KR960042197A - 마스크의 리페어(repair) 방법 - Google Patents

마스크의 리페어(repair) 방법 Download PDF

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Abstract

마스크의 리페어 방법이 개시되어 있다. 본 발명은 투명한 석영기판과 그 한쪽면에 차광물질로 형성된 패턴으로 이루어지는 마스크를 리페어하는 방법에 있어서, 원하지 않는 패턴을 레이저를 사용하지 않고 습식식각 또는 건식식각 방법으로제거함으로써, 석영기판의 표면에 손상이 가해지는 것을 방지할 수 있다.

Description

마스크의 리페어(repair) 방법
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1a도 및 제1b도는 종래 기술에 의한 마스크의 리페어 방법을 설명하기 위한 단면도들이다.

Claims (6)

  1. 투명한 석영기판과 그 한쪽 표면에 차광물질로 형성된 패턴으로 이루어진 마스크의 리페어(repair)방법에있어서, 상기 패턴이 형성된 표면 상부에 감광막으르 도포하는 단계; 상기 감광막을 선택적으로 노광하는 단계; 상기 노광된 감광막을 현상하는 단계; 상기 현상된 감광막에 의해 노출된 차광물질을 식각하는 단계; 및 상기 현상된 감광막을제거하는 단계를 구비하여, 상기 석영기판에 손상을 주지 않으면서 원하는 패턴을 형성하는 것을 특징으로 하는 마스크의리페어 방법.
  2. 제1항에 있어서, 상기 차광물질은 크롬(chrome)인 것을 특징으로 하는 마스크의 리페어 방법.
  3. 제1항에 있어서, 상기 감광막은 포토레지스트로 형성하는 것을 특징으로 하는 마스크의 리페어 방법.
  4. 제1항에 있어서, 상기 노출된 차광물질을 식각하는 방법으로 습식식각과 건식식각 중 선택된 어느 하나를이용하는 것을 특징으로 하는 마스크의 리페어 방법.
  5. 제4항에 있어서, 상기 건식식각은 200mTorr의 진공도, 200W의 전력, 및 50℃의 온도 분위기에서 염소기체(Cl2) 및 산소(O2)를 사용하여 실시하는 것을 특징으로 하는 마스크의 리페어 방법.
  6. 제1항에 있어서, 상기 감광막의 선택적 노광은 스팟 마커(spot marker)용 램프를 갖는 레이저 리페어 장비를 사용하여 실시하는 것을 특징으로 하는 마스크의 리페어 방법.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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