JP2009065147A - スライドの変形を吸収するためのひずみメカニズムモジュールを有する試料移動ステージ - Google Patents
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Abstract
【解決手段】ベースフレームに取り付けられ第1のガイドブロックに沿って移動する第1のスライド、および前記第1のスライドに取り付けられかつ第2のガイドブロックに沿って移動する第2のスライドが相互横断方向に取り付けられる可動部と、前記第2のスライドに形成されたひずみメカニズムモジュール50を仲介して取り付けられた試料テーブルによって試料を移動させる。前記ひずみメカニズム50は、上下方向に沿って一定間隔で上記第2のスライドの上面を規則的に貫通する多数の緩衝孔53と、前記緩衝孔53の中心に当たるように切断され、かつ上記試料テーブルが取り付けられるブリッジ部56および取付部52の変形空間を提供する多数の変形ライン54とからなり、スライドによる変形が試料テーブルに伝達されない。
【選択図】図10
Description
10 ベースフレーム
11 ガイドレール
31 ガイドレール
20 第1のスライド
30 第2のスライド
40 試料テーブル
41 試料
42 Xバーミラー
43 Yバーミラー
50 ひずみメカニズム
52 取付部
53 緩衝孔
54 変形ライン
63 干渉計
64 受信機
Claims (9)
- スライドの変形を吸収するためのひずみメカニズムモジュールを使用する試料移動ステージであって、
ベースフレーム(10)に取り付けられかつ第1のガイドブロック(21)に沿って移動する第1のスライド(20)と、該第1のスライド(20)に取り付けられかつ第2のガイドブロック(32)に沿って移動する第2のスライド(30)とが相互横断方向に取り付けられる可動部と、
前記第2のスライド(30)に共に形成されたひずみメカニズムモジュール(50)を仲介して取り付けられた試料テーブル(40)によって試料(41)を移動させ、また前記試料テーブル(40)に相互垂直方向に取り付けられたX、Yバーミラー(42、43)によって変位を計測する移動部と、
前記可動部の動作経路に取り付けられたレーザーヘッド(61)、ビーム分割器(62)および干渉計(63)によって拡散を行い、また前記X、Yバーミラー(42、43)により受信機(62)から反射された入力ビーム干渉信号を受信することによって出力を変位信号に変換する計測部と、を使用する試料移動ステージ。 - 前記ひずみメカニズム(50)が、上下方向に沿って一定間隔で前記第2のスライド(30)の上面を規則的に貫通する多数の緩衝孔(53)と、前記緩衝孔(53)の中心に当たるように切断され、かつ前記試料テーブル(40)が取り付けられるブリッジ部および取付部の変形空間を提供する多数の変形ライン(54)とを有し、
またスライドの変形を吸収するためのひずみメカニズムモジュールを使用するために前記形態のような形状を有する試料移動ステージである請求項1に記載のひずみメカニズム(50)。 - 前記ひずみメカニズム(50)が、スライドの変形を吸収するためのひずみメカニズムモジュールを使用するための試料移動ステージであり、前記ひずみメカニズムモジュールが、前記第2のスライド(30)の4つのコーナーに形成された形状を有する請求項1または2に記載のひずみメカニズム(50)。
- 前記ひずみメカニズム(50)が、スライドの変形を吸収するためのひずみメカニズムモジュールを使用するための試料移動ステージであり、前記ひずみメカニズムモジュールが、前記第2のスライド(30)の一方の側の両方のコーナーにまた他方の側の中央に形成された形状を有する請求項1または2に記載のひずみメカニズム(50)。
- 前記ひずみメカニズム(50)が、スライドの変形を吸収するためのひずみメカニズムモジュールを使用するための試料移動ステージであり、前記ひずみメカニズムモジュールが、前記第2のスライド(30)に5つ以上のものが対称的または非対称的に配置されている形状を有する請求項1または2に記載のひずみメカニズム(50)。
- 前記取付部(52)が、スライドの変形を吸収するためのひずみメカニズムモジュールを使用するための試料移動ステージであり、前記ひずみメカニズムモジュールが、前記試料テーブル(40)に接触する緩衝材(55)が上面に固定される形状を有する請求項2に記載の取付部(52)。
- スライドの変形を吸収するためのひずみメカニズムモジュールを使用するための請求項2に記載の試料移動ステージであって、前記ひずみメカニズムモジュールが、線形状、半円形状または楕円形状あるいはそれらの任意の組み合わせによって前記取付部(52)およびブリッジ部(56)の接触領域が形成されている形状を有する試料移動ステージ。
- 前記ひずみメカニズム(50)が、スライドの変形を吸収するためのひずみメカニズムモジュールを使用するための試料移動ステージであり、前記ひずみメカニズムモジュールが、前記第2のスライド(30)に加工されているかまたは前記第2のスライド(30)に接続されている形状を有する請求項1または2に記載のひずみメカニズム(50)。
- 前記ひずみメカニズム(50)が、スライドの変形を吸収するためのひずみメカニズムモジュールを使用するための試料移動ステージであり、前記ひずみメカニズムモジュールが、次式(1)または(3)のように前記緩衝孔(53)と前記変形ライン(54)とを調整することによって、前記取付部(52)およびブリッジ部(56)を構成する形状を有し、
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2020173317A (ja) * | 2019-04-09 | 2020-10-22 | 株式会社ニューフレアテクノロジー | ステージ装置 |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2009126903A1 (en) * | 2008-04-11 | 2009-10-15 | Mds Analytical Technologies (Us) Inc. | Improving uniformity in slide scanning |
WO2013036116A1 (en) | 2011-09-09 | 2013-03-14 | Mapper Lithography Ip B.V. | Support structure for wafer table |
JP6274246B2 (ja) * | 2016-04-08 | 2018-02-07 | 株式会社デンソー | 監視装置 |
CN106002312B (zh) * | 2016-06-29 | 2018-01-23 | 广东工业大学 | 一种单驱动刚柔耦合精密运动平台及其实现方法及应用 |
CN112964191B (zh) * | 2021-03-25 | 2022-11-04 | 四川合众精准科技有限公司 | 一种微变形激光准直测量方法 |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH04121605A (ja) * | 1990-09-13 | 1992-04-22 | Canon Inc | レーザ干渉計ミラーの取付け方法及び該方法を用いたステージ装置 |
JPH05259024A (ja) * | 1992-03-12 | 1993-10-08 | Hitachi Ltd | 位置決め装置 |
JPH09320954A (ja) * | 1996-05-31 | 1997-12-12 | Nikon Corp | ステージ装置 |
JP2001274223A (ja) * | 2000-03-23 | 2001-10-05 | Hitachi Ltd | 移動テーブル装置 |
JP2002022868A (ja) * | 2000-07-07 | 2002-01-23 | Sumitomo Heavy Ind Ltd | X−yステージの可動テーブルの支持構造 |
JP2005019378A (ja) * | 2003-02-21 | 2005-01-20 | Korea Advanced Inst Of Sci Technol | 3軸直線運動ステージ及びこれを用いた試片検査装置 |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6335989U (ja) | 1986-08-25 | 1988-03-08 | ||
JP3678533B2 (ja) * | 1997-04-10 | 2005-08-03 | 富士通株式会社 | 荷電粒子ビーム露光装置 |
JPH11154698A (ja) | 1997-11-21 | 1999-06-08 | Nikon Corp | テーブル支持装置 |
JPH11295031A (ja) * | 1998-04-08 | 1999-10-29 | Canon Inc | 位置決めステージ装置とその位置計測方法および位置決めステージ装置を備えた露光装置ならびにデバイス製造方法 |
JP3413122B2 (ja) * | 1998-05-21 | 2003-06-03 | キヤノン株式会社 | 位置決め装置及びこれを用いた露光装置並びにデバイス製造方法 |
TWI266151B (en) * | 2002-07-11 | 2006-11-11 | Asml Netherlands Bv | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
US7384228B2 (en) * | 2004-05-24 | 2008-06-10 | Asml Netherlands B.V. | Insertion device, lithographic apparatus with said insertion device and device manufacturing method |
US20080111977A1 (en) * | 2006-11-14 | 2008-05-15 | Asml Holding N.V. | Compensation techniques for fluid and magnetic bearings |
-
2008
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Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH04121605A (ja) * | 1990-09-13 | 1992-04-22 | Canon Inc | レーザ干渉計ミラーの取付け方法及び該方法を用いたステージ装置 |
JPH05259024A (ja) * | 1992-03-12 | 1993-10-08 | Hitachi Ltd | 位置決め装置 |
JPH09320954A (ja) * | 1996-05-31 | 1997-12-12 | Nikon Corp | ステージ装置 |
JP2001274223A (ja) * | 2000-03-23 | 2001-10-05 | Hitachi Ltd | 移動テーブル装置 |
JP2002022868A (ja) * | 2000-07-07 | 2002-01-23 | Sumitomo Heavy Ind Ltd | X−yステージの可動テーブルの支持構造 |
JP2005019378A (ja) * | 2003-02-21 | 2005-01-20 | Korea Advanced Inst Of Sci Technol | 3軸直線運動ステージ及びこれを用いた試片検査装置 |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2020173317A (ja) * | 2019-04-09 | 2020-10-22 | 株式会社ニューフレアテクノロジー | ステージ装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
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