KR950033698A - 근접 효과를 보정할 수 있는 전자빔 노광시스템 - Google Patents
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Abstract
전자빔 노광 시스템에서, 전자빔(1)은 조정되어 마스크(7′)의 다수 패턴 개구부(7′a)에 조사된다. 다수 패턴 개구부를 통과하는 전자빔은 편향체(9X, 9Y, 10X, 10Y)에 의해 편향되고, 감광제로 코팅된 타겟(13)에 조사된다. 상기 타겟은 패턴 개구부의 크기와 동일한 크기를 갖는 다수의 부영역으로 분할된다. 타겟의 감광제에 축적되는 에너지가 일정한 에너지에 근접하도록 부영역에 대한 노광시간이 계산된다.
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제13도는 제7도의 단계 704를 설명하는 DRAM 소자의 평면도.
Claims (9)
- 일정한 전류밀도를 갖는 전자빔(2)을 방사하기 위한 전자빔 방사 장치(1)와, 다수의 반복 패턴 개구부(7′a)를 갖는 에피처 장치(7′)와, 상기 전자빔을 상기 다수의 반복 패턴 개구부상에 조사하기 위해, 상기 전자빔 방사 장치와 상기 에피처 장치 사이에 배치되는 제1편향 장치(6X, 6Y)와, 상기 다수의 반복 패턴 개구부를 통과하는 상기 전자빔을 감광제 코팅 타겟(13)에 조사하기 위한 제2편향 장치(9X, 9Y, 10X, 10Y)을 갖는 전자빔 노광 시스템에 있어서, 상기 타겟의 영역을 상기 다수의 반복 패턴 개구부에 대응하는 동일한 크기를 갖는 다수의 부영역(S11, S12, ···)으로 분할시키는 장치와, 상기 타겟의 감광제에 축적되는 에너지가 일정한 에너지에 근접하도록 상기 부영역에 대한 노광시간을 계산하기 위한 장치, 및 상기 전자빔을 상기 다수의 반복 패턴 개구부를 통하여 상기 각 노광시간에 따라 상기 타겟의 각각의 부영역에 조사하는 상기 제2편향장치를 구동하기 위한 장치를 포함하는 것을 특징으로 하는 전자빔 노광시스템.
- 제1항에 있어서, 상기 노광 시간 계산 장치가 상기 노광 시간을 계산하여서, 상기 타겟의 주변부에 있는 각각의 부영역에 대한 각각의 노광시간이 상기 타겟의 중심부에 있는 각각의 부영역에 대한 각각의 노광시간보다 커지는 것을 특징으로 하는 전자빔 노광시스템.
- 제2항에 있어서, 상기 노광 시간 계산 장치가 상기 노광 시간을 계산하여서, 상기 타겟의 코너부에 있는 각각의 부영역에 대한 각각의 노광시간이 상기 타겟의 주변부에 있는 각각의 부영역에 대한 각각의 노광시간보다 커지는 것을 특징으로 하는 전자빔 노광시스템.
- 제1항에 있어서, 상기 노광 시간 계산 장치가 상기 노광 시간을 계산하여서, 후방 산란 범위에 의해서 상기 타겟의 모서리부로부터 떨어져 있는 상기 부영역에 대한 각각의 상기 노광시간은 일정한 값이고, 상기 타겟에 근접한 부영역에 대한 각각의 노광시간은 상기 일정한 값에 비해 서서히 증가되는 것을 특징으로 하는 전자빔 노광시스템.
- 일정한 전류밀도를 갖는 전자빔을 방사하기 위한 전자빔 방사 장치(1)와 ; 다수의 반복 패턴 개구부(7′a)를 갖는 에피처 장치(7′)와 ; 상기 전자빔을 상기 다수의 반복 패턴 개구부에 조사하기 위해, 상기 전자빔 방사 장치와 상기 에피처 장치 사이에 배치되는 제1편향 장치(6X, 6Y)와 ; 상기 다수의 반복 패턴 개구부를 통과하는 상기 전자빔을 감광제 코팅된 타겟(13)에 편향시키기 위한 제2편향 장치(9X, 9Y, 10X, 10Y)를 갖는 전자빔 노광 시스템에 있어서, 상기 타겟의 영역을 상기 타겟의 주변부보다 중심부가 큰 영역을 갖는 다수의 부영역(S11, S12, ···)으로 분할시키는 장치와 ; 상기 타겟의 감광제에 축적되는 에너지가 일정한 에너지에 근접하도록 상기 부영역에 대한 노광시간을 계산하기 위한 장치와 상기 부영역의 각각의 크기와 일치하여 상기 전자빔에 의해 조사되는 상기 다수의 반복 패턴 개구부를 조절하는 상기 제1편향장치를 구동하기 위한 장치, 및 상기 전자빔을 상기 다수의 반복 패턴 개구부를 통하여 상기 각 노광시간에 따라서 상기 타겟의 각각의 부영역에 조사하는 상기 제2편향장치를 구동하기 위한 장치를 포함하는 것을 특징으로 하는 전자빔 노광시스템.
- 제5항에 있어서, 상기 노광 시간 계산 장치가 상기 노광 시간을 계산하여서, 상기 타겟의 주변부에 있는 각각의 부영역에 대한 각각의 노광시간이 상기 타겟의 중심부에 있는 각각의 부영역에 대한 각각의 노광시간보다 커지는 것을 특징으로 하는 전자빔 노광시스템.
- 제6항에 있어서, 상기 노광 시간 계산 장치가 상기 노광 시간을 계산하여서, 상기 타겟의 코너부에 있는 각각의 부영역에 대한 각각의 노광시간이 상기 타겟의 주변부에 있는 각각의 부영역에 대한 각각의 노광시간보다 커지는 것을 특징으로 하는 전자빔 노광시스템.
- 일정한 전류밀도를 갖는 전자빔을 방사하기 위한 전자빔 방사 장치(1)와, 다수의 반복 패턴 개구부(7′a)를 갖는 에피처 장치(7′)와, 상기 전자빔을 상기 다수의 반복 패턴 개구부상에 조사하기 위해, 상기 전자빔 방사 장치와 상기 에피처 장치 사이에 배치되는 제1편향 장치(6X, 6Y)와, 상기 다수의 반복 패턴 개구부를 통과하는 상기 전자빔을 감광제 코팅된 타겟(13)에 조사하기 위한 제2편향 장치(9X, 9Y, 10X, 10Y)를 갖는 전자빔 노광 시스템에 있어서, 상기 타겟의 영역을 상기 다수의 반복 패턴 개구부에 대응하는 동일한 크기를 갖는 다수의 부영역(S11, S12, ···)으로 분할시키는 장치와, 상기 타겟의 감광제에 축적되는 에너지가 일정한 에너지에 근접하도록 상기 부영역에 대한 조사량을 계산하기 위한 장치, 및 상기 전자빔을 상기 다수의 반복 패턴 개구부를 통하여 상기 각 노광시간에 따라서 상기 타겟의 각각의 부영역에 조사하는 상기 제2편향장치를 구동하기 위한 장치를 포함하는 것을 특징으로 하는 전자빔 노광시스템.
- 전자빔을 방사하기 위한 전자빔 방사 장치(1)와, 다수의 반복 패턴 개구부(7′a)를 갖는 에피처 장치(7′)와, 상기 전자빔을 상기 다수의 반복 패턴 개구부상에 조사하기 위해, 상기 전자빔 방사 장치와 상기 에피처 장치 사이에 배치되는 제1편향 장치(6X, 6Y)와, 상기 다수의 반복 패턴 개구부를 통과하는 상기 전자빔을 감광제 코팅된 타겟(13)에 조사하기 위한 제2편향 장치(9X, 9Y, 10X, 10Y)를 갖는 전자빔 노광 시스템에 있어서, 상기 타겟의 영역을 상기 타겟의 주변부보다 중심부가 큰 영역을 갖도록 다수의 부영역(S11, S12, ···)으로 분할시키는 장치와, 상기 타겟의 감광제에 축적되는 에너지가 일정한 에너지에 근접하도록 상기 부영역에 대한 조사량을 계산하기 위한 장치와 상기 부영역의 각각의 크기와 일치하여 상기 전자빔에 의해 조사되는 상기 다수의 반복 패턴 개구부를 조절하는 상기 제1편향장치를 구동하기 위한 장치, 및 상기 전자빔을 상기 다수의 반복 패턴 개구부를 통하여 상기 각 노광시간에 따라서 상기 타겟의 각각의 부영역에 편향하는 상기 제2편향장치를 구동하기 위한 장치를 포함하는 것을 특징으로 하는 전자빔 노광시스템.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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