KR930700638A - 디클로로펜타플루오로프로판, 메탄올 및 6탄소원자들을 함유하는 탄화수소의 공비성 조성물들 - Google Patents

디클로로펜타플루오로프로판, 메탄올 및 6탄소원자들을 함유하는 탄화수소의 공비성 조성물들

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KR930700638A
KR930700638A KR1019920703103A KR920703103A KR930700638A KR 930700638 A KR930700638 A KR 930700638A KR 1019920703103 A KR1019920703103 A KR 1019920703103A KR 920703103 A KR920703103 A KR 920703103A KR 930700638 A KR930700638 A KR 930700638A
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methanol
dichloropentafluoropropane
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dichloro
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매지드 히렐
폴 윌슨 데이비그
엠. 라베리 데니스
홀리스터 리차드 엠
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제라드 피. 루우니
알라이드-시그날 인코포레이티드
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Abstract

내용 없음.

Description

디클로로펜타플루오로프로판, 메탄올 및 6탄소원자들을 함유하는 탄화수소의 공비성 조성물들
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음

Claims (69)

  1. 근본적으로 48-96.9wt%의 디클로로펜타플루오로프로판, 3-24wt%의 메탄올 및 0.1-28.wt%의 C6탄화수소로 구성되며 760㎜Hg에서 46.0℃±3.5℃에서 비등하는 공비성 조성물들.
  2. 제1항에 있어서, 상기 조성물들이 760㎜Hg에서 46.0℃±3.0℃에서 비등하는 것인 공비성 조성물들.
  3. 제1항에 있어서, 근본적으로 62-94wt%의 디클로로펜타플루오로프로판, 3-12wt%의 메탄올 및 3-26wt%의 C6탄화수소로 구성되는 공비성 조성물들.
  4. 제1항에 있어서, 근본적으로 68-94wt%의 디클로로펜타플루오로프로판, 3-12wt%의 메탄올 및 3-20wt%의 C6탄화수소로 구성되는 공비성 조성물들.
  5. 제1항에 있어서, 근본적으로 78-94wt%의 디클로로펜타플루오로프로판, 3-12wt%의 메탄올 및 3-10wt%의 C6탄화수소로 구성되는 공비성 조성물들.
  6. 제1항에 있어서, 근본적으로 62-91wt%의 디클로로펜타플루오로프로판, 3-13wt%의 메탄올 및 10-26wt%의 C6탄화수소로 구성되는 공비성 조성물들.
  7. 제1항에 있어서, 근본적으로 68-96wt%의 디클로로펜타플루오로프로판, 3-12wt%의 메탄올 및 3-10wt%의 C6탄화수소로 구성되는 공비성 조성물들.
  8. 제1항에 있어서, 근본적으로 62-87wt%의 디클로로펜타플루오로프로판, 3-12wt%의 메탄올 및 10-26wt%의 C6탄화수소로 구성되는 공비성 조성물들.
  9. 제1항에 있어서, 근본적으로 50-91wt%의 디클로로펜타플루오로프로판, 3-24wt%의 메탄올 및 6-26wt%의 2-메틸펜탄으로 구성되며 760㎜Hg에서 45.5℃±3.0㎜에서 비등하는 공비성 조성물들.
  10. 제9항에 있어서, 근본적으로 56-91wt%의 디클로로펜타플루오로프로판, 3-18wt%의 메탄올 및 6-26wt%의 2-메틸펜탄으로 구성되는 공비성 조성물들.
  11. 제9항에 있어서, 근본적으로 62-91wt%의 디클로로펜타플루오로프로판, 3-12wt%의 메탄올 및 6-26wt%의 2-메틸펜탄으로 구성되는 공비성 조성물들.
  12. 제1항에 있어서, 근본적으로 54-94wt%의 디클로로펜타플루오로프로판, 3-24wt%의 메탄올 및 3-22wt%의 3-메틸펜탄으로 구성되며 760㎜Hg에서 45.4℃±2.5℃에서 비등하는 공비성 조성물들.
  13. 제12항에 있어서, 근본적으로 60-94wt%의 디클로로펜타플루오로프로판, 3-18wt%의 메탄올 및 3-22wt%의 3-메틸펜탄으로 구성되며 공비성 조성물들.
  14. 제12항에 있어서, 근본적으로 66-94wt%의 디클로로펜타플루오로프로판, 3-12wt%의 메탄올 및 3-22wt%의 3-메틸펜탄으로 구성되는 공비성 조성물들.
  15. 제1항에 있어서, 근본적으로 50-91wt%의 디클로로펜타플루오로프로판, 3-24wt%의 메탄올 및 6-26wt%의 공업용 이소헥산 제1등급으로 구성되며 760㎜Hg에서 45.5℃±3.0℃에서 비등하는 공비성 조성물들.
  16. 제15항에 있어서, 760㎜Hg에서 45.5℃±2.5℃에서 비등하는 것인 공비성 조성물들.
  17. 제15항에 있어서, 근본적으로 56-91wt%의 디클로로펜타플루오로프로판, 3-18wt%의 메탄올 및 6-26wt%의 공업용 이소헥산 제1등급으로 구성되는 공비성 조성물들.
  18. 제15항에 있어서, 근본적으로 62-91wt%의 디클로로펜타플루오로프로판, 3-12wt%의 메탄올 및 6-26wt%의 공업용 이소헥산 제1등급으로 구성되는 공비성 조성물들.
  19. 제1항에 있어서, 근본적으로 50-91wt%의 디클로로펜타플루오로프로판, 3-24wt%의 메탄올 및 6-26wt%의 공업용 이소헥산 제2등급으로 구성되며 760㎜Hg에서 45.5℃±3.0℃에서 비등하는 공비성 조성물들.
  20. 제19항에 있어서, 760㎜Hg에서 45.5℃±2.5℃에서 비등하는 것인 공비성 조성물들.
  21. 제19항에 있어서, 근본적으로 56-91wt%의 디클로로펜타플루오로프로판, 3-18wt%의 메탄올 및 6-26wt%의 공업용 이소헥산 제2등급으로 구성되는 공비성 조성물들.
  22. 제19항에 있어서, 근본적으로 62-91wt%의 디클로로펜탈플루오로프로판, 3-12wt%의 메탄올 및 6-26wt%의 공업용 이소헥산 제2등급으로 구성되는 공비성 조성물들.
  23. 제1항에 있어서, 근본적으로 56-94wt%의 디클로로펜타플루오로프로판, 3-24wt%의 메탄올 및 3-20wt%의 n-헥산으로 구성되며 760㎜Hg에서 46.0℃±3.0℃에서 비등하는 공비성 조성물들.
  24. 제23항에 있어서, 근본적으로 62-94wt%의 디클로로펜타플루오로프로판, 3-18wt%의 메탄올 및 3-20wt%의 n-헥산으로 구성되며 760㎜Hg에서 46.0℃±3.0℃에서 비등하는 공비성 조성물들.
  25. 제23항에 있어서, 근본적으로 68-94wt%의 디클로로펜타플루오로프로판, 3-12wt%의 메탄올 및 3-20wt%의 n-헥산으로 구성되며 760㎜Hg에서 46.0℃±3.0℃에서 비등하는 공비성 조성물들.
  26. 제1항에 있어서, 근본적으로 62-96.9wt%의 디클로로펜타플루오로프로판, 3-24wt%의 메탄올 및 0.1-14wt%의 메틸시클로펜탄으로 구성되며 760㎜Hg에서 46.0℃±3.0℃에서 비등하는 공비성 조성물들.
  27. 제26항에 있어서, 근본적으로 68-96.9wt%의 디클로로펜타플루오로프로판, 3-18wt%의 메탄올 및 0.1-14wt%의 메틸시클로펜탄으로 구성되는 공비성 조성물들.
  28. 제26항에 있어서, 근본적으로 74-96.9wt%의 디클로로펜타플루오로프로판, 3-12wt%의 메탄올 및 0.1-14wt%의 메틴시클로펜탄으로 구성되며 760㎜Hg에서 46.0℃±3.0℃에서 비등하는 공비성 조성물들.
  29. 제1항에 있어서, 근본적으로 58-96.9wt%의 디클로로펜타플루오로프로판, 3-24wt%의 메탄올 및 0.1-18wt%의 메틴시클로펜탄으로 구성되며 760㎜Hg에서 46.8℃±2,7℃에서 비등하는 공비성 조성물들.
  30. 제29항에 있어서, 근본적으로 64-96.9wt%의 디클로로펜타플루오로프로판, 3-18wt%의 메탄올 및 0.1-18wt%의 시클로헥산으로 구성되는 공비성 조성물들.
  31. 제29항에 있어서, 근본적으로 70-96.9wt%의 디클로로펜타플루오로프로판, 3-12wt%의 메탄올 및 0.1-18wt%의 시클로헥산으로 구성되는 공비성 조성물들.
  32. 제1항에 있어서, 근본적으로 68-96.9wt%의 디클로로-2.2.3.3.3-펜타플루오로프로판, 3-24wt%의 메탄올 및 0.1-8wt%의 시클로헥산으로 구성되며 760㎜Hg에서 45.7℃에서 비등하는 공비성 조성물들.
  33. 제32항에 있어서, 760㎜Hg에서 45.7℃±1.0℃에서 비등하는 것인 공비성 조성물들.
  34. 제32항에 있어서, 760㎜Hg에서 45.7℃±0.7℃에서 비등하는 것인 공비성 조성물들.
  35. 제32항에 있어서, 760㎜Hg에서 45.7℃±0.5℃에서 비등하는 것인 공비성 조성물들.
  36. 제32항에 있어서, 근본적으로 73-96.9wt%의 1,1-디클로로-2,2,3,3,3-펜타플루오로플판, 4-8wt%의 메탄올 및 0.1-4wt%의 시클로헥산으로 구성되는 공비성 조성물들.
  37. 제32항에 있어서, 근본적으로 88-96.9wt%의 1,1-디클로로-2,2,3,3,3-펜타플루오로플판, 4-8wt%의 메탄올 및 0.1-4wt%의 시클로헥산으로 구성되는 공비성 조성물들.
  38. 제32항에 있어서, 근본적으로 88-95.4wt%의 1,1-디클로로-2,2,3,3,3-펜타플루오로플판, 4.5-8wt%의 메탄올 및 0.1-3.5wt%의 시클로헥산으로 구성되는 공비성 조성물들.
  39. 제1항에 있어서, 근본적으로 63-94wt%의 1,3-디클로로-1,1,2,2,3-펜타플루오로플판, 4-22wt%의 메탄올 및 2-15wt%의 시클로헥산으로 구성되며 760㎜Hg에서 48.3℃에서 비등하는 공비성 조성물.
  40. 제39항에 있어서, 760㎜Hg에서 48.3℃±1.0℃에서 비등하는 것인 공비성 조성물들.
  41. 제39항에 있어서, 760㎜Hg에서 48.3℃±0.7℃에서 비등하는 것인 공비성 조성물들.
  42. 제39항에 있어서, 760㎜Hg에서 48.3℃±0.5℃에서 비등하는 것인 공비성 조성물들.
  43. 제39항에 있어서, 근본적으로 80-91wt%의 1,3-디클로로-1,1,2,2,3-펜타플루오로프로판, 5-10wt%의 메탄올 및 4-10wt%의 시클로헥산으로 구성되는 공비성 조성물들.
  44. 제1항에 있어서, 근본적으로 62-93.5wt%의 1,1-디클로로-2,2,3,3,3-펜타플루오로프로판, 3-20wt%의 메탄올 및 3.5-18wt%의 n-헥산으로 구성되며 760㎜Hg에서 45.2℃에서 비등하는 공비성 조성물들.
  45. 제44항에 있어서, 760㎜Hg에서 45.2℃±1.0℃에서 비등하는 것인 공비성 조성물들.
  46. 제44항에 있어서, 760㎜Hg에서 45.2℃±0.6℃에서 비등하는 것인 공비성 조성물들.
  47. 제44항에 있어서, 근본적으로 80.5-92wt%의 1,1-디클로로-2,2,3,3,3-펜타플루오로프로판, 3.5-9wt%의 메탄올 및 4.5-10.5wt%의 n-헥산으로 구성되는 공비성 조성물.
  48. 제44항에 있어서, 근본적으로 82-92wt%의 1,1-디클로로-2,2,3,3,3-펜타플루오로프로판, 3,5,8wt%의 메탄올 및 4.5-10wt%의 n-헥산으로 구성되는 고비성 조성물들.
  49. 제1항에 있어서, 상기 디클로로펜타프루오로프로판이 1,1-디클로로-2,2,3,3,3-펜타플루오로프로판과 1,3-디클로로-1,1,2,2,3-펜타플루오로프로판의 혼합물인 것인 공비성 조성물들.
  50. 제11항에 있어서, 상기 디클로로펜타플루오로프로판이 1,1-디클로로-2,23,3,3-펜타플루오로프로판과 1,3-디클로로-1,1,2,2,3-펜타플루오로프로판의 혼합물인 것인 공비성 조성물들.
  51. 제14항에 있어서, 상기 디클로로펜타플루오로프로판이 1,1-디클로로-2,23,3,3-펜타플루오로프로판과 1,3-디클로로-1,1,2,2,3-펜타플루오로프로판의 혼합물인 것인 공비성 조성물들.
  52. 제18항에 있어서, 상기 디클로로펜타플루오로프로판이 1,1-디클로로-2,23,3,3-펜타플루오로프로판과 1,3-디클로로-1,1,2,2,3-펜타플루오로프로판의 혼합물인 것인 공비성 조성물들.
  53. 제22항에 있어서, 상기 디클로로펜타플루오로프로판이 1,1-디클로로-2,23,3,3-펜타플루오로프로판과 1,3-디클로로-1,1,2,2,3-펜타플루오로프로판의 혼합물인 것인 공비성 조성물들.
  54. 제25항에 있어서, 상기 디클로로펜타플루오로프로판이 1,1-디클로로-2,2,3,3,3-펜타플루오로프로판과 1,3-디클로로-1,1,2,2,3-펜타플루오로프로판의 혼합물인 것인 공비성 조성물들.
  55. 제28항에 있어서, 상기 디클로로펜타플루오로프로판이 1,1-디클로로-2,2,3,3,3-펜타플루오로프로판과 1,3-디클로로-1,1,2,2,3-펜타플루오로프로판의 혼합물인 것인 공비성 조성물들.
  56. 제31항에 있어서, 상기 디클로로펜타플루오로프로판이 1,1-디클로로-2,2,3,3,3-펜타플루오로프로판과 1,3-디클로로-1,1,2,2,3-펜타플루오로프로판의 혼합물인 것인 공비성 조성물들.
  57. 제1항에 있어서, 유효량의 억제제가 조성물내에 임의적으로 존재하는 것인 공비성 조성물들.
  58. 제37항에 있어서, 유효량이 억제제가 조성물내에 임의로 존재하는 것인 공비성 조성물들.
  59. 제43항에 있어서, 유효량이 억제제가 조성물내에 임의로 존재하는 것인 공비성 조성물들.
  60. 제47항에 있어서, 유효량이 억제제가 조성물내에 임의로 존재하는 것인 공비성 조성물들.
  61. 제57항에 있어서, 상기 억제제가 에폭시 화합물들, 니트로알칸들, 에테르들, 아세탈들, 케탈들, 케톤들, 알코올들, 에스테르들, 및 아민들로 구성된 군으로부터 선택된 것인 공비성 조성물들.
  62. 제58항에 있어서, 상기 억제제가 에폭시 화합물들, 니트로알칸들, 에테르들, 아세탈들, 케탈들, 케톤들, 알코올들, 에스테르들, 및 아민들로 구성된 군으로부터 선택된 것인 공비성 조성물들.
  63. 제59항에 있어서, 상기 억제제가 에폭시 화합물들, 니트로알칸들, 에테르들, 아세탈들, 케탈들, 케톤들, 알코올들, 에스테르들, 및 아민들로 구성된 군으로부터 선택된 것인 공비성 조성물들.
  64. 제60항에 있어서, 상기 억제제가 에폭시 화합물들, 니트로알칸들, 에테르들, 아세탈들, 케탈들, 케톤들, 알코올들, 에스테르들, 및 아민들로 구성된 군으로부터 선택된 것인 공비성 조성물들.
  65. 그 표면을 청구범위 제1항의 공비성 조성물로 처리함을 특징으로 하는 고체표면의 세척방법.
  66. 그 표면을 청구범위 제37항의 공비성 조성물로 처리함을 특징으로 하는 고체표면의 세척방법.
  67. 그 표면을 청구범위 제43항의 공비성 조성물로 처리함을 특징으로 하는 고체표면의 세척방법.
  68. 그 표면을 청구범위 제47항의 공비성 조성물로 처리함을 특징으로 하는 고체표면의 세척방법.
  69. ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019920703103A 1990-06-06 1991-04-18 디클로로펜타플루오로프로판, 메탄올 및 6탄소원자들을 함유하는 탄화수소의 공비성 조성물들 KR930700638A (ko)

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