KR900011814A - 감광성 내열성 중합체의 제조방법 - Google Patents
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Abstract
내용 없음
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
Claims (8)
- 일반식(Ⅰ)로 포현되는 감광성 그룹 함유 이소이미드를 용매의 존재하 0내지 100℃에서 일반식(Ⅱ)로 표현되는 디아민과 반응시키는 단계를 특징으로 하여, 일반식(Ⅲ)으로 표현되는 반복 단위를 함유하는 감광성 내열성 중합체를 제조하는 방법.상기식에서, R1은 독립적으로 4가 탄소 사이클릭 방향족 그룹 또는 헤테로사이클릭 그룹이고, R2는 독립적으로 탄소수 2이상의 지방족 그룹, 지환족 그룹, 방향지방족 그룹, 탄소 사이클릭 방향족 그룹, 헤테로사이클릭 그룹 또는 폴리실록산 그룹이며, R3는 감광성의 불포화 그룹을 갖는 1가 유기 그룹이고, D는 산소 원자 또는 =N-R3이다.
- 제1항에 있어서, 일반식(Ⅰ)로 표현되는 감광성 그룹 함유 이소이미드가 일반식(Ⅳ)로 표현되는 테트라카복실산 이무수물 및 일반식(Ⅴ)로 표현되는 감광성 그룹을 갖는 모노아민으로부터 아미드산을 합성한 후, 합성된 아미드산을 탈수화제로 탈수시킴에 의해 수득되는 감광성 내열성 중합체의 제조방법.
- 제 1 항에 있어서, R1이 독립적으로 비치환된 모노사이클릭 방향족 그룹, 비치환된 축합 폴리사이클릭 방향족 그룹 및 비치환 비축합 디사이클릭 방향족 그룹으로 이루어진 그룹으로부터 선택되는 감광성 내열성 중합체의 제조방법.
- 제1항에 있어서, R2가 독립적으로 모노사이클릭 방향족 그룹, 비축합 디사이클릭 방향족 그룹, 비치환된 모노사이클리 방향지방족 그룹 및 탄소수 2내지 10의 비치환된 지방족 그룹으로 이루어진 그룹으로부터 선택되는 감광성 내열성 중합체의 제조방법.
- 제1항에 있어서, 일반식(Ⅰ)로 표현되는 감광성 그룹 함유 이소이미드를 일반식(Ⅱ)로 표현되는 디아민과 반응시킬 경우, 일반식(Ⅶ)로 표현되는 아미노실란을 중합체의 말단중으로 도입시키는 감광성 내열성 중합체의 제조방법.NH2-R7-SiR8 3-4X4(Ⅶ)상기식에서,(여기에서, s는 1내지 4의 정수이다)이고, RS은 독립적으로 탄소수 1내지 6의 알킬 그룹, 페닐 그룹 또는 탄소수 7내지 12의 알킬 치환된 페닐 그룹이며, X는 독립적으로 가수분해성 알콕시 그룹, 아세톡시 그룹 또는 할로겐이고, k는 1 내지 3이다.
- 제1항에 있어서, 일반식(Ⅰ)로 표현되는 감광성 그룹 함유 이소이미드를 일반식(Ⅱ)로 표현되는 디아민과 반응시킬 경우, 반응 온도가 10 내지 30℃인 감광성 내열성 중합체의 제조방법.
- 제1항에 있어서, 일반식(Ⅰ)로 표현되는 감광성 그룹 함유 이소이미드를 일반식(Ⅱ)로 표현되는 디아민과 반응시킬 경우, 반응시간이 0.2 내지 30시간인 감광성 내열성 중합체의 제조방법.
- 제1항에 있어서, 일반식(Ⅰ)로 표현되는 감광성 그룹 함유 이소이미드를 일반식(Ⅱ)로 표현되는 디아민과 반응시킬 경우, 반응시간이 1 내지 10시간인 감광성 내열성 중합체의 제조방법.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
Applications Claiming Priority (6)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP8931 | 1989-01-18 | ||
JP1-8931 | 1989-01-18 | ||
JP893189 | 1989-01-18 | ||
JP1-98124 | 1989-04-18 | ||
JP98124 | 1989-04-18 | ||
JP1098124A JPH0749481B2 (ja) | 1989-01-18 | 1989-04-18 | 感光性耐熱重合体の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR900011814A true KR900011814A (ko) | 1990-08-02 |
KR930003717B1 KR930003717B1 (ko) | 1993-05-08 |
Family
ID=11706408
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1019900000449A KR930003717B1 (ko) | 1989-01-18 | 1990-01-16 | 감광성 내열성 중합체의 제조방법 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0749481B2 (ko) |
KR (1) | KR930003717B1 (ko) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
TW461980B (en) * | 1997-04-30 | 2001-11-01 | Nissan Chemical Ind Ltd | Liquid crystal orientation processing agent |
US6849385B2 (en) | 2001-07-03 | 2005-02-01 | Hitachi Chemical Co., Ltd. | Photosensitive resin composition, process of forming patterns with the same, and electronic components |
-
1989
- 1989-04-18 JP JP1098124A patent/JPH0749481B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
1990
- 1990-01-16 KR KR1019900000449A patent/KR930003717B1/ko not_active IP Right Cessation
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0749481B2 (ja) | 1995-05-31 |
JPH03179025A (ja) | 1991-08-05 |
KR930003717B1 (ko) | 1993-05-08 |
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