턴을 식각마스크로하여 상기 완충층과 제3도전층을 식각하여 제2도전층의 채널영역 표면을 노출시키는 단계를 구비하는 것을 특징으로 하는 박막트랜지스터의 제조방법.
  6. 제5항에 있어서, 상기 제1도전층은 다결정실리콘을, 제2도전층은 비정질 실리콘을, 제3도전층은 n+형 비정질 실리콘을 이용하여 형성하는 것을 특징으로 하는 박막트랜지스터의 제조방법.
  7. 제5항에 있어서, 상기 완충층을 형성한 후 열처리하는 단계에 의해 완충층과 제3도전층이 반응하여 실리사이드가 형성되는 것을 특징으로 하는 박막트랜지스터의 제조방법.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8252639B2 (en) 2004-09-24 2012-08-28 Samsung Electronics Co., Ltd. Thin film transistor array panel and method for manufacturing the same

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US8252639B2 (en) 2004-09-24 2012-08-28 Samsung Electronics Co., Ltd. Thin film transistor array panel and method for manufacturing the same

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