KR970003256A - 플래쉬 메모리장치 - Google Patents
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Abstract
플래쉬 메모리장치가 개시되어 있다. 본 발명은 스트링 선택라인 및 접지 선택라인을 각각 스트링 선택 트랜지스터의 제어게이트 전극 및 접지 선택 트랜지스터의 제어게이트 전극에만 연결시키어 형성함으로써, 상기 스트링 선택라인 및 상기 접지 선택라인의 저항과 이들이 연결되어 형성되는 기생용량을 크게 감소시킨다. 본 발명에 의하면, 원하는 셀을 포함하는 스트링을 선택할 경우 상기 스트링 선택라인 및 상기 접지 선택라인에 의한 전기적인 신호의 지연시간을 감소시킬 수 있다.
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제3도는 본 발명에 의한 플래쉬 메모리장치의 셀 어레이 영역의 일부분을 도시한 개요도(schematic diagram)이다. 제4도는 제3도의 경로(Q)에 대한 등가회로도이다.
Claims (4)
- 복수의 메모리 셀, 하나의 접지 선택 트랜지스터, 및 하나의 스트링 선택 트랜지스터가 직렬로 배열되어 구성되고, 상기 메모리 셀, 접지 선택 트랜지스터, 및 스트링 선택 트랜지스터는 부유게이트와 제어게이트 전극이 차례로 적충된 구조를 가지는 복수의 스트링, 상기 스트링을 선택하기 위한 복수의 접지 선택라인과 스트링 선택라인, 상기 스트링 선택 트랜지스터와 연결된 비트라인, 및 상기 메모리 셀과 연결된 워드라인을 포함하는 플래쉬 메모리장치에 있어서, 적어도 하나의 상기 접지 선택라인을 상기 접지 선택 트랜지스터의 제어게이트 전극에만 연결시키는 수단, 및/또는 적어도 하나의 상기 스트링 선택라인을 상기 스트링 선택 트랜지스터의 제어게이트 전극에만 연결시키는 수단을 포함하는 것을 특징으로 하는 플래쉬 메모리 장치.
- 제1항에 있어서, 상기 부유게이트는 도우핑된 폴리실리콘층으로 구성하는 것을 특징으로 하는 플래쉬 메모리장치.
- 제1항에 있어서, 상기 제어게이트 전극은 저저항성 도전층으로 구성하는 것을 특징으로 하는 플래쉬 메모리장치.
- 제3항에 있어서, 상기 저저항성 도전층은 텅스텐 폴리사이드층인 것을 특징으로 하는 플래쉬 메모리장치.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1019950017265A KR970003256A (ko) | 1995-06-24 | 1995-06-24 | 플래쉬 메모리장치 |
JP15568196A JPH0917982A (ja) | 1995-06-24 | 1996-06-17 | フラッシュメモリ装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1019950017265A KR970003256A (ko) | 1995-06-24 | 1995-06-24 | 플래쉬 메모리장치 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
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KR970003256A true KR970003256A (ko) | 1997-01-28 |
Family
ID=19418153
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1019950017265A KR970003256A (ko) | 1995-06-24 | 1995-06-24 | 플래쉬 메모리장치 |
Country Status (2)
Country | Link |
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JP (1) | JPH0917982A (ko) |
KR (1) | KR970003256A (ko) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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KR100650817B1 (ko) * | 2004-04-19 | 2006-11-27 | 에스티마이크로일렉트로닉스 엔.브이. | 난드형 플래쉬 메모리 소자 및 그 제조 방법 |
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1995
- 1995-06-24 KR KR1019950017265A patent/KR970003256A/ko not_active Application Discontinuation
-
1996
- 1996-06-17 JP JP15568196A patent/JPH0917982A/ja not_active Withdrawn
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0917982A (ja) | 1997-01-17 |
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