KR970013354A - 반도체장치의 커패시터 제조방법 - Google Patents
반도체장치의 커패시터 제조방법 Download PDFInfo
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Abstract
반도체장치의 커패시터 제조방법에 관하여 기재하고 있다. 반도체기판상에 층간절연층을 형성하고, 상기 결과물 상에 스토리지전극을 형성한 다음, 상기 스토리지전극 상에 포토레지스트 패턴을 형성한다. 이어서, 상기 기판상에 적층된 상기 스토리지전극 및 층간절연층을 부분적으로 식각하여 상기 기판의 소오스영역을 노출시키는 콘택홀을 형성하고, 상기 스토리지전극의 측벽 및 상기 콘택홀 내벽에 도전물 스페이서를 형성한다. 따라서, 커패시터의 유효면적을 확장하여 커패시터스를 증가시킬 수 있다.
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제2a도 및 제2e도는 본 발명의 일 실시예에 따른 커패시터 형성방법의 일예를 도시한 공정순서도.
Claims (7)
- 반도체기판 상에 층간절연층을 형성하는 단계 ; 상기 결과물 상에 스토리지전극을 형성하는 단계 ; 상기 스토리지전극 상에 포토레지스트 패턴을 형성하는 단계 ; 상기 기판 상에 적층된 상기 스토리지전극 및 층간절연층을 부분적으로 식각하여 상기 기판의 소오스영역을 노출시키는 콘택홀을 형성하는 단계 ; 및 상기 스토리지전극의 측벽 및 상기 콘택홀 내벽에 도전물 스페이서를 형성하는 단계를 구비하는 것을 특징으로 하는 반도체장치 커패시터 제조방법.
- 제1항에 있어서, 상기 층간절연층 형성전, 상기 기판과 콘택홀 사이에 폴리실리콘 패드를 형성하는 단계를 더 구비하는 것을 특징으로 하는 반도체장치 커패시터 제조방법.
- 제1항에 있어서, 상기 콘택홀 내벽에 형성된 상기 도전물 스페이서는 상기 콘택홀 저변에서 서로 연결되도록 형성하는 것을 특징으로 하는 반도체장치 커패시터 제조방법.
- 제1항에 있어서, 상기 스페이서 형성을 위한 도전층은 상기 콘택홀 상단 폭의 1/2보다 두꺼운 두께로 형성하는 것을 특징으로 하는 반도체장치 커패시터 제조방법.
- 제1항에 있어서, 상기 스페이서는 이방성식각 또는 에치백 식각을 이용하여 형성하는 것을 특징으로 하는 반도체장치 커패시터 제조방법.
- 제1항에 있어서, 상기 콘택홀 형성시 계단식(step by step) 식각방법을 사용하는 것을 특징으로 하는 반도체장치 커패시터 제조방법.
- 제1항에 있어서, 상기 콘택홀 형성하는 단계에서, 상기 스토리지전극을 식각하고 포토레지스트 패턴의 측벽에 PH-SiH4및 TEOS를 증착한 다음, 층간절연층을 식각하여 콘택홀의 크기를 작게 형성하는 것을 특징으로 하는 반도체장치 커패시터 제조방법.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1019950026914A KR970013354A (ko) | 1995-08-28 | 1995-08-28 | 반도체장치의 커패시터 제조방법 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1019950026914A KR970013354A (ko) | 1995-08-28 | 1995-08-28 | 반도체장치의 커패시터 제조방법 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR970013354A true KR970013354A (ko) | 1997-03-29 |
Family
ID=66596153
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1019950026914A KR970013354A (ko) | 1995-08-28 | 1995-08-28 | 반도체장치의 커패시터 제조방법 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| KR (1) | KR970013354A (ko) |
-
1995
- 1995-08-28 KR KR1019950026914A patent/KR970013354A/ko not_active Application Discontinuation
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