KR960009300A - 반도체 레이저 다이오드 및 그 제조방법 - Google Patents

반도체 레이저 다이오드 및 그 제조방법 Download PDF

Info

Publication number
KR960009300A
KR960009300A KR1019940021899A KR19940021899A KR960009300A KR 960009300 A KR960009300 A KR 960009300A KR 1019940021899 A KR1019940021899 A KR 1019940021899A KR 19940021899 A KR19940021899 A KR 19940021899A KR 960009300 A KR960009300 A KR 960009300A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
protrusion
bent portion
portion corresponding
semiconductor laser
laser diode
Prior art date
Application number
KR1019940021899A
Other languages
English (en)
Inventor
방동수
Original Assignee
김광호
삼성전자 주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 김광호, 삼성전자 주식회사 filed Critical 김광호
Priority to KR1019940021899A priority Critical patent/KR960009300A/ko
Publication of KR960009300A publication Critical patent/KR960009300A/ko

Links

Landscapes

  • Semiconductor Lasers (AREA)

Abstract

본 발명은 반도체 레이저 다이오드 및 그 제조 방법에 관한 것으로, 특히 이온 주입에 의해 통전 채널을 형성하여 그 구조 및 제조 공정을 간단화한 반도체 레이저 다이오드 및 그 제조 방법에 관한 것이다.
즉, 본 발명에 따른 반도체 레이저 다이오드 및 그 제조 방법은 상부 크래드층 상면에 캡층 대신 전류 차단층을 형성하고 프로톤 충역 대신 이온 주입을 싱시하여 통전 태널을 형성함으로써, 통전 채널을 활성층의 굴곡부에 자동적을 일치시킬 수 있고, 프론톤 충격용 Ti마스크를 증착하시 위한 공정이 생략되므로 제조공정이 비교적 간단하고, 고출력 동작이 용이한 특성을 가진다. 또한 프로톤 충격에 의한 고저항 형성시 보다 누설 전류를 현격히 줄일 수 있어 낮은 발진 개시 전류를 얻을 수 있고 발광 효율이 놓아지게 되며, 프로톤 충격에 의한 기판의 손상도 줄일 수 있는 효과가 있다.

Description

반도체 레이저 다이오드 및 그 제조방법
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제8도는 내지 제14도는 본 발명에 따른 반도체 레이저 다이오드의 제조 단계별 공정 후의 수직 단면도로서, 제8도는 에피택시 성장 후의 수직 단면도,
제9도는 포토레지스트 도로 후의 수직 단면도,
제10도는 돌기부 노출 후의 수직 단면도,
제11도는 건식 또는 습식 식각에 의한 돌기부 식각 후의 수직 단면도,
제12도는 이온 주입 공정 후의 수직 단면도,
제13도는 잔류 포토레지스트 제거후 완성된 소자의 수직 단면도,
제14도는 상기 돌기부 식각 공정을 생략했을 경우의 완성된 소자의 수직 단면도이다.

Claims (8)

  1. 그중앙 상면에 돌기부가 형성된 가판; 상기 기판 상면에 상기 돌기부에 대응하는 굴곡부를 가지도록 적층된 하부 크래드층; 상기 하부 크래드층 상면에 상기 돌기부에 대응하는 굴곡부를 가지도록 적층된 활성층; 상기 활성층 상면에 상기 돌기부에 대응하는 굴곡부를 가지도록 적층된 상부 크래드층; 그리고 상기 상부 크래드층 상면에 그 상면이 평탄하도록 적층된 전류 차단층;을 구비하여 된 것을 특징으로 하는 반도체 레이저 다이오드.
  2. 제1항에 있어서, 상기 돌기부는 메사형 구조로 이루어진 것을 특징으로 하는 반도체 레이저 다이오드.
  3. 그 중앙 상면에 돌기부가 형성된 기판; 상기 기판 상면에 상기 돌기부에 대응하는 굴곡부를 가지도록 적층된 하부 크래드층; 상기 하부 크래드층 상면에 상기 돌기부에 대응하는 굴곡부를 가지도록 적층된 활성층; 상기 활성층 상면에 상기 돌기부에 대응하는 굴고부를 가지도록 적층된 상부 크래드층; 그리고 상기 상부 크래드층 상면에 상기 돌기부에 대응하는 굴곡부를 가지도록 적층된 전류 차단층;을 구비하여 된 것을 특징으로 하는 반도체 레이저 다이오드.
  4. 제3항에 있어서, 상기 돌기부는 메사형 구조로 이루어진 것을 특징으로 하는 반도체 레이저 다이오드.
  5. 기판 상면 중앙에 돌기부를 형성하는 돌기부 형성 단계; 상기 기판 상면에 상기 돌기부에 대응하는 굴곡부를 갖도록 하부 크래드층, 활성층, 상부 크래드층 및 전류 차단층을 순차적으로 성장시키는 성장 단계; 상기 전류 차단층 상면에 포토레지스트를 평탄하게 도포하는 포토레지스트 도포 단계; 상기 포토레지스트를 식각하여 상기 전류 차단층의 국곡부를 노출시키는 굴곡부 노출 단계; 상기 잔류된 포토레지스트를 마스크로 하여 상기 굴곡부에 이온을 주입하여 통전 채널을 형성하는 이온 주입 단계; 그리고 상기 잔류된 포토레지스트를 제거하는 포토레지스트 제거단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 레이저 다이오드의 제조 방법.
  6. 제5항에 있어서, 상기 돌기부 형성 단계는 포토리소그래피법에 의해 이루어지는 것을 특징으로 하는 반도체 레이저 다이오드의 제조 방법.
  7. 제5항에 있어서, 상기 굴곡부 노출 단계 다음에 잔류된 포토레지스트를 마스크로 하여 상기 전류 차단층의 굴곡부를 식각하는 굴곡부 식각 단계를 더 포한하는 것을 특징으로 하는 반도체 레이저 다이오드의 제조 방법.
  8. 제7항에 있어서, 상기 굴곡부 식각 단계는 건식 또는 습식 식각법에 의해 이루어지는 것을 특징으로 하는 반도체 레이저 다이오드의 제조 방법.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019940021899A 1994-08-31 1994-08-31 반도체 레이저 다이오드 및 그 제조방법 KR960009300A (ko)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1019940021899A KR960009300A (ko) 1994-08-31 1994-08-31 반도체 레이저 다이오드 및 그 제조방법

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1019940021899A KR960009300A (ko) 1994-08-31 1994-08-31 반도체 레이저 다이오드 및 그 제조방법

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR960009300A true KR960009300A (ko) 1996-03-22

Family

ID=66686691

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1019940021899A KR960009300A (ko) 1994-08-31 1994-08-31 반도체 레이저 다이오드 및 그 제조방법

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR960009300A (ko)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101013422B1 (ko) * 2003-05-12 2011-02-14 소니 주식회사 면발광형 반도체 레이저소자 및 그 제조방법

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101013422B1 (ko) * 2003-05-12 2011-02-14 소니 주식회사 면발광형 반도체 레이저소자 및 그 제조방법

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR910007098B1 (ko) 전계 효과 트랜지스터용 t-게이트 전극 및 이의 제조방법
CN108899376A (zh) 一种太阳能电池及其选择性发射极结构的制作方法
KR960009300A (ko) 반도체 레이저 다이오드 및 그 제조방법
CN209843739U (zh) 一种六面粗化的红外led芯片
KR100244402B1 (ko) 반도체소자의 트렌치 아이솔레이션 제조방법
KR970054972A (ko) 레이저 다이오드 제조방법
KR0156149B1 (ko) 반도체 소자 격리영역 형성방법
KR950010218A (ko) 반도체 레이저 다이오드
KR960006176A (ko) 반도체 레이저 다이오드 및 그 제조 방법
KR930006967A (ko) 반도체 장치의 제조방법
CN107230634A (zh) 氮化镓晶体管的制作方法
KR100192398B1 (ko) 반도체 소자의 캐패시터 제조방법
KR100836774B1 (ko) 레이저 다이오드의 제조방법
KR0124643B1 (ko) 반도체소자의 격리막 형성방법
KR100357980B1 (ko) 반도체 레이저 다이오드 및 그 제조 방법
KR100279588B1 (ko) 고출력 레이저 다이오드 제조방법
KR100464602B1 (ko) 반도체 레이저 다이오드 및 그 제조방법
KR100419286B1 (ko) 반도체 레이저 다이오드 제조방법
KR950012902A (ko) 반도체 레이저 다이오드 및 그의 제조 방법
KR0140806B1 (ko) 반도체 소자의 캐패시터 제조방법
KR950012652A (ko) 선택적 매몰 릿지형 반도체 레이저 다이오드 및 그의 제조 방법
KR970071127A (ko) 감광막을 이용한 패턴 형성 방법
KR940001351A (ko) 반도체 소자의 격리방법
KR920007211A (ko) 고속 바이폴라 트랜지스터 및 그의 제조방법
KR960043294A (ko) 박막트랜지스터 제조방법

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E601 Decision to refuse application