KR920015452A - 박막제작방법 및 박막제작장치 - Google Patents

박막제작방법 및 박막제작장치 Download PDF

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Abstract

내용 없음

Description

박막제작방법 및 박막제작장치
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제 1 도는 본원 발명의 일실시예를 도시한 스패터링장치에 있어서의 웨이퍼표면세정을 위한 에칭공정용 진공용기의 구성도. 제 2 도는 멀티챔버형식의 스패터링장치의 개략적 평면도.

Claims (13)

  1. 최소한 2개의 진공용기(3, 5)를 가지는 박막제작장치로 실시되는 박막제작방법이며, 상기 진공용기(3, 5)의 어느것으로진공환경에서 웨이퍼(11)에 박막을 제작하는 박막제작방법에 있어서, 상기 박막제작처리전에 상기 웨이퍼(11)의 표면세정을 위해 사용되는 상기 진공용기(5)의 하나에 상기 웨이퍼(11)를 반송하고, 상기 웨이퍼표면세정용 진공용기(5)에서 상기웨이퍼(11)를 그 처리되는 표면이 햐향하도록 배치하고, 상기 웨이퍼표면세정용 진공용기(5)로 에칭용 가스를 도입하고,또한 플라즈마를 발생시켜서 상기 웨이퍼(11)의 상기 피처리표면을 클리닝하는 클리닝스텝으로서, 소정의 매수의 상기 웨이퍼에 관하여 반복실행되는 클리닝스텝과, 상기 소정의 매수의 상기 웨이퍼에 대한 상기 클리닝스텝을 실행한 후에, 상기 웨이퍼표면세정용 진공용기(5)에 파티클체크용의 모의웨이퍼를 반송하여, 상기 모의웨이퍼에 부착한 파티클을 검출하는 파티클검출스텝과, 검출된 상기 파티클이 소정기준이상인지 여부를 판정하는 파티클발생판정스템과, 검출된 상기 파티클이 상기 소정기준이상일 때, 상기 웨이퍼표면세정용 진공용기(5)에 반응성 가스를 도입하여 플라즈마를 발생하고, 이웨이퍼표면세정용 진공용기(5)에서 발생한 퇴적막 및 파티클을 상기 플라즈마로 기화시키는 기화스텝과, 기화된 상기 퇴적막 및 파티클을 상기 웨이퍼표면세정용 진공용기(5)의 밖으로 배기하는 배기스텝과, 를 포함하는 것을 특징으로 하는박막제작방법.
  2. 제 1 항에 있어서, 상기 배기스텝에서는 상기 웨이퍼표면세정용 진공용기(5)의 내벽 및 이 내벽의 근방에 배치된 실드판(16)을 가열하고, 상기 웨이퍼표면세정용 진공용기(5)내의 압력이 소정의 압력이 될 때까지 상기 배기를 행하는 것을 특징으로 하는 박막제작방법.
  3. 제 1 항에 있어서, 상기 클리닝스텝과, 상기 파티클검출스텝과, 상기 파티클발생량판정스템과, 상기 기화스텝과, 상기 배기스텝으로 이루어지는 일련의 공정을 반복하여 실행하는 것을 특징으로 하는 박막제작방법.
  4. 제 1 항에 있어서, 상기 웨이퍼표면세정용 진공용기(5)에 상기 웨이퍼(11)를 반입할 때 또는 상기 웨이퍼표면세정용 진공용기(5)로부터 상기 웨이퍼(11)를 반출할 때, 상기 웨이퍼(11)의 상기 처리표면이 하향상태인 것을 특징으로 하는 박막제작방법.
  5. 제 1 항에 있어서, 상기 클리닝스텝과 상기 기화스텝에서 생성되는 상기 플라즈마는 마그네트론방전에 의해 만들어지는것을 특징으로 하는 박막제작방법.
  6. 제 1 항에 있어서, 상기 반응성 가스는 CF4가스인 것을 특징으로 하는 박막제작방법.
  7. 제 1 항에 있어서, 상기 웨이퍼의 상기 소정수는 50매인 것을 특징으로 하는 박막제작방법.
  8. 제 1 항에 있어서, 상기 파티클발생량판정에 있어서의 상기 소정기준은 6인치의 상기 모의웨이퍼의 위에서 ø0.28㎛ 이상의 파티클이 30개 이상 존재하는 것임을 특징으로 하는 박막제작방법.
  9. 제 1 항에 있어서, 상기 에칭용 가스는 아르곤가스인 것을 특징으로 하는 박막제작방법.
  10. 제 2 항에 있어서, 상기 가열된 내벽 및 이 내벽의 근방에 배치된 실드판(16)을 약 100℃의 온도로 설정하는 것을 특징으로 하는 박막제작방법.
  11. 제 2 항에 있어서, 상기 소정의 압력은 10-6~10-7Torr 정도인 것을 특징으로 하는 박막제작방법.
  12. 최소한 2개의 진공용기(3, 5)를 구비한 박막제작장치이며, 상기 진공용기(3, 5)의 하나는 박막제작처리를 행하는 전처리로서 에칭처리가 행해지는 웨이퍼표면세정용 진공용기(5)에 있어서, 상기 웨이퍼표면세정용 진공용기(5)를 진공배기하기위한 배기수단(6, 7)과, 에칭용 가스를 도입하기 위한 가스도입수단(8)과, 퇴적막 및 파티클(15)을 기화시키기 위한 반응성 가스를 도입하기 위한 가스도입수단(9)과, 상기 진공용기(5)내의 상측위치에 배치된 기판지지수단(10)과, 상기 진공용기(5)내의 하측위치에 배치된 방전발생수단(12, 13)과, 상기 진공용기(5)의 내벽부에 따라서 배치된 실드판(16)과, 상기진공용기(5)의 내벽부와 상기 실드판(16)을 가열하기 위한 가열수단(17)과, 를 구비하는 것을 특징으로 하는 박막제작장치.
  13. 제 12 항에 있어서, 상기 배기수단은 터보분자펌프(6)와 오일회전펌프(7)로 구성되는 것을 특징으로 하는 박막제작장치.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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