JPH09320954A - ステージ装置 - Google Patents

ステージ装置

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JPH09320954A
JPH09320954A JP8161170A JP16117096A JPH09320954A JP H09320954 A JPH09320954 A JP H09320954A JP 8161170 A JP8161170 A JP 8161170A JP 16117096 A JP16117096 A JP 16117096A JP H09320954 A JPH09320954 A JP H09320954A
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JP
Japan
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stage
axis direction
drive
sample
sample table
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JP8161170A
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English (en)
Inventor
Hiroto Horikawa
浩人 堀川
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Nikon Corp
Original Assignee
Nikon Corp
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Publication date
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  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 テーブルをZ軸方向及び傾斜方向に駆動する
場合にテーブルに歪みが生ずるのを効果的に抑制する。 【解決手段】 3つの板ばね46を介してテーブル20
がステージ18X上の3対の試料台支持棒34A、34
Bに連結される。3つの駆動系38により各駆動軸36
が、例えば、同時に駆動された場合には、テーブル20
はZ軸方向に沿って平行移動するが、この場合、各駆動
軸36はテーブル20と各板ばね46との固定点のほぼ
直下でテーブル20をそれぞれ支持するとともに当該各
支持点をZ方向に駆動することから、テーブル20に作
用するZ方向の力は圧縮のみでモーメントを発生しない
ため、テーブル20の変形を小さくすることができる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明はステージ装置に係
り、更に詳しくはレチクル上のパターンを投影光学系を
介して感光基板上に露光する露光装置用として好適なス
テージ装置に関する。
【0002】
【従来の技術】従来より、ステージ(あるいはテーブ
ル)を保持する構造として、いわゆるキネマティック構
造が知られている。この構造は、簡単にいうと、ステー
ジを点と、V溝と、面とで3点支持するもので、ステー
ジを上下方向及び傾斜方向のいずれの方向に動かしても
ステージに余分なストレスが掛からず理想的な構造とい
われている。しかしながら、このキネマティック構造
は、水平方向の運動に弱く、特にステージの保持部材そ
のものが高速で水平移動する場合には不適である。この
ような理由により、露光装置のステージ装置には、この
構造は採用されていない。
【0003】図7には、従来のこの種装置におけるステ
ージ装置の分解斜視図が概略的に示されている。この図
7において、定盤60上にはモータ63Yによって定盤
60の長手方向であるY軸方向に沿って駆動されるYス
テージ62Yが載置され、このYステージ62Y上にモ
ータ63XによってY方向に直交するX方向に沿って駆
動されるXステージ62Xが載置されている。更に、こ
のXステージ62X上には、ほぼ同一円周上に位置する
ように、3本の試料台支持棒64A、64B、64C、
及び3本の駆動軸72A、72B、72Cが交互に且つ
中心角60度の間隔で配置されている。すなわち、試料
台支持棒64A、64B、64Cはほぼ正三角形の頂点
の位置に配置されており、また駆動軸72A、72B、
72Cも別の正三角形の頂点の位置に配置されている。
【0004】一方、試料台(テーブル)66には、試料
台支持棒64A、64B、64Cにそれぞれ対向する位
置に各試料台支持棒より幾分大径の円形開口67a,6
7b、67cが穿設されている。そして、試料台66を
Xステージ62Xに組み付ける際には、試料台支持棒6
4A、64B、64Cを円形開口67a,67b、67
cにそれぞれ挿入し、試料台支持棒64A、64B、6
4Cと試料台66とをフレクシャーと呼ばれるリング状
の板ばね68を介して連結する。即ち、リング状の板ば
ね68は、図8に示されるように試料台支持棒64A、
64B、64Cに各1箇所、試料台66に3箇所合計6
箇所が接続ねじ70A、70B、70C、70D、70
E、70Fによってねじ止めされ、これによって試料台
支持棒64A、64B、64Cの上端面と試料台66上
面とが同一面に位置するようにされる。このようにし
て、板ばね68を介して試料台66がXステージ62X
上に保持される。
【0005】ここで、試料台66がXステージ62Xに
組み付けられた状態では、駆動軸72A、72B、72
Cは、図7に示されるねじ穴70a,70b、70cの
ほぼ真下の部分でそれぞれXY平面に直交するZ軸方向
に駆動機構74A、74B、74Cによって独立して駆
動されるようになっており、これにより試料台66が駆
動軸72A、72B、72Cによって異なる3つの支持
点で駆動され、Xステージ62Xに対して試料台66の
Z方向位置及びXY平面に対する傾斜角度を所定範囲内
で任意に設定できるようになっている。ここで、板ばね
68としては、横方向に剛性が高く、上下方向に剛性が
低いものを用いており、XYステージ62の水平方向
(XY方向)移動時の位置決め整定時間が短くなるよう
に工夫されている。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】一般に、露光装置を構
成する上記のようなステージ装置において、フレクシャ
ー(板ばね)の剛性は、以下の、のような条件を満
たす必要がある。
【0007】 試料台(試料台上の負荷を含む)の質
量をMとすると、フレクシャーのZ方向剛性Kzは、フ
ォーカス・レベリング駆動ストローク内で、次式を満た
す範囲でできるだけ小さく設定する。
【0008】M・g>Kz ・z ここで、zは駆動点の変位、gは重力加速度である。
【0009】 XY方向剛性及びZθ方向(Z軸回り
の回転方向)剛性は、ステージの制御性能により決定さ
れ、整定時間や制御応答の妨げにならないような剛性が
なければならない。
【0010】これらの条件を満たす板ばねとして、従来
の露光装置のステージ装置では、前述したような円形の
板ばねを使用していたが、これには次のような問題点が
あった。
【0011】板ばね(フレクシャー)、試料台(テーブ
ル)、ステージの固定点が、同一円周上にあったため、
フォーカス・レベリング動作を行うと、いずれの場合も
板ばねは試料台支持棒からのZ方向の力により変形する
が、板ばねは横方向に剛性の高いものが使用されている
ので、その長さが変化せず、従って板ばねの内部に引っ
張り応力が生じ、接続ねじが外れない試料台は図8に示
されるように、板ばねと試料台の固定点と、板ばねとス
テージの固定点を結ぶ方向に力(図8中に実線矢印で表
示)を受け、これらの力の接線方向の分力は互いに相殺
されるが、中心方向(半径方向)の分力の合力(図8中
に点線矢印で表示)は、試料台を変形)させるモーメン
トとして作用し、これにより試料台が微小変形(例えば
すり鉢状に変形)する。
【0012】このため、図7、8に示されるように、試
料台66上に配置された移動鏡76X、76Yと試料台
66上に配置された感光基板Wとの距離が変化し、移動
鏡76X、76Yの位置を計測する干渉計80X、80
Yの計測値が変化(誤差要因となる変化)し、この変化
がXステージ62X、Yステージ62Yの停止位置とパ
ターンの焼き付け位置の差となり、不図示のレチクルと
感光基板Wの位置合わせ精度(アライメント精度)や感
光基板上のショットの配列精度に悪影響を及ぼす可能性
があった。なお、試料台の変形量は、ナノメータ(n
m)オーダーであるが、最近の露光装置では、この程度
の試料台の変形量が問題になる。
【0013】なお、上記の試料台を微少変形させる力
は、ステージの加減速時に試料台の慣性により発生する
場合と、フォーカス及びレベリング動作時に、前述した
如く板ばねが変形することにより発生する場合とがある
が、前者は、ステージの位置決め後の露光時には発生し
ないため、重ね合わせ精度悪化の直接の原因にはならな
いが、後者は常に発生しているだけではなく、フォーカ
スまたはレベリング量により、大きさが異なるため、重
ね合わせ精度悪化の原因となる。
【0014】本発明は、かかる従来技術の有する不都合
に鑑みてなされたもので、その目的は、テーブルをZ軸
方向及び傾斜方向に駆動する場合にテーブルに歪みが生
ずるのを効果的に抑制することができるステージ装置を
提供することにある。
【0015】
【課題を解決するための手段】テーブルに歪みが発生す
るのを防止するためには、テーブルに作用する力を小さ
く抑えるか、テーブルが変形しにくいような方向に力を
発生させることが有効であると考えられる。本発明は、
かかる観点からなされたもので、以下のような構成を採
用する。
【0016】請求項1に記載に係るステージ装置は、基
準平面内を移動可能なステージと;前記ステージに対し
少なくとも前記ステージ移動面に直交する第1軸方向に
相対移動可能なテーブルと;前記ステージとテーブルと
の相対位置を拘束する3個の弾性部材と;前記テーブル
と前記各弾性部材との固定点のほぼ直下で前記テーブル
をそれぞれ支持するとともに前記テーブルの各支持点を
前記第1軸方向に駆動する3つの駆動軸と;前記駆動軸
を同時又は独立して駆動する駆動系とを有する。
【0017】これによれば、テーブルは、ステージの移
動により基準平面内を1次元方向(又は2次元方向)に
移動し、またステージに対し少なくとも第1軸方向に相
対移動可能であるから、テーブルは結果的に少なくとも
2自由度を有する。駆動系により各駆動軸が、例えば、
同時に駆動された場合には、テーブルは第1軸方向に沿
って平行移動するが、この際、各駆動軸はテーブルと各
弾性部材との固定点のほぼ直下でテーブルをそれぞれ支
持するとともに当該各支持点を前記第1軸方向に駆動す
ることから、テーブルに作用する第1軸方向の力は圧縮
のみでモーメントを発生しないため、テーブルの変形を
小さくすることができる。このことは、駆動系により各
駆動軸が、例えば、独立に異なる量駆動され、テーブル
が傾斜駆動された場合も同様である。
【0018】請求項2に記載のステージ装置は、基準平
面内を移動可能なステージと;前記ステージに対し少な
くとも前記ステージ移動面に直交する第1軸方向に相対
移動可能なテーブルと;前記テーブルを異なる3箇所で
それぞれ支持するとともに前記テーブルの各支持点を前
記第1軸方向に駆動する3つの駆動軸と;前記テーブル
を前記ステージに対して当該ステージの移動面内の方向
では強く、その他の方向については弱い拘束力を持たせ
るように、前記テーブルの重心を囲む円周3箇所に配置
され、前記ステージとテーブルとの相対位置をそれぞれ
拘束する3つの弾性部材と;前記駆動軸を同時又は独立
して駆動する駆動系とを有する。
【0019】これによれば、請求項1に記載の発明と同
様にテーブルは結果的に少なくとも2自由度を有する。
駆動系により各駆動軸が、例えば、同時に駆動された場
合には、テーブルは第1軸方向に沿って平行移動する
が、ステージとテーブルとの相対位置をそれぞれ拘束す
る3つの弾性部材が、テーブルをステージに対して当該
ステージの移動面内の方向では強く、その他の方向につ
いては弱い拘束力を持たせるように、テーブルの重心を
囲む円周3箇所に配置されていることから、このテーブ
ルの第1軸方向の平行移動に対する抵抗は弱く、また、
テーブルの面内方向には多少力が作用しても剛性が高い
ことから、テーブルの変形を小さくすることができる。
このことは、駆動系により各駆動軸が、例えば、独立に
異なる量駆動され、テーブルが傾斜駆動された場合も同
様である。
【0020】請求項3に記載の発明は、請求項1又は2
に記載のステージ装置において、前記各弾性部材は、1
方向に高剛性かつ直交する他の2方向に低剛性な特性を
持ち、前記テーブルの重心を中心とする半径方向が前記
高剛性方向とそれぞれ一致する状態で配置されているこ
とを特徴とする。これによれば、テーブルの面内方向に
一様でかつ高い剛性を得ることが出来る。
【0021】請求項4に記載の発明は、請求項1ないし
3のいずれか1項に記載のステージ装置において、前記
各弾性部材は、前記テーブルに対して第1軸方向に強制
変位又は荷重が加わったときに、パンタグラフのように
変形して前記第1軸方向の剛性を弱くすることが可能な
板ばねであることを特徴とする。これによれば、各弾性
部材として、テーブルに対して第1軸方向に強制変位又
は荷重が加わったときに、パンタグラフのように変形し
て第1軸方向の剛性を弱くすることが可能な板ばねが使
用されていることから、テーブルの第1軸方向駆動時に
板ばねからテーブルに作用する第1軸方向の反力が小さ
くなり、より一層テーブルの変形を小さくする事ができ
る。
【0022】
【発明の実施の形態】以下、本発明の一実施形態を図1
ないし図5に基づいて説明する。図1には、一実施形態
に係るステージ装置が適用された投影露光装置10の構
成が概略的に示されている。
【0023】この投影露光装置10は、感光基板として
のウエハWを図1におけるX、Y、Z軸方向及びX、Y
軸回りの回転方向の5自由度で駆動するステージ装置1
2と、このステージ装置12の上方にその光軸AX方向
がZ軸方向と一致する状態で配置された投影レンズPL
と、この投影レンズPLの上方でレチクルRを光軸AX
に直交する面内で保持するレチクルホルダ14A、14
Bとを備えている。ここで、図1においては、紙面に直
交する水平面内の紙面方向をX軸方向、紙面直交方向を
Y軸方向、鉛直軸方向をZ軸方向と定めている。
【0024】ステージ装置12は、定盤11上をY軸方
向に移動するYステージ18Yと、このYステージ18
Y上をX軸方向に移動するステージとしてのXステージ
18Xと、このXステージ18X上に搭載され、Z軸方
向の移動及びXY平面に対する傾斜角が調整可能とされ
たテーブルとしての試料台20、この試料台20上に載
置されたウエハホルダ22とを備えている。ウエハホル
ダ22上には、不図示のバキュームチャックを介して表
面にフォトレジストが塗布されたウエハWが吸着固定さ
れている。
【0025】前記レチクルホルダ14A、14BはXY
2次元方向の微少駆動が可能とされされており、これに
よってレチクルRのパターン面の中心(レチクルセン
タ)が光軸AX上に一致するようにレチクルアライメン
トが行われるようになっている。また、本実施形態で
は、レチクルホルダ14A、14Bは一体的に光軸AX
回りの回転が可能とされており、ウエハWとレチクルの
アライメントの際に、ウエハWとレチクルRとの回転方
向の位置合わせができるようになっている。
【0026】図1において、白抜き矢印で示される照明
光ELによってレチクルRが照明されると、レチクルR
に形成されたパターンが投影レンズPLを介してウエハ
W上に投影露光されるが、このときにパターンの像がウ
エハWの表面に良好に結像するためには、ウエハW表面
の露光フィールドを投影レンズPLの結像面(投影パタ
ーン像面)に一致させる必要がある。そのため、本実施
形態では、投影レンズPLの両脇にウエハW表面のZ方
向位置(即ち焦点ずれ量)及びXY平面に対する傾斜を
検出する射入射光式のいわゆる多点AF系から成るフォ
ーカス・レベリングセンサの送光系16Aと受光系16
Bとが設けられている。
【0027】そして、ステージ制御系24では露光に先
立って受光系16Bからの出力信号をモニタし露光フィ
ールド内の投影パターン像面とウエハW表面が一致して
いるかを調べ、試料台20の駆動機構(これについては
後に詳述する)を制御して、露光フィールド内のウエハ
W表面を投影パターン像面に一致させるように制御する
ようになっている。すなわち、このようにして本実施形
態ではフォーカス制御、レベリング制御が行なわれる。
【0028】試料台20上には、移動鏡26が設けられ
ており、この移動鏡26の位置がレーザ干渉計28によ
って計測されるようになっている。ここで、図2に示さ
れるように、試料台20上には、X方向移動鏡26X、
Y方向移動鏡26Yが配置され、これらに対応してX軸
用レーザ干渉計28XとY軸用レーザ干渉計28Yとが
実際には存在するが、図1では移動鏡26Xと26Yと
が代表的に移動鏡26として示され、レーザ干渉計28
Xと28Yとが代表的にレーザ干渉計28として示され
ている。従って、レーザ干渉計26によって試料台20
(ないしウエハW)の2次元方向の位置ひいてはXステ
ージ18X、Yステージ18Yの位置が計測されるよう
になっており、この計測値がステージ制御系24に入力
され、ステージ制御系24ではこの干渉計26の計測値
をモニタしつつX駆動モータ19X、Y駆動モータ19
Y(いずれも図1では図示せず、図2、図3参照)を介
してXステージ18X、Yステージ18Yの移動をも制
御するようになっている。
【0029】上述したようなフォーカス制御、レベリン
グ制御を含むステージ駆動制御及び露光動作はすべて制
御装置30により管理されるようになっている。
【0030】図2には、ステージ装置12の外観斜視図
が概略的に示され、図3にはこのステージ装置12の分
解斜視図が示されている。
【0031】図3において、定盤11上にはモータ19
Yによって当該定盤11の長手方向であるY軸方向に沿
って駆動されるYステージ18Yが載置され、このYス
テージ18Y上にモータ19XによってX方向に沿って
駆動されるXステージ18Xが載置されている。更に、
このXステージ18X上には、ほぼ正三角形の頂点の位
置に、3つの試料台支持駆動アッセンブリ32が固定さ
れている。各試料台支持駆動アッセンブリ32は、Xス
テージ18Xのほぼ重心位置を中心とする同心円の半径
方向に沿って所定間隔で配置された断面矩形部材から成
る一対の試料台支持棒34A、34Bと、この一対の試
料台支持棒34A、34Bに挟持される状態で配置され
た駆動軸36及びその駆動機構38とによって構成され
ている。なお、前記各試料台支持棒34A、34Bの試
料台対向面(上面)には、ねじ穴40が形成されてい
る。
【0032】一方、試料台20には、前記各対の試料台
支持棒34A、34Bに対向する位置に、それぞれ一対
の台形状の開口部42a、42bがそれぞれ穿設され、
また、各対の開口部42a、42b間にねじ穴が形成さ
れている。そして、試料台20をXステージ18Xに組
み付ける際には、3対の試料台支持棒34A、34Bを
対向する開口部42a、42bにそれぞれ挿入し、各対
の試料台支持棒34A、34Bと試料台20とを全体形
状が長方形の板ばねから成るフレクシャー46を介して
それぞれ連結する。
【0033】図4には、フレクシャー46が拡大して示
されている。この内、図4(A)は正面図、図4(B)
は平面図である。このフレクシャー46は、例えばステ
ンレス鋼(SUS)から成り、図4(A)に示されるよ
うに、厚肉部と薄肉部(接続部)とが交互に形成された
左右対称の形状を有している。両端の厚肉部46a、4
6bを除く残りの部分は、3つの部分に分離され、これ
らの部分を両端の厚肉部46a、46bで連結したよう
な形状を有している。また、図4(B)に示されるよう
に、長手方向中央の3つの厚肉部46c、46d、46
eには、丸孔46f、46g、46hが穿設され、これ
らの丸孔46f、46g、46hを介して接続ねじ48
A、48B、48Cがそれぞれ挿入され、このうちの中
央の丸孔46gに挿入された接続ねじ48Bが試料台2
0のねじ穴44に螺合し、両側の丸孔46f、46hに
挿入された接続ねじ48A、48Cが試料台支持棒34
A、34Bの丸孔に螺号することにより、フレクシャー
46は、試料台20に1個所、試料台支持棒34A、3
4Bに各1個所、合計3個所でねじ止めされ、これによ
って、試料台支持棒34A、34Bの上端面と試料台2
0上面とが同一面に位置するようにされる。このように
して、3つのフレクシャー46を介して試料台20が、
図2に示されるように、Xステージ18Xに組み付けら
れる。
【0034】試料台20がXステージ18Xに組み付け
られた図2の状態では、試料台20は各フレクシャー4
6と試料台20の固定点、すなわち各フレクシャー46
の中央の丸孔46gのほぼ真下部分で各駆動軸36によ
って支持され、各駆動軸36はZ軸方向にそれぞれの駆
動機構38によって独立して駆動されるようになってお
り、これにより試料台20が3つの駆動軸36によって
異なる3つの支持点で駆動され、Xステージ18Xに対
して試料台20のZ方向位置及びXY平面に対する傾斜
角度(ローリング量、ピッチング量)を所定範囲内で任
意に設定できるようになっている。
【0035】本実施形態では、Xステージ18Xと試料
台20との相対位置を拘束する弾性部材として、3個の
フレクシャー46を用い、これらのフレクシャー46を
試料台20の重心を囲む円周の3等分点に配置し、しか
も各フレクシャー46の高剛性方向(長手方向に直交す
る方向)が試料台20の重心を中心とする半径方向に一
致するような状態で配置されていることから、図2から
容易に想像されるように、水平方向(X、Y方向、また
は、r、θ方向(極座標の場合))に一様な剛性を得る
ことができる。また、各フレクシャー46はフォーカス
制御、レベリング制御時に、各駆動軸36の駆動によ
り、Z方向に荷重または強制変位を受けると、図5のよ
うにパンタグラフ形状に変形する。このため、各駆動軸
36のZ方向駆動の際に生じる、対応するフレクシャー
46の試料台20との固定点と、試料台支持棒34A、
34B(ステージ側)との固定点との間の距離の変化分
は、フレクシャー46がパンタグラフ形状に変形するこ
とで吸収され、試料台20がフレクシャー46より受け
るZ方向反力は小さくなる。
【0036】さらに、試料台20とフレクシャー46の
固定点と、フォーカス、レベリング制御時の試料台20
の駆動点、すなわち各駆動軸36による試料台20の支
持点が同一Z軸上に配置されているので、試料台20上
に発生するZ方向の力は、圧縮のみでモーメントを発生
しないため、試料台20の変形を非常に小さくすること
ができる。
【0037】以上説明したように、本実施形態による
と、フォーカス、レベリング動作により、試料台20に
発生する反力(試料台20を変形させるモーメント)を
小さくすることができ、これによりウエハW−移動鏡2
6間の変位を小さくすることができることから、結果的
に重ね合わせ精度の向上及びウエハW上のショット配列
座標の精度向上が期待される。
【0038】なお、上記実施形態では、弾性部材として
荷重又は強制変位の作用により、パンタグラフ状に変形
する3つのフレクシャー46を用いる場合について説明
したが、本発明がこれに限定されるものではなく、例え
ば、図6に示されるように、一方向(長手方向に直交す
る方向)に高剛性で、これに直交する他の2方向(長手
方向及び面に直交する方向)に低剛性な特性を有する3
つの長方形の板ばね50を用いて、試料台20とXステ
ージ18Xとの相対変位を拘束(両者を連結)してもよ
い。このような板ばね50を用いる場合は、同図に示さ
れるように、当該3つの板ばね50を試料台20の重心
を囲む円周3個所に配置し、しかも各板ばね50の高剛
性方向が試料台重心を中心とする円の半径方向に一致す
るように配置することが望ましい。なお、図示及び詳細
な説明は省略するが、この図6の場合には、上記実施形
態と同様の構成によりXステージ18X上には3つの試
料台支持アッセンブリが板ばね50に対応して配置され
ている。そして、これらの試料台支持アッセンブリ50
を構成する各駆動軸は、上記実施形態の装置と同様に、
試料台20と各板ばね50との固定点(図6の接続ねじ
52の位置)のほぼ真下を支持し、この支持点を独立し
てZ方向に駆動するようになっている。
【0039】このような構成を採用することにより、図
6のステージ装置の場合は、試料台20をXステージ1
8Xに対してX方向、Y方向及びZθ方向(Z軸回りの
回転方向)に強く、Z方向、Xθ方向(X軸回りの回転
方向)及びYθ方向(Y軸回りの回転方向)に弱い拘束
力を持たせることができるとともに、駆動軸の駆動によ
り試料台20に発生するZ方向の力は、圧縮のみでモー
メントを発生しないため、試料台20の変形を小さくす
ることができる。
【0040】なお、上記実施形態では本発明に係るステ
ージ装置を露光装置に適用する場合を例示したが、本発
明の適用範囲がこれに限定されるものではなく、本発明
は、例えばレーザリペア装置のようなレーザ加工装置、
その他XY2次元方向又は一次元方向に移動するステー
ジ上で、試料台をZチルト方向に駆動する必要がある装
置であれば、いかなる装置に適用しても好適なものであ
る。
【0041】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
試料台をZ軸方向(第1軸方向)及び傾斜方向に駆動す
る場合に試料台に歪みが生ずるのを効果的に抑制するこ
とができるという従来にない優れた効果がある。
【図面の簡単な説明】
【図1】一実施形態に係るステージ装置が適用された露
光装置の構成を概略的に示す図である。
【図2】図1の露光装置に適用されたステージ装置の外
観斜視図である。
【図3】図2のステージ装置の分解斜視図である。
【図4】図2のステージ装置に用いられるフレクシャー
を説明するための図であって、(A)は正面図、(B)
は平面図である。
【図5】フレクシャーの変形状態の一例を示す斜視図で
ある。
【図6】変形例の主要部を示す斜視図である。
【図7】従来のステージ装置の分解斜視図である。
【図8】発明が解決しようとする課題を説明するための
図であって、図7の装置の概略平面図である。
【符号の説明】
12 ステージ装置 18 Xステージ18X(ステージ) 20 試料台(テーブル) 36 駆動軸 38 駆動機構(駆動系) 46 フレクシャ(弾性部材、板ばね) 50 板ばね(弾性部材)

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 基準平面内を移動可能なステージと;
    前記ステージに対し少なくとも前記ステージ移動面に直
    交する第1軸方向に相対移動可能なテーブルと;前記ス
    テージとテーブルとの相対位置を拘束する3個の弾性部
    材と;前記テーブルと前記各弾性部材との固定点のほぼ
    直下で前記テーブルをそれぞれ支持するとともに前記テ
    ーブルの各支持点を前記第1軸方向に駆動する3つの駆
    動軸と;前記駆動軸を同時又は独立して駆動する駆動系
    とを有するステージ装置。
  2. 【請求項2】 基準平面内を移動可能なステージと;前
    記ステージに対し少なくとも前記ステージ移動面に直交
    する第1軸方向に相対移動可能なテーブルと;前記テー
    ブルを異なる3箇所でそれぞれ支持するとともに前記テ
    ーブルの各支持点を前記第1軸方向に駆動する3つの駆
    動軸と;前記テーブルを前記ステージに対して当該ステ
    ージの移動面内の方向では強く、その他の方向について
    は弱い拘束力を持たせるように、前記テーブルの重心を
    囲む円周3箇所に配置され、前記ステージとテーブルと
    の相対位置をそれぞれ拘束する3つの弾性部材と;前記
    駆動軸を同時又は独立して駆動する駆動系とを有するス
    テージ装置。
  3. 【請求項3】 前記各弾性部材は、1方向に高剛性かつ
    直交する他の2方向に低剛性な特性を持ち、前記テーブ
    ルの重心を中心とする半径方向が前記高剛性方向とそれ
    ぞれ一致する状態で配置された板ばねであることを特徴
    とする請求項1又は2に記載のステージ装置。
  4. 【請求項4】 前記各弾性部材は、前記テーブルに対し
    て第1軸方向に強制変位又は荷重が加わったときに、パ
    ンタグラフのように変形して前記第1軸方向の剛性を弱
    くすることが可能な板ばねであることを特徴とする請求
    項1ないし3のいずれか1項に記載のステージ装置。
JP8161170A 1996-04-11 1996-05-31 ステージ装置 Pending JPH09320954A (ja)

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KR1019970013307A KR970071148A (ko) 1996-04-11 1997-04-10 스테이지 장치 및 그것을 구비한 노광 장치

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN100339950C (zh) * 2002-10-18 2007-09-26 优志旺电机株式会社 平面载物台装置
JP2009065147A (ja) * 2007-08-20 2009-03-26 Soonhan Engineering Corp スライドの変形を吸収するためのひずみメカニズムモジュールを有する試料移動ステージ

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN100339950C (zh) * 2002-10-18 2007-09-26 优志旺电机株式会社 平面载物台装置
JP2009065147A (ja) * 2007-08-20 2009-03-26 Soonhan Engineering Corp スライドの変形を吸収するためのひずみメカニズムモジュールを有する試料移動ステージ

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