KR960041388A - 고인성 질화규소 소결체 및 그 제조방법 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 질화규소에 HfO₂와 Y₂O₃가 첨가된 강도와 파괴인성 등 기계적 성질이 우수한 질화규소소결체에 관한 것으로, 질화규소를 주성분으로 하고 소결조제로 Y₂O₃+HfO₂가 1.25~5mol% 함유된 성분조성을 갖고, 미세한 결정립으로된 기지내에 조대한 결정립이 인-시튜(In-Situ)로 형성되어 내재된 것을 특징으로 하는 고인성을 갖는 질화규소 소결체와, 질화규소 분체가 95~98.75mol%이고, 소결조제로 Y₂O₃+HfO₂가 1.25~5mol%로 조성된 분말을 알콜올 매체로 하여 70~75시간 혼합한 후 건조하여 혼합분말을 제조하는 단계와, 상기 혼합분말을 금형에서 10Mpa 압력으로 1차 성형하고 다시 250Mpa 압력으로 2차성형하여 성형체를 만드는 단계와, 상기 성형체를 가스압 소결로에서 소결하는 단계로 이루어진다.

Description

고인성 질화규소 소결체 및 그 제조방법
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도는 본 발명 질화규소 소결체의 파단면에 대한 SEM사진이다.

Claims (7)

  1. 질화규소를 주성분으로 하고 소결조제로 Y₂O₃+HfO₂가 1.25~5mol% 함유된 성분조성을 갖고, 미세한 결정립으로된 기지내에 조대한 결정립이 인-시튜(In-Situ)로 형성되어 내재된 것을 특징으로 하는 고인성을 갖는 질화규소 소결체.
  2. 제1항에 있어서, 상기 Y₂O₃+HfO₂의 성분조성범위는 Y₂O₃:20~60wt%, HfO₂:40~80wt%인 것을 특징으로 하는 고인성을 갖는 질화규소 소결체.
  3. 제1항에 있어서, 상기 조대한 결정립은 미세한 결정립으로 구성된 기지내에 4~10% 내재되어 있는 것을 특징으로 하는 고인성을 갖는 질화규소 소결제.
  4. 제1항에 있어서, 상기 조대한 결정립의 크기는 미세한 결정립의 크기보다 10배 이상인 것을 특징으로 하는 고인성을 갖는 질화규소 소결체.
  5. 제4항에 있어서, 상기 미세한 결정립의 크기는 두께가 1㎛내외이고 길이가 10㎛내외이며, 상기 조대한 결정립은 두께가 10~30㎛ 또는 길이가 100~200㎛인 것을 특징으로 하는 고인성을 갖는 질화규소 소결체.
  6. 질화규소 분체가 95~98. 75mol%이고, 소결조제로 Y₂O₃+HfO₂가 1.25~5mol%로 조성된 분말을 알콜올 매체로 하여 70~75시간 혼합한 후 건조하여 혼합분말을 제조하는 단계와, 상기 혼합분말을 금형에서 10Mpa 압력으로 1차 성형하고 다시 250Mpa 압력으로 2차성형하여 성형체를 만드는 단계와, 상기 성형체를 가스압소결로에서 소결하는 단계로 이루어진 것을 특징으로하는 고인성 질화규소 소결체의 제조방법.
  7. 제6항에 있어서, 상기 가스압 소결공정은 1950℃~2050℃의 로내온도가 되도록 승온한 다음 20~100기압의 질소가스압 상태에서 2시간~4시간 소결하는 것을 특징으로 하는 고인성 질화규소 소결체의 제조방법
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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