KR850008495A - 가용성 이미드올리고머 및 이의 제조방법 - Google Patents

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Abstract

내용 없음

Description

가용성 이미드올리고머 및 이의 제조방법
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도는 실시예 1에서 수득한 본 발명에 관한 이미드올리고머의 적외선 흡수스펙트럼이다.

Claims (13)

  1. 다음 일반식(Ⅰ)의 아미드산 화합물 또는 이것과 일반식(Ⅱ)의 아미드산 화합물과의 혼합물로서 일반식(Ⅱ)의 화합물을 0 내지 10몰% 함유하는 것을 이들의 용액을 기준으로 하여 70중량% 이상의 용매존재하에 60 내지 200℃에서 0.2 내지 6시간 동안 반응시키고, 다시 필요에 따라 {(m+n-2)x+(r-1)y}몰 이하의 물을 첨가하고 60 내지 200℃에서 0.2 내지 6시간 동안 반응시킴을 특징으로 하여 고유점도가 0.05 내지 0.5dℓ/g인 일반식(Ⅲ)의 가용성 이미드올리고머를 제조하는 방법.
    상기의 일반식에서, R은 수소, 알킬그룹 또는 아세틸그룹이며, R1은 4가의 탄소환식 방향족기를 나타내고, R6는 3가의 탄소환식 방향족 기를 나타내며(여기서, R1및 R6에 연결된 카본아미드기 및 카복실기 또는 이미드를 형성하는 2개의 카보닐기는 상이한 환구성원자에 결합하며, 카본아미드기는 각각 하나의 카본산기에 대하여, 또는 하나의 이미드를 형성하는 2개의 카보닐기는 서로 오르토 위치에 붙어 있다), R2, R3및 R8은 동일 또는 상이한 다음의 기이고,,,또는(단, 여기서, S는 1 내지 4의 정수임), R4, R5및 R7은 동일 또는 상이한 탄소수 1 내지 6의 알킬기, 페닐기 또는 탄소수 7 내지 12의 알킬 치환 페닐기이며, X는 알콕시기, 아세톡시기, 할로겐 또는 수산기이고, m, n은 1,2 또는 3으로 m+n3이며, r은 2 또는 3이고, x 및 y는 각각 일반식(Ⅰ) 및 (Ⅱ)의 아미드산 화합물의 반응량(몰)이며, 다음 식을 만족하는 값이며,
    p 및 q는 정수를 나타내고, 다음의 관계를 만족하며,
    m+n"fp"z2(m+n)-1 rq2r-1 t=0 또는 2 고유점도는 다음 식 ηjnh이다.
    (여기서, η은 우베로데 점도계를 사용하여 용매인 N-메틸-2-피롤리돈 속에서 30±0.01℃, 농도 0.5g/dℓ에서 측정한 값이고, η0는 동일한 점도계를 사용하여 동일한 온도에서 동일한 용매의 측정치이며, C는 농도 n05g/dℓ이다).
  2. 제1항에 있어서, R1이-또는인 제조방법.
  3. 제1항 또는 제2항중 어느 한 항에 있어서, R6인 제조방법.
  4. 제1항 또는 제3항중 어느 한 항에 있어서, R2, R3및 R8이 -CH2- 또는인 제조방법.
  5. 제1항 또는 제4항중 어느 한 항에 있어서, R24R6및 R7이 -CH3, -C2H5또는인 제조방법.
  6. 제1항 내지 제5항중 어느 한 항에 있어서, 용매가 30 내지 100중량%의 N-메틸-2-피롤리돈, 디메틸아세트아미드, 디메틸포름아미드, 톨루엔, 크실렌, 메틸셀로솔브 및 디메틸설폭사이드 중의 적어도 1종을 함유하는 제조방법.
  7. 고유점도가 0.05 내지 0.5dl/g인 다음 일반식(Ⅲ)의 가용성 이미드올리고머를 이의 용매와의 합계량을 기준으로 하여 30중량% 이하 함유하는 용액으로 이루어진 전자재료용 도포액.
    상기의 일반식에서, R1은 4가의 탄소환식 지방족기이고, R6는 3가의 탄소환식 지방족기이며(여기서, R1및 R6에 연결되어 이미드를 형성하는 2개의 카보닐기 및 카복실기는 상이한 환구성원자에 결합하며, 하나의이미드를 형성하는 2개의 카보닐기는 각각 서로 오르토 위치에 붙어 있다), R2, R3, R4, R5, R7, X, m, n, r 및 고유점도는 상기의 정의와 동일하고, x 및 y는 다음 식을 만족하는 값이다.
  8. 제7항에 있어서인 전자재료용 도포액.
  9. 제7항 또는 제8항에 있어서, R1또는인 전자재료용 도포액.
  10. 제7항 또는 제9항중 어느 한 항에 있어서, R6인 전자재료용 도포액.
  11. 제7항 또는 제10항 중 어느 한 항에 있어서, R2, R3및 R8또는인 전자재료용 도포액.
  12. 제7항 내지 제11항중 어느 한 항에 있어서, R4, R5및 R7이 -CH3, -C2H5또는인 전자재료용 도포액.
  13. 제7항 내지 제12항중 어느 한 항에 있어서, 도포액의 용매가 30 내지 100중량%의 N-메틸-2-피롤리돈, 디메틸아세트아미드, 디메틸포름아미드, 톨루엔, 크실렌, 메틸셀로솔브, 에틸셀로솔브 및 디메틸 설폭사이드 중에서 적어도 1종을 함유하는 전자재료용 도포액.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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