KR950012147A - 포지티브 포토레지스트 조성물 - Google Patents

포지티브 포토레지스트 조성물 Download PDF

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KR950012147A
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xyleneol
cresol
compound
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유지 요시다
하루요시 오사끼
가즈히꼬 하시모또
구니시게 에다마쓰
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고오사이 아끼오
스미또모가가꾸고오교 가부시끼가이샤
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    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
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    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
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    • G03F7/023—Macromolecular quinonediazides; Macromolecular additives, e.g. binders
    • G03F7/0233—Macromolecular quinonediazides; Macromolecular additives, e.g. binders characterised by the polymeric binders or the macromolecular additives other than the macromolecular quinonediazides
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    • G—PHYSICS
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Abstract

m-크레졸 및 p-크레졸로 구성된 혼합 크레졸 성분, 3,5-크실렌올 및 3,5-크실렌을 이외의 크실렌올로 구성된 혼합 크실렌을 성분 및 알데히드 화합물의 축합반응을 통해 수득된 노볼렉 수치 ; 1,2-퀴논디아지드 화합물 ; 및 분자량이 900 미만인 알칼리-가용성 화합물을 함유하며, 상기 축합반응에서, 혼합 크레졸 및 혼합 크실렌올의 합계 기준 혼합 크실렌올의 비 α가 1O몰% 이상 및 25몰% 이하이고, 혼합 크실렌올중 3,5-크실렌올의 비 β가 2O몰% 이상 및 6O몰% 이하이고, 해상도, 프로필 등과 같은 특성이 우수하며 감도가 양호한 포지티브 포토레지스트 조성물.

Description

포지티브 포토레지스트 조성물
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음

Claims (5)

  1. m-크레졸 및 p-크레졸로 구성된 혼합 크레졸 성분, 3,5-크실렌올 및 3,5-크실렌을 이외의 크실렌올로 구성된 혼합 크실렌을 성분 및 알데히드 화합물의 축합반응을 통해 수득된 노볼렉 수치 ; 1,2-퀴논디아지드 화합물 ; 및 분자량이 900 미만인 알칼리-가용성 화합물을 함유하며, 상기 축합반응에서, 혼합 크레졸 및 혼합 크실렌올의 합계 기준 혼합 크실렌올의 비 α가 1O몰% 이상 및 25몰% 이하이고, 혼합 크실렌올중 3,5-크실렌올의 비 β가 2O몰% 이상 및 6O몰% 이하인 포지티브 포토레지스트 조성물.
  2. 제 1항에 있어서, 폴리스티렌으로 변환된 화합물의 분자량이 900 이하인 범위의 노블랙수지의 GPC 패턴 면적이, 미반응 혼합 크레졸 및 혼합 크실렌올의 패턴 면적을 제외한 총 패턴 면적을 기준으로 35% 이하인 포지티브 포토레지스트 조성물,
  3. 제 1항 또는 제 2항에 있어서, 3,5-크실렌올 이외의 크실렌올이 2,5-크실렌올인 포지티브 포토레지스트 조성물.
  4. 제 1항 또는 제2항에 있어서, 분자량이 900 미만인 알칼리-가용성 화합물이 2개 이상의 페놀계 히드록실기를 갖는 화합물인 포지티브 포토레지스트 조성물.
  5. 제 1 항 또는 제2항에 있어서, 분자량이 900 미만인 알칼리-가용성 화합물의 함량이 노볼랙 수지, 1, 2-퀴논디아지드 화합물 및 분자량이 900 미만인 알칼리-가용성 화합물의 합계의 100중량부당 3~4O중량부인 포지티브 포토레지스트 조성물.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019940026770A 1993-10-19 1994-10-19 포지티브 포토레지스트 조성물 KR950012147A (ko)

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