KR890007354A - 새도우 마스크 제조 방법 - Google Patents

새도우 마스크 제조 방법 Download PDF

Info

Publication number
KR890007354A
KR890007354A KR1019880013997A KR880013997A KR890007354A KR 890007354 A KR890007354 A KR 890007354A KR 1019880013997 A KR1019880013997 A KR 1019880013997A KR 880013997 A KR880013997 A KR 880013997A KR 890007354 A KR890007354 A KR 890007354A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
photoresist
main surface
thin plate
metal thin
photoresist solution
Prior art date
Application number
KR1019880013997A
Other languages
English (en)
Other versions
KR920003675B1 (ko
Inventor
세이지 사고
야스히사 오다께
Original Assignee
아오이 죠이찌
가부시끼가이샤 도시바
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 아오이 죠이찌, 가부시끼가이샤 도시바 filed Critical 아오이 죠이찌
Publication of KR890007354A publication Critical patent/KR890007354A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR920003675B1 publication Critical patent/KR920003675B1/ko

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J29/00Details of cathode-ray tubes or of electron-beam tubes of the types covered by group H01J31/00
    • H01J29/02Electrodes; Screens; Mounting, supporting, spacing or insulating thereof
    • H01J29/06Screens for shielding; Masks interposed in the electron stream
    • H01J29/07Shadow masks for colour television tubes
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J9/00Apparatus or processes specially adapted for the manufacture, installation, removal, maintenance of electric discharge tubes, discharge lamps, or parts thereof; Recovery of material from discharge tubes or lamps
    • H01J9/02Manufacture of electrodes or electrode systems
    • H01J9/14Manufacture of electrodes or electrode systems of non-emitting electrodes
    • H01J9/142Manufacture of electrodes or electrode systems of non-emitting electrodes of shadow-masks for colour television tubes
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05CAPPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05C9/00Apparatus or plant for applying liquid or other fluent material to surfaces by means not covered by any preceding group, or in which the means of applying the liquid or other fluent material is not important
    • B05C9/04Apparatus or plant for applying liquid or other fluent material to surfaces by means not covered by any preceding group, or in which the means of applying the liquid or other fluent material is not important for applying liquid or other fluent material to opposite sides of the work
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J2209/00Apparatus and processes for manufacture of discharge tubes
    • H01J2209/01Generalised techniques
    • H01J2209/012Coating
    • H01J2209/015Machines therefor
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S430/00Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
    • Y10S430/136Coating process making radiation sensitive element

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • ing And Chemical Polishing (AREA)
  • Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)

Abstract

내용 없음

Description

새도우 마스크 제조 방법
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제5도는 본 발명의 새도우 마스크에 대한 금속박판의 각 주표면 위에 감광수지 용액을 도포하기 위한 한도포장치를 도시한 다이어그램도.
제6도는 본 발명의 새도우 마스크에 대한 금속박판의 각 주표면위에 감광수지 용액을 도포하기 위한 다른 도포장치를 도시한 다이어그램도이다.

Claims (8)

  1. 제1및 제2주표면을 가진 밴드형 금속박판(1)이 제공되고, 제1및 제2주표면위에 제1 및 제2감광수 지층을 형성하고, 제1및 제2감광수지층에 노출및 현상에 의해 구멍과 대응하는 오프닝 패턴을 형성하고, 제1및 제2감광수지층을 애칭함으로써 상기 구멍들을 형성하는 것으로 구성되어있는, 3전자비임이 형광면위에 대응되는 형광층에 집중되는 것을 허용하는 구멍을 가진 금속 마스크 박판으로 이루어진 새도우 마스크 제조방법에 있어서, 상기 제1감광수지층은 위방향으로 향한 제1주표면을 가진 제1주표면위에 제1감광수지 용액(13)을 도포하고, 실질적으로 수평하게 금속박판(1)을 유지시키면서 도포된 제1감광수지 용액을 건조시킴으로서 상기 제1주표면을 형성하고, 도포된 금속박판을 제2주표면이 위로 향하도록 반전시키며, 상기 제2감광수지층은 위방향으로 향한 제2주표면을 가진 제2주표면위에 제2감광수지 용액(23)을 도포하고, 실질적으로 수평하게 금속박판(1)을 유지시키면서 도포된 제2감광수지 용액을 건조시킴으로서 상기 제2주표면이 형성되는 것을 특징으로 하는 새도우 마스크 제조 방법.
  2. 제1항에 있어서, 제1및 제2감광수지층은 상기 금속박판(1)이 수평으로 연속적으로 운송되는 동안 형성되는 것을 특징으로 하는 방법.
  3. 제1항에 있어서, 파이프 닥터(12)(22)는 상기 감광수지 용액을 가지고 밴드형 금속박판(1)을 도포하는데 이용되는 것을 특징으로 하는 방법.
  4. 제1항에 있어서, 역전 도포기는 상기 감광수지 용액을 가지고 밴드형 금속박판(1)을 도포하는데 이용되는 것을 특징으로 하는 방법.
  5. 제1항에 있어서, 제1감광수지 용액은 제1건조로(15)에서 제1및 제2주표면 모두에 열을 가함으로서 건조되는 것을 특징으로 하는 방법.
  6. 제1항에 있어서, 제1 및 제2감광수지층은 다른 두께를 갖도록 형성되는 것을 특징으로 하는 방법.
  7. 제1항에 있어서, 제1감광수지층을 갖는 금속박판은 길이방향으로 운송되어, 턴로울러(10)를 이용하여 위로 들어 올려지며, 백 엎 로울러(21)를 이용하여 제1주표면이 아래방향이 되도록 반전되는 것을 특징으로 하는 방법.
  8. 제1항에 있어서, 제2감광수지 용액은 제1감광수지층이 찬공기를 가함으로서 식혀지는 동안 가열되어 건조되는 것을 특징으로 하는 방법.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019880013997A 1987-10-28 1988-10-26 새도우 마스크 제조방법 KR920003675B1 (ko)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP62-272118 1987-10-28
JP27211887 1987-10-28
JP?87-272118 1987-10-28

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR890007354A true KR890007354A (ko) 1989-06-19
KR920003675B1 KR920003675B1 (ko) 1992-05-06

Family

ID=17509339

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1019880013997A KR920003675B1 (ko) 1987-10-28 1988-10-26 새도우 마스크 제조방법

Country Status (5)

Country Link
US (1) US5006432A (ko)
EP (1) EP0314110B1 (ko)
KR (1) KR920003675B1 (ko)
CN (1) CN1014944B (ko)
DE (1) DE3869899D1 (ko)

Families Citing this family (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3034292B2 (ja) * 1990-10-23 2000-04-17 株式会社東芝 感光液塗布方法
JP2764526B2 (ja) * 1993-09-28 1998-06-11 大日本印刷株式会社 アパーチャグリルの製造方法及びアパーチャグリル
TW373222B (en) * 1996-07-02 1999-11-01 Toshiba Corp Shade shelter lid fabricating method, shade shelter lid fabricating device, and the cleaning device using for the same
TW373223B (en) * 1996-09-30 1999-11-01 Toshiba Corp Shade shelter lid fabricating method and the etch endurable layer coating device use in this method
TW560102B (en) * 2001-09-12 2003-11-01 Itn Energy Systems Inc Thin-film electrochemical devices on fibrous or ribbon-like substrates and methd for their manufacture and design
US20030068559A1 (en) * 2001-09-12 2003-04-10 Armstrong Joseph H. Apparatus and method for the design and manufacture of multifunctional composite materials with power integration
US20030059526A1 (en) * 2001-09-12 2003-03-27 Benson Martin H. Apparatus and method for the design and manufacture of patterned multilayer thin films and devices on fibrous or ribbon-like substrates
CN101552168B (zh) * 2008-04-01 2011-03-30 四川海英电子科技有限公司 高清显示器荫罩板的生产工艺
CN102202466B (zh) * 2011-04-12 2012-12-26 北京工业大学 一种基于覆铜板的激光辅助选区微去除铜膜方法
EP2555039B1 (en) * 2011-08-05 2017-08-23 Samsung Electronics Co., Ltd. Electrofluidic chromatophore (EFC) display apparatus
CN103357548B (zh) * 2013-07-02 2016-01-06 徐敖奎 一种微孔基材电池的制作工艺及该工艺中采用的双面涂布机

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2750524A (en) * 1951-11-15 1956-06-12 Mergenthaler Linotype Gmbh Perforate mask for multicolor television apparatus and method of producting same
JPS4844171B1 (ko) * 1969-07-03 1973-12-22
US4061529A (en) * 1977-02-28 1977-12-06 Rca Corporation Method for making etch-resistant stencil with dichromate-sensitized casein coating
US4210843A (en) * 1979-04-03 1980-07-01 Zenith Radio Corporation Color CRT shadow mask and method of making same
JPS5833697B2 (ja) * 1979-12-17 1983-07-21 ヱム・セテツク株式会社 フオトレジストの両面塗布装置
JPS59158051A (ja) * 1983-02-28 1984-09-07 Toshiba Corp シヤドウマスクの製造方法
JPS6070185A (ja) * 1983-09-26 1985-04-20 Toshiba Corp シヤドウマスクの製造方法
DE3602350C2 (de) * 1986-01-27 1994-08-18 Weber Marianne Verfahren und Anlage zum beidseitigen Beschichten von Platten mit flüssigem Beschichtungsmaterial
JPS62247085A (ja) * 1986-04-17 1987-10-28 Dainippon Screen Mfg Co Ltd フオトエッチング法による金属薄板の加工方法

Also Published As

Publication number Publication date
EP0314110A2 (en) 1989-05-03
CN1014944B (zh) 1991-11-27
EP0314110A3 (en) 1989-11-02
CN1033903A (zh) 1989-07-12
US5006432A (en) 1991-04-09
KR920003675B1 (ko) 1992-05-06
EP0314110B1 (en) 1992-04-08
DE3869899D1 (de) 1992-05-14

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR890007354A (ko) 새도우 마스크 제조 방법
US4869778A (en) Method of forming a patterned aluminum layer and article
KR910001776B1 (ko) 포토 엣칭법에 의한 금속박판의 가공방법
DE69118031D1 (de) Verfahren zum Herstellen einer Halbleiteranordnung mit einer Ausrichtungsmarke
US5043201A (en) Method of forming a patterned aluminum layer and article
KR930018628A (ko) 열전사박 및 그를 사용한 형광면의 형성방법
JPS57148689A (en) Ink sheet for heat-sensitive copying
EP0131893A3 (en) Process for producing supports for photographic paper
JPS62203691A (ja) レ−ザマ−キング方法
KR900002434A (ko) 세라믹 기판상의 편평한 회로내에 유전층을 제조하는 방법 및 노출 마스크
KR970013040A (ko) 반도체소자 제조방법
KR930018661A (ko) 콘택트홀의 형성방법
JPS56163270A (en) Etching method for metallic plate
FR2297093A1 (fr) Procede pour deposer des revetements differents contigus jointifs sur un substrat transparent et produits obtenus
KR920022422A (ko) 패턴 형성 방법
JPS5716445A (en) Heat development type silver salt film and its manufacture
KR910005101A (ko) 레지스트패턴 형성방법
JPS5578531A (en) Semiconductor substrate
JPH0648051A (ja) 昇華転写紙
JPS56104450A (en) Manufacture of semiconductor device
JPH0633150U (ja) 金属薄板への塗布装置
KR940016744A (ko) 박막트랜지스터의 제조방법
ATE145734T1 (de) Verfahren zum übertragen von insbesondere farbigen darstellungen auf glatte unterlagen sowie transferschicht
KR890016642A (ko) Si-레지스트/ARC 이중충 광석판술
KR860006351A (ko) 앨범 대지의 연속제조 방법

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E601 Decision to refuse application
E902 Notification of reason for refusal
J2X1 Appeal (before the patent court)

Free format text: APPEAL AGAINST DECISION TO DECLINE REFUSAL

G160 Decision to publish patent application
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20070430

Year of fee payment: 16

LAPS Lapse due to unpaid annual fee