KR920000007A - 네가티브-작용성 방사선-감지 혼합물 및 이로부터 제조된 방사선-감지 기록 물질 - Google Patents
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Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
Claims (21)
- a) 방사선 조사하에 산을 형성하는 하기 일반식(Ⅰ)의 화합물, b) 산에 의해 가교결합될 수 있는 반응성 그룹을 2개 이상 함유하는 화합물, 및 c) 알칼리 수용액중에 용해도거나 적어도 팽윤될 수 있는 수-불용성 결합제를 필수적으로 포함하는 네가티브-작용성 방사선-감지 혼합물.상기식에서, R1은 라디칼 R2-SO2-또는 R3-C(0)-이며, R2및R3는 각각 독립적으로 임의 치환된 알킬, 사이클로알킬, 아릴 또는 헤테로아릴 라디칼이다.
- 제1항에 있어서, 일반식(Ⅰ)의 화합물의 리디칼 R2및R3가 임의 치호나된 알킬 또는 사이클로알킬 리디칼, 임의 치환된 아릴 라디칼 또는 헤테로아릴 라디칼인 네가티브-작용성 방사선-감지 혼합물.
- 제1항 또는 제2항에 있어서, 일반식(Ⅰ)의 화합물의 라디칼 R2및R3중 하나 이상의 임의 치환된 탄소수 1내지 6의 알킬 아디칼 또는 임의 치혼된 아릴 라디칼인 네가티브-작용성 방사선-감지 혼합물.
- 제1항 내지 제3항 중 어느 한항에 있어서, 일반식(Ⅰ)의 화합물의 라디칼 R2및R3중 하나 이상의 치환된 아릴 라디칼인 네가티브-작용성 방사선-감지 혼합물.
- 제1항 내지 제4항 중 어느 한항에 있어서, 방향족 라디칼 R2및R3의 치환체가 알킬, 알콕시, 알콜시알킬 및 시아노라디칼 및 하로겐원자로 이루어진 그룹 중에서 선택되는 네가티브-작용성 방사선-감지 혼합물.
- 제1항 내지 제5항 중 어느 한항에 있어서, 일반식(Ⅰ)의 산-형성 화합물의 농도가 0.5 내지 25중량%인 네가티브-작용성 방사선-감지 혼합물.
- 제1항 내지 제6항중 어느 한항에 있어서, 결합제가 입사 방사선(inciden radiation)의 파장 범위중 0.5㎛-1미만의 소광을 갖는 네가티브-작용성 방사선-감지 혼합물.
- 제1항 내지 제7항중 어느 한항에 있어서, 결합제를, 노볼락 축합 수지를 기준으로 하여, 30중량% 이하, 특히 20중량% 이하로 함유하는 네가트브-작용성 방사선-감지 혼합물.
- 제7항 또는 제8항에 있어서, 결합체가 페놀계 하이드록실 그룹을 함유하는 네가티브-작용성 방사선-감지 혼합물.
- 제7항 내지 제9항 중 어느 한항에 있어서, 결합제가 방사선-감지 혼합물중에 60 내지 96중량%, 특히 70 내지 94중량%의 농도로 함유되는 네가티브-작용성 방사선-감지 혼합물.
- 제7항 내지 제10항 중 어느 한항에 있어서, 결합제가 240nm 이상에서 0.3㎛-1 미만의 소광을 갖는 네가티브-작용성 방사선-감지 혼합물.
- 제1항 내지 제11항 중 어느 한항에 있어서, 가교결합 가능한 화합물이 레졸인 네가티브-작용성 방사선-감지 혼합물.
- 제1항 내지 제12항 중 어느 한항에 있어서, 가교결합 가능한 화합물이 알콕시메틸-또는 글리시딜-치환된 방향족 화합물인 네가티브-작용성 방사선-감지 혼합물.
- 제1항 내지 제13항중 어느 한항에 있어서, 가교결합 가능한 화합물이 멜라민/포름알데히드 또는 우레아/포름알데히드 축합물인 네가티브-작용성 방사선-감지 혼합물.
- 제1항에 있어서, 일반식(Ⅰ)의 화합물이 248nm에서 모든 내식막 성분의 가장 높은 물 흡수력을 갖는 네가티브-작용성 방사선-감지 혼합물.
- 방사선에 의해 결화될 수 있는 제1항 내지 제15항중 어느 한항에 따른 혼합물로 이루어진 방사선-감지층 및 담체를 필수적으로 포함하는 네가티브-작용성 방사선-감지 혼합물.
- 제1항 내지 제16항 중 어느 한항에 따른 네가티브-자용성 방사선-감지 혼합물을 기질에 적용시키고 용매를 증발 제거시킴을 특징으로 하여, 방사선-감지 기록물질을 제조하는 방법.
- 제17항에 있어서, 기록물질을 상-노출시키고 가열한 다음 현상시키며, 현상되지 않은 물질 부분을 분리 또는 제거 시키는 방법.
- 제17항 또는 제18항에 있어서, 방사선으로서 파장이 190 내지 450nm인 UV선을 사용하는 방법.
- 제17항 또는 제19항 중 어느 한항에 있어서, 방사선으로서 파장이 200내지 400nm인 UV선을 사용하는 방법.
- 제17항 내지 제20항 중 어느 한항에 있어서, 현상된 층을 후-경화시키는 방법.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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