KR920703871A - 마이크로파-발생 기체-지지 플라즈마 상태에서의 기판 처리장치 - Google Patents

Abstract

내용 없음

Description

마이크로파-발생 기체-지지 플라즈마 상태에서의 기판 처리장치

[도면의 간단한 설명]

본 발명의 상세한 설명 및 특징은 도면에 도시되어 있는 본 원의 전형적인 실시예, 도면 및 설명을 통해 명확히 된다.

제1도는 헤드램프 반사기를 처리하기 위해 개략적으로 도시된 장치의 단면도이고, 제2도는 제1도에 따른 장치의 횡단면도이다.

본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음

Claims (11)

1. 바람직하게 드럼 형태로 구성된 진공 벨자를 구비하고, 처리될 기판을 수용하기 위한 기체 인입구를 가지며, 그 진공 벨자가 그 벨자 외측에 배치된 발생기에 의해 발생된 마이크로파 에너지에 대해 수정 글라스 혹은, 그와 같은 것에 의해 밀봉된 통로 윈도우를 가지고, 기판을 처리하는데, 특히, 마이크로파-발생 기체-지지 프라즈마 상태에서의 광학 반사기의 표면에 보호 코팅하기 위한 장치에 있어서, 마이크로파 에너지는 윈도우(7)에 인접한 마이크로파 에리얼(12)에 의해 벨자의 내부로 주입되는 것을 특징으로 하는 기판 처리장치.
2. 제1항에 있어서, 마이크로파 에리얼(12)은 진공벨자(1,2)의 세로축의 방향으로 확장된 도파관을 구비하는 것을 특징으로 하는 기판 처리장치.
3. 제1항 또는 제2항에 있어서, 마이크로파 에리얼(12)의 한 단부는 진공 벨자(1,2)의 내측에 부착되어 있는 것을 특징으로 하는 기판 처리창치.
4. 선행항 중 어느 한 항에 있어서, 마이크로파 에리얼(12)은 그 내측으로 부터 진공벨자(1,2)내에 형성된 윈도우(7)를 구비하는 도파관 단부(13)를 갖는 것을 특징으로 하는 기판 처리장치.
5. 선행항 중 어느 한 항에 있어서, 로컬 전자 사이크로트론 공진을 발생하기 위해, 진공벨자(1,2)의 내부에 배치된 바-형태의 자석 뱅크(15)를 가지며, 그 자석 뱅크는 마이크로파 에리얼(12)에 병렬로 확장하는 것을 특징으로 하는 기콴 처리장치.
6. 제5항에 있어서, 자석 뱅크(15)는, 여러 자석의 개별 로우가 서로 균등 거리에 각각 배치되고, 그 자석들의 상기 각각의 로우의 폴 단부가 자석의 각각 인접한 개별 로우의 폴 단부로부터 극성에 의해 상이하게되는, 두개의 병렬, 상호 반대 평면을 갖는 자성적 소프트 재료로 구성된 바-형태 지지체를 갖는 영구 자석 시스템을 구비하는 것을 특징으로 하는 기판 처리장치.
7. 선행항 중 어느 한 항에 있어서, 마이크로파 에너지의 경로가 벨자(1,2)의 내부에 형성되도록 할 수 있는 윈도우(7)는 벨자의 단부벽(3)에 형성된 것을 특징으로 하는 기판 처리장치.
8. 제7항에 있어서, 윈도우는 단부벽(3)의 중앙 영역에 배치된 것을 특징으로 하는 기판 처리장치.
9. 제7항, 또는 제8항에 있어서, 윈도우(7)는 단부벽(3)의 개구(10)를 봉입하는 분리가능한 뚜껑(9)에 형성된 것을 특징으로 하는 기판 처리장치.
10. 선행항 중 어느 한 항에 있어서, 코팅된 기판의 1차 금속 증기 코팅에 대한 최소한 하나의 진기적 가열된 증발기 와이어(14)는 진공 벨자(1,2)에 배치되고, 상기 증발기 와이어(14)의 전류 공급 리드(14a)는 윈도우(7)를 포함하는 벨자의 단부벽을 통해 통과하게 되는 것을 특징으로 하는 기판 처리장치.
11. 제10항에 있어서, 전류 공급 리드(14a)에 대한 공급 처리 홀은 윈도우(7)를 갖는 뚜껑(9)내측에 제공된 것을 특징으로 하는 기판 처리장치.

    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.