KR890006579A - 하이드록시에틸술포닐니트로-및 하이드록시에틸술포닐아미노-벤조산 및 이들의 제조방법 - Google Patents

하이드록시에틸술포닐니트로-및 하이드록시에틸술포닐아미노-벤조산 및 이들의 제조방법 Download PDF

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베른하르트 벡크, 하인리히 블라이쉐르
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Abstract

내용 없음

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하이드록시에틸술포닐니트로-및 하이드록시에틸술포닐아미노-벤조산 및 이들의 제조방법
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음

Claims (10)

  1. 5-하이드록시에틸술포닐-2-아미노벤조산을 제외한, 일반식(1)의 화합물.
    상기식에서, R은 수소 또는 산소원자를 나타내고 -N(R)2그룹 및 하이드록시에틸술포닐 그룹은 서로에 대해 오르토-또는 파라-위치에 존재한다.
  2. 구조식(1a)의 화합물
    상기식에서, 니트로 및 하이드록시에틸술포닐 그룹은 서로에 대해 오르토-또는 파라-위치에 존재한다.
  3. 5-하이드록시에틸술포닐-2-아미노벤조산을 제외한 구조식(1b)의 화합물.
    상기식에서, 아미노 및 하이드록시에틸술포닐 그룹은 서로에 대해 오르토-또는 파라-위치에 존재한다.
  4. 일반식(2)의 할로니트로벤조산 1mol을 약 20 내지 약 100℃에서 산-결합제의 존재하에 수용액 또는 현탁액 또는 유기용매중에서 머캅토에탄올 1mol이상을 사용하여 상응하는 구조시(3)의 하이드록시에틸머캅토니트로벤조산으로 전한시키고 이들 산을 공지된 방법 자체로 상응하는 일반식(1)(R=O)의 하이드록시에틸술포닐니트로 벤조산으로 산화시키고, 경우에 따라 이 하이드록시에틸술포닐니트로벤조산을 공지된 방법 자체로 상응하는 구조식(1b)의 하이드록시에틸술포닐아미노벤조산으로 환원시킴을 특징으로 하여, 일반식(1)의 화합물을 제조하는 방법.
    상기식에서, R은 수소 또는 산소원자를 나타내고 -N(R)2그룹 및 하이드록시에틴술포닌 그룹은 서로에 대해 오르토-또는 파라-위치에 존재하고, X는 불소, 염소, 브롬 또는 요오드원자를 나타내고, 니트로 그룹 및 할로겐원자는 서로에 대해 오르토-또는 파라-위치에 존재하며, 아미노 및 하이드록시에틸술포닐그룹은 서로에 대해 오르토-또는 파라-위치에 존재한다.
  5. 제4항에 있어서, 하로니트로벤조산 1mol을 약 35 내지 약 60℃의 온도에서 머캅토에탄올 약 1.1 내지 약 1.8mol과 반응시키는 방법.
  6. 제4항 및 5항중 어느 한 항에 있어서, 할로니트로벤조산과 머캅토에탄올과의 반응을 산-결합체로서 알칼리금소 수산화물 또는 알칼리금속 수산화물 또는 알칼리 금속 탄산염의 존재하에 수행하는 방법.
  7. 제4항 내지 6항중 어느 한 항에 있어서, 제4항에서 언급한 구조식(3)의 화합물에 대한 산화반응을 pH 7미만, 약 30 내지 약 120℃의 온도에서 6가의 텅스텐 화합물의 존재하에 과산화수소를 사용하여 수행하는 방법.
  8. 제4항 내지 7항중 어느 한 항에 있어서, 제4항에서 언급한 일반식(1)의 화합물에 대한 환원반응을 약 70 내지 약 120℃의 온도에서 철을 사용하여 수용액 또는 현탁액중에서 수행하는 방법.
  9. 제4항 내지 7항중 어느 한 항에 있어서, 제4항에서 언급한 일반실(1)의 화합물에 대한 환원반응을 약 70 내지 120℃의 온도에서 닉켈 또는 귀금속 촉매의 존재하에 촉매적으로 활성화된 수소를 사용하여 수용액 또는 현탁액 중에서 수행하는 방법.
  10. 제1항에서 청그한 하이드록시에틸술포닐아미노벤조산의 섬유-반응성 아조 염료를 제조하기 위한 디아조 성분으로서의 용도.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019880013486A 1987-10-17 1988-10-15 하이드록시에틸술포닐니트로-및 하이드록시에틸술포닐아미노-벤조산 및 이들의 제조방법 KR970011007B1 (ko)

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