KR970049064A - 전자빔 노광장치에서의 최적 노광조건 결정방법 - Google Patents
전자빔 노광장치에서의 최적 노광조건 결정방법 Download PDFInfo
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Abstract
전자빔을 이용한 노광에 있어서, 우수한 패턴 균일도와 에지프로파일을 갖도록 하는 최적의 노광조건을 결정하는 방법에 대해 기재되어 있다.
이는, 가우시안 빔 에너지 분포를 가지는 전자빔 노광 장치를 이용하여 x, y평면상에 균일한 패턴을 노광하기 위한 최적의 노광 조건을 결정하는 방법에 있어서, 실제적인 가우시안 빔을 균일한 분포를 가진 등가 빔으로 대체하여 소정의 경계조건으로부터 등가 빔의 반경 r에 따라 변하는 강도함수를 구하고, 상기 강도함수로부터 최적 노광조건을 제공하는 어드레스 사이즈와 빔 스팟 사이즈의 비(ratio)를 구하는 것을 특징으로 한다.
따라서, 우수한 패턴 균일도 및 에지 프로파일을 얻을 수 있는 최적의 노광 조건을 결정할 수 있으며, 노광 공정에 소요되는 시간을 절약할 수 있다.
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제2도는 마스크 상에서의 어드레스 사이즈와 등가빔 스팟 사이즈의 관계를 나타낸 도면이다.
Claims (1)
- 가우시안 빔 에너지 분포를 가지는 전자빔 노광 장치를 이용하여 x,y 평면상에 균일한 패턴을 노광하기 위한 최적의 노광 조건을 결정하는 방법에 있어서, 실제적인 가우시안 빔을 균일한 분포를 가진 등가 빔으로 대체하여 소정의 경계조건으로부터 등가 빔의 반경 r에 따라 변하는 강도함수를 구하고, 상기 강도함수로부터 최적 노광조건을 제공하는 어드레스 사이즈와 빔 스팟 사이즈의 비(ratio)를 구하는 것을 특징으로 하는 노광조건 결정방법.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1019950066982A KR970049064A (ko) | 1995-12-29 | 1995-12-29 | 전자빔 노광장치에서의 최적 노광조건 결정방법 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1019950066982A KR970049064A (ko) | 1995-12-29 | 1995-12-29 | 전자빔 노광장치에서의 최적 노광조건 결정방법 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR970049064A true KR970049064A (ko) | 1997-07-29 |
Family
ID=66638156
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1019950066982A KR970049064A (ko) | 1995-12-29 | 1995-12-29 | 전자빔 노광장치에서의 최적 노광조건 결정방법 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| KR (1) | KR970049064A (ko) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100673152B1 (ko) * | 2000-04-10 | 2007-01-22 | 주식회사 하이닉스반도체 | 반도체 소자의 패턴 형성 방법 |
| US9583305B2 (en) | 2014-04-23 | 2017-02-28 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Exposure method using control of settling times and methods of manufacturing integrated circuit devices by using the same |
-
1995
- 1995-12-29 KR KR1019950066982A patent/KR970049064A/ko not_active Application Discontinuation
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100673152B1 (ko) * | 2000-04-10 | 2007-01-22 | 주식회사 하이닉스반도체 | 반도체 소자의 패턴 형성 방법 |
| US9583305B2 (en) | 2014-04-23 | 2017-02-28 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Exposure method using control of settling times and methods of manufacturing integrated circuit devices by using the same |
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