KR900018739A - 수소 공여 메르캅탄을 함유하는 고감도 광중합성 조성물 - Google Patents

수소 공여 메르캅탄을 함유하는 고감도 광중합성 조성물 Download PDF

Info

Publication number
KR900018739A
KR900018739A KR1019900007743A KR900007743A KR900018739A KR 900018739 A KR900018739 A KR 900018739A KR 1019900007743 A KR1019900007743 A KR 1019900007743A KR 900007743 A KR900007743 A KR 900007743A KR 900018739 A KR900018739 A KR 900018739A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
group
carbon atoms
photopolymerizable composition
alkyl
compound
Prior art date
Application number
KR1019900007743A
Other languages
English (en)
Other versions
KR950004967B1 (ko
Inventor
자키 알리 모하마드
Original Assignee
도날드 밀러 셀
미네소타 마이닝 앤드 매뉴팩츄어링 컴패니
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 도날드 밀러 셀, 미네소타 마이닝 앤드 매뉴팩츄어링 컴패니 filed Critical 도날드 밀러 셀
Publication of KR900018739A publication Critical patent/KR900018739A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR950004967B1 publication Critical patent/KR950004967B1/ko

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/028Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
    • G03F7/029Inorganic compounds; Onium compounds; Organic compounds having hetero atoms other than oxygen, nitrogen or sulfur
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F2/00Processes of polymerisation
    • C08F2/46Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation
    • C08F2/48Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light
    • C08F2/50Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light with sensitising agents
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/028Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
    • G03F7/029Inorganic compounds; Onium compounds; Organic compounds having hetero atoms other than oxygen, nitrogen or sulfur
    • G03F7/0295Photolytic halogen compounds
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/028Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
    • G03F7/031Organic compounds not covered by group G03F7/029

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Polymerisation Methods In General (AREA)

Abstract

내용 없음

Description

수소 공여 메르캅탄을 함유하는 고감도 광중합성 조성물
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음

Claims (8)

  1. a)적어도 하나의 에틸렌적 불포하기를 가지는 적어도 하나의 자유 라디칼적 중합성 단량체, b) 카르복실기가 치환되어 있는 에틸렌적 불포화의 자유라디칼적중합성 올리고머 c)디아릴 요오드늄염 및 할로겐환 트리아진과 전자공연 화합물의 조합물로 구성되는 기로부터 선택된 자유 라디칼 중합용 감광성 개시제 시스템 d) 산화 준위가 0.5eV 내지 2.0eV인 분광 증감제 및 e) 메르캅토티아디아졸 및 메르캅토-벤즈아졸로부터 선택된 적어도 하나의 수소 공여 메르캅토를 포함한 고감도 광중합성 조성물.
  2. 제1항에 있어서, 상기 디아일 요오드늄염이 하기 일반식을 가지는 광중합성.
    상기식에서, Ar1과 Ar2는 4내지 20개 탄소원자를 가지는 방향족기로서 페닐, 나프틸, 티에닐, 푸라닐 및 피라졸릴 기로부터 선택되는 것이 바람직하고, W는 단일결합,, 및 =CR2R3(여기서 R1는 6내지 20개 탄소원자의 아릴 2내지 20개 탄소원자의 아실이고 R2와 R3는 수소, 1 내지 4개 탄소원자의 알킬이다)이고, Q는 음이온이다.
  3. 제1항에 있어서, 상기 할로겐화 트리아진이 하기 일반식을 가지며, 상기 전자공여 화합물은 상기 분광 증감제와는 상이하고 a) 질소, 산소, 인 및 황으로부터 선택되는 공여 원자가 하전기에 위치하는 화합물 및 b) 상기 공여 원자가 중성기에 위치하고, 이공 여원자의 알파 위치에 존재하는 탄소나 실리콘원자에 결합된 추출성 수소원자가 존재하는 화합물로부터 선택되고, 그 산화준위가 0(영)<Eox(공여체)<Eox(p-디메톡시벤젠)의 상태로 선택되는 광중합성 조성물.
  4. 제1항에 있어서, 상기 증감게자 가시 광선에 수성을 나타내는 것을 특징으로 하는 광중합성 조성물.
  5. 제1항에 있어서, 상기 수소공여 메르캅토 화합물이 하기 일반식을 가지는 것으로부터 선택되는 광중합성 화합물.
    상기식에서, R6는 -SH, 알킬기, 아르알킬기, 알킬티오에테르기, 또는 아르알킬-티오에테르기이고 R7은 알킬, 알콕시, 히드록시 또는 할로겐이고 및 M은 산소, 황 또는 =NR8(여기서 R8은 H 또는 저급알킬이다)이다.
  6. a) 적어도 하나의 에틸렌적 불포화기를 가지는 적어도 하나의 자유라디칼적 중합성 단량체, b) 카르복실기가 치환되어 있는 에틸렌적 불포화의 자유라디칼적 중합성 올리고머, c)할로겐화 트리아진을 함유하는 자유라디칼 중합용 감광 개시제 시스템. d) 산화준위가 0.5eV 내지 2.0eV인 분광 증감제 및 e)메르캅토벤즈아졸을 함유하는 적어도 하나의 수소 공여 메르캅토 화합물을 포함하는 고감도 광중합성 조성물.
  7. 제6항에 있어서, 상기 할로겐화 트리아진이 하기 일반식을 가지는 광중합성 조성물.
    상기식에서, X는 염소 또는 취소이고, Y는 -CX3, -NH2, -NHR4, -NP4 2또는 -OR4(여기서 R4는 1 내지 4개 탄소원자의 알킬기 또는 6 내지 10개 탄소원자의 아릴기이다)이고 및 R5는 -CX3, 1 내지 12개 탄소원자의 알킬기, 6내지 12개 탄소원자의 아릴기, 2내지 12개 탄소원자의 알케닐기, 또는 8내지 20개 탄소원자의 아르알케닐기이다.
  8. 제6항에 있어서, 상기 메르캅토벤즈아졸이 하기 일반식을 가지는 광중합성 조성물.
    상기식에서 , R7은 알킬, 알콕시, 히드록시 또는 할로겐이고 M은 산소, 황 또는 =NR8(여기서 R8은 H 또는 저급알킬이다)이다.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019900007743A 1989-05-30 1990-05-29 수소 공여 메르캅탄을 함유하는 고감도 광중합성 조성물 KR950004967B1 (ko)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US35790989A 1989-05-30 1989-05-30
US357,909 1994-12-16

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR900018739A true KR900018739A (ko) 1990-12-22
KR950004967B1 KR950004967B1 (ko) 1995-05-16

Family

ID=23407529

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1019900007743A KR950004967B1 (ko) 1989-05-30 1990-05-29 수소 공여 메르캅탄을 함유하는 고감도 광중합성 조성물

Country Status (4)

Country Link
EP (1) EP0403100A3 (ko)
JP (1) JPH0324102A (ko)
KR (1) KR950004967B1 (ko)
CA (1) CA2015894A1 (ko)

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5576146A (en) * 1995-01-17 1996-11-19 Imation Corp. Photosensitive polymer-containing systems with increased shelf-lives
AU2001288086A1 (en) 2000-09-22 2002-04-02 Nok Corporation Vulcanizable adhesive composition
JP4315892B2 (ja) 2004-11-25 2009-08-19 東京応化工業株式会社 感光性樹脂組成物、およびこれを用いた感光性ドライフィルム
JP2007086165A (ja) * 2005-09-20 2007-04-05 Fujifilm Corp 感光性組成物、これを用いた平版印刷版原版及び画像記録方法

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
AU497960B2 (en) * 1974-04-11 1979-01-25 Minnesota Mining And Manufacturing Company Photopolymerizable compositions
JPS5941444B2 (ja) * 1977-07-27 1984-10-06 帝人株式会社 光重合性組成物
JPS5815503A (ja) * 1981-07-20 1983-01-28 Fuji Photo Film Co Ltd 光重合性組成物
GB2180358B (en) * 1985-07-16 1989-10-04 Mead Corp Photosensitive microcapsules and their use on imaging sheets
AU590671B2 (en) * 1986-02-28 1989-11-09 Minnesota Mining And Manufacturing Company One-part visible light-curable dentin and enamel adhesive
US4743528A (en) * 1986-11-21 1988-05-10 Eastman Kodak Company Enhanced imaging composition containing an azinium activator
CA1323949C (en) * 1987-04-02 1993-11-02 Michael C. Palazzotto Ternary photoinitiator system for addition polymerization

Also Published As

Publication number Publication date
CA2015894A1 (en) 1990-11-30
KR950004967B1 (ko) 1995-05-16
EP0403100A2 (en) 1990-12-19
EP0403100A3 (en) 1991-11-13
JPH0324102A (ja) 1991-02-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR920021506A (ko) 19-노르 비타민 d 화합물 합성용 중간체
KR910004641A (ko) 모노-및 디-아실포스핀 옥사이드
KR850003453A (ko) 4,6-비스-트리클로로메틸-s-트리안진의 제조방법 및 이를 함유하는 감광성 혼합물
KR930006498A (ko) 감방사선성 조성물
KR900014930A (ko) 염료 보레이트 광개시제 및 이를 함유하는 광경화성 조성물
KR960018764A (ko) 감광성 수지 조성물
KR960013348A (ko) 치과용 살균성 접착제 조성물
EP0377321A3 (en) Photopolymerizable composition
BR0006227A (pt) Sais de iodÈnio como doadores ácidos latentes
BR8801410A (pt) Composicao fotoendurecivel
KR860008477A (ko) 경화성 조성물
KR900005227A (ko) 가시광 감광성 전착 도료용 조성물 및 그것을 사용한 화상 형성 방법.
KR940014470A (ko) 포지티브 포토레지스트로서 유용한 중합체 및 이를 포함하는 조성물
KR890005570A (ko) 포지티브 방사선-감응성 혼합물, 및 이로부터 제조된 방사선-감응성 기록물질
KR940002222A (ko) 양이온 중합성 물질의 열경화용 개시제로서 적절한 선택된 술포늄 화합물
KR930002878A (ko) 감광성 조성물
KR920015158A (ko) 네거티브 포토레지스트 조성물
KR900018739A (ko) 수소 공여 메르캅탄을 함유하는 고감도 광중합성 조성물
KR880011623A (ko) 감광 조성물
KR960042219A (ko) Si 함유 고분자 화합물 및 감광성 수지 조성물
MX150944A (es) Mejoras a composicion polimerica fotopolimerizable para revestimientos
KR910020489A (ko) 감광성 수지조성물
KR920005847A (ko) 수중 오염방지 조성물
KR940009754A (ko) 화학적으로 강화된 네가티브 포토레지스트
KR920702890A (ko) 포지티브 레지스트 조성물

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
G160 Decision to publish patent application
E701 Decision to grant or registration of patent right
NORF Unpaid initial registration fee