JP3291310B2 - 支持装置 - Google Patents
支持装置Info
- Publication number
- JP3291310B2 JP3291310B2 JP04818692A JP4818692A JP3291310B2 JP 3291310 B2 JP3291310 B2 JP 3291310B2 JP 04818692 A JP04818692 A JP 04818692A JP 4818692 A JP4818692 A JP 4818692A JP 3291310 B2 JP3291310 B2 JP 3291310B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- support
- support device
- parallel
- stiffening member
- bearing unit
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 36
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 24
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 claims description 15
- 238000000034 method Methods 0.000 claims 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 16
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 7
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 6
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 5
- 230000005489 elastic deformation Effects 0.000 description 4
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 3
- 238000005192 partition Methods 0.000 description 3
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 3
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 3
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 2
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 2
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 239000000696 magnetic material Substances 0.000 description 2
- 241000264091 Petrus Species 0.000 description 1
- 235000013405 beer Nutrition 0.000 description 1
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 1
- 239000000969 carrier Substances 0.000 description 1
- 230000006835 compression Effects 0.000 description 1
- 238000007906 compression Methods 0.000 description 1
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
- 239000010438 granite Substances 0.000 description 1
- 238000012886 linear function Methods 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- 230000005381 magnetic domain Effects 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 230000015654 memory Effects 0.000 description 1
- 229910052594 sapphire Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010980 sapphire Substances 0.000 description 1
- 239000003351 stiffener Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/027—Making masks on semiconductor bodies for further photolithographic processing not provided for in group H01L21/18 or H01L21/34
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
- G03F7/70808—Construction details, e.g. housing, load-lock, seals or windows for passing light in or out of apparatus
- G03F7/70825—Mounting of individual elements, e.g. mounts, holders or supports
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23Q—DETAILS, COMPONENTS, OR ACCESSORIES FOR MACHINE TOOLS, e.g. ARRANGEMENTS FOR COPYING OR CONTROLLING; MACHINE TOOLS IN GENERAL CHARACTERISED BY THE CONSTRUCTION OF PARTICULAR DETAILS OR COMPONENTS; COMBINATIONS OR ASSOCIATIONS OF METAL-WORKING MACHINES, NOT DIRECTED TO A PARTICULAR RESULT
- B23Q1/00—Members which are comprised in the general build-up of a form of machine, particularly relatively large fixed members
- B23Q1/25—Movable or adjustable work or tool supports
- B23Q1/26—Movable or adjustable work or tool supports characterised by constructional features relating to the co-operation of relatively movable members; Means for preventing relative movement of such members
- B23Q1/34—Relative movement obtained by use of deformable elements, e.g. piezoelectric, magnetostrictive, elastic or thermally-dilatable elements
- B23Q1/36—Springs
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23Q—DETAILS, COMPONENTS, OR ACCESSORIES FOR MACHINE TOOLS, e.g. ARRANGEMENTS FOR COPYING OR CONTROLLING; MACHINE TOOLS IN GENERAL CHARACTERISED BY THE CONSTRUCTION OF PARTICULAR DETAILS OR COMPONENTS; COMBINATIONS OR ASSOCIATIONS OF METAL-WORKING MACHINES, NOT DIRECTED TO A PARTICULAR RESULT
- B23Q1/00—Members which are comprised in the general build-up of a form of machine, particularly relatively large fixed members
- B23Q1/25—Movable or adjustable work or tool supports
- B23Q1/44—Movable or adjustable work or tool supports using particular mechanisms
- B23Q1/50—Movable or adjustable work or tool supports using particular mechanisms with rotating pairs only, the rotating pairs being the first two elements of the mechanism
- B23Q1/54—Movable or adjustable work or tool supports using particular mechanisms with rotating pairs only, the rotating pairs being the first two elements of the mechanism two rotating pairs only
- B23Q1/545—Movable or adjustable work or tool supports using particular mechanisms with rotating pairs only, the rotating pairs being the first two elements of the mechanism two rotating pairs only comprising spherical surfaces
- B23Q1/5462—Movable or adjustable work or tool supports using particular mechanisms with rotating pairs only, the rotating pairs being the first two elements of the mechanism two rotating pairs only comprising spherical surfaces with one supplementary sliding pair
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
- G03F7/70716—Stages
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/68—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for positioning, orientation or alignment
- H01L21/682—Mask-wafer alignment
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Environmental & Geological Engineering (AREA)
- Epidemiology (AREA)
- Public Health (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Details Of Measuring And Other Instruments (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は基面に沿って支持装置を
案内するための第２の支承ユニットを支持する第１支承
ユニットと、基面に平行に延在する直線案内と、支持ユ
ニットをもち、前記支持ユニットは物体テーブルと剛性
化部材を備えかつ力アクチュエータシステムによって、
基面に直角をなすｚ方向に平行に第１支承ユニットに対
して変位できて成る支持装置に関する。本発明は更に、
本発明の支持装置を備えた光学リトグラフ装置に関す
る。
案内するための第２の支承ユニットを支持する第１支承
ユニットと、基面に平行に延在する直線案内と、支持ユ
ニットをもち、前記支持ユニットは物体テーブルと剛性
化部材を備えかつ力アクチュエータシステムによって、
基面に直角をなすｚ方向に平行に第１支承ユニットに対
して変位できて成る支持装置に関する。本発明は更に、
本発明の支持装置を備えた光学リトグラフ装置に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】本文冒頭に記載した型式の支持装置は米
国特許第4,698,575 号から既知である。この既知の支持
装置では、力アクチュエータシステムは剛性化部材を第
１支承ユニットに連結する平行四辺形機構として作用す
る４本のロッドを備える。第２の支承ユニットは剛性化
部材に直接固着するため、物体テーブルは正確に直線案
内に沿って案内される。１０分の数マイクロメータのｚ
方向に平行な物体テーブルの変位は力アクチュエータに
よって得られ、平行四辺形機構は基面に平行に向く回転
軸線の回りの物体テーブルの傾斜運動を防止する。既知
の支持装置はなかんずく集積半導体回路の製造用の光学
リトグラフ装置に使用される。物体テーブルは照明すべ
き半導体基板の支持面を含む。半導体基板はｚ方向に平
行な変位によって光学リトグラフ装置のレンズ系に対し
て焦点合わせされる。
国特許第4,698,575 号から既知である。この既知の支持
装置では、力アクチュエータシステムは剛性化部材を第
１支承ユニットに連結する平行四辺形機構として作用す
る４本のロッドを備える。第２の支承ユニットは剛性化
部材に直接固着するため、物体テーブルは正確に直線案
内に沿って案内される。１０分の数マイクロメータのｚ
方向に平行な物体テーブルの変位は力アクチュエータに
よって得られ、平行四辺形機構は基面に平行に向く回転
軸線の回りの物体テーブルの傾斜運動を防止する。既知
の支持装置はなかんずく集積半導体回路の製造用の光学
リトグラフ装置に使用される。物体テーブルは照明すべ
き半導体基板の支持面を含む。半導体基板はｚ方向に平
行な変位によって光学リトグラフ装置のレンズ系に対し
て焦点合わせされる。
【０００３】光学リトグラフ装置における支持装置の使
用時に起こる既知支持装置の欠点は基板の焦点合わせが
専らｚ方向に平行な基板の変位によって行われるという
ことにある。不均一厚さの基板はこの方法では光学的に
焦点合わせされない。更に、既知の支持装置によっては
ｚ方向の基板の比較的小さい変位のみしか行えない。そ
の理由は、剛性化部材が第２支承ユニットに直接固着さ
れるからである。
用時に起こる既知支持装置の欠点は基板の焦点合わせが
専らｚ方向に平行な基板の変位によって行われるという
ことにある。不均一厚さの基板はこの方法では光学的に
焦点合わせされない。更に、既知の支持装置によっては
ｚ方向の基板の比較的小さい変位のみしか行えない。そ
の理由は、剛性化部材が第２支承ユニットに直接固着さ
れるからである。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、基板
の焦点合わせを良好に行うことができると共に、物体テ
ーブルが正確に直線案内に沿って案内されるような本文
冒頭に記載した如き型式の支持装置を提供することにあ
る。
の焦点合わせを良好に行うことができると共に、物体テ
ーブルが正確に直線案内に沿って案内されるような本文
冒頭に記載した如き型式の支持装置を提供することにあ
る。
【０００５】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明は、支持ユニットが力アクチュエータシステ
ムによって基面に平行に向いた少なくとも１つの回転軸
線の回りに第１と第２の支承ユニットに対して回転可能
になっており、また、剛性化部材が連結部材によって第
２支承ユニットに連結されていて、その連結部材の、剛
性化部材に連結された第１の部分が、該連結部材の、第
２支承ユニットに連結された第２の部分に対してｚ方向
に平行な方向へ弾性変位可能になっていることを特徴と
する。支持ユニットは基面に平行に向いた少なくとも１
つの回転軸線の回りに回転できるので、不均一な厚さを
もつ基板が光学的に焦点合わせされることができると共
に、剛性化部材と第２支承ユニット間に弾性変形可能の
連結部材を使用することによってｚ方向に平行な支持ユ
ニットの比較的大きな変位が可能になる。
め、本発明は、支持ユニットが力アクチュエータシステ
ムによって基面に平行に向いた少なくとも１つの回転軸
線の回りに第１と第２の支承ユニットに対して回転可能
になっており、また、剛性化部材が連結部材によって第
２支承ユニットに連結されていて、その連結部材の、剛
性化部材に連結された第１の部分が、該連結部材の、第
２支承ユニットに連結された第２の部分に対してｚ方向
に平行な方向へ弾性変位可能になっていることを特徴と
する。支持ユニットは基面に平行に向いた少なくとも１
つの回転軸線の回りに回転できるので、不均一な厚さを
もつ基板が光学的に焦点合わせされることができると共
に、剛性化部材と第２支承ユニット間に弾性変形可能の
連結部材を使用することによってｚ方向に平行な支持ユ
ニットの比較的大きな変位が可能になる。
【０００６】力アクチュエータシステムが３つの力アク
チュエータによって形成される本発明の支持装置の特別
の実施例は、作動中各力アクチュエータが剛性化部材に
力を加え、それは実質上ｚ方向に平行であることを特徴
とする。前記力アクチュエータの使用によって２つの支
承ユニットへの剛性化部材の静的に決定された連結が提
供され、かくしてｚ方向に平行な支持装置に基面によっ
て及ぼされる支持力と、基面に平行に向いた軸線の回り
のトルクが第１支承ユニットと力アクチュエータシステ
ムを介して剛性化部材に伝達されると共に、支持装置に
直線案内によって及ぼされる基面に平行な位置決め力
と、ｚ方向に平行に向いた軸線の回りのトルクが第２支
承ユニットと弾性連結部材を介して剛性化部材に伝達さ
れる。
チュエータによって形成される本発明の支持装置の特別
の実施例は、作動中各力アクチュエータが剛性化部材に
力を加え、それは実質上ｚ方向に平行であることを特徴
とする。前記力アクチュエータの使用によって２つの支
承ユニットへの剛性化部材の静的に決定された連結が提
供され、かくしてｚ方向に平行な支持装置に基面によっ
て及ぼされる支持力と、基面に平行に向いた軸線の回り
のトルクが第１支承ユニットと力アクチュエータシステ
ムを介して剛性化部材に伝達されると共に、支持装置に
直線案内によって及ぼされる基面に平行な位置決め力
と、ｚ方向に平行に向いた軸線の回りのトルクが第２支
承ユニットと弾性連結部材を介して剛性化部材に伝達さ
れる。
【０００７】低ヒステリシスをもつ特に正確な力アクチ
ュエータシステムを有する本発明の支持装置の他の実施
例は、各力アクチュエータはカム及び被動カム從動子を
備え、カムは基面に平行に向いた回転可能のカムシャフ
トに固着され、カム從動子はカムシャフトに平行に向い
た駆動モータの出力シャフトに連結されることを特徴と
する。カムとカム從動子間の伝動比を最適化することに
よって、駆動モータとカム從動子間の減速機構の使用は
避けられ、それ故特に簡単な、コンパクトな迅速作動の
力アクチュエータシステムが得られる。
ュエータシステムを有する本発明の支持装置の他の実施
例は、各力アクチュエータはカム及び被動カム從動子を
備え、カムは基面に平行に向いた回転可能のカムシャフ
トに固着され、カム從動子はカムシャフトに平行に向い
た駆動モータの出力シャフトに連結されることを特徴と
する。カムとカム從動子間の伝動比を最適化することに
よって、駆動モータとカム從動子間の減速機構の使用は
避けられ、それ故特に簡単な、コンパクトな迅速作動の
力アクチュエータシステムが得られる。
【０００８】駆動モータとカムシャフトの実際的配列を
提供する本発明の支持装置の他の実施例は、駆動モータ
が第１支承ユニットに固着される一方、カムシャフトは
剛性化部材に連結されることを特徴とする。
提供する本発明の支持装置の他の実施例は、駆動モータ
が第１支承ユニットに固着される一方、カムシャフトは
剛性化部材に連結されることを特徴とする。
【０００９】簡単で、コンパクトで有効な剛性化部材を
もつ本発明の支持装置の他の実施例は、剛性化部材は物
体テーブルを支持するための３つの支持素子を含み、前
記素子はｚ方向を横切る平面内で互いに三角形に配置さ
れ、支持素子は板形のストリップによって相互連結され
る一方、各支持素子は前記平面内に延在する弾性連結部
材によって第２支承ユニットに連結されることを特徴と
する。
もつ本発明の支持装置の他の実施例は、剛性化部材は物
体テーブルを支持するための３つの支持素子を含み、前
記素子はｚ方向を横切る平面内で互いに三角形に配置さ
れ、支持素子は板形のストリップによって相互連結され
る一方、各支持素子は前記平面内に延在する弾性連結部
材によって第２支承ユニットに連結されることを特徴と
する。
【００１０】第２支承ユニットに対する剛性化部材の特
に剛性の、静的に決定された連結を提供する本発明の支
持装置の他の実施例は、各弾性連結部材が板形のストリ
ップを含み、前記ストリップは関連の支持素子に隣接し
た三角形の二等分線を横切って延びかつその両端に、関
連の二等分線に実質的に平行に延びる縮小部分を備える
ことを特徴とする。
に剛性の、静的に決定された連結を提供する本発明の支
持装置の他の実施例は、各弾性連結部材が板形のストリ
ップを含み、前記ストリップは関連の支持素子に隣接し
た三角形の二等分線を横切って延びかつその両端に、関
連の二等分線に実質的に平行に延びる縮小部分を備える
ことを特徴とする。
【００１１】本発明の支持装置の更に他の実施例は、各
支持素子が支持ボールを含むことを特徴とする。
支持素子が支持ボールを含むことを特徴とする。
【００１２】第１支承ユニットに対する剛性化部材の特
に剛性で、静的に決定された連結を提供する本発明の実
施例は、剛性化部材の各支持素子が弾性ロッドによって
力アクチュエータシステムの力アクチュエータの１つに
連結され、前記ロッドはｚ方向に平行な方向に延びるこ
とを特徴とする。
に剛性で、静的に決定された連結を提供する本発明の実
施例は、剛性化部材の各支持素子が弾性ロッドによって
力アクチュエータシステムの力アクチュエータの１つに
連結され、前記ロッドはｚ方向に平行な方向に延びるこ
とを特徴とする。
【００１３】弾性ロッドが有効な方法で形成される本発
明の支持装置の他の実施例は、各弾性ロッドがｚ方向に
平行に延びかつ両端に２つの相互に直角をなす縮小部分
を備えたコラムを含むことを特徴とする。
明の支持装置の他の実施例は、各弾性ロッドがｚ方向に
平行に延びかつ両端に２つの相互に直角をなす縮小部分
を備えたコラムを含むことを特徴とする。
【００１４】本発明の支持装置の特別の実施例は、ｚ方
向に見て剛性化部材は第１と第２の支承ユニット間に配
置し、物体テーブルは弾性支持コラムによって剛性化部
材に固着する一方、第２支承ユニットはｚ方向に平行に
剛性化部材と並んで延びる固着部材によって第１支承ユ
ニットに固着したことを特徴とする。剛性化部材は第１
と第２の支承ユニット間に配置されるので、剛性化部材
と物体テーブルによって形成される支持ユニットの重心
はｚ方向に見て第２支承ユニットの近くに位置し、それ
故支持装置は特に安定した方法で直線案内に沿って案内
される。
向に見て剛性化部材は第１と第２の支承ユニット間に配
置し、物体テーブルは弾性支持コラムによって剛性化部
材に固着する一方、第２支承ユニットはｚ方向に平行に
剛性化部材と並んで延びる固着部材によって第１支承ユ
ニットに固着したことを特徴とする。剛性化部材は第１
と第２の支承ユニット間に配置されるので、剛性化部材
と物体テーブルによって形成される支持ユニットの重心
はｚ方向に見て第２支承ユニットの近くに位置し、それ
故支持装置は特に安定した方法で直線案内に沿って案内
される。
【００１５】第２支承ユニットに対する剛性化部材の特
に剛性の連結を提供する本発明の支持装置の他の実施例
は、剛性化部材がｚ方向を横切って延びる３つの板ばね
によって第２の支承ユニットに連結したことを特徴とす
る。
に剛性の連結を提供する本発明の支持装置の他の実施例
は、剛性化部材がｚ方向を横切って延びる３つの板ばね
によって第２の支承ユニットに連結したことを特徴とす
る。
【００１６】剛性化部材に対する物体テーブルの特に剛
性の、静的に決定された連結を提供する本発明の支持装
置の更に他の実施例は、物体テーブルが３つの弾性支持
コラムによって剛性化部材に固着し、各前記コラムは第
１と第２の端部に基面に平行に延在する第１縮小部分と
第１縮小部分に平行に延在する第２縮小部分を夫々備
え、かつ第１と第２の縮小部分間に第１と第２の縮小部
分を横切って延びる第３の縮小部分を備えたことを特徴
とする。
性の、静的に決定された連結を提供する本発明の支持装
置の更に他の実施例は、物体テーブルが３つの弾性支持
コラムによって剛性化部材に固着し、各前記コラムは第
１と第２の端部に基面に平行に延在する第１縮小部分と
第１縮小部分に平行に延在する第２縮小部分を夫々備
え、かつ第１と第２の縮小部分間に第１と第２の縮小部
分を横切って延びる第３の縮小部分を備えたことを特徴
とする。
【００１７】駆動モータとカムシャフトの実際的配置を
提供する本発明の支持装置の他の実施例は、駆動モータ
は剛性化部材に固着する一方、カムシャフトは第１支承
ユニットに固着することを特徴とする。
提供する本発明の支持装置の他の実施例は、駆動モータ
は剛性化部材に固着する一方、カムシャフトは第１支承
ユニットに固着することを特徴とする。
【００１８】使用する支持装置の特性が特に明らかにな
る光学リトグラフ装置はｚ方向に光学リトグラフ装置が
連続的に前記支持装置、ｚ方向に平行に向いた主光軸を
もつレンズ系、マスク用のマニピュレータ及び基面を反
復照明するためのシヤッタをもつ光源を備え、前記基板
は支持装置によって支持され、物体テーブルは主光軸と
実質的に直角をなす基板のための支持面を含むことを特
徴とする。
る光学リトグラフ装置はｚ方向に光学リトグラフ装置が
連続的に前記支持装置、ｚ方向に平行に向いた主光軸を
もつレンズ系、マスク用のマニピュレータ及び基面を反
復照明するためのシヤッタをもつ光源を備え、前記基板
は支持装置によって支持され、物体テーブルは主光軸と
実質的に直角をなす基板のための支持面を含むことを特
徴とする。
【００１９】米国特許第4,746,800 号はマニピュレータ
と物体テーブル間の連結を介する３つの弾性的に変形す
るロッドを開示する。しかし制御可能の力アクチュエー
タはそこには説明されていない。以下、本発明を図示の
実施例につき説明する。
と物体テーブル間の連結を介する３つの弾性的に変形す
るロッドを開示する。しかし制御可能の力アクチュエー
タはそこには説明されていない。以下、本発明を図示の
実施例につき説明する。
【００２０】
【実施例】図１〜４に示す本発明の支持装置１の第１実
施例は第１支承ユニット２を備え、前記ユニットはいわ
ゆる空気静力学的脚部３をもつ。空気静力学的脚部は米
国特許第4,698,575 号から既知であり、或る圧力下で
（Underpressure ）によって予応力を与えられた静的気
体軸受を備える。支持装置１は絶えず基面５に沿って案
内され、前記基面は図１、２に示すｚ方向に直角に延び
る。図２に示すように、第１支承ユニット２は空気静力
学的脚部３の円周に沿って延びる直立金属壁７と、直立
壁７を横切って延びる径方向金属仕切り壁９を備える。
２つの仕切り壁９のみを図２には示す。直立壁７と仕切
り壁９の使用は第１支承ユニット２の構造を特に剛性に
なし、従って案内基面５に沿う支持装置１の正確な、安
定した案内が第１支承ユニット２によって得られる。
施例は第１支承ユニット２を備え、前記ユニットはいわ
ゆる空気静力学的脚部３をもつ。空気静力学的脚部は米
国特許第4,698,575 号から既知であり、或る圧力下で
（Underpressure ）によって予応力を与えられた静的気
体軸受を備える。支持装置１は絶えず基面５に沿って案
内され、前記基面は図１、２に示すｚ方向に直角に延び
る。図２に示すように、第１支承ユニット２は空気静力
学的脚部３の円周に沿って延びる直立金属壁７と、直立
壁７を横切って延びる径方向金属仕切り壁９を備える。
２つの仕切り壁９のみを図２には示す。直立壁７と仕切
り壁９の使用は第１支承ユニット２の構造を特に剛性に
なし、従って案内基面５に沿う支持装置１の正確な、安
定した案内が第１支承ユニット２によって得られる。
【００２１】支持装置１は更に第２支承ユニット１１を
備え、このユニットは第１支承ユニット２上に固着され
る。第２支承ユニット１１は直線案内１３に沿って支持
装置１を案内し、この案内は図２に略示され、基面５に
平行に延びる。直線案内１３は丸い、平行なロッド１
５、１７を備え、第２支承ユニット１１はローラ部材を
備える。ローラ部材は図１、２には示していないが、こ
れらはロッド１５、１７に沿って第２支承ユニット１１
を案内する。かかる案内は前記米国特許第4,698,575 号
から既知である。光学リトグラフ装置における支持装置
１の特に適した使用において第２支承ユニット１１が基
面５と直線案内１３に沿う支持装置１の変位のために光
学リトグラフ装置の駆動ユニットに結合される仕方につ
いては後述する。
備え、このユニットは第１支承ユニット２上に固着され
る。第２支承ユニット１１は直線案内１３に沿って支持
装置１を案内し、この案内は図２に略示され、基面５に
平行に延びる。直線案内１３は丸い、平行なロッド１
５、１７を備え、第２支承ユニット１１はローラ部材を
備える。ローラ部材は図１、２には示していないが、こ
れらはロッド１５、１７に沿って第２支承ユニット１１
を案内する。かかる案内は前記米国特許第4,698,575 号
から既知である。光学リトグラフ装置における支持装置
１の特に適した使用において第２支承ユニット１１が基
面５と直線案内１３に沿う支持装置１の変位のために光
学リトグラフ装置の駆動ユニットに結合される仕方につ
いては後述する。
【００２２】図１に示すように、支持装置１は支持面２
１を含む物体テーブル１９を備え、前記支持面はｚ方向
を横切り、その上に物体が置かれる。物体テーブル１９
は剛性化部材２３上に備え、この部材は物体テーブル１
９を除外して図２に示す。剛性化部材２３は実質的に三
角形金属板として構成され、その板には凹所２５、２７
が設けられ、その板はｚ方向を横切って延びる。剛性化
部材２３はサファイア支持ボール３１をその各角２９の
近くに備える。図１にその下側を示す物体テーブル１９
は図には見えないが３つのＶ形溝を備え、前記溝は物体
テーブル１９の中心に対して径方向に延び、それらの相
対的位置は支持ボール３１の相対的位置に対応し、前記
テーブルは図１に示す組立体では３つの支持ボール３１
上に載る。支持ボール３１は各々物体テーブル１９に支
持力を及ぼす。前記力は実質的にｚ方向に平行に向く。
支持ボール３１の使用は剛性化部材２３から物体１９に
曲げトルクが伝わるのを防止する。それ故物体テーブル
１９の正確な、無応力の支持が得られる。物体テーブル
１９のかかる無応力の支持は支持装置１を光学リトグラ
フ装置に使用するのに特に有利であることは後述する。
１を含む物体テーブル１９を備え、前記支持面はｚ方向
を横切り、その上に物体が置かれる。物体テーブル１９
は剛性化部材２３上に備え、この部材は物体テーブル１
９を除外して図２に示す。剛性化部材２３は実質的に三
角形金属板として構成され、その板には凹所２５、２７
が設けられ、その板はｚ方向を横切って延びる。剛性化
部材２３はサファイア支持ボール３１をその各角２９の
近くに備える。図１にその下側を示す物体テーブル１９
は図には見えないが３つのＶ形溝を備え、前記溝は物体
テーブル１９の中心に対して径方向に延び、それらの相
対的位置は支持ボール３１の相対的位置に対応し、前記
テーブルは図１に示す組立体では３つの支持ボール３１
上に載る。支持ボール３１は各々物体テーブル１９に支
持力を及ぼす。前記力は実質的にｚ方向に平行に向く。
支持ボール３１の使用は剛性化部材２３から物体１９に
曲げトルクが伝わるのを防止する。それ故物体テーブル
１９の正確な、無応力の支持が得られる。物体テーブル
１９のかかる無応力の支持は支持装置１を光学リトグラ
フ装置に使用するのに特に有利であることは後述する。
【００２３】図２に示すように、剛性化部材２３は弾性
連結部材３５によって第２支承ユニット１１にかつ各角
２９の近くで力アクチュエータ３７を介して第１支承ユ
ニット２に連結される。１つの力アクチュエータ３７の
みを図２に示し、２つの他の力アクチュエータ３７は一
部だけが見える。
連結部材３５によって第２支承ユニット１１にかつ各角
２９の近くで力アクチュエータ３７を介して第１支承ユ
ニット２に連結される。１つの力アクチュエータ３７の
みを図２に示し、２つの他の力アクチュエータ３７は一
部だけが見える。
【００２４】連結部材３５は剛性化部材２３と完全な一
体構造をなし、各々板形ストリップ３９によって形成さ
れる。前記ストリップはｚ方向を横切る平面内にあり、
対応する角２９の角度の二等分線を横切る。各連結部材
３５はその端近くに第１の円筒形の縮小部分４１を備
え、この部分は関連する二等分線に平行な凹所によって
形成される。縮小部分４１は各々関連する二等分線に平
行なヒンジ軸線をもつ弾性ヒンジを形成し、従って剛性
化部材２３の角２９に連結された連結部材３５の端部は
ｚ方向に平行に変位できる。基面５に平行に向きかつ支
持装置１に直線案内１３によって作動中及ぼされる位置
決め力と、ｚ方向に平行に延びる軸線の回りの位置決め
力によって生じるトルクは弾性連結部材３５によって直
接剛性化部材２３に伝えられる。第２支承ユニット１１
への剛性化部材２３の連結はｚ方向を横切る方向で見て
高い剛性をもつ。従って物体テーブル１９は直線案内１
３に沿って正確に案内される。
体構造をなし、各々板形ストリップ３９によって形成さ
れる。前記ストリップはｚ方向を横切る平面内にあり、
対応する角２９の角度の二等分線を横切る。各連結部材
３５はその端近くに第１の円筒形の縮小部分４１を備
え、この部分は関連する二等分線に平行な凹所によって
形成される。縮小部分４１は各々関連する二等分線に平
行なヒンジ軸線をもつ弾性ヒンジを形成し、従って剛性
化部材２３の角２９に連結された連結部材３５の端部は
ｚ方向に平行に変位できる。基面５に平行に向きかつ支
持装置１に直線案内１３によって作動中及ぼされる位置
決め力と、ｚ方向に平行に延びる軸線の回りの位置決め
力によって生じるトルクは弾性連結部材３５によって直
接剛性化部材２３に伝えられる。第２支承ユニット１１
への剛性化部材２３の連結はｚ方向を横切る方向で見て
高い剛性をもつ。従って物体テーブル１９は直線案内１
３に沿って正確に案内される。
【００２５】剛性化部材２３の各角２９は上記の力アク
チュエータ３７によってｚ方向に平行に変位できる。３
つの力アクチュエータ３７が同じ方法で駆動されると、
物体テーブル１９をもつ剛性化部材２３は第１の縮小部
分４１の弾性変形の下でｚ方向に平行に変位させられ、
それによってｚ方向に平行な回転軸線の回りにおける剛
性化部材２３と物体テーブル１９の僅かな回転が起こ
る。この回転はそれ自身望ましくない。支持ボール３１
の近くにこの回転の結果として生じる望ましくない機械
的応力は防止される。というのは、各弾性連結部材３５
が図２に示されかつその２つの端部近くでｚ方向に平行
に延びる第２の縮小部分４２を与えられるからである。
後述する如く、この望ましくない物体テーブル１９の回
転は光学リトグラフ装置に支持装置１を使用して簡単な
方法で打ち消すことができる。縮小部分４１、４２をも
つ連結部材３５の使用は物体テーブル１９をｚ方向に平
行にほぼ１mm変位させる。３つの力アクチュエータ３７
が異なった仕方で駆動されると、ｚ方向に平行な物体テ
ーブル１９の変位のみならず、基面５に平行な回転軸線
の回りの物体テーブル１９の回転も得られる。光学リト
グラフ装置に支持装置１を使用した場合のかかる回転の
使用は詳細に後述する。
チュエータ３７によってｚ方向に平行に変位できる。３
つの力アクチュエータ３７が同じ方法で駆動されると、
物体テーブル１９をもつ剛性化部材２３は第１の縮小部
分４１の弾性変形の下でｚ方向に平行に変位させられ、
それによってｚ方向に平行な回転軸線の回りにおける剛
性化部材２３と物体テーブル１９の僅かな回転が起こ
る。この回転はそれ自身望ましくない。支持ボール３１
の近くにこの回転の結果として生じる望ましくない機械
的応力は防止される。というのは、各弾性連結部材３５
が図２に示されかつその２つの端部近くでｚ方向に平行
に延びる第２の縮小部分４２を与えられるからである。
後述する如く、この望ましくない物体テーブル１９の回
転は光学リトグラフ装置に支持装置１を使用して簡単な
方法で打ち消すことができる。縮小部分４１、４２をも
つ連結部材３５の使用は物体テーブル１９をｚ方向に平
行にほぼ１mm変位させる。３つの力アクチュエータ３７
が異なった仕方で駆動されると、ｚ方向に平行な物体テ
ーブル１９の変位のみならず、基面５に平行な回転軸線
の回りの物体テーブル１９の回転も得られる。光学リト
グラフ装置に支持装置１を使用した場合のかかる回転の
使用は詳細に後述する。
【００２６】図３は力アクチュエータ３７を詳細に示
す。力アクチュエータ３７は金属のカム形ディスク４３
を備え、このディスクは２つのジャーナル４５によって
２つの玉軸受４７内に回転自在に支持される。玉軸受４
７をもつ１つのジャーナル４５だけを図３に示す。基面
５に平行に延びる共通の中心線４９をもつ玉軸受４７は
力アクチュエータ３７の第１のＵ形軸受ブロック５１の
２つの脚部に設けられる。図４は、カム形ディスク４３
において中心線４９上にあるディスク４３の中心Ｍとデ
ィスク４３の円周上にある点Ｐ間の距離ｒは図示の角度
φの一次関数である。即ち、
す。力アクチュエータ３７は金属のカム形ディスク４３
を備え、このディスクは２つのジャーナル４５によって
２つの玉軸受４７内に回転自在に支持される。玉軸受４
７をもつ１つのジャーナル４５だけを図３に示す。基面
５に平行に延びる共通の中心線４９をもつ玉軸受４７は
力アクチュエータ３７の第１のＵ形軸受ブロック５１の
２つの脚部に設けられる。図４は、カム形ディスク４３
において中心線４９上にあるディスク４３の中心Ｍとデ
ィスク４３の円周上にある点Ｐ間の距離ｒは図示の角度
φの一次関数である。即ち、
【数１】ｒ＝ｒ0 ＋Δｒ．φ／２π ｒ0 の値はほぼ１５mmであるが、Δｒの値はほぼ１mmで
ある。図４に示すように、力アクチュエータ３７は更に
丸い金属のカム從動子５３を備え、この從動子はカム形
ディスク４３に衝合する。カム從動子５３は第１支承ユ
ニット２に固着される電気モータ５７の図３に示す出力
シャフト５５の端部に備える。出力シャフト５５は２つ
の軸受５９に回転自在に支持される。図３にはその１つ
だけが示される。玉軸受５９は基面５に平行に延びる共
通の中心線６１をもち、第２のＵ形軸受ブロック６３内
に備え、このブロックは図２に示す如く空気静力学的脚
部３の周囲近くで第１の支承ユニット２に固着される。
カム從動子５３はほぼ４mmの直径をもつ。
ある。図４に示すように、力アクチュエータ３７は更に
丸い金属のカム從動子５３を備え、この從動子はカム形
ディスク４３に衝合する。カム從動子５３は第１支承ユ
ニット２に固着される電気モータ５７の図３に示す出力
シャフト５５の端部に備える。出力シャフト５５は２つ
の軸受５９に回転自在に支持される。図３にはその１つ
だけが示される。玉軸受５９は基面５に平行に延びる共
通の中心線６１をもち、第２のＵ形軸受ブロック６３内
に備え、このブロックは図２に示す如く空気静力学的脚
部３の周囲近くで第１の支承ユニット２に固着される。
カム從動子５３はほぼ４mmの直径をもつ。
【００２７】図３に示すように、第２軸受ブロック６３
は直立壁６５を備え、この壁は２つの連結板６７、６９
によって第１軸受ブロック５１に連結され、この連結板
は基面５に平行に延びる。各連結板６７、６９はそれら
の２つの端部近くに円筒形の縮小部分７１をもち、この
縮小部分は中心線４９、６１に平行に延びる。縮小部分
７１の使用によって、第１軸受ブロック５１、第２軸受
ブロック６３の直立壁６５、２つの連結板６７、６９は
平行四辺形機構を形成し、これによって第１軸受ブロッ
ク５１は縮小部分７１の弾性変形の下でｚ方向に平行に
第２軸受ブロック６３に対して変位できる。更に、第１
軸受ブロック５１はクロスビーム７３を備え、このクロ
スビームは連結板６７、６９に平行に延びる。図４に示
す如く、クロスビーム７３と連結板６７はこの連結板６
７を横切って延びる同軸の穿孔７５をもつ。穿孔７５は
小さい隙間で止ねじ７７を包囲する。止ねじは図４に示
すように第２軸受ブロック７３のねじ山付孔７８に回転
自在に設ける。機械的螺旋ばね８３は止ねじ７７とクロ
スビーム７３の上面８１間で予応力を与えられている。
前記ばねはカム形ディスク４３とカム從動子５３間に圧
縮力を生ぜしめる。前記圧縮力の値は止ねじ７７の回転
によって変更できる。調節可能の摩擦力をもつカム形デ
ィスク４３とカム從動子５３間の摩擦伝達はこうして得
られる。
は直立壁６５を備え、この壁は２つの連結板６７、６９
によって第１軸受ブロック５１に連結され、この連結板
は基面５に平行に延びる。各連結板６７、６９はそれら
の２つの端部近くに円筒形の縮小部分７１をもち、この
縮小部分は中心線４９、６１に平行に延びる。縮小部分
７１の使用によって、第１軸受ブロック５１、第２軸受
ブロック６３の直立壁６５、２つの連結板６７、６９は
平行四辺形機構を形成し、これによって第１軸受ブロッ
ク５１は縮小部分７１の弾性変形の下でｚ方向に平行に
第２軸受ブロック６３に対して変位できる。更に、第１
軸受ブロック５１はクロスビーム７３を備え、このクロ
スビームは連結板６７、６９に平行に延びる。図４に示
す如く、クロスビーム７３と連結板６７はこの連結板６
７を横切って延びる同軸の穿孔７５をもつ。穿孔７５は
小さい隙間で止ねじ７７を包囲する。止ねじは図４に示
すように第２軸受ブロック７３のねじ山付孔７８に回転
自在に設ける。機械的螺旋ばね８３は止ねじ７７とクロ
スビーム７３の上面８１間で予応力を与えられている。
前記ばねはカム形ディスク４３とカム從動子５３間に圧
縮力を生ぜしめる。前記圧縮力の値は止ねじ７７の回転
によって変更できる。調節可能の摩擦力をもつカム形デ
ィスク４３とカム從動子５３間の摩擦伝達はこうして得
られる。
【００２８】もしカム從動子５３が電気モータによって
回転させられると、カム形ディスク４３は回転し、第１
軸受ブロック５１はｚ方向に平行に第２軸受ブロック６
３に対して変位する。こうして、関連する力アクチュエ
ータ３７に連結した剛性化部材２３の角２９はｚ方向に
平行に第１支承ユニット２に対して変位する。カム從動
子５３の直径（４mm）とΔｒの値（１mm）の両者はカム
形ディスク４３の平均直径（３０mm）に比べて小さいの
で、力アクチュエータ３７はカム從動子５３の回転１角
度当たりにほぼ0,4 μm の変位の比較的小さい伝動比を
もつ。この小さい伝動比に起因して、電気モータ５７と
カム從動子５３間の減速機構は必要がなく、従って力ア
クチュエータ３７はその構造が特にコンパクトで小型に
なる。駆動されるカム從動子５３をもつカム形ディスク
４３の使用は低ヒステリシスをもつ特に正確な力アクチ
ュエータ３７が提供される。
回転させられると、カム形ディスク４３は回転し、第１
軸受ブロック５１はｚ方向に平行に第２軸受ブロック６
３に対して変位する。こうして、関連する力アクチュエ
ータ３７に連結した剛性化部材２３の角２９はｚ方向に
平行に第１支承ユニット２に対して変位する。カム從動
子５３の直径（４mm）とΔｒの値（１mm）の両者はカム
形ディスク４３の平均直径（３０mm）に比べて小さいの
で、力アクチュエータ３７はカム從動子５３の回転１角
度当たりにほぼ0,4 μm の変位の比較的小さい伝動比を
もつ。この小さい伝動比に起因して、電気モータ５７と
カム從動子５３間の減速機構は必要がなく、従って力ア
クチュエータ３７はその構造が特にコンパクトで小型に
なる。駆動されるカム從動子５３をもつカム形ディスク
４３の使用は低ヒステリシスをもつ特に正確な力アクチ
ュエータ３７が提供される。
【００２９】図２、３に示す如く、各力アクチュエータ
３７はｚ方向に平行に延びる弾性ロッド８５によって剛
性化部材２３に連結する。前記弾性ロッド８５は各々ｚ
方向に平行に延びるコラム８７と連結ブロック８９によ
って形成する。このブロックには剛性化部材２３の関連
した角２９を固着する。図３に示すように、コラム８７
は基面５に平行に延びる２つの互いに直角をなす縮小部
分９１、９３をその２つの端部の各々の近くに備える。
基面５に平行に向くヒンジ軸線をもつ弾性ヒンジを各々
形成する縮小部分９１、９３の使用により、ｚ方向に平
行に向く支持力と基面５に平行な回転軸線の回りの前記
支持力によって決まるトルクは専ら第１支承ユニット２
から剛性化部材２３に弾性ロッド８５を経て伝達され
る。第１支承ユニット２への剛性化部材２３の連結はｚ
方向に平行な方向に見て高い剛性をもち、従って物体テ
ーブル１９は基面５に沿って正確に案内される。
３７はｚ方向に平行に延びる弾性ロッド８５によって剛
性化部材２３に連結する。前記弾性ロッド８５は各々ｚ
方向に平行に延びるコラム８７と連結ブロック８９によ
って形成する。このブロックには剛性化部材２３の関連
した角２９を固着する。図３に示すように、コラム８７
は基面５に平行に延びる２つの互いに直角をなす縮小部
分９１、９３をその２つの端部の各々の近くに備える。
基面５に平行に向くヒンジ軸線をもつ弾性ヒンジを各々
形成する縮小部分９１、９３の使用により、ｚ方向に平
行に向く支持力と基面５に平行な回転軸線の回りの前記
支持力によって決まるトルクは専ら第１支承ユニット２
から剛性化部材２３に弾性ロッド８５を経て伝達され
る。第１支承ユニット２への剛性化部材２３の連結はｚ
方向に平行な方向に見て高い剛性をもち、従って物体テ
ーブル１９は基面５に沿って正確に案内される。
【００３０】ｚ方向に平行な方向に特に剛性でありかつ
ｚ方向を横切る方向に比較的緩んでいる弾性ロッド８５
と、ｚ方向を横切る方向に特に剛性でありかつｚ方向に
平行な方向に比較的緩んでいる弾性変形可能の連結部材
３５の使用により第１支承ユニット２と第２支承ユニッ
ト１１に剛性化部材２３の静的決定される連結が与えら
れる。
ｚ方向を横切る方向に比較的緩んでいる弾性ロッド８５
と、ｚ方向を横切る方向に特に剛性でありかつｚ方向に
平行な方向に比較的緩んでいる弾性変形可能の連結部材
３５の使用により第１支承ユニット２と第２支承ユニッ
ト１１に剛性化部材２３の静的決定される連結が与えら
れる。
【００３１】本発明の支持装置１の第２実施例を示す図
５〜８では、上記の第１実施例中の関連する支持装置の
部品に対応する部品には同じ参照数字を付している。第
２実施例の支持装置１は第１支承ユニット２を備え、こ
れは関連する図に示すｚ方向と直角をなす基面５に沿っ
て支持装置１の無接触案内のための丸い空気静力学的脚
部３をもつ。第１支承ユニット２はｚ方向に見て、図
１、２に示す第１支承ユニット２より高さが低く、また
図１、２に示す直立壁７に比して比較的低いリム９５を
空気静力学的脚部３の円周に沿って備える。図５、６に
示す支持装置１は更に、第２支承ユニット１１を備え、
これによって、支持装置１は直線案内１３に沿って案内
され、この案内は基面５に平行に延びかつ図５に概略示
されている。直線案内１３は図１、２に示す直線案内１
３と同じ種類のものであり、平行な丸いバー１５、１７
を備える。上記バーに沿って第２支承ユニット１１が図
５、６には示していないローラ部材によって案内され
る。第２支承ユニット１１は３つの連結脚部９７を備
え、上記脚部はｚ方向に平行に延び、互いに三角形に配
置され、脚部９９をもち、上記脚部は第１支承ユニット
２のリム９５に固着する。連結脚部９７は１つだけ図５
に示すが、図６はすべての脚部９７を示す。
５〜８では、上記の第１実施例中の関連する支持装置の
部品に対応する部品には同じ参照数字を付している。第
２実施例の支持装置１は第１支承ユニット２を備え、こ
れは関連する図に示すｚ方向と直角をなす基面５に沿っ
て支持装置１の無接触案内のための丸い空気静力学的脚
部３をもつ。第１支承ユニット２はｚ方向に見て、図
１、２に示す第１支承ユニット２より高さが低く、また
図１、２に示す直立壁７に比して比較的低いリム９５を
空気静力学的脚部３の円周に沿って備える。図５、６に
示す支持装置１は更に、第２支承ユニット１１を備え、
これによって、支持装置１は直線案内１３に沿って案内
され、この案内は基面５に平行に延びかつ図５に概略示
されている。直線案内１３は図１、２に示す直線案内１
３と同じ種類のものであり、平行な丸いバー１５、１７
を備える。上記バーに沿って第２支承ユニット１１が図
５、６には示していないローラ部材によって案内され
る。第２支承ユニット１１は３つの連結脚部９７を備
え、上記脚部はｚ方向に平行に延び、互いに三角形に配
置され、脚部９９をもち、上記脚部は第１支承ユニット
２のリム９５に固着する。連結脚部９７は１つだけ図５
に示すが、図６はすべての脚部９７を示す。
【００３２】支持装置１の第２実施例はｚ方向を横切っ
て延びる支持面２１をもつ物体テーブル１９を備え、そ
の上に物体を置く。物体テーブ１９は剛性化部材２３に
３つの支持コラム１０１によって連結し、上記部材はｚ
方向に見て、第１支承ユニット２と第２支承ユニット１
１の間に置く。図５には支持コラム１０１を１つだけ示
すが、図６は互いに三角形に配置した３つの支持コラム
のうちの２つを示す。支持コラム１０１はｚ方向に平行
に第２支承ユニット１１に沿って延び、各々剛性化部材
２３に固着した端部の近くで基面５に平行に向いた第１
縮小部分１０３（図６参照）を備える。物体テーブル１
９に固着したそれらの端部近くで、支持コラムは各々第
２の縮小部分１０５を備え、上記部分は対応する第１縮
小部分１０３に平行に延びる。図６に示すように、支持
コラム１０１は各々第３の縮小部分１０７を備え、上記
縮小部分は第１縮小部分１０３と第２縮小部分１０５間
で、第１縮小部分１０３と第２縮小部分１０５を横切っ
て延びる。各々弾性ヒンジを形成する縮小部分１０３、
１０５、１０７をもつ支持コラム１０１の使用によっ
て、剛性化部材２３への物体１９の特に剛性の、静的に
決定される連結が与えられる。支持コラム１０１の使用
によって、物体テーブ１９の変形が防止される。上記変
形は例えば物体テーブ１９と剛性化部材２３間の熱膨張
差によって起こる。膨張のかかる差は縮小部分１０３、
１０５、１０７の弾性変形によって吸収されるが、剛性
化部材２３への物体テーブ１０の剛性連結は維持され
る。剛性化部材２３への物体テーブ１９のこの静的に決
定される連結は光学リトグラフ装置の支持装置の使用に
おいて特に有利であることは以下の説明から明らかにな
るであろう。
て延びる支持面２１をもつ物体テーブル１９を備え、そ
の上に物体を置く。物体テーブ１９は剛性化部材２３に
３つの支持コラム１０１によって連結し、上記部材はｚ
方向に見て、第１支承ユニット２と第２支承ユニット１
１の間に置く。図５には支持コラム１０１を１つだけ示
すが、図６は互いに三角形に配置した３つの支持コラム
のうちの２つを示す。支持コラム１０１はｚ方向に平行
に第２支承ユニット１１に沿って延び、各々剛性化部材
２３に固着した端部の近くで基面５に平行に向いた第１
縮小部分１０３（図６参照）を備える。物体テーブル１
９に固着したそれらの端部近くで、支持コラムは各々第
２の縮小部分１０５を備え、上記部分は対応する第１縮
小部分１０３に平行に延びる。図６に示すように、支持
コラム１０１は各々第３の縮小部分１０７を備え、上記
縮小部分は第１縮小部分１０３と第２縮小部分１０５間
で、第１縮小部分１０３と第２縮小部分１０５を横切っ
て延びる。各々弾性ヒンジを形成する縮小部分１０３、
１０５、１０７をもつ支持コラム１０１の使用によっ
て、剛性化部材２３への物体１９の特に剛性の、静的に
決定される連結が与えられる。支持コラム１０１の使用
によって、物体テーブ１９の変形が防止される。上記変
形は例えば物体テーブ１９と剛性化部材２３間の熱膨張
差によって起こる。膨張のかかる差は縮小部分１０３、
１０５、１０７の弾性変形によって吸収されるが、剛性
化部材２３への物体テーブ１０の剛性連結は維持され
る。剛性化部材２３への物体テーブ１９のこの静的に決
定される連結は光学リトグラフ装置の支持装置の使用に
おいて特に有利であることは以下の説明から明らかにな
るであろう。
【００３３】図５、６に示す如く、基面５を横切って延
びかつ互いに三角形に配列した３つの連結板１０９は剛
性化部材２３上に備える。図５には２つの連結板１０９
のみを部分的に示すが、図６は２つの連結板１０９を完
全に示す。各連結板１０９は支持コラム１０１の１つに
平行に配置し、付随する支持コラム１０１と同様に、図
５に示す組立体中に第２の支承ユニット１１と並んで延
びる。ｚ方向を横切って延びる図７に示す板形の連結部
材１１３は第２支承ユニット１１の図６に示す上面１１
１に固着する。連結部材１１３は図５には示されない
が、連結部材１１３は図６に概略を示す。図７に示すよ
うに、連結部材１１３は三角形の中心板１１５を備え、
上記板は第２支承ユニット１１の上面１１１上にねじ締
めされる。連結部材１１３は更に３つの側板１１７を備
え、これらの側板は各々支持部材２３の連結部材１０９
の１つの図６に示す上面１２１上のそれらの端部１１９
の近くにねじ締めされる。連結部材１１３の側板１１７
は各々板ばねを形成し、上記板ばねはｚ方向を横切って
延び、ｚ方向に平行な方向に撓み得る。基面５に平行に
向きかつ直線案内１３によって支持装置１に及ぼされる
位置決め力と、ｚ方向に平行に向く回転軸線の回りのこ
の位置決め力によって決定されるトルクは側板１１７と
連結板１０９を経て第２支承ユニット１１から剛性化部
材２３に伝達される。連結板１０９の三角形配置に起因
して、ｚ方向を横切る方向に見て、剛性化部材２３への
連結部材１１３の連結は特に剛性になる。
びかつ互いに三角形に配列した３つの連結板１０９は剛
性化部材２３上に備える。図５には２つの連結板１０９
のみを部分的に示すが、図６は２つの連結板１０９を完
全に示す。各連結板１０９は支持コラム１０１の１つに
平行に配置し、付随する支持コラム１０１と同様に、図
５に示す組立体中に第２の支承ユニット１１と並んで延
びる。ｚ方向を横切って延びる図７に示す板形の連結部
材１１３は第２支承ユニット１１の図６に示す上面１１
１に固着する。連結部材１１３は図５には示されない
が、連結部材１１３は図６に概略を示す。図７に示すよ
うに、連結部材１１３は三角形の中心板１１５を備え、
上記板は第２支承ユニット１１の上面１１１上にねじ締
めされる。連結部材１１３は更に３つの側板１１７を備
え、これらの側板は各々支持部材２３の連結部材１０９
の１つの図６に示す上面１２１上のそれらの端部１１９
の近くにねじ締めされる。連結部材１１３の側板１１７
は各々板ばねを形成し、上記板ばねはｚ方向を横切って
延び、ｚ方向に平行な方向に撓み得る。基面５に平行に
向きかつ直線案内１３によって支持装置１に及ぼされる
位置決め力と、ｚ方向に平行に向く回転軸線の回りのこ
の位置決め力によって決定されるトルクは側板１１７と
連結板１０９を経て第２支承ユニット１１から剛性化部
材２３に伝達される。連結板１０９の三角形配置に起因
して、ｚ方向を横切る方向に見て、剛性化部材２３への
連結部材１１３の連結は特に剛性になる。
【００３４】剛性化部材２３は更に３つの力アクチュエ
ータ１２３によって第２支承ユニット２に連結される。
互いに三角形に配置しかつ図６に概略を示される力アク
チュエータ１２３は各々支持コラム１０１の１つの下に
位置する。１つの力アクチュエータ１２３を図８に示
す。
ータ１２３によって第２支承ユニット２に連結される。
互いに三角形に配置しかつ図６に概略を示される力アク
チュエータ１２３は各々支持コラム１０１の１つの下に
位置する。１つの力アクチュエータ１２３を図８に示
す。
【００３５】図８に示すように、力アクチュエータ１２
３は２つのジャーナル１２７をもつ金属のカム形ディス
ク１２５を備える。ジャーナル１２７は２つの玉軸受１
２９に回転可能に支持する。上記軸受は基面５に平行に
向く共通の中心線１３１をもち、第１支承ユニット２の
Ｕ形軸受ブロック１３３内に備える。力アクチュエータ
１２３は更に、丸い金属のカム從動子１３５を備え、前
記カム從動子はカム形ディスク１２５に載り、２つの玉
軸受１３７内に支持される。基面５に平行に向く共通の
直線線１３９をもつ玉軸受１３７はＵ形軸受ブロック１
４１内に備え、前記ブロックは剛性化部材２３に固着す
る。図８に示すように、カム從動子１３５は連結部材１
４３を介して、電気モータの出力シャフト１４５に連結
し、前記モータは剛性化部材２３に固着する。
３は２つのジャーナル１２７をもつ金属のカム形ディス
ク１２５を備える。ジャーナル１２７は２つの玉軸受１
２９に回転可能に支持する。上記軸受は基面５に平行に
向く共通の中心線１３１をもち、第１支承ユニット２の
Ｕ形軸受ブロック１３３内に備える。力アクチュエータ
１２３は更に、丸い金属のカム從動子１３５を備え、前
記カム從動子はカム形ディスク１２５に載り、２つの玉
軸受１３７内に支持される。基面５に平行に向く共通の
直線線１３９をもつ玉軸受１３７はＵ形軸受ブロック１
４１内に備え、前記ブロックは剛性化部材２３に固着す
る。図８に示すように、カム從動子１３５は連結部材１
４３を介して、電気モータの出力シャフト１４５に連結
し、前記モータは剛性化部材２３に固着する。
【００３６】カム形ディスク１２５とカム從動子１３５
は図４に示す支持装置の第１実施例のカム形ディスク４
３及びカム從動子５３と同じ形状をもつ。カム從動子１
３５が電気モータ１４７によって回転すると、カム形デ
ィスク１２５も回転し、それ故関連の力アクチュエータ
１２３の近くにある物体テーブル１９の支持コラム１０
１はｚ方向に実質的に平行に変位する。もし３つの力ア
クチュエータ１２３の電気モータ１４７が同じ角度回転
すれば、物体テーブル１９はｚ方向に平行に変位する
が、連結部材１１３の３つの側板１１７は曲がる。板形
の連結部材１１３の使用によって、支持装置１の第１実
施例の場合と同様に、ｚ方向に平行にほぼ１mmの物体テ
ーブルの変位を生ぜしめる。もし電気モータ１４７が異
なった角度回転すれば、基面５に平行に向く回転軸線の
回りの物体テーブル１９の回転が得られる。図には示し
ていない予応力を与えられた機械的ばねは力アクチュエ
ータ１２３の近くに置く。圧縮力は前記機械的ばねによ
ってカム形ディスク１２５とカム從動子１３５間に備
え、前記ばねの第１端部は第１支承ユニット２に固着
し、第２端部は剛性化部材２３に固着し、従ってカム形
ディスク１２５の低ヒステリシス駆動が得られる。
は図４に示す支持装置の第１実施例のカム形ディスク４
３及びカム從動子５３と同じ形状をもつ。カム從動子１
３５が電気モータ１４７によって回転すると、カム形デ
ィスク１２５も回転し、それ故関連の力アクチュエータ
１２３の近くにある物体テーブル１９の支持コラム１０
１はｚ方向に実質的に平行に変位する。もし３つの力ア
クチュエータ１２３の電気モータ１４７が同じ角度回転
すれば、物体テーブル１９はｚ方向に平行に変位する
が、連結部材１１３の３つの側板１１７は曲がる。板形
の連結部材１１３の使用によって、支持装置１の第１実
施例の場合と同様に、ｚ方向に平行にほぼ１mmの物体テ
ーブルの変位を生ぜしめる。もし電気モータ１４７が異
なった角度回転すれば、基面５に平行に向く回転軸線の
回りの物体テーブル１９の回転が得られる。図には示し
ていない予応力を与えられた機械的ばねは力アクチュエ
ータ１２３の近くに置く。圧縮力は前記機械的ばねによ
ってカム形ディスク１２５とカム從動子１３５間に備
え、前記ばねの第１端部は第１支承ユニット２に固着
し、第２端部は剛性化部材２３に固着し、従ってカム形
ディスク１２５の低ヒステリシス駆動が得られる。
【００３７】図８に示すように、カム從動子１３５はカ
ム形ディスク１２５に載る。従って基面５を横切る向き
の支持力と、この支持力によって決定される基面５に平
行に向く回転軸線の回りのトルクは専ら第１支承ユニッ
ト２から剛性化部材２３に力アクチュエータ１２３を経
て伝達される。ｚ方向を横切る方向に特に剛性でありか
つｚ方向に平行な方向には比較的緩んでいる連結部材１
１３を、力アクチュエータ１２３と組合わせて、使用す
ることによって、直接的な剛性の従って正確に決定され
る、基面５と直線案内１３によって支持装置に及ぼされ
る力の伝達が支持装置１の第２実施例に得られる。第２
支承ユニット１１は物体テーブル１９と剛性化部材２３
間にあるので、物体テーブル１９と剛性化部材２３によ
って形成されるユニットの重心はｚ方向で見て実質的に
直線案内１３のレベルに位置することが追加的に達成さ
れる。従って直線案内１３により支持装置１に及ぼされ
る位置決め力はその重心近くで前記ユニットに加えら
れ、それ故直線案内１３に沿う物体テーブル１９の特に
安定した案内が得られる。
ム形ディスク１２５に載る。従って基面５を横切る向き
の支持力と、この支持力によって決定される基面５に平
行に向く回転軸線の回りのトルクは専ら第１支承ユニッ
ト２から剛性化部材２３に力アクチュエータ１２３を経
て伝達される。ｚ方向を横切る方向に特に剛性でありか
つｚ方向に平行な方向には比較的緩んでいる連結部材１
１３を、力アクチュエータ１２３と組合わせて、使用す
ることによって、直接的な剛性の従って正確に決定され
る、基面５と直線案内１３によって支持装置に及ぼされ
る力の伝達が支持装置１の第２実施例に得られる。第２
支承ユニット１１は物体テーブル１９と剛性化部材２３
間にあるので、物体テーブル１９と剛性化部材２３によ
って形成されるユニットの重心はｚ方向で見て実質的に
直線案内１３のレベルに位置することが追加的に達成さ
れる。従って直線案内１３により支持装置１に及ぼされ
る位置決め力はその重心近くで前記ユニットに加えら
れ、それ故直線案内１３に沿う物体テーブル１９の特に
安定した案内が得られる。
【００３８】２つの実施例について上述した本発明支持
装置１はその剛性の、遊び無しの低ヒステリシス構造に
起因して、図９、１０に示す本発明の光学リトグラフ装
置１４９に使用するのが特に適する。装置１４９は１０
分の数マイクロメータ程度の小さい寸法の構造をもつ集
積半導体回路の製造に使用する。装置１４９は光投射シ
ステムを形成し、このシステムによってマスク上に設け
た電子半導体回路のパターンが同形の集積回路に対応す
る半導体基板１５３の多数の場所に縮尺で繰り返し描か
れる。支持装置１の物体テーブル１９上に置いた半導体
基板１５３はその目的で、ｘ方向と、このｘ方向と直角
をなすｙ方向に平行に光学レンズ系１７に相対的に支持
装置１に連結した駆動ユニット１５５によって段歩的に
変位させられる。上記両方向はｚ方向に平行なレンズ系
１５７の主光軸１５９と直角をなす。
装置１はその剛性の、遊び無しの低ヒステリシス構造に
起因して、図９、１０に示す本発明の光学リトグラフ装
置１４９に使用するのが特に適する。装置１４９は１０
分の数マイクロメータ程度の小さい寸法の構造をもつ集
積半導体回路の製造に使用する。装置１４９は光投射シ
ステムを形成し、このシステムによってマスク上に設け
た電子半導体回路のパターンが同形の集積回路に対応す
る半導体基板１５３の多数の場所に縮尺で繰り返し描か
れる。支持装置１の物体テーブル１９上に置いた半導体
基板１５３はその目的で、ｘ方向と、このｘ方向と直角
をなすｙ方向に平行に光学レンズ系１７に相対的に支持
装置１に連結した駆動ユニット１５５によって段歩的に
変位させられる。上記両方向はｚ方向に平行なレンズ系
１５７の主光軸１５９と直角をなす。
【００３９】光学リトグラフ装置１４９の構造を以下簡
単に説明する。図９に示すように、レンズ系１５７は取
付け部材１６３に下側近くで取付けリング１６１によっ
て固着する。上記取付け部材は装置１４９のフレーム１
６５の一部を形成し、実質的に三角形板として構成す
る。前記三角形板は主光軸１５９に直角をなす平面内に
延在する。レンズ系１５７の上側近くに装置１４９はレ
ンズ系１５７に対してマスク１５１を位置決めしかつ支
持するためのマスクマニピュレータ１６７を備える。作
業中、光源１６９からくる光ビームはレンズ系１５７に
よって支持装置１上に置いた半導体基板１５３上に焦点
合わせされる鏡１７１、１７３を経てマスクを通して導
かれる。取付け部材１６３は下部フレーム支持体１７７
上に各々載る３つの角部分１７５を備える。図９には２
つの角部分と２つの下部フレーム支持体１７７のみを示
す。下部フレーム支持体１７７は調節部材１８１によっ
て平らな基礎上に置かれたフレームの箱形基台１７９上
に置かれる。装置１４９は望ましくない振動が基台から
下部フレーム支持体１７７を通してレンズ系１５７と支
持装置１に伝達されるのを防止するために下部フレーム
支持体１７７によって基台に対して低振動数をもつばね
で据え付けられる。
単に説明する。図９に示すように、レンズ系１５７は取
付け部材１６３に下側近くで取付けリング１６１によっ
て固着する。上記取付け部材は装置１４９のフレーム１
６５の一部を形成し、実質的に三角形板として構成す
る。前記三角形板は主光軸１５９に直角をなす平面内に
延在する。レンズ系１５７の上側近くに装置１４９はレ
ンズ系１５７に対してマスク１５１を位置決めしかつ支
持するためのマスクマニピュレータ１６７を備える。作
業中、光源１６９からくる光ビームはレンズ系１５７に
よって支持装置１上に置いた半導体基板１５３上に焦点
合わせされる鏡１７１、１７３を経てマスクを通して導
かれる。取付け部材１６３は下部フレーム支持体１７７
上に各々載る３つの角部分１７５を備える。図９には２
つの角部分と２つの下部フレーム支持体１７７のみを示
す。下部フレーム支持体１７７は調節部材１８１によっ
て平らな基礎上に置かれたフレームの箱形基台１７９上
に置かれる。装置１４９は望ましくない振動が基台から
下部フレーム支持体１７７を通してレンズ系１５７と支
持装置１に伝達されるのを防止するために下部フレーム
支持体１７７によって基台に対して低振動数をもつばね
で据え付けられる。
【００４０】図９、１０に示すように、第１支承ユニッ
ト２によって支持装置１が案内される基面５は花崗岩ス
ラブの形の支持部材１８５の上面によって形成する。こ
の上面は主光軸１５９に直角に延びる。支持部材１８５
は支持装置１及び駆動ユニット１５５と共にフレーム１
６５のキャリア１８９上に備える。キャリア１８９は実
質的に三角形の板からなり、前記板は主光軸１５９に直
角に延在し、主縁１９１をもつ。この主縁は２つのフレ
ーム支持体１７７間に各々延在する。更に、キャリア１
８９は３つの板形の吊り素子１９３によって図９に示す
取付け部材１６３の下側１９５から吊り下げられる。図
３は２つの吊り素子のみを示すが、各吊り素子は主光軸
１５９に平行な垂直面内に延びる板によって形成され
る。前記垂直面はお互に実質的に６０°の角度をなす。
ト２によって支持装置１が案内される基面５は花崗岩ス
ラブの形の支持部材１８５の上面によって形成する。こ
の上面は主光軸１５９に直角に延びる。支持部材１８５
は支持装置１及び駆動ユニット１５５と共にフレーム１
６５のキャリア１８９上に備える。キャリア１８９は実
質的に三角形の板からなり、前記板は主光軸１５９に直
角に延在し、主縁１９１をもつ。この主縁は２つのフレ
ーム支持体１７７間に各々延在する。更に、キャリア１
８９は３つの板形の吊り素子１９３によって図９に示す
取付け部材１６３の下側１９５から吊り下げられる。図
３は２つの吊り素子のみを示すが、各吊り素子は主光軸
１５９に平行な垂直面内に延びる板によって形成され
る。前記垂直面はお互に実質的に６０°の角度をなす。
【００４１】図１０は前記ユニット１８７を詳細に説明
する。図示の如く、支持装置１に連結した駆動ユニット
１５５は３つのリニヤ電気モータ１９７、１９９、２０
１を備える。リニヤモータ１９７はｘ方向に平行に延び
るｘ−固定子を含み、ｘ方向に平行に延びるロッド１
５、１７をもつ直線案内１３が前記固定子と結合されて
いる。リニヤモータ１９７は永久磁石をもつｘ−トラン
スレータ２０５を含み、前記永久磁石は支持装置１の第
２の支承ユニット１１と結合されている。リニヤモータ
１９９と２０１は永久磁石を備えかつｘ−固定子２０３
の第１端に固着されたｙ−トランスレータ２１１を有す
るｙ方向に平行に延びるｙ−固定子２０７と、永久磁石
を備えかつｘ−固定子２０３の第２端に固着されたｙ−
トランスレータ２１７を有するｙ方向に平行に延びるｙ
−固定子２１３を夫々含む。ｙ方向に平行な案内ロッド
２１９、２２１と、ｙ−方向に平行な案内ロッド２２
３、２２５は夫々ｙ−固定子２０７と２１３に固着され
る。ｙ−トランスレータ２１１、２１７はｙ−トランス
レータ２１１、２１７を案内ロッド２１９、２２１と案
内ロッド２２３、２２５に沿って夫々案内するために、
図１０に示していないローラ部材を備える。更にｙ−固
定子２０７、２１３は駆動ユニット１５５の窓枠２２７
に固着し、その窓枠はその角近くで支持部材１８５の上
面１８３に固着する。支持装置１の物体テーブル１９は
リニヤモータ１９７によってｘ方向に平行に変位する
が、物体テーブル１９はｙ方向に平行に変位し、リニヤ
モータ１９９、２０１によって主光軸１５９に平行な回
転軸線の回りに或る限定された角度だけ回転する。こう
して、物体テーブル１９を回転させることによって、ｚ
方向に平行な回転軸線の回りの前記物体テーブル１９の
望ましくない回転は打ち消される。この望ましくない回
転は支持装置１の第１実施例においてはｚ方向に平行な
物体テーブル１９の変位が起こったときに生じる。
する。図示の如く、支持装置１に連結した駆動ユニット
１５５は３つのリニヤ電気モータ１９７、１９９、２０
１を備える。リニヤモータ１９７はｘ方向に平行に延び
るｘ−固定子を含み、ｘ方向に平行に延びるロッド１
５、１７をもつ直線案内１３が前記固定子と結合されて
いる。リニヤモータ１９７は永久磁石をもつｘ−トラン
スレータ２０５を含み、前記永久磁石は支持装置１の第
２の支承ユニット１１と結合されている。リニヤモータ
１９９と２０１は永久磁石を備えかつｘ−固定子２０３
の第１端に固着されたｙ−トランスレータ２１１を有す
るｙ方向に平行に延びるｙ−固定子２０７と、永久磁石
を備えかつｘ−固定子２０３の第２端に固着されたｙ−
トランスレータ２１７を有するｙ方向に平行に延びるｙ
−固定子２１３を夫々含む。ｙ方向に平行な案内ロッド
２１９、２２１と、ｙ−方向に平行な案内ロッド２２
３、２２５は夫々ｙ−固定子２０７と２１３に固着され
る。ｙ−トランスレータ２１１、２１７はｙ−トランス
レータ２１１、２１７を案内ロッド２１９、２２１と案
内ロッド２２３、２２５に沿って夫々案内するために、
図１０に示していないローラ部材を備える。更にｙ−固
定子２０７、２１３は駆動ユニット１５５の窓枠２２７
に固着し、その窓枠はその角近くで支持部材１８５の上
面１８３に固着する。支持装置１の物体テーブル１９は
リニヤモータ１９７によってｘ方向に平行に変位する
が、物体テーブル１９はｙ方向に平行に変位し、リニヤ
モータ１９９、２０１によって主光軸１５９に平行な回
転軸線の回りに或る限定された角度だけ回転する。こう
して、物体テーブル１９を回転させることによって、ｚ
方向に平行な回転軸線の回りの前記物体テーブル１９の
望ましくない回転は打ち消される。この望ましくない回
転は支持装置１の第１実施例においてはｚ方向に平行な
物体テーブル１９の変位が起こったときに生じる。
【００４２】半導体基板１５３は力アクチュエータ３７
（第１実施例）又は力アクチュエータ（第２実施例）に
よって物体テーブル１９のｚ方向に平行な変位によって
レンズ系１５７に対して焦点合わせされる。実際には、
半導体基板１５３は製造公差に起因して不均一な厚さを
もち、それ故、半導体基板全体の最適の焦点合わせは他
の手段なしには不可能である。力アクチュエータ３７、
１２３によって基面に平行な回転軸線の回りに或る限定
された角度だけ半導体基板１５３を傾斜させることによ
って、最適の焦点合わせは半導体基板１５３の不均一厚
さの場合に得ることができる。
（第１実施例）又は力アクチュエータ（第２実施例）に
よって物体テーブル１９のｚ方向に平行な変位によって
レンズ系１５７に対して焦点合わせされる。実際には、
半導体基板１５３は製造公差に起因して不均一な厚さを
もち、それ故、半導体基板全体の最適の焦点合わせは他
の手段なしには不可能である。力アクチュエータ３７、
１２３によって基面に平行な回転軸線の回りに或る限定
された角度だけ半導体基板１５３を傾斜させることによ
って、最適の焦点合わせは半導体基板１５３の不均一厚
さの場合に得ることができる。
【００４３】ｘ方向とｙ方向における物体テーブル１９
の位置は図９、１０には図示していないそれ自体既知の
レーザ干渉計システムによって装置１４９で測定され
る。前記レーザ干渉計システムに属する鏡２３３、２３
５はｘ方向と直角に延在しかつ図１０に示される物体テ
ーブル１９の第１側面２２９上と、ｙ方向と直角に延在
する第２側面２３１上に夫々備える。作業中、物体テー
ブル１９は例えば第１と第２の支承ユニット２、１１の
熱膨張と弾性変形によって起こる変形を免れて維持され
る。これは、支持ボール３１によって剛性化部材２３上
に物体テーブル１９を応力無しで支持すること（支持装
置１の第１実施例）又は支持コラム１０１による剛性化
部材２３への物体テーブル１９の静的に決定される連結
（支持装置１の第２実施例）のお陰である。物体テーブ
ル１９の支持面２１に対する２つの鏡２３３、２３５の
正確に決定された位置はこうして得られ、従って半導体
基板の特に正確な位置決定がレーザ干渉計システムによ
って可能になる。
の位置は図９、１０には図示していないそれ自体既知の
レーザ干渉計システムによって装置１４９で測定され
る。前記レーザ干渉計システムに属する鏡２３３、２３
５はｘ方向と直角に延在しかつ図１０に示される物体テ
ーブル１９の第１側面２２９上と、ｙ方向と直角に延在
する第２側面２３１上に夫々備える。作業中、物体テー
ブル１９は例えば第１と第２の支承ユニット２、１１の
熱膨張と弾性変形によって起こる変形を免れて維持され
る。これは、支持ボール３１によって剛性化部材２３上
に物体テーブル１９を応力無しで支持すること（支持装
置１の第１実施例）又は支持コラム１０１による剛性化
部材２３への物体テーブル１９の静的に決定される連結
（支持装置１の第２実施例）のお陰である。物体テーブ
ル１９の支持面２１に対する２つの鏡２３３、２３５の
正確に決定された位置はこうして得られ、従って半導体
基板の特に正確な位置決定がレーザ干渉計システムによ
って可能になる。
【００４４】上記両実施例の支持装置１に静的気体軸受
を備える第１支承ユニット２は別の方法によっても設計
できることは注目すべきである。従って、第１支承ユニ
ット２は例えば予応力を与えられた電磁気軸受を備える
ことができ、基面５は磁気材料から作られる。第２支承
ユニット１１もまた例えば電磁気的軸受を備えることが
でき、これは磁気材料からなる直線案内の両側に置か
れ、電磁石は基面５に平行に延びる。
を備える第１支承ユニット２は別の方法によっても設計
できることは注目すべきである。従って、第１支承ユニ
ット２は例えば予応力を与えられた電磁気軸受を備える
ことができ、基面５は磁気材料から作られる。第２支承
ユニット１１もまた例えば電磁気的軸受を備えることが
でき、これは磁気材料からなる直線案内の両側に置か
れ、電磁石は基面５に平行に延びる。
【００４５】基面５に平行な所望の回転軸線の回りの物
体テーブル１９の傾斜は３つの力アクチュエータ３７、
１２３を使用して得られることも注目すべきである。か
かる傾斜は代わりの力アクチュエータシステムによって
得られる、例えば基面５に平行なｘ−軸線の回りに傾斜
可能となすφ−アクチュエータと、基面５に平行でかつ
ｘ−軸線を横切るｙ−軸線の回りに傾斜可能となするφ
−アクチュエータに関連するΨ−アクチュエータを含む
力アクチュエータによって得られる。しかし、かかる力
アクチュエータシステムを使用した場合、第１と第２の
支承ユニット２、１１に対する剛性化部材２３の静的に
決定される連結を行うのは更に困難にである。
体テーブル１９の傾斜は３つの力アクチュエータ３７、
１２３を使用して得られることも注目すべきである。か
かる傾斜は代わりの力アクチュエータシステムによって
得られる、例えば基面５に平行なｘ−軸線の回りに傾斜
可能となすφ−アクチュエータと、基面５に平行でかつ
ｘ−軸線を横切るｙ−軸線の回りに傾斜可能となするφ
−アクチュエータに関連するΨ−アクチュエータを含む
力アクチュエータによって得られる。しかし、かかる力
アクチュエータシステムを使用した場合、第１と第２の
支承ユニット２、１１に対する剛性化部材２３の静的に
決定される連結を行うのは更に困難にである。
【００４６】各力アクチュエータ３７、１２３がｚ方向
に実質上平行に向いた剛性化部材２３に力を及ぼすこと
は注目すべきである。カム形ディスク４３、１２５とカ
ム−從動子５３、１３５をもつ力アクチュエータ３７、
１２３の代わりに、他の力アクチュエータ、例えばｚ方
向に作用するリニヤモータを備えた力アクチュエータ
（例えば可動コイルモータ）又は圧電アクチュエータと
組合せたリニヤモータも使用できる。かかる代わりの力
アクチュエータはしかし一般に複雑な構造をもつ。
に実質上平行に向いた剛性化部材２３に力を及ぼすこと
は注目すべきである。カム形ディスク４３、１２５とカ
ム−從動子５３、１３５をもつ力アクチュエータ３７、
１２３の代わりに、他の力アクチュエータ、例えばｚ方
向に作用するリニヤモータを備えた力アクチュエータ
（例えば可動コイルモータ）又は圧電アクチュエータと
組合せたリニヤモータも使用できる。かかる代わりの力
アクチュエータはしかし一般に複雑な構造をもつ。
【００４７】本発明の支持装置は一般に調査及び／又は
処理すべき材料や物体の摩擦無し、遊び無しのかつ低ヒ
ステリシスの変位に使用できることは注目すべきであ
る。かかる場合の多くにおいては、正確な変位がｚ方向
に要求され、又は基面５に平行に向いた回転軸線の回り
の正確な傾斜が要求される。
処理すべき材料や物体の摩擦無し、遊び無しのかつ低ヒ
ステリシスの変位に使用できることは注目すべきであ
る。かかる場合の多くにおいては、正確な変位がｚ方向
に要求され、又は基面５に平行に向いた回転軸線の回り
の正確な傾斜が要求される。
【００４８】互いにＨ形に配置したリニヤモータ１９
７、１９９は米国特許第4,737,823 号からそれ自体既知
である。光学リトグラフ装置に使用する場合、支持装置
は代わりの駆動ユニット、例えばオランダ国特許出願第
8902471 号から既知の２段階式駆動ユニットと組合せる
ことができる。この２段階式駆動ユニットでは、物体テ
ーブルは２つの座標方向で基面に対して変位できるキャ
リジによって案内される。この場合物体テーブルは専ら
ローレンツ力によって同じ座標方向にキャリジに相対的
に駆動される。
７、１９９は米国特許第4,737,823 号からそれ自体既知
である。光学リトグラフ装置に使用する場合、支持装置
は代わりの駆動ユニット、例えばオランダ国特許出願第
8902471 号から既知の２段階式駆動ユニットと組合せる
ことができる。この２段階式駆動ユニットでは、物体テ
ーブルは２つの座標方向で基面に対して変位できるキャ
リジによって案内される。この場合物体テーブルは専ら
ローレンツ力によって同じ座標方向にキャリジに相対的
に駆動される。
【００４９】上述の光学リトグラフ装置が集積電子回路
の製造において半導体基板を照明させるのに極めて適す
ることは既に説明した。かかるリトグラフ装置はマスク
パターンを該装置によって基板上に描く場合のように、
１０分の数マイクロメータ程度の微細寸法をもつ構造を
備える他の製品の製造にも使用できる。例としては集積
光学システムの構造、磁区メモリの伝導及び検出パター
ン、液晶影像表示パターン等がある。
の製造において半導体基板を照明させるのに極めて適す
ることは既に説明した。かかるリトグラフ装置はマスク
パターンを該装置によって基板上に描く場合のように、
１０分の数マイクロメータ程度の微細寸法をもつ構造を
備える他の製品の製造にも使用できる。例としては集積
光学システムの構造、磁区メモリの伝導及び検出パター
ン、液晶影像表示パターン等がある。
【図１】本発明の支持装置の第１実施例を示す図であ
る。
る。
【図２】支持装置の物体テーブルを除外して図１の支持
装置を示す図である。
装置を示す図である。
【図３】図１の支持装置の力アクチュエータシステムの
一部を形成する力アクチュエータを示す図である。
一部を形成する力アクチュエータを示す図である。
【図４】図３の力アクチュエータの断面図である。
【図５】本発明の支持装置の第２実施例を示す図であ
る。
る。
【図６】図５の支持装置の数個の部品を示す図である。
【図７】図５の支持装置の弾性的に変形可能の連結部材
を示す図である。
を示す図である。
【図８】図５の支持装置の力アクチュエータシステムの
一部を形成する力アクチュエータの断面図である。
一部を形成する力アクチュエータの断面図である。
【図９】本発明の支持装置を備えた光学リトグラフ装置
を示す図である。
を示す図である。
【図１０】支持装置と図９の光学リトグラフ装置の支持
部材とによって形成されるユニットを示す図である。
部材とによって形成されるユニットを示す図である。
１ 支持装置 ２ 第１支承ユニット １１ 第２支承ユニット １９ 物体テーブル ２１ 支持面 ２３ 剛性化部材 ３１ 支持ボール ３５ 弾性連結部材 ３７ 力アクチュエータ ４３ カム形ディスク ５３ カム從動子 ５５ 出力シャフト ６７ 連結板 ６９ 連結板 ９１ 縮小部分 ９３ 縮小部分 １０１ 支持コラム １０３ 縮小部分 １０９ 連結板 １１３ 連結部材 １２３ 力アクチュエータ １２５ カム形ディスク １４７ 電気モータ １４９ 光学リトグラフ装置 １５３ 半導体基板 １５５ 駆動ユニット １５７ 光学レンズ系 １５９ 主光軸 １７１ 鏡 １８９ キャリア １９７ リニヤ電気モータ ２３３ 鏡
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 マルセル クンラート マリー バーヘ ン オランダ国 5671 アーエル ヌエネン ボールドスウェッハ 65 (72)発明者 ヘンリクス ウィルヘルムス アルディ シウス ヤンセン オランダ国 5643 ベーベー アインド ーフェンカムペルフッリーラーン 15 (72)発明者 ペトルス ルトヘルス バルトライ オランダ国 5813 ベーエル エイセル ステイン ペテル ヤンセンウェッハ 34 (72)発明者 ヤン ファン エイク オランダ国 5621 ベーアー アインド ーフェンフルーネバウツウェッハ １ (56)参考文献 特開 平２−139146（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) H01L 21/027 G03F 7/20 G12B 5/00
Claims (14)
- 【請求項１】 基面に沿って支持装置を案内するための
第２の支承ユニットを支持する第１支承ユニットと、基
面に平行に延在する直線案内と、支持ユニットをもち、
前記支持ユニットは物体テーブルと剛性化部材を備えか
つ力アクチュエータシステムによって、基面に直角をな
すｚ方向に平行に第１支承ユニットに対して変位できて
成る支持装置において、 支持ユニットは力アクチュエータシステムによって基面
に平行に向いた少なくとも１つの回転軸線の回りに第１
と第２の支承ユニットに対して回転可能になっており、
また、剛性化部材は連結部材によって第２支承ユニット
に連結されていて、その連結部材の、剛性化部材に連結
された第１の部分が、該連結部材の、第２支承ユニット
に連結された第２の部分に対してｚ方向に平行な方向へ
弾性変位可能になっていることを特徴とする支持装置。 - 【請求項２】 力アクチュエータシステムが３つの力ア
クチュエータによって形成される請求項１に記載の支持
装置において、作動中各力アクチュエータが剛性化部材
に力を加え、それは実質上ｚ方向に平行であることを特
徴とする支持装置。 - 【請求項３】 各力アクチュエータはカム及び被動カム
從動子を備え、カムは基面に平行に向いた回転可能のカ
ムシャフトに固着され、カム從動子はカムシャフトに平
行に向いた駆動モータの出力シャフトに連結されること
を特徴とする請求項２に記載の支持装置。 - 【請求項４】 駆動モータは第１支承ユニットに固着さ
れる一方、カムシャフトは剛性化部材に連結されること
を特徴とする請求項３に記載の支持装置。 - 【請求項５】 剛性化部材は物体テーブルを支持するた
めの３つの支持素子を含み、前記素子はｚ方向を横切る
平面内で互いに三角形に配置され、支持素子は板形のス
トリップによって相互連結される一方、各支持素子は前
記平面内に延在する弾性連結部材によって第２支承ユニ
ットに連結されることを特徴とする請求項４に記載の支
持装置。 - 【請求項６】 各弾性連結部材は板形のストリップを含
み、前記ストリップは関連の支持素子に隣接した三角形
の二等分線を横切って延びかつその両端に、関連の二等
分線に実質的に平行に延びる縮小部分を備えることを特
徴とする請求項５に記載の支持装置。 - 【請求項７】 各支持素子は支持ボールを含むことを特
徴とする請求項５又は６に記載の支持装置。 - 【請求項８】 剛性化部材の各支持素子は弾性ロッドに
よって力アクチュエータシステムの力アクチュエータの
１つに連結され、前記ロッドはｚ方向に平行な方向に延
びることを特徴とする請求項５から７の何れか１項に記
載の支持装置。 - 【請求項９】各弾性ロッドはｚ方向に平行に延びかつ両
端に２つの相互に直角をなす縮小部分を備えたコラムを
含むことを特徴とする請求項８に記載の支持装置。 - 【請求項１０】 ｚ方向に見て剛性化部材は第１と第２
の支承ユニット間に配置し、物体テーブルは弾性支持コ
ラムによって剛性化部材に固着する一方、第２支承ユニ
ットはｚ方向に平行に剛性化部材と並んで延びる固着部
材によって第１支承ユニットに固着したことを特徴とす
る請求項１から３の何れか１項に記載の支持装置。 - 【請求項１１】 剛性化部材はｚ方向を横切って延びる
３つの板ばねによって第２の支承ユニットに連結したこ
とを特徴とする請求項１０に記載の支持装置。 - 【請求項１２】 物体テーブルは３つの弾性支持コラム
によって剛性化部材に固着し、各前記コラムは第１と第
２の端部に基面に平行に延在する第１縮小部分と第１縮
小部分に平行に延在する第２縮小部分を夫々備え、かつ
第１と第２の縮小部分間に第１と第２の縮小部分を横切
って延びる第３の縮小部分を備えたことを特徴とする請
求項１０又は１１に記載の支持装置。 - 【請求項１３】 駆動モータは剛性化部材に固着する一
方、カムシャフトは第１支承ユニットに固着することを
特徴とする請求項１０から１３の何れか１項に記載の支
持装置。 - 【請求項１４】 ｚ方向に光学リトグラフ装置が連続的
に前記支持装置、ｚ方向に平行に向いた主光軸をもつレ
ンズ系、マスク用のマニピュレータ及び基面を反復照明
するためのシヤッタをもつ光源を備え、前記基板は支持
装置によって支持され、物体テーブルは主光軸と実質的
に直角をなす基板のための支持面を含むことを特徴とす
る請求項１から１３の何れか１項に記載の支持装置を備
えた光学リトグラフ装置。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| NL9100421 | 1991-03-08 | ||
| NL9100421A NL9100421A (nl) | 1991-03-08 | 1991-03-08 | Ondersteuningsinrichting met een kantelbare objecttafel alsmede optisch lithografische inrichting voorzien van een dergelijke ondersteuningsinrichting. |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0737771A JPH0737771A (ja) | 1995-02-07 |
| JP3291310B2 true JP3291310B2 (ja) | 2002-06-10 |
Family
ID=19858996
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP04818692A Expired - Fee Related JP3291310B2 (ja) | 1991-03-08 | 1992-03-05 | 支持装置 |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5204712A (ja) |
| EP (1) | EP0503712B1 (ja) |
| JP (1) | JP3291310B2 (ja) |
| KR (1) | KR100233614B1 (ja) |
| DE (1) | DE69204329T2 (ja) |
| NL (1) | NL9100421A (ja) |
Families Citing this family (44)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5813287A (en) * | 1994-03-02 | 1998-09-29 | Renishaw Plc | Coordinate positioning machine |
| DE69536045D1 (de) * | 1994-03-02 | 2010-04-01 | Renishaw Plc | Koordinaten-Positionierungsmaschine |
| JP3221823B2 (ja) * | 1995-11-24 | 2001-10-22 | キヤノン株式会社 | 投影露光装置およびこれを用いた露光方法ならびに半導体製造方法 |
| US5991005A (en) * | 1996-04-11 | 1999-11-23 | Nikon Corporation | Stage apparatus and exposure apparatus having the same |
| JP3659529B2 (ja) * | 1996-06-06 | 2005-06-15 | キヤノン株式会社 | 露光装置およびデバイス製造方法 |
| JPH10521A (ja) * | 1996-06-07 | 1998-01-06 | Nikon Corp | 支持装置 |
| US5815246A (en) * | 1996-12-24 | 1998-09-29 | U.S. Philips Corporation | Two-dimensionally balanced positioning device, and lithographic device provided with such a positioning device |
| US5835198A (en) * | 1997-01-06 | 1998-11-10 | Etec Systems, Inc. | Articulated platform mechanism for laser pattern generation on a workpiece |
| JPH10209035A (ja) * | 1997-01-23 | 1998-08-07 | Nikon Corp | 露光装置 |
| JPH11191585A (ja) * | 1997-12-26 | 1999-07-13 | Canon Inc | ステージ装置、およびこれを用いた露光装置、ならびにデバイス製造方法 |
| US6054784A (en) * | 1997-12-29 | 2000-04-25 | Asm Lithography B.V. | Positioning device having three coil systems mutually enclosing angles of 120° and lithographic device comprising such a positioning device |
| DE19805875C1 (de) * | 1998-02-13 | 1999-04-08 | Schott Glas | Trägertisch für eine Photomaske in einer Vorrichtung zur Mikrochip-Herstellung |
| US6621556B2 (en) * | 2000-02-28 | 2003-09-16 | Nikon Corporation | Projection exposure apparatus and manufacturing and adjusting methods thereof |
| TW509823B (en) * | 2000-04-17 | 2002-11-11 | Asml Netherlands Bv | Lithographic apparatus, device manufacturing method, and device manufactured thereby |
| DE10062713C1 (de) * | 2000-12-15 | 2002-09-05 | Zeiss Carl | Verfahren zum Beschichten von Substraten und Maskenhaltern |
| US6646719B2 (en) * | 2001-01-31 | 2003-11-11 | Nikon Corporation | Support assembly for an exposure apparatus |
| EP1243969A1 (en) * | 2001-03-20 | 2002-09-25 | Asm Lithography B.V. | Lithographic projection apparatus and positioning system |
| DE10115915A1 (de) * | 2001-03-30 | 2002-10-02 | Zeiss Carl | Vorrichtung zur Justierung von Einrichtungen und zum Einstellen von Verstellwegen |
| DE10136387A1 (de) * | 2001-07-26 | 2003-02-13 | Zeiss Carl | Objektiv, insbesondere Objektiv für die Halbleiter-Lithographie |
| DE10140174B4 (de) * | 2001-08-22 | 2005-11-10 | Leica Microsystems Semiconductor Gmbh | Koordinaten-Messtisch und Koordinaten-Messgerät |
| DE10219514A1 (de) * | 2002-04-30 | 2003-11-13 | Zeiss Carl Smt Ag | Beleuchtungssystem, insbesondere für die EUV-Lithographie |
| US7760452B2 (en) * | 2003-04-25 | 2010-07-20 | Canon Kabushiki Kaisha | Driving apparatus, optical system, exposure apparatus and device fabrication method |
| ATE441876T1 (de) * | 2003-07-17 | 2009-09-15 | Newport Corp | Hochauflísender dynamischer positionierungsmechanismus |
| US7265917B2 (en) | 2003-12-23 | 2007-09-04 | Carl Zeiss Smt Ag | Replacement apparatus for an optical element |
| US7515359B2 (en) | 2004-04-14 | 2009-04-07 | Carl Zeiss Smt Ag | Support device for positioning an optical element |
| JP2007025374A (ja) * | 2005-07-19 | 2007-02-01 | Mitsubishi Electric Corp | 反射鏡支持調整機構 |
| TWI372271B (en) * | 2005-09-13 | 2012-09-11 | Zeiss Carl Smt Gmbh | Optical element unit, optical element holder, method of manufacturing an optical element holder, optical element module, optical exposure apparatus, and method of manufacturing a semiconductor device |
| DE102006034455A1 (de) * | 2006-07-26 | 2008-01-31 | Carl Zeiss Industrielle Messtechnik Gmbh | Lageveränderliche Werkstückauflage für eine Maschine und Bearbeitungsanlage mit einer entsprechenden Werkstückauflage |
| KR101302300B1 (ko) * | 2006-12-22 | 2013-09-03 | 주식회사 케이씨텍 | 대면적 기판의 방향 전환장치 |
| DE102008000967B4 (de) * | 2008-04-03 | 2015-04-09 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Projektionsbelichtungsanlage für die EUV-Mikrolithographie |
| US8305701B2 (en) * | 2008-09-17 | 2012-11-06 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Connecting arrangement for an optical device |
| EP2629930B1 (en) * | 2010-10-21 | 2018-12-26 | Thorlabs, Inc. | Parallellism conservation mechanism for nanopositioner |
| US8542450B2 (en) * | 2011-02-08 | 2013-09-24 | Utah State University Research Foundation | Kinematic optic mount |
| US20130125793A1 (en) * | 2011-11-22 | 2013-05-23 | Alex K. Deyhim | Two degrees of freedom optical table |
| CN103066894B (zh) * | 2012-12-12 | 2015-05-20 | 清华大学 | 一种六自由度磁悬浮工件台 |
| CN104062854B (zh) * | 2013-03-21 | 2016-08-03 | 上海微电子装备有限公司 | 用于光刻设备的调平调焦装置 |
| CN104110561B (zh) * | 2014-06-25 | 2016-06-29 | 华南理工大学 | 一种基于柔顺机构的大行程平面三自由度精密定位平台 |
| KR102296804B1 (ko) * | 2014-07-03 | 2021-08-31 | 뉴포트 코포레이션 | 다축 포지셔닝 장치 |
| GB2541171A (en) * | 2015-07-29 | 2017-02-15 | Skf Ab | A device for adjusting the positioning of an apparatus relative to a foundation in a shaft alignment process and a method thereof |
| WO2017207016A1 (en) * | 2016-05-30 | 2017-12-07 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Optical imaging arrangement with a piezoelectric device |
| CN111650816B (zh) * | 2019-03-04 | 2021-07-23 | 上海微电子装备（集团）股份有限公司 | 柔性连接装置、测量系统及光刻机 |
| CN112756996A (zh) * | 2020-12-29 | 2021-05-07 | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 | 一种六自由度调节装置 |
| EP4376060A1 (de) * | 2022-11-22 | 2024-05-29 | Schneeberger Holding AG | Positioniervorrichtung zum positionieren eines beweglichen elements |
| GB2626305A (en) * | 2023-01-10 | 2024-07-24 | Fives Landis Ltd | A machine tool and a rotary machine drive for a machine tool |
Family Cites Families (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4431304A (en) * | 1981-11-25 | 1984-02-14 | Mayer Herbert E | Apparatus for the projection copying of mask patterns on a workpiece |
| US4473291A (en) * | 1983-03-24 | 1984-09-25 | Opti-Copy, Inc. | Support arrangement for track mounted cameras, projectors and camera/projectors |
| US4676649A (en) * | 1985-11-27 | 1987-06-30 | Compact Spindle Bearing Corp. | Multi-axis gas bearing stage assembly |
| JPS62200726A (ja) * | 1986-02-28 | 1987-09-04 | Canon Inc | 露光装置 |
| NL8600785A (nl) * | 1986-03-27 | 1987-10-16 | Asm Lithography Bv | Positioneerinrichting met een z-manipulator en een o-manipulator. |
| NL8601095A (nl) * | 1986-04-29 | 1987-11-16 | Philips Nv | Positioneerinrichting. |
| NL8601547A (nl) * | 1986-06-16 | 1988-01-18 | Philips Nv | Optisch litografische inrichting met verplaatsbaar lenzenstelsel en werkwijze voor het regelen van de afbeeldingseigenschappen van een lenzenstelsel in een dergelijke inrichting. |
| JPH0812843B2 (ja) * | 1989-03-15 | 1996-02-07 | 日本精工株式会社 | 光学結像装置及び方法 |
| NL8902471A (nl) * | 1989-10-05 | 1991-05-01 | Philips Nv | Tweetraps positioneerinrichting. |
| US5130747A (en) * | 1990-09-28 | 1992-07-14 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Carrier apparatus |
-
1991
- 1991-03-08 NL NL9100421A patent/NL9100421A/nl not_active Application Discontinuation
- 1991-10-09 US US07/774,763 patent/US5204712A/en not_active Expired - Lifetime
-
1992
- 1992-03-03 EP EP92200610A patent/EP0503712B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1992-03-03 DE DE69204329T patent/DE69204329T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1992-03-05 JP JP04818692A patent/JP3291310B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 1992-03-05 KR KR1019920003607A patent/KR100233614B1/ko not_active IP Right Cessation
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| KR100233614B1 (ko) | 1999-12-01 |
| DE69204329T2 (de) | 1996-04-25 |
| DE69204329D1 (de) | 1995-10-05 |
| JPH0737771A (ja) | 1995-02-07 |
| NL9100421A (nl) | 1992-10-01 |
| US5204712A (en) | 1993-04-20 |
| KR930020245A (ko) | 1993-10-19 |
| EP0503712B1 (en) | 1995-08-30 |
| EP0503712A1 (en) | 1992-09-16 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP3291310B2 (ja) | 支持装置 | |
| US6683433B2 (en) | Exposure apparatus and method utilizing isolated reaction frame | |
| JP2974535B2 (ja) | 位置決め装置 | |
| US4698575A (en) | Positioning device | |
| KR100625625B1 (ko) | 기판, 스테이지 장치, 스테이지 구동 방법, 노광 장치 및노광 방법 | |
| TW528881B (en) | Position measuring apparatus | |
| US6777833B1 (en) | Magnetic levitation stage apparatus and method | |
| US6989647B1 (en) | Positioning device having dynamically isolated frame, and lithographic device provided with such a positioning device | |
| US8416386B2 (en) | Conforming seats for clamps used in mounting an optical element, and optical systems comprising same | |
| US5806193A (en) | Tilt and movement apparatus using flexure and air cylinder | |
| KR970071148A (ko) | 스테이지 장치 및 그것을 구비한 노광 장치 | |
| JPH10503890A (ja) | 振動を受けない物品テーブルを有する位置決め装置 | |
| CN101713929A (zh) | 光刻设备和器件制造方法 | |
| KR101010043B1 (ko) | 스테이지 장치 및 노광 장치 | |
| JPH10506239A (ja) | 三次元的に位置決め可能なマスクホルダを有するリソグラフ装置 | |
| US7365513B1 (en) | Positioning device having dynamically isolated frame, and lithographic device provided with such a positioning device | |
| JP5955964B2 (ja) | ターゲット処理ツールのためのガイダンス | |
| JPH11251409A (ja) | 位置決め装置、及び露光装置 | |
| JP2007299925A (ja) | ステージ装置および露光装置 | |
| JP4186945B2 (ja) | 露光装置 | |
| JP4287781B2 (ja) | 測定システム用基準フレームを有する位置決め装置 | |
| JP2761300B2 (ja) | 光ディスク装置のトラッキングアクチュエータ | |
| JPH11251217A (ja) | 露光装置 | |
| JPH02130733A (ja) | 光ピックアップ装置 | |
| JPH09320954A (ja) | ステージ装置 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20020312 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
| S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080322 Year of fee payment: 6 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090322 Year of fee payment: 7 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |