KR940003590A - 환경제어장치 - Google Patents

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KR940003590A
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히로고 사가이
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모리시다 요이치
마쯔시다 덴기 산교 가부시끼가이샤
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    • H01L21/67775—Docking arrangements

Abstract

챔버내의 공기를 청정화하기 위해서 챔버내에 청결한 공기를 공급해 주는 청정공기공급장치가 필요하지 않고, 동시에 챔버내에서 발생하는 미세한 불순물도 제거할 수 있는 환경제어장치에 관한 것으로 반도체기판(C)을 수납한 기판수납박스(16)는 운반용 밀폐용기(18)에 수납된 상태로 챔버(10)의 반입구(12)에 재치되고, 챔버(10)의 저벽(10b)에서 제1의 기체순환용 팬(26)에 의해 흡인된 기체는 제1의 기체순환용 덕트(24)의 내부를 유통하여 제1의 고성능필터(28)에 의해 청결하게 된 후, 수평방향의 층류로서 챔버(10)내에 공급되며 기체순환용 팬 및 고성능필터를 가지는 제2의 기체순환용 덕트에서 청결한 기체가 수직방향의 층류로서 챔버(10)내로 공급되는 구성을 구비한 환경제어장치.

Description

환경제어장치
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도는 본 발명의 제1실시예에 관한 환경제어장치의 사시도.
제2도는 제1도에 있어서 Ⅱ-Ⅱ선의 단면도.
제3도는 제1도에 있어서 Ⅲ-Ⅲ선의 단면도.
제4도는 제1도에 있어서 Ⅳ-Ⅳ선의 단면도.
제5도는 제1도에 있어서 Ⅴ-Ⅴ선의 단면도.

Claims (8)

  1. 제조시에 청결한 환경을 필요로 하는 판상의 디바이스를 제조하는 디바이스제조장치에 설치되는 환경제어장치에 있어서, 기밀성을 가지는 챔버와, 상기 챔버에 설치되어 디바이스를 제1의 자세로 상기 챔버내에 반입하기 위한 반입구와 상기 챔버에 설치되어 디바이스를 제1의 자세와 다른 제2의 자세로 상기 챔버에서 상기 디바이스제조장치에 반출하기 위한 반출구와, 상기 반출구에서 반입된 디바이스의 자세를 상기 제1의 자세에서 상기 제2의 자세로 변경하여 상기 반출구에 이송하는 이송수단과, 상기 챔버의 외부에 설치되어 상기 챔버내의 기체를 순환되게 하는 순환용 팬과 순환하는 기체를 청결하게 하는 고성능필터를 가지고 청결한 기체를 상기 제1의 자세의 디바이스 주면에 대해 평행인 층류로서 상기 챔버내에 공급하는 제1의 기체순환수단과, 상기 챔버의 외부에 설치되어 상기 챔버내의 기체를 순환되게 하는 순환용 팬과, 순환하는 기체를 청결하게 하는 고성능필터를 가지고 청결한 기체를 상기 제2의 자세의 디바이스주면에 대해 평행인 층류로서 상기 챔버내에 공급하는 제2의 기체순환수단을 구비하고 있는 것을 특징으로 하는 환경제어장치.
  2. 제1항에 있어서, 상기 제1의 기체순환수단 및 제2의 기체순환수단은, 순환하는 기체에서 기체상의 불순물을 제거하는 물리흡착제 또는 화학흡착제로 되는 불순물흡착제를 가지고 있는 것을 특징으로 하는 환경제어장치.
  3. 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 제1의 기체순환수단 및 제2의 기체순환수단중 적어도 하나의 불활성가스를 상기 챔버내에 공급하는 불활성가스공급수단을 가지고 있는 것을 특징으로 하는 환경제어장치.
  4. 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 제1의 기체순환수단 및 제2의 기체순환수단은 순환하는 기체의 온도 또는 습도를 조정하는 기체조정수단을 가지고 있는 것을 특징으로 하는 환경제어장치.
  5. 제조시에 청결한 환경을 필요로 하는 판상의 디바이스를 제조하는 디바이스제조장치에 설치되는 환경제어장치에 있어서, 기밀성을 가지는 챔버와, 상기 챔버에 설치되어 디바이스를 상기 챔버내에 반입하기 위한 반입구와, 상기 챔버에 설치되어 디바이스를 상기 반입구에서 반입되었을 때의 자세와 같은 자세로 상기 챔버에서 상기 디바이스제조장치에 반출하기 위한 반출구와, 상기 반입구에서 반입된 디바이스를 상기 반입구에서 반입되었을 때의 자세 그대로 상기 반출구에 이송하는 이송수단과, 상기 챔버의 외부에 설치되어 상기 챔버내의 기체를 순환되게 하는 순환용 팬과 순환하는 기체를 청결하게 하는 고성능필터를 가지고 청결한 기체를 디바이스 주면에 대해 평행인 층류로서 상기 챔버내에 공급하는 기체순환수단을 구비하고 있는 것을 특징으로 하는 환경제어장치.
  6. 제5항에 있어서, 상기 기체순환수단은 순환하는 기체에서 기체상의 불순물을 제거하는 물리흡착제 또는 화학흡착제로 되는 불순물흡착제를 가지고 있는 것을 특징으로 하는 환경제어장치.
  7. 제5항 또는 제6항에 있어서, 상기 기체순환수단은 불활성가스를 상기 챔버내에 공급하는 불활성가스공급수단을 가지고 있는 것을 특징으로 하는 환경제어장치.
  8. 제5항 또는 제6항에 있어서, 상기 기체순환수단은 순환하는 기체의 온도 또는 습도를 조정하는 기체조정수단을 가지고 있는 것을 특징으로 하는 환경제어장치.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019930016405A 1992-08-31 1993-08-24 환경제어장치 KR970006728B1 (ko)

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Families Citing this family (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5626820A (en) * 1988-12-12 1997-05-06 Kinkead; Devon A. Clean room air filtering
DE4326309C1 (de) * 1993-08-05 1994-09-15 Jenoptik Jena Gmbh Vorrichtung zum Transport von Wafermagazinen
US5833726A (en) * 1995-05-26 1998-11-10 Extraction System, Inc. Storing substrates between process steps within a processing facility
US5674123A (en) * 1995-07-18 1997-10-07 Semifab Docking and environmental purging system for integrated circuit wafer transport assemblies
DE19538040C2 (de) * 1995-10-13 1998-08-13 Jenoptik Jena Gmbh Einrichtung zur Erzeugung eines gereinigten, turbulenzarmen Luftstromes zur Versorgung lokaler Reinräume
US5827118A (en) * 1996-08-28 1998-10-27 Seh America, Inc. Clean storage unit air flow system
AU4686000A (en) 1999-04-28 2000-11-10 Stratotech Corporation Adjustable clean-air flow environment
JP4246343B2 (ja) * 2000-01-06 2009-04-02 株式会社荏原製作所 ガス雰囲気形成装置及びガス雰囲気形成方法
JP2003332402A (ja) * 2002-05-10 2003-11-21 Kondo Kogyo Kk ミニエンバライメント方式の半導体製造装置
JP3759492B2 (ja) 2002-12-03 2006-03-22 近藤工業株式会社 ミニエンバライメント方式の半導体製造装置
US7204751B2 (en) * 2003-07-07 2007-04-17 Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. Method and apparatus for filtering contaminants
KR20060095763A (ko) * 2003-10-21 2006-09-01 가부시키가이샤 니콘 환경 제어장치, 디바이스 제조장치, 디바이스 제조방법, 및노광장치
DE102007051726A1 (de) * 2007-10-25 2009-04-30 Hänel & Co. Lageranordnung mit vorgebbarer Lagerungsatmosphäre
CN101721873A (zh) * 2008-10-31 2010-06-09 张跃 一种新式层流高效空气过滤设备
WO2010137556A1 (ja) * 2009-05-27 2010-12-02 ローツェ株式会社 雰囲気置換装置
US20130082059A1 (en) * 2011-09-30 2013-04-04 Wei Huang Cup disposed with a push button switch using connecting rod mechanism for lateral pulling of a water sealing T-rod
JP6441244B2 (ja) * 2016-02-02 2018-12-19 株式会社Ｋｏｋｕｓａｉ Ｅｌｅｃｔｒｉｃ 基板処理装置

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3637880C2 (de) * 1986-11-06 1994-09-01 Meissner & Wurst Transportierbares Behältnis zur Handhabung von Halbleiterelementen während ihrer Herstellung sowie Verfahren zur partikelfreien Übergabe von Produkten
US4927438A (en) * 1987-12-01 1990-05-22 Varian Associates, Inc. Horizontal laminar air flow work station
US5069113A (en) * 1990-06-04 1991-12-03 Micron Technology, Inc. Stacked and cross-connected recirculating fans in a semiconductor manufacturing cleanroom
KR0153250B1 (ko) * 1990-06-28 1998-12-01 카자마 겐쥬 종형 열처리 장치
US5195922A (en) * 1990-08-29 1993-03-23 Intelligent Enclosures Corporation Environmental control system
US5181819A (en) * 1990-10-09 1993-01-26 Tokyo Electron Sagami Limited Apparatus for processing semiconductors

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KR970006728B1 (ko) 1997-04-29

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