KR930008976A - 고자기장 플라즈마 리액터 - Google Patents

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Abstract

진공 공정처리 챔버상에 장착된 원격 플라즈마 소스를 포함하는 플라즈마 에칭 리액터는 하나의 큰 영구 자석링과 그 이상의 자석링 쌍을 가지며, 상기의 큰 영구 자석링은 플라즈마가 유입되는 챔버의 영역 둘레에서 자기장선이 상기 플라즈마로 부터 공정처리 챔버내에서 제거되도록 하는 자기 방향으로 형성되며 상기의 2이상의 자석링 쌍은 상기 챔버둘레에 장착되어, 그 챔버 벽에 관하여 일련의 자기 커스프를 형성하게 되며, 그에 의하여 플라즈마 전자가 상기 챔버의 벽에 때리는 것을 저지하게 된다. 기판 유입구는 자석링들 사이엘 설치되어, 상기 기판을 최대 효율로 자동 출입 가능하게 한다.

Description

고자기장 플라즈마 리액터
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제3도는 챔버의 외벽에 부착된 자기링에 의해 둘서싸여져 있고, 처리기판의 출입구를 묘사하고 있는 플라즈마 에칭 챔버의 절단도이고,
제4도는 본 발명에 따른 챔버내의 여러가지 소자 및 자기장 선의 형상의 간격을 도시한 플라즈마 챔버의 수직 단면도이다.

Claims (14)

  1. 기판 에칭용 진공챔버를 포함하는 플라즈마 리액터에 있어서, 상기 챔버의 내벽에 근접한 기판 공정처리 영역 둘레에서 링 멀티커스프 자기장을 발생시키기 위한 자석 수단을 포함함을 특징으로 하는 고자기장플라즈마 리액터.
  2. 제1항에 있어서, 상기 자석수단은 링 자석의 멀티커스프 배열임을 특징으로 하는 고자기장 플라즈마 리액터.
  3. 제2항에 있어서, 상기 자석수단은, 기판의 평면에 평행하고 서로 평행한 방향에서 상기챔버의 외벽에 고정된 교번 자석링 쌍, 서로 반대 방향으로 자기 분극된 교번 자석링을 포함함을 특징으로 하는 고자기장 플라즈마 리액터.
  4. 제1항에 있어서, 영구 자석링은 에칭 플라즈마 소스에 근접하여 상기 챔버의 상부에 고정되어 상기플라즈마로 부터 자기장 선을 제거하게 되고, 상기 영구 자석링을 자기화 방향은 상기 챔버의 중심축과 같은 축임을 특징으로 하는 고자기장 플라즈마 리액터.
  5. 제3항에 있어서, 영구 자석링은 에칭 플라즈마 소스에 근접하여 상기 챔버의 상부에 고정되어 상기플라즈마로 부터 자기장 선을 제거하게 되고, 상기 영구 자석링의 자기화 방향은 상기 챔버의 중심축과 같은 축임을 특징으로 하는 고자기장 플라즈마 리액터.
  6. 제1항에 있어서, 슬롯형 기판 유입구는 상기 자석수단 사이에서 상기 챔버에 설치됨을 특징으로 하는 고자기장 플라즈마 리액터.
  7. 제3항에 있어서, 슬롯형 기판 유입구는 상기 자석수단 사이에서 상기 챔버에 설치됨을 특징으로 하는 고자기장 플라즈마 리액터.
  8. 제5항에 있어서, 슬롯형 기판 유입구는 상기 자석수단 사이에서 상기 챔버에 설치됨을 특징으로 하는 고자기장 플라즈마 리액터.
  9. 제1항에 있어서, 약 20 Gauss 이하의 최대 장 세기가 기판 공정처리 영역에 존재함을 특징으로 하는 고자기장 플라즈마 리액터.
  10. 진공챔버 상에 장착된 플라즈마 소스를 포함하는 플라즈마 리액터에 있어서, 상기 진공챔버는 상기 챔버 내벽에 근접하여 기판 공정처리 영역 둘레에 링 멀티커스프 자기장을 발생시키기 위한 자석수단을 고정시키고 있음을 특징으로 하는 고자기장 플라즈마 리액터.
  11. 제10항에 있어서, 상기 플라즈마 소스는 상기 플라즈마 내에 자기장을 생산하는 ECR소스임을 특징으로 하는 고자기장 플라즈마 리액터.
  12. 가스 소스와 배기 시스템과 처리기판용 캐소드 마운트를 포함하며, 챔버에 대한 플라즈마 유입구를 둘러싸고 있으며 상기 챔버의 중심축과 같은 축의 자기방향 축을 가지며 상기플라즈마로 부터 자기장 선을 제거하는 역할을 하는 영구 자석링을 포함하는, 진공 공정처리 챔버에 장착된 플라즈마 소스와; 기판 공정처리 영역을 둘러싸며 상기 챔버에 고정된 최소한 두쌍의 링자석, 여기서 각 쌍은 반대를 분극되어 플라즈마 전자가 상기 챔버의 벽을 때리는 것을 저지하는 역할을 하는 일련의 자기 커스프를 형성하는 그러한 최소한 두쌍의 링 자석을 포함함을 특징으로 하는 고자기장 플라즈마 리액터.
  13. 제12항에 있어서, 상기의 링 자석 쌍들은 서로 평행하며 처리기판 평면에 평행함을 특징으로 하는 고자기장 플라즈마 리액터.
  14. 제12항에 있어서, 상기 기판 공정처리 영역은 약 20 Gauss의 최대 장 세기를 가짐을 특징으로 하는 고자기장 플라즈마 리액터.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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