KR930020245A - 경사 가능대물 테이블을 구비한 지지 장치와 그 지지장치를 구비한 광학 석판 인쇄 장치 - Google Patents

경사 가능대물 테이블을 구비한 지지 장치와 그 지지장치를 구비한 광학 석판 인쇄 장치 Download PDF

Info

Publication number
KR930020245A
KR930020245A KR1019920003607A KR920003607A KR930020245A KR 930020245 A KR930020245 A KR 930020245A KR 1019920003607 A KR1019920003607 A KR 1019920003607A KR 920003607 A KR920003607 A KR 920003607A KR 930020245 A KR930020245 A KR 930020245A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
parallel
bearing unit
support device
fixing member
support
Prior art date
Application number
KR1019920003607A
Other languages
English (en)
Other versions
KR100233614B1 (ko
Inventor
게라르두스 보우베르 아스리아누스
코엔라드 마리에 바겐 마르쎌
빌헬무스 알디시우스 얀센 헨리쿠스
루트게루스 바르트라이 페트루스
반 에약 얀
Original Assignee
프레데릭 얀 스미트
앤.브이.필립스 글로아이람펜파브리켄
에이 에스 엠 리소그라피 비.브이.
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Family has litigation
First worldwide family litigation filed litigation Critical https://patents.darts-ip.com/?family=19858996&utm_source=google_patent&utm_medium=platform_link&utm_campaign=public_patent_search&patent=KR930020245(A) "Global patent litigation dataset” by Darts-ip is licensed under a Creative Commons Attribution 4.0 International License.
Application filed by 프레데릭 얀 스미트, 앤.브이.필립스 글로아이람펜파브리켄, 에이 에스 엠 리소그라피 비.브이. filed Critical 프레데릭 얀 스미트
Publication of KR930020245A publication Critical patent/KR930020245A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR100233614B1 publication Critical patent/KR100233614B1/ko

Links

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H01L21/027—Making masks on semiconductor bodies for further photolithographic processing not provided for in group H01L21/18 or H01L21/34
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
    • G03F7/70808—Construction details, e.g. housing, load-lock, seals or windows for passing light in or out of apparatus
    • G03F7/70825—Mounting of individual elements, e.g. mounts, holders or supports
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23Q—DETAILS, COMPONENTS, OR ACCESSORIES FOR MACHINE TOOLS, e.g. ARRANGEMENTS FOR COPYING OR CONTROLLING; MACHINE TOOLS IN GENERAL CHARACTERISED BY THE CONSTRUCTION OF PARTICULAR DETAILS OR COMPONENTS; COMBINATIONS OR ASSOCIATIONS OF METAL-WORKING MACHINES, NOT DIRECTED TO A PARTICULAR RESULT
    • B23Q1/00—Members which are comprised in the general build-up of a form of machine, particularly relatively large fixed members
    • B23Q1/25—Movable or adjustable work or tool supports
    • B23Q1/26—Movable or adjustable work or tool supports characterised by constructional features relating to the co-operation of relatively movable members; Means for preventing relative movement of such members
    • B23Q1/34—Relative movement obtained by use of deformable elements, e.g. piezoelectric, magnetostrictive, elastic or thermally-dilatable elements
    • B23Q1/36—Springs
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23Q—DETAILS, COMPONENTS, OR ACCESSORIES FOR MACHINE TOOLS, e.g. ARRANGEMENTS FOR COPYING OR CONTROLLING; MACHINE TOOLS IN GENERAL CHARACTERISED BY THE CONSTRUCTION OF PARTICULAR DETAILS OR COMPONENTS; COMBINATIONS OR ASSOCIATIONS OF METAL-WORKING MACHINES, NOT DIRECTED TO A PARTICULAR RESULT
    • B23Q1/00—Members which are comprised in the general build-up of a form of machine, particularly relatively large fixed members
    • B23Q1/25—Movable or adjustable work or tool supports
    • B23Q1/44—Movable or adjustable work or tool supports using particular mechanisms
    • B23Q1/50—Movable or adjustable work or tool supports using particular mechanisms with rotating pairs only, the rotating pairs being the first two elements of the mechanism
    • B23Q1/54—Movable or adjustable work or tool supports using particular mechanisms with rotating pairs only, the rotating pairs being the first two elements of the mechanism two rotating pairs only
    • B23Q1/545—Movable or adjustable work or tool supports using particular mechanisms with rotating pairs only, the rotating pairs being the first two elements of the mechanism two rotating pairs only comprising spherical surfaces
    • B23Q1/5462—Movable or adjustable work or tool supports using particular mechanisms with rotating pairs only, the rotating pairs being the first two elements of the mechanism two rotating pairs only comprising spherical surfaces with one supplementary sliding pair
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
    • G03F7/70716—Stages
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/68—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for positioning, orientation or alignment
    • H01L21/682—Mask-wafer alignment

Abstract

본 발명은 베이스 표면과 베이스 표면에 평행 연장된 직선 가이드를 따라 지지장치를 안내하기 위한 제1및 제2베어링 유닛트를 포함하는 지지 장치에 관한 것이다. 지지 장치는 고정부재에 커플링되고, 베이스 표면에 횡방향인 z방향으로 2개의 베어링 유닛트에 관해 이동 가능하며, 3개의 작동기에 의해 베이스 표면에 평행한 적어도 한 회전축에 대해 경사 가능한 대물 테이블을 갖는다. 고정 부재는 z방향으로 탄성 변형 가능한 커플링 부재에 의해 제2베어링 유닛트에 커플링되고, 작동기를 거쳐 제1베어링 유닛트에 커플링되며, 따라서 고정 부재와 대물 테이블을 2개의 베어링 유닛트에 정적으로 커플링하는 것을 달성된다.
지지 장치는 광학 석판 인쇄 장치와 같은 서브-마이크론 범위내의 대상물의 이동에 적합하다. 특히, 대상물의 정확한 촛점 집중은 지지 장치를 광학 석판 인쇄의 장치에 사용하므로서 얻어질 수 있다.

Description

경사 가능 대물 테이블을 구비한 지지 장치와 그 지지 장치를 구비한 광학 석판 인쇄 장치
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도는 본 발명의 지지 장치의 제1실시예의 사시도.
제2도는 지지 장치의 대물 테이블을 제외한 제1도의 지지장치의 사시도.
제5도는 본 발명에 따른 지지 장치의 제2실시예의 사시도.

Claims (14)

  1. 베이스 표면과 베이스 표면에 평행 연장된 직선 가이들 따라서 지지 장치를 안내하기 위해 제2베어링 유닛트를 지지하는 제1베어링 유닛트와, 대물 테이블과 고정 부재가 제공되며 작동기 시스템에 의해 베이스 표면에 수직인 z방향에 평향하게 제1베어링 유닛트에 대해 이동 가능한 지지 유닛트를 구비한 지지 장치에 있어서, 지지 유닛트는 작동기 시스템에 의해 베이스 표면에 평행한 적오도 한 축에 대한 제1 및 제2베어링 유닛트에 대해 회전 가능하며, 고정부재는 z방향에 평행한 방향으로 탄성 변형 가능한 커플링 부재에 의해 제2베어링 유닛트에 커플링하는 것을 특징으로 하는 지지 장치.
  2. 제1항에 있어서, 작동기 시스템이 3개의 작동기에 의해 형성되며, 각각의 작동기는 작동시에 z방향에 평행한 고정 부재상의 힘을 발휘하는 것을 특징으로 하는 지지 장치.
  3. 제2항에 있어서, 각각의 작동기에는 캠과 구동 캠 종동기가 제공되고, 캠 종동기는 베이스 표면에 평행한 너 가능 캠 샤프트에 고정되며, 캠 종동기는 캠 샤프트에 평행한 구동 모터의 출력축에 커플링되는 것을 특징으로 하는 지지 장치.
  4. 제3항에 있어서, 구동 모터는 제1베어링 유닛트에 고정되고, 캠 샤프트는 고정 부재에 커플링되는 것을 특징으로 하는 지지장치.
  5. 제4항에 있어서, 고정부재는 대물 테이블을 지지하기 위한 3개의 지지소자를 포함하고, 상기 소자는 z방향에 횡방향의 평면내에 상호 삼각형으로 위치되며, 판형 스프립에 의해 상고 연결되고 상기 평면내에서 연장되는 탄성 커플링 부재에 의해 제2베어링 유닛트에 커플링되는 것을 특징으로 하는 지지 장치.
  6. 제5항에 있어서, 각각의 탄성 커플링 부재는 관련 지지 부근의 소자 삼각형의 이등분선에 횡방향 연장되고 이등분선에 평행 연장된 리세스부가 양단부 부근에 제공된 판형 스트립을 포함하는 것을 특징으로 하는 지지 장치.
  7. 제5항 또는 6항에 있어서, 고정부재의 지지 소자 각각은 지지볼을 포함하는 것을 특징으로 하는 지지 장치.
  8. 제5항, 6항 또는 7항에 있어서, 고정부재의 각각의 지지소자는 z방향에 평행하게 연장되는 탄성봉에 의해 작동기 시스템상에 커플링되는 것을 특징으로 하는 지지 장치.
  9. 제8항에 있어서, 각각의 탄성봉은 z방향에 평행 연장되고 2개의 상호 수직 리세스부가 양단부에 제공된 칼럼을 포함하는 것을 특징으로 하는 지지 장치.
  10. 제1항, 2항 또는 3항에 있어서, 본 발명의 지지 장치의 특정 실시예는 z방향으로 볼때 고정부재는 제1및 제2베어링 유닛트 사이에 위치되고, 대물 테이블은 z방향에 평행한 제2베어링 유닛트를 따라 연장된 탄성 지지 칼럼에 의해 고정부재에 고정되며, 제2베어링 유닛트는 z방향에 평행한 고정 부재를 따라 연장되는 고정부재에 의해 제1베어링 유닛트에 고정되는 것을 특징으로 하는 지지 장치.
  11. 제10항에 있어서, 고정부재는 z방향에 횡방향 연장되는 3개의 판스프링으로 제2베어링 유닛트에 커플링되는 것을 특징으로 하는 지지장치.
  12. 제10항에 또는 11항에 있어서, 대물 테이블은 베이스 표면에 평행 연장되는 제1리세스부와 제1리세스부에 평행 연장되는 제2리세스부가 제1및 제2단부에 제공되며 제1및 제2리세스부에 횡방향 연장되는 제3리세스부가 제1및 제2리세스부 사이에 제공되는 3개의 탄성 지지 칼럼에 의해 고정부재에 고정되는 것을 특징으로 하는 지지 장치.
  13. 제10항, 11항 또는 12항에 있어서, 구동 모터는 고정부재에 고정되고 캠 샤프트는 제1베어링 유닛트에 고정되는 것을 특징으로 하는 지지 장치.
  14. 전항중 어느 한 항에서 청구된 지지 장치가 제공된 광학석판 인쇄장치에 있어서, z방향에서 광학 석판 인쇄 장치에는 지지 장치와, z방향에 평행한 광학 주축을 가진 렌즈 시스템, 마스크용 조정기와 지지 장치에 의해 지지될 기판의 반복적 조명을 위한 셔터를 가진 광원이 차례로 제공되고, 대물 테이블은 광학 주축에 수직인 기판을 위한 지지표면을 포함하는 것을 특징으로 하는 광학 석판 인쇄장치.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019920003607A 1991-03-08 1992-03-05 경사가능 대물 테이블을 구비한 지지 장치와 그 지지 장치를 구비한 광학 석판 인쇄 장치 KR100233614B1 (ko)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
NL9100421A NL9100421A (nl) 1991-03-08 1991-03-08 Ondersteuningsinrichting met een kantelbare objecttafel alsmede optisch lithografische inrichting voorzien van een dergelijke ondersteuningsinrichting.

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR930020245A true KR930020245A (ko) 1993-10-19
KR100233614B1 KR100233614B1 (ko) 1999-12-01

Family

ID=19858996

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1019920003607A KR100233614B1 (ko) 1991-03-08 1992-03-05 경사가능 대물 테이블을 구비한 지지 장치와 그 지지 장치를 구비한 광학 석판 인쇄 장치

Country Status (6)

Country Link
US (1) US5204712A (ko)
EP (1) EP0503712B1 (ko)
JP (1) JP3291310B2 (ko)
KR (1) KR100233614B1 (ko)
DE (1) DE69204329T2 (ko)
NL (1) NL9100421A (ko)

Families Citing this family (42)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5813287A (en) 1994-03-02 1998-09-29 Renishaw Plc Coordinate positioning machine
DE69536045D1 (de) * 1994-03-02 2010-04-01 Renishaw Plc Koordinaten-Positionierungsmaschine
JP3221823B2 (ja) * 1995-11-24 2001-10-22 キヤノン株式会社 投影露光装置およびこれを用いた露光方法ならびに半導体製造方法
US5991005A (en) * 1996-04-11 1999-11-23 Nikon Corporation Stage apparatus and exposure apparatus having the same
JP3659529B2 (ja) * 1996-06-06 2005-06-15 キヤノン株式会社 露光装置およびデバイス製造方法
JPH10521A (ja) * 1996-06-07 1998-01-06 Nikon Corp 支持装置
US5815246A (en) * 1996-12-24 1998-09-29 U.S. Philips Corporation Two-dimensionally balanced positioning device, and lithographic device provided with such a positioning device
US5835198A (en) * 1997-01-06 1998-11-10 Etec Systems, Inc. Articulated platform mechanism for laser pattern generation on a workpiece
JPH10209035A (ja) * 1997-01-23 1998-08-07 Nikon Corp 露光装置
JPH11191585A (ja) * 1997-12-26 1999-07-13 Canon Inc ステージ装置、およびこれを用いた露光装置、ならびにデバイス製造方法
US6054784A (en) * 1997-12-29 2000-04-25 Asm Lithography B.V. Positioning device having three coil systems mutually enclosing angles of 120° and lithographic device comprising such a positioning device
DE19805875C1 (de) * 1998-02-13 1999-04-08 Schott Glas Trägertisch für eine Photomaske in einer Vorrichtung zur Mikrochip-Herstellung
US6621556B2 (en) * 2000-02-28 2003-09-16 Nikon Corporation Projection exposure apparatus and manufacturing and adjusting methods thereof
TW509823B (en) 2000-04-17 2002-11-11 Asml Netherlands Bv Lithographic apparatus, device manufacturing method, and device manufactured thereby
DE10062713C1 (de) * 2000-12-15 2002-09-05 Zeiss Carl Verfahren zum Beschichten von Substraten und Maskenhaltern
US6646719B2 (en) * 2001-01-31 2003-11-11 Nikon Corporation Support assembly for an exposure apparatus
EP1243969A1 (en) * 2001-03-20 2002-09-25 Asm Lithography B.V. Lithographic projection apparatus and positioning system
DE10115915A1 (de) * 2001-03-30 2002-10-02 Zeiss Carl Vorrichtung zur Justierung von Einrichtungen und zum Einstellen von Verstellwegen
DE10136387A1 (de) * 2001-07-26 2003-02-13 Zeiss Carl Objektiv, insbesondere Objektiv für die Halbleiter-Lithographie
DE10140174B4 (de) * 2001-08-22 2005-11-10 Leica Microsystems Semiconductor Gmbh Koordinaten-Messtisch und Koordinaten-Messgerät
DE10219514A1 (de) * 2002-04-30 2003-11-13 Zeiss Carl Smt Ag Beleuchtungssystem, insbesondere für die EUV-Lithographie
US7760452B2 (en) * 2003-04-25 2010-07-20 Canon Kabushiki Kaisha Driving apparatus, optical system, exposure apparatus and device fabrication method
US6891601B2 (en) * 2003-07-17 2005-05-10 Newport Corporation High resolution, dynamic positioning mechanism for specimen inspection and processing
US7265917B2 (en) * 2003-12-23 2007-09-04 Carl Zeiss Smt Ag Replacement apparatus for an optical element
US7515359B2 (en) 2004-04-14 2009-04-07 Carl Zeiss Smt Ag Support device for positioning an optical element
JP2007025374A (ja) * 2005-07-19 2007-02-01 Mitsubishi Electric Corp 反射鏡支持調整機構
TWI372271B (en) * 2005-09-13 2012-09-11 Zeiss Carl Smt Gmbh Optical element unit, optical element holder, method of manufacturing an optical element holder, optical element module, optical exposure apparatus, and method of manufacturing a semiconductor device
DE102006034455A1 (de) * 2006-07-26 2008-01-31 Carl Zeiss Industrielle Messtechnik Gmbh Lageveränderliche Werkstückauflage für eine Maschine und Bearbeitungsanlage mit einer entsprechenden Werkstückauflage
KR101302300B1 (ko) * 2006-12-22 2013-09-03 주식회사 케이씨텍 대면적 기판의 방향 전환장치
DE102008000967B4 (de) * 2008-04-03 2015-04-09 Carl Zeiss Smt Gmbh Projektionsbelichtungsanlage für die EUV-Mikrolithographie
DE102009029536A1 (de) * 2008-09-17 2010-04-15 Carl Zeiss Smt Ag Verbindungsanordnung für eine optische Einrichtung
JP6068349B2 (ja) * 2010-10-21 2017-01-25 ソルラブス、 インコーポレイテッドＴｈｏｒｌａｂｓ， Ｉｎｃ． ナノポジショナーのための平行度維持装置
US8542450B2 (en) 2011-02-08 2013-09-24 Utah State University Research Foundation Kinematic optic mount
US20130125793A1 (en) * 2011-11-22 2013-05-23 Alex K. Deyhim Two degrees of freedom optical table
CN103066894B (zh) * 2012-12-12 2015-05-20 清华大学 一种六自由度磁悬浮工件台
CN104062854B (zh) * 2013-03-21 2016-08-03 上海微电子装备有限公司 用于光刻设备的调平调焦装置
CN104110561B (zh) * 2014-06-25 2016-06-29 华南理工大学 一种基于柔顺机构的大行程平面三自由度精密定位平台
KR102296804B1 (ko) * 2014-07-03 2021-08-31 뉴포트 코포레이션 다축 포지셔닝 장치
GB2541171A (en) * 2015-07-29 2017-02-15 Skf Ab A device for adjusting the positioning of an apparatus relative to a foundation in a shaft alignment process and a method thereof
WO2017207016A1 (en) * 2016-05-30 2017-12-07 Carl Zeiss Smt Gmbh Optical imaging arrangement with a piezoelectric device
CN111650816B (zh) * 2019-03-04 2021-07-23 上海微电子装备（集团）股份有限公司 柔性连接装置、测量系统及光刻机
CN112756996A (zh) * 2020-12-29 2021-05-07 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 一种六自由度调节装置

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4431304A (en) * 1981-11-25 1984-02-14 Mayer Herbert E Apparatus for the projection copying of mask patterns on a workpiece
US4473291A (en) * 1983-03-24 1984-09-25 Opti-Copy, Inc. Support arrangement for track mounted cameras, projectors and camera/projectors
US4676649A (en) * 1985-11-27 1987-06-30 Compact Spindle Bearing Corp. Multi-axis gas bearing stage assembly
JPS62200726A (ja) * 1986-02-28 1987-09-04 Canon Inc 露光装置
NL8600785A (nl) * 1986-03-27 1987-10-16 Asm Lithography Bv Positioneerinrichting met een z-manipulator en een o-manipulator.
NL8601095A (nl) * 1986-04-29 1987-11-16 Philips Nv Positioneerinrichting.
NL8601547A (nl) * 1986-06-16 1988-01-18 Philips Nv Optisch litografische inrichting met verplaatsbaar lenzenstelsel en werkwijze voor het regelen van de afbeeldingseigenschappen van een lenzenstelsel in een dergelijke inrichting.
JPH0812843B2 (ja) * 1989-03-15 1996-02-07 日本精工株式会社 光学結像装置及び方法
NL8902471A (nl) * 1989-10-05 1991-05-01 Philips Nv Tweetraps positioneerinrichting.
US5130747A (en) * 1990-09-28 1992-07-14 Kabushiki Kaisha Toshiba Carrier apparatus

Also Published As

Publication number Publication date
JP3291310B2 (ja) 2002-06-10
DE69204329D1 (de) 1995-10-05
EP0503712A1 (en) 1992-09-16
DE69204329T2 (de) 1996-04-25
JPH0737771A (ja) 1995-02-07
KR100233614B1 (ko) 1999-12-01
EP0503712B1 (en) 1995-08-30
US5204712A (en) 1993-04-20
NL9100421A (nl) 1992-10-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR930020245A (ko) 경사 가능대물 테이블을 구비한 지지 장치와 그 지지장치를 구비한 광학 석판 인쇄 장치
US7212358B2 (en) Digital camera system with piezoelectric actuators
KR950019953A (ko) 투영노광장치
KR960024695A (ko) 노광 장치
KR910017165A (ko) 형상측정장치
ATE127940T1 (de) Positioniervorrichtung.
KR930003285A (ko) 위치설정 장치 및 위치설정 장치를 갖는 광학 석판인쇄 장치
KR950009366A (ko) 투영 노광 방법 및 장치
DE60134332D1 (de) Mikroskopeinrichtung mit thermischer linse
KR900018710A (ko) 광학계의 구동장치
KR900003684A (ko) 개선된 사진 인화장치
DE69817678D1 (de) Abbildungssystem mit beweglichem Ausrichtstift
US4444488A (en) Adjustable mirror support for copying apparatus
US4998135A (en) Mechanism for moving a projection lens assembly to alter projecting magnification
KR900014946A (ko) 슬릿형 복사기 노출 시스템용 콘트라스트 조절 장치
KR930003037A (ko) 대물 렌즈 이동 작동기
US6002469A (en) Apparatus for tensioning copy masters
KR200178125Y1 (ko) 광학장치
SU1747779A1 (ru) Устройство дл перемещени объекта в плоскости
JPS61252542A (ja) 原稿走査装置
JPH0933678A (ja) ステージ装置
KR940012541A (ko) 축소투영 노광장치용 이중구조 레티클(Reticle) 구동계
ATE122499T1 (de) Elektromagnetisches relais.
JPH0418286B2 (ko)
JPS63109429A (ja) 光学装置

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
O035 Opposition [patent]: request for opposition
G170 Publication of correction
O132 Decision on opposition [patent]
O074 Maintenance of registration after opposition [patent]: final registration of opposition
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20080828

Year of fee payment: 10

LAPS Lapse due to unpaid annual fee