KR960706515A - 활성 에너지선 경화성 조성물 및 렌즈 시이트(Active energy ray-curable composition and lens sheet) - Google Patents
활성 에너지선 경화성 조성물 및 렌즈 시이트(Active energy ray-curable composition and lens sheet)Info
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Abstract
하기 일반식 (I)의 화합물 (A) 20 내지 80중량부, 분자내에 하나 이상의 아크릴로일 또는 메타크릴로일 그룹을 갖는 하나 이상의 화합물(B) 20 내지 80중량부, 또는 분자내에 두 개 이상의 아크릴모일 또는 메타크릴로일 그룹을 갖는 하나 이상의 화합물(B-1) 10 내지 90중량부와 분자내에 한 개의 아크릴모일 또는 메타크릴로일 그룹을 갖는 하나 이상의 모노아크릴레이트 또는 모노메타크릴레이트 화합물(B-2) 1 내지 90중량부 및, 성분(A)와 성분(B) 또는 성분(A), 성분(B-1) 및 성분(B-2) 총 100중량부에 대하여, 활성 에너지선 민감성 라디칼 중합 개시제(C) 0.01 내지 5중량부를 포함하는, 활성 에너지선 경화성 조성물, 및 당해 조성물을 사용하여 투명기판의 적어도 한 면 위에 형성된 렌즈 부분을 포함하는 렌즈 시이트.
상기 식에서, R1은 수소 또는 메틸을 나타내고, X 및 Y는 동일하거나 상이할 수 있으며, 메틸, 염소, 브롬 또는 요오드를 나타내고, t 및 u는 각각 독립적으로 0 내지 2의 정수를 나타낸다.
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1(a)도, 제1(b)도 및 제1(c)도는 프리즘 시이트와 백라이트(dacklight)를 사용하는 휘도가 큰 백라이트의 제조방법을 나타내는 도식도이다, 제2도는 프리즘 시이트의 부분 단면도이다, 제3도는 프리즘 시이트의 제조방법을 나타내는 개략도이다, 제4도는 금형에서 꺼낸 상태 그대로의 프리즘 시이트를 나타내는 부분 단면도이다, 제5도는 프리즘 시이트 제조용 금형의 한 양태의 사시도이다.
Claims (12)
- 하기 일반식(I)의 화합물(A) 20 내지 80중량부, 분자내에 하나 이상의 아크릴로일 또는 메타크릴로일 그룹을 갖는 하나 이상의 화합물(B) 20 내지 80중량부, 및 성분(A)와 성분(B) 총 100중량부에 대하여, 활성 에너지선 민감성 라디칼 중합개시제(C) 0.01 내지 5중량부를 포함하는, 활성 에너지선 경화성 조성물.상기 식에서, R1은 수소 또는 메틸을 나타내고, X 및 Y는 동일하거나 상이할 수 있으며, 각각 메틸, 염소, 브롬 또는 요오드를 나타내고, t 및 u는 각각 독립적으로 0 내지 2의 정수를 나타낸다.
- 제1항에 있어서, 성분(A)를 구성하는 화합물이 비스(4-메타크릴로일티오페닐)설파이드인 조성물.
- 하기 일반식(I)의 화합물(A) 20 내지 80중량부, 분자내에 두 개 이상의 아크릴로일 또는 메타크릴로일 그룹을 갖는 하나 이상의 화합물(B-1) 10 내지 90중량부, 분자내에 한 개의 아크릴로일 또는 메타크릴로일 그룹을 갖는 하나 이상의 모노아크릴레이트 또는 모노메타크릴레이트 화합물(B-2) 1 내지 90중량부 및, 성분(A), 성분(B-1) 및 성분(B-2) 총 100중량부에 대하여, 활성 에너지선 민감성 라디칼 중합개시제(C) 0.01 내지 5중량부를 포함하는, 활성 에너지선 경화성 조성물.상기 식에서, R1은 수소 또는 메틸을 나타내고, X 및 Y는 동일하거나 상이할 수 있으며, 각각 메틸, 염소, 브롬, 또는 요오드를 나타내고, t 및 u는 각각 독립적으로 0 내지 2의 정수를 나타낸다.
- 제3항에 있어서, 성분(A)를 구성하는 화합물이 비스(4-메타크릴로일티오페닐)설파이드인 조성물.
- 제3항 또는 제4항에 있어서, 성분(B-1)을 구성하는, 분자내에 두 개 이상의 아크릴로일 또는 메타크릴로일 그룹을 갖는 화합물이 하기 일반식 (Ⅱ)의 화합물로부터 선택되는 조성물.상기 식에서, R2는 수소 또는 메틸을 나타내고, V 및 W는 동일하거나 상이할 수 있으며, 각각 메틸, 염소, 브롬 또는 요오드를 나타내고, p 및 q는 각각 독립적으로 0 내지 2의 정수를 나타내며, R3은 -O-(CH2CH2O)m-를 나타내고, m 및 n은 0 내지 5의 정수를 나타내며, Z는를 나타낸다.
- 제5항에 있어서, 성분(B-1)을 구성하는, 분자내에 두 개 이상의 아크릴로일 또는 메타크릴로일 그룹을 갖는 화합물이 2,2-비스(4-메타크릴로일옥시에톡시페닐)-프로판, 2,2-비스(4-아크릴로일옥시에톡시페닐)-프로판, 2,2-비스(4-메타크릴로일옥시디에톡시페닐)-프로판, 2,2-비스(4-아크릴로일옥시디에톡시페닐)-프로판, 2,2-비스(4-메타크릴로일옥시크리에톡시페닐)-프로판, 2,2-비스(4-아크릴로옥시트리에톡시페닐)-프로판, 2,2-비스(4-메타크릴로일옥시테트라에톡시페닐)-프로판, 2,2-비스(4-아크릴로일옥시테트라에톡시페닐)-프로판, 2,2-비스(4-메타크릴로일옥시펜타에톡시페닐)-프로판 및 2,2-비스(4-아크릴로일옥시펜타에톡시페닐)-프로판으로부터 선택되는 조성물.
- 제3항 내지 제6항 중의 어느 한 항에 있어서, 성분(B-2)을 구성하는 모노아크릴레이트 또는 모노메타크릴레이트 화합물이 하기 일반식(Ⅲ), (Ⅳ), (Ⅴ), (Ⅵ)의 화합물로부터 선택되는 조성물.상기 식에서, R4는 수소 또는 메틸을 나타내고, G는 메틸, 염소, 브롬 또는 요오드를 나타내며, i는 0 내지 5의 정수를 나타내고, j는 0 내지 4의 정수를 나타내며, R5는또는를 나타내고 m 및 n은 0 내지 5의 정수를 나타낸다.
- 제7항에 있어서, 성분(B-2)를 구성하는 모노아크릴레이트 또는 모노메타크릴레이트 화합물이 페닐 메타크릴레이트, 페닐 아크릴레이트, 벤질 메타크릴레이트, 벤질 아크릴레이트, 펜옥시에틸 메타크릴레이트, 펜옥시에틸 아크릴레이트, 펜옥시-2-메틸에틸 메타크릴레이트, 펜옥시에톡시에틸 메타크릴레이트, 펜옥시에톡시에틸, 아크릴레이트, 3-펜옥시-2-하이드록시프로필 메타크릴레이트, 3-펜옥시-2-하이드록시프로필, 아크릴레이트, 2-페닐페닐 메타크릴레이트, 2-페닐페닐 아크릴레이트, 4-페닐페닐 메타크릴레이트, 4-페닐페닐 아크릴레이트, 2-페닐펜옥시에틸 메타크릴레이트, 2-페닐펜옥시에틸 아크릴레이트, 3-(2-페닐페닐)-2-하이드록시프로필 메타크릴레이트, 3-(2-페닐페닐)-2-하이드록시프로필 아크릴레이트, 2-브로모펜옥시에틸 메타크릴레이트, 2-브로모펜옥시에틸 아크릴레이트, 2,4-디브로모펜옥시에틸 메타크릴레이트, 2,4-디브로모펜옥시에틸 아크릴레이트, 페닐티오에틸 메타크릴레이트, 페닐티오에틸 아크릴레이트, 페닐티오에톡시 메타크릴레이트, 페닐티오에톡시 아크릴레이트, 페닐티오디에톡시 메타크릴레이트, 페닐티오디에톡시 아크릴레이트, 2-페닐페닐티오에틸 메타크릴레이트, 2-페닐페닐티오에틸 아크릴레이트, 4-클로로 페닐티오에틸 메타크릴레이트, 4-클로로페닐티오에틸 아크릴레이트, 벤질티오에틸 메타크릴FP이트 및 벤질티오에틸 아크릴레이트로부터 선택되는 조성물.
- 제1항 내지 제8항 중의 어느 한 항에 따르는 활성 에너지선 경화성 조성물을 사용하여 투명 기판의 적어도 한 면위에 형성된 렌즈 부분을 포함하는 렌즈 시이트.
- 제9항에 있어서, 렌즈 부분의 굴절률이 1.60 이상인 렌즈 시이트.
- 제9항에 있어서, 렌즈 부분이 미세한 프리즘 열(prism row)의 형태로 존재하는 렌즈 사이트.
- 제11항에 있어서, 미세한 프리즘 열의 각각의 프리즘의 맞꼭지각이 80 내지 150°인 렌즈 시이트.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개되는 것임.
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