KR950011771B1 - 포스피닐아미노산 유도체의 제조 방법 - Google Patents
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Abstract
내용 없음.
Description
본 발명은 제초제의 활성성분으로 유용한 화합물을 위한 중간물질로서 유용한 포스피닐아미노산 유도체의 신규 제조 방법에 관한 것이다.
종래에 하기 특허문헌은 포스피닐아미노산 유도체의 제조 방법을 기술하고 있는 것으로 알려져 있다.
(1) 일본국 특허 공개 제131993/1983호.
(2) 일본국 특허 공개 제139727/1977호.
상기 특허 문헌(1)은 하기 반응도식으로 나타낼 수 있는 제조 방법을 기술하고 있다.
상기 반응도식에서, Ph는 페닐기를 나타낸다.
상기 특허 문헌(2)는 하기 반응도식으로 나타낼 수 있는 제조 방법을 기술하고 있다 :
일반식(Ⅷ) 화합물의 암모늄염은 시판되고 있는 제초제의 활성 화합물이다.
상기 두 가지 방법에서, 반응은 대기압하에서 수행하며, 일반식(Ⅷ)의 화합물은 각각 일반식(Ⅶ) 및 (XI)의 중간체를 거쳐 제조된다. 그러나 출발물질로 사용되는 일반식(Ⅵ) 및 (Ⅹ)의 화합물은 상당히 비싸고, 그 방법은 실제 산업적 측면에서 불리하다.
한편, 일본국 특허 공개 제17259/1973호는 하기 반응도식으로 나타낼 수 있는 방법을 기술하고 있다.
상기 반응도식에서, R은 알킬기이다.
이 방법에서, 반응은 승압하에서 수행한다. 이 방법은 통상의 아미노산 유도체의 제조방법이며 본 발명에서와 같이 인원자를 함유하는 포스피닐아미노산 유도체의 제조 방법이 아니다. 또한, 이 반응의 수율은 본 발명 방법과 비교해서 저조하다.
상기 선행 기술외에도, 미합중국 특허 제3,766,266호, 제4,264,515 및 제 4,496,756호는 아미도카르보닐로 전환하기 위한 반응을 이용한 아미노산 유도체의 제조 방법을 기술하고 있다.
그러나, 상기 방법 어느 것도 형성된 아미노산 유도체를 촉매로부터 분리하는 방법을 계시하고 있지 않다.
종래에, 하기 특허 문헌은 수용성 옥소 반응 생성물 및 촉매를 분리하는 방법을 기술하고 있는 것으로 알려져 있다 :
(1) 일본국 특허 공개 제17209/1962호.
(2) 일본국 특허 공개 제6734/1966호.
(3)일본국 특허 공개 제29936/1968호.
상기 특허 문헌 (1), (2) 및 (3)은 반응 생성물 중에서 코발트 촉매를 산화시키고, 이어서 형성된 코발트 이온을 양이온 교환수지에 흡착시켜서 수용성 비이온성 β-시아노프로피온알데히드 및 그의 디메틸아세탈을 분리시키는 방법에 관한 것이며, 이온성 아미노산 유도체 및 금속 이온을 분리시키는 방법에 관한 것은 아니다.
본 발명자들은 제초제의 활성성분을 위한 중간체로서 유용한 포스피닐 아미노산 유도체를 산업적으로 유리하게 제조하는 방법을 광범위하게 연구하여 그 결과, 인원자에 직접적으로 결합된 비닐기를 갖는 화합물을 출발물질로서 사용함으로써, 아미도카르보닐로 전환시키는 반응을 단시간 내 그리고 소량의 촉매로 용이하게 수행하여 양호한 수율과 고순도로 목적하는 포스피닐 아미노산 유도체를 수득할 수 있다는 것을 발견하게 되었다. 본 발명은 이 발견을 토대로 달성되었다.
즉, 본 발명은 하기 일반식(Ⅱ) 및/또는 하기 일반식(Ⅲ)의 화합물을 주기율표의 Ⅷ족 금속을 함유하는 촉매의 존재하에서 하기 일반식(Ⅳ)의 화합물, 일산화탄소 및 수소와 반응시켜(Ⅰ)의 포스피닐아미노산유도체를 제조하는 방법을 제공한다.
식중, R1은 저급 알킬기이며, R2는 수소원자, 저급 알킬기, 할로-저급 알킬기 또는 치환 또는 비치환된 페닐기이며, R3은 치환 또는 비치환된 알킬기 또는 치환 또는 비치환된 페닐기이다.
또한, 본 발명은 일반식(Ⅱ)의 화합물 및/또는 일반식(Ⅲ)의 화합물을 주기율표의 Ⅷ족 금속을 함유하는 촉매의 존재하에서 일반식(Ⅳ)의 화합물, 일산화탄소 및 수소와 반응시킨 다음 무기산의 존재하에 반응 용액중에서 촉매를 산화시킴으로써 반응 용액으로부터 Ⅷ족 금속을 함유하는 촉매를 분리시키고 이를 양이온 교환 수지에 흡착시켜 일반식(Ⅰ)의 포스피닐 아미노산 유도체를 제조하는 방법을 제공한다.
그러면, 본 발명을 바람직한 태양과 관련하여 상세히 설명한다.
본 발명 방법은 하기 반응도식으로 나타낼 수 있다 :
본 발명에서, 치환체 R1은 메틸, 에틸, n-플로필, 이소-프로필, n-부틸, 이소-부틸 또는 3급-부틸과 같은 저급 알킬기이다. 이들 중에서, 메틸기가 바람직하다.
치환체 R2는 수소원자; 메틸, 에틸, n-플로필, 이소-프로필, n-부틸, 이소-부틸 또는 3급-부틸과 같은 저급 알킬기; 할로게노메틸, 할로게노에틸, 할로게노프로필 또는 할로게노부틸과 같은 할로-저급 알킬기; 또는 페닐 또는 벤질과 같은 치환 또는 비치환된 페닐기이다.
할로-저급 알킬기의 할로겐으로는 염소, 불소, 요오드 및 브롬을 들 수 있다.
치환된 페닐기의 치환체는 특별하게 제한되지는 않으며, 예로서 저급 알킬기 및 할로겐 원자를 들 수 있다.
할로겐 원자로는 염소, 불소, 요오드 및 브롬을 들 수 있다.
치환체 R2는 바람직하게는 메틸기, 1-클로로에틸기 또는 2-클로로에틸기이다.
치환체 R3은 수소원자; 메틸, 에틸, n-프로필, 이소-프로필, n-부틸, 이소-부틸, 3급-부틸, 도데실 또는 클로로메틸과 같은 치환 또는 비치환된 알킬기; 페닐, 메틸페닐, 트리메틸페닐, 부틸페닐, 메톡시페닐, 시아노페닐, 플로오로페닐, 디플루오로페닐, 플루오로클로로페닐, 클로로로페닐, 디클로로페닐, 메틸클로로페닐, 브로모페닐, 벤조일페닐, 메틸페닐부틸, 나프틸 또는 벤질과 같은 치환 또는 비치환된 페닐기; 피리디닐기 또는 아미노기일 수 있다. 이들 중에서, 메틸기 및 페닐기가 바람직하다.
출발물질의 몰 비율에 있어서, 일반식(Ⅳ)의 화합물은 일반적으로 일반식(Ⅱ)의 화합물 및/또는 일반식(Ⅲ)의 화합물의 전체량의 몰당 0.2 내지 5몰, 바람직하게는 0.5 내지 2몰의 범위내의 양으로 사용된다.
일산화탄소와 수소가스의 혼합비율에 있어서, 일산화탄소는 일반적으로는 수소 몰당 0.1 내지 10몰, 바람직하게는 0.2 내지 5몰의 범위내의 양으로 사용된다.
일반식(Ⅲ)의 혼합물의 경우에, 반응은 일산화탄소만을 사용하여 수행할 수 있다.
주기율표의 Ⅷ족 금속을 함유하는 촉매로서는 철, 코발트, 니켈, 루테늄, 로듐, 오스뮴, 이리듐 및 백금과 같은 금속을 함유하는 촉매를 들 수 있다. 이들의 카르보닐 화합물이 특히 효과적이다. 코발트 카르보닐 화합물 및 로듐 카르보닐 화합물이 바람직하다.
코발트 카르보닐 화합물로서는 예를들어 히드로코발트 테트라 카르보닐 및 디코발트 옥타카르보닐을 들수 있다.
로듐 카르보닐 화합물로서는 테트라로듐 카르보닐 및 헥사로듐 헤사데카카르보닐을 들 수 있다.
촉매는 단일 화합물 또는 상기 화합물들의 혼합물일 수 있다.
촉매의 사용량에 대한 특별할 제한은 없다. 코발트의 경우, 촉매는 일반적으로 일반식(II)의 화합물 및/또는 일반식(III)의 화합물의 전체량의 100몰에 대해 코발트 금속으로서 0.01 내지 10g 원자의 양으로 사용한다. 0.05 내지 6g 원자 범위내의 양이 실질적으로 바람직하다.
로듐의 경우, 촉매는 일반적으로 일반식(Ⅱ)의 화합물 및/또는 일반식(Ⅲ)의 화합물의 전체량의 100몰에 대해 로듐 금속으로서, 0.001 내지 2g 원자 범위내의 양으로 사용한다. 0.01 내지 1g 원자 범위내의 양이 실질적으로 바람직하다.
포스핀 화합물은 촉매를 안정화 시키기 위해서 사용할 수 있다. 예로서 트리메틸포스핀, 트리에틸포스핀 또는 트리부틸포스핀 및 트리페닐포스핀과 같은 트리-저급 알킬포스핀을 들 수 있다.
본 발명에서 반응 압력은 10 내지 400㎏/㎠G, 바람직하게는 40 내지 350㎏/㎠G, 좀더 바람직하게는 70 내지 300㎏/㎠G의 범위이다.
반응 온도는 일반적으로 20 내지 250℃, 바람직하게는 40 내지 200℃, 좀 더 바람직하게는 60 내지 170℃이다.
본 발명 반응은 용매의 부재하에서 수행할 수 있다. 그러나, 용매는 반응을 위해서 사용할 수도 있다.
일반식(Ⅳ)의 화합물을 용해시킬 수 있는 용매를 사용하는 것이 일반적으로 바람직하다.
불활성 용매라면 용매로서 특별한 제한은 없다. 유용한 용매로서는 예를 들어 에테르(예. 디에테르에테르, 테트라히드로푸란 및 디옥산), 에스테르(예. 메틸아세테이트 및 에틸아세테이트), 케톤(예. 아세톤, 메틸에틸케톤 및 아세토페논), 방향족 탄화수소(예. 벤젠, 톨루엔 및 크실렌) 및 지방족 탄화수소(예. 헥산 및 헵탄)을 들 수 있다.
본 발명 방법의 조작 방법에는 특별한 제약은 없다. 예를 들어. 일반식(Ⅱ)의 화합물 및/또는 일반식(Ⅲ)의 화합물을 일반식(Ⅳ)의 화합물과 함께 반응기내에 충진시키고, 이어서 일산화탄소와 수소의 기체 혼합물을 이입하여 반응시켜 일반식(Ⅰ)의 포스피닐 아미노산 유도체를 수득하는 방법, 또는 일반식(Ⅱ)의 화합물 및/또는 일반식(Ⅲ)의 화합물을 반응기내에 충진시킨 다음, 일산화탄소와 수소의 가스 혼합물을 이입하여 반응시키고, 이어서 일반식(Ⅳ)의 화합물을 첨가하여 반응시켜 일반식(Ⅰ)의 포스피닐아미노산 유도체를 수득하는 방법을 사용할 수 있다.
본 발명의 반응 생성물로서의 일반식(Ⅰ)의 포스피닐아미노산 유도체와 주기율표의 Ⅷ족 금속을 함유하는 촉매를 분리하는 방법은 무기산의 존재하에서 촉매를 산화시켜 금속 이온으로 전환시키고, 이어서 이를 분리하기 위한 H-형 양이온 교환 수지상에 흡착시켜 포스피닐아미노산 유도체를 수득함을 포함한다.
무기산으로서는 예를 들어 염산, 황산 또는 질산을 들 수 있다. 염산이 바람직하다. 무기산의 사용량에는 특별한 제약은 없으나, 일반적으로는 촉매와 동량 이상으로 사용한다.
산화제로서는 예를 들어 공기, 과산화수소 및 염소와 같은 산소-함유 가스를 들 수 있다. 산화제 사용량에는 특별한 제약은 없으나, 일반적으로는 촉매와 동량으로 사용한다.
산화처리 온도에는 특별한 제약이 없고, 실온에서 수행할 수 있다.
양이온 교환수지는 황산형의 것이 바람직하다.
양이온 교환수지 처리 온도에는 특별한 제약이 없으며 실온에서 수행할 수 있다.
양이온 교환수지상에 흡착된 촉매금속 이온은 통상적인 방법에 의해서 탈착되어 금속염으로서 희수될 수 있다.
또한 본 발명 방법에서, 반응의 완결후 반응 생성물 중의 부산물은 산화처리 및 양이온 교환 처리후 임의의 단계에서 반응 생성물을 유기용매와 접촉시킴으로써 추출 제거할 수 있다.
상기 유기용매로서는, 헥산 또는 헵탄과 같은 지방족 탄화수소, 벤젠, 크실렌과 같은 방향족 탄화수소, 디클로로메탄, 클로로포롬 또는 사염화탄소와 같은 할로겐화 탄화수소 또는 디메틸에테르, 디에틸에테르, 에틸에테르 또는 디프로필에테르와 같은 에테르 화합물을 들 수 있다. 이들 중에서, 벤젠 및 톨루엔이 바람직하다.
유기용매는 일반적으로 처리되는 용액의 1 중량 부당 0.1 내지 100 중량부의 양으로 사용된다.
추출 제거를 위한 온도에는 특별한 제약이 없다. 그러나, 추출은 유기용매의 비점 이하의 온도에서 수행하는 것이 바람직하다.
본 발명의 방법에 따라서, 일반식(Ⅰ)의 포스피닐아미노산 유도체는 소량의 촉매를 사용하여 단시간내에 양호한 수율로 용이하게 수득할 수 있다. 따라서, 본 방법은 산업적 측면에서 극히 유리하다.
본 발명의 반응 생성물로부터 주기율표의 Ⅷ족 금속을 함유하는 촉매를 분리하는 방법에 따르면, 촉매를 용이하게 분리할 수 있으며, 일반식(Ⅰ)의 포스피닐아미노산 유도체를 손실없이 고순도로 수득할 수 있다.
또한, 일반식(Ⅰ)의 포스피닐아미노산 유도체는 가수분해에 의해 일반식(Ⅷ)의 화합물로 용이하게 전환시킬 수 있다.
일반식(Ⅷ) 화합물의 암모늄염은 시판되고 있는 엽면 처리용 비-선택적 제초제[상표명 : 글루포시네이트(Glufosinate)]의 활성 성분이다.
또한, 일반식(Ⅰ)의 포스피닐 아미노산 유도체는 슈도모나스 (Pseudomonas)속에 속하는 박테리아, 스트렙토 마이세스(Streptomyces)속에 속하는 방사균 또는 아스페르질러스 (Aspergillus)속에 속하는 곰팡이를 이용해서 아실기를 가수분해하고 필요하다면, 생성물을 산으로 가수분해하여 L-형의 일반식(Ⅷ)의 화합물[L-2-아미노-4-(히드록시메틸 포스피닐)부틸산]으로 용이하게 전환시킬 수 있다 :
그러면, 본 발명을 실시예와 관련하여 좀 더 상세히 설명한다. 그러나, 본 발명은 이러한 특정 실시예로 제한되지는 않는다는 것을 알아야 한다.
[실시예 1]
100㎖들이 스테인레스강 오토클레이브에 50g의 디옥산, 6.01g(50mmol)의 비닐메틸포스핀산 메틸에스테르, 4.43g(75mmol)의 아세트아미드 342㎎(1.0mmol)의 디코발트 옥타카르보닐 및 28.3㎎(0.025mmol)의 헥사로듐 헥사카르보닐을 충진시킨다.
오토클레이브를 일산화탄소와 수소(몰비율1 : 1)의 가스 혼합물로 세척하고, 반응을 100℃, 120㎏/㎠G 하에서 0.5시간동안 수행한 다음, 120℃에서 0.5시간 더 수행한다.
오토클레이브를 냉각시키고, 반응 생성물을 취해서 기체크로마토그래피로 분석하면 비닐메틸포스핀산 메틸에스테르의 전환율은 100％이다.
용매를 증류제거하고, 그 잔류물을 반복해서 유기용매로 추출하여 11.86g의 생성물을 수득한다.
양성자 NMR 분석에 의하면, 상기 생성물이 바람직한 N-아세틸-2-아미노-4-매톡시메틸포스피닐부티르산을 85중량％ 함유하는 것을로 밝혀졌다.
상기 생성물을 염산으로 가수분해하여 2-아미노-4-히드록시메틸포스피닐부티르산 염산염을 수득한다. 액체크로마토그래피 분석으로 이 염산염은 표준 2-아미노-4-히드록시메틸 포스피닐부티르산 염산염과 동일함이 확인된다.
또한, 이 염산염은 암모늄염으로 전환된다는 것도 동일한 방법으로 확인된다.
[실시예 2]
100㎖들이 스테인레스강 오토클레이브에 50g의 디옥산, 6.01g(500mmol)의 비닐메틸포스핀산 메틸에스테르, 3.55g(60mmol)의 아세트아미드, 171g(0.5mmol)의 디코발트 옥타카르보닐 및 5.4mg(0.01mmol)의 헥사로듐 헥사카르보닐을 충진시킨다.
오토클레이브를 일산화탄소와 수소(몰비율1 : 1)의 가스 혼합물로 세척하고, 반응을 80℃, 120㎏/㎠G하에서 1시간 동안 수행한다.
오토클레이브를 냉각시키고, 반응 생성물을 취해서 기체크로마토그래피 분석하면 비닐메틸포스핀산 메틸에스테르의 전환율은 100％이다.
용매를 증류제거하고, 그 잔류물을 반복해서 유기용매로 추출하여 12.41g의 생성물을 수득한다. 양성자 NMR분석에 의하면, 상기 생성물이 바람직한 N-아세틸-2-아미노-4-메톡시메틸포스 피닐부티르산을 70중량％ 함유하는 것으로 밝혀졌다.
[실시예 3]
100㎖들이 스테인레스강 오토클레이브에 51.7g의 디옥산, 5.06g(30mmol)의 비닐메틸포스핀산 2-클로로에틸 에스테르, 1.77g(30mmol)의 아세트 아미드 및 103㎎(0.3mmol)의 디코발트 옥타카르보닐을 충진시킨다.
오토클레이브를 수소와 일산환탄소(몰비율1 : 1)의 가스 혼합물로 세척하고, 반응을 100℃, 200㎏/㎠G하에서 4시간동안 수행한다.
오토클레이브를 냉각시키고, 반응 생성물을 취하여 기체 크로마토그래피 분석하면 비닐메틸포스핀산 2-클로로에틸에스테르의 전환율 100％이다.
상기 반응 생성물을 디아조메탄으로 메틸화시키고 컬럼크로마토그래피 분리하여 하기 분석을 수행한다.
질량 스펙트림 :
M/e 300(M+H). 198(기저 피이크)
13CNMR(D2O);
δ(ppm)13.6, 22.4, 24.1, 25.6, 42.9, 51.9, 52.1, 63.7, 170.4, 171.8
상기 결과 및 양성자 NMR분석의 결과로부터, 상기 메틸화 생성물이 N-아세틸-2-아미노-4-(2-클로로에톡시)메틸포스피닐부리르산 메틸에스테르인 것으로 밝혀졌다.
이어서, 상기 메틸화 생성물을 기체크로마토그래피 분석하면 N-아세틸-2-아미노-4-(2-클로로에톡시)메틸포스피닐 부티르산의 수율은 82％이다.
[실시예 4]
본 반응 및 후-처리는 디옥산 대신에 51.7g의 테트라히드로푸란을 사용하는 것을 제외하고는 실시예3과 동일한 방법으로 수행한다.
비닐메틸포스핀산 2-클로로에틸에스테르의 전환율은 100％이고, N-아세틸-2-아미노-4-(2-클로로에톡시)메틸포스피닐부리르산의 수율은 83％이다.
[실시예 5]
본 반응 및 후-처리는 반응을 80℃, 200㎏/㎠G하에서 6시간 동안 수행하는 것을 제외하고는 실시예3과 동일한 방법으로 수행한다.
비닐메틸포스핀산 2-클로로에틸에스테르의 전환율은 100％이고, N-아세틸-2-아미노-4-(2-클로로에톡시)메틸포스피닐부티르산의 수율은 73％이다.
[실시예 6]
본 반응 및 후-처리는 52㎎(0.15mmol)의 디코발트 옥타카르보닐을 사용함과 반응을 100℃, 200㎏/㎠G하에서 7시간동안 수행함을 제외하고는 실시예3과 동일한 방법으로 수행한다.
비닐메킬포스핀산 2-클로로에틸에스테르의 전환율은 100％이고, N-아세틸-2-아미노-4-(2-클로로에톡시)메틸포스피비닐부티르산의 수율은 83％이다.
[실시예 7]
본 반응 및 후-처리는 아세트아미드 대신에 3.63g(30mmol)의 벤즈아미드를 사용함과 반응을 100℃, 200㎏/㎠G하에서 6시간동안 수행함을 제외하고는 실시예3과 동일한 방법으로 수행한다.
비닐메틸포스핀산 2-클로로에틸에스테르의 전환율은 97％이고, N-벤조일-2-아미노-4-(2-클로로에톡시)메틸포스피닐부티르산의 수율은 40％이다.
[실시예 8]
본 반응 및 후-처리는 비닐메틸포스핀산 2-클로로에틸에스테르 대신에 9.54g(30mmol)의 메틸(3-옥소프로필)포스핀산 2-클로로에틸에스테르를 사용하는 것을 제외하고는 실시예3과 동일한 방법으로 수행한다. 메틸(3-옥소프로필)포스핀산 2-클로로에틸에스테르의 전환율은 100％이고, N-벤조일-2-아미노-4-2(2-클로로에톡시)메틸포스피닐부티르산의 수율은 69％이다.
[실시예 9]
100㎖들이 수테인레스강 오토클레브에, 51.7g의 디옥산, 5.06g(30mmol)의 비닐메틸포스핀산 2-클로로에틸에스테르, 1.77g(30mmol)의 아세트아미드 및 103㎎의 (0.3mmol)의 디코발트 옥타카르보닐을 충진시킨다.
오토클레이브를 수소와 일산화탄소(몰비율1 : 1)의 가스 혼합물로 세척하고, 반응을 100℃, 200㎏/㎠G하에서 4시간동안 수행한다.
이 반응 생성물을 하기와 같이 처리한다.
19g의 반응 생성물 및 0.5㎖의 20％ 염산을 에틀렌마이에르(Erlemneyer)플라스크에 붓고, 공기를 주입시키면서 15분동안 실온에서 교반한다.
이어서, 용매디옥산을 회수한 후, 100㎖의 증류수를 반응 혼합물에 첨가한다.
상기 수용액을 벤젠으로 추출하여 부산물을 제기한다.
벤젠으로 추출한 후, 상기 수용액을 통상적인 방법에 의해 H-형으로 예비처리된 50㎖의 시판되고 있는 양이온 교환수지(Lewatit 112, Mitsuitoatsu Fine K.K 제조)로 채워진 내부 직경이 30㎜이고 길이가 600㎜인 컬럼에 100㎖/hr의 유속으로 통과시킨 다음, 500㎖의 탈염수로 세척한다. 용출된 수용액을 수거한다. 이 용출 수용액으로부터, 물을 제거하고, 그 잔류물을 아세톤/물의 용매 혼합물로 재결정하여 N-아세틸-2-아미노-4-(2-클로로에톡시)메틸포스피닐부티르산 2.21g을 수득한다. 수율 : 81.2％
상기 N-아세틸-2-아미노-4-(2-클로로에톡시)메틸포스피닐부티르산을 원자 흡수 분석하면 코발트 금속의 함량은 1ppm이다.
19g의 반응 생성물 및 0.5㎖의 20％ 염산을 각각 에를렌마이에르 플라스크에 붓고 공기를 이입시키면서 15분 동안 실온에서 교반하여 수용액을 수득한다.
이 수용액을 양이온 교환수지 처리하지 않고 재결정하여 파랗게 착색되고 코발트 금속의 함량이 약 450ppm인 N-아세틸-2-아미노-4-(2-클로로에톡시)메틸포스피닐부티르산을 수득한다.
Claims (18)
- 하기 일반식(Ⅱ)의 화합물을 주기율표의 Ⅷ족 금속을 함유하는 촉매의 존재하에서 하기 일반식(Ⅳ)의 화합물, 일산화탄소 및 수소와 반응시킴을 특징으로 하는 하기 일반식(Ⅰ)의 포스피닐 아미노산 유도체의 제조방법.
식중, R1은 저급알킬기이고, R2는 수소원자, 저급 알킬기, 할로-저급 알킬기 또는 치환 또는 비치환된 페닐기이며, R3은 치환 또는 비치환된 알킬기 또는 치환 또는 비치환된 페닐기이다. - 제1항에 있어서, R1은 메틸기이며, R2가 수소원자, 메틸기 또는 할로게노에틸기이고, R3가 저급 알킬기 또는 페닐기인 방법.
- 제1항에 있어서, 반응을 40 내지 350㎏/㎠G의 압력하에서 수행하는 방법.
- 제1항에 있어서, 반응을 40 내지 200℃의 온도에서 수행하는 방법.
- 제1항에 있어서, 촉매가 코발트 카르보닐 화합물, 로듐카르보닐 화합물 또는 그의 혼합물인 방법.
- 하기 일반식(Ⅲ)의 화합물을 주기율표의 Ⅷ족 금속을 함유하는 촉매의 존재하에서 하기 일반식(Ⅳ)의 화합물, 일산화탄소 및 수소와 반응시킴을 특징으로 하는 하기 일반식(I)의 포스피닐 아미노산 유도체의 제조방법.
식중, R1은 저급 알킬기이고, R2는 수소원자, 저급 알킬기, 할로-저급 알킬기 또는 치환 또는 비치환된 페닐기이며, R3은 치환 또는 비치환된 알킬기 또는 치환 또는 비치환된 페닐기이다. - 제6항에 있어서, R1이 메틸기이며, R2가 수소원자, 메틸기 또는 할로게노에틸기이고, R3가 저급 알킬기 또는 페닐기인 방법.
- 제6항에 있어서, 반응을 40 내지 350㎏/㎠G의 압력하에서 수행하는 방법.
- 제6항에 있어서, 반응을 40 내지 200℃의 온도에서 수행하는 방법.
- 제6항에 있어서, 촉매가 코발트 카르보닐 화합물, 로듐카르보닐 화합물 또는 그의 혼합물인 방법.
- 하기 일반식(Ⅱ)의 화합물을 주기율표의 Ⅷ족 금속을 함유하는 촉매의 존재하에서 하기 일반식(Ⅳ)의 화합물, 일산화탄소 및 수소와 반응시킨 다음, 무기산의 존재하에 반응 용매중에서 촉매를 산화시킴으로써 Ⅷ족 금속을 함유하는 촉매를 반응 용액으로부터 분리하고 이를 양이온 교환수지상에 흡착시킴을 특징으로 하는 하기 일반식(Ⅰ)의 포스피닐아미노산 유도체의 제조방법.
식중, R1은 저급알킬기이고, R2는 수소원자, 저급 알킬기, 할로-저급 알킬기 또는 치환 또는 비치환된 페닐기이며, R3은 치환 또는 비치환된 알킬기 또는 치환 또는 비치환된 페닐기이다. - 제11항에 있어서, 무기산이 염산 또는 황산인 방법.
- 제11항에 있어서, 산화를 산소-함유 가스, 염소 또는 과산화수소로 이루어진 군으로부터 선택된 산화제로 수행하는 방법.
- 제11항에 있어서, Ⅷ족 금속을 함유하는 촉매가 코발트 카르보닐 화합물, 로듐 카르보닐화합물 또는 그의 혼합물인 방법.
- 하기 일반식(Ⅲ)의 호합물을 주기율표의 Ⅷ족 금속을 함유하는 촉매의 존재하에서 하기 일반식(Ⅳ)의 화합물, 일산화탄소 및 수소와 반응시킨 다음, 무기산의 존재하에 반응 용매중에서 촉매를 산화시킴으로써 Ⅷ족 금속을 함유하는 촉매를 반응 용액으로부터 분리하고 이를 양이온 교환수지상에 흡착시킴을 특징으로 하는 하기 일반식(Ⅰ)의 포스피닐아미노산 유도체의 제조방법.
식중, R1은 저급 알킬기이고, R2는 수소원자, 저급 알킬기, 할로-저급 알킬기 또는 치환 또는 비치환된 페닐기이며, R3은 치환 또는 비치환된 알킬기 또는 치환 또는 비치환된 페닐기이다. - 제15항에 있어서, 무기산이 염산 또는 황산인 방법.
- 제15항에 있어서, 산화를 산소-함유 가스, 염소 또는 과산화수소로 이루어진 군으로부터 선택된 산회제로 수행하는 방법.
- 제15항에 있어서, Ⅷ족 금속을 함유하는 촉매가 코발트 카르보닐 화합물, 로듐 카르보닐화합물 또는 그의 혼합물인 방법.
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