KR880007581A - 폴리트리알킬 게르밀 프로핀 중합체와 막 - Google Patents

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Abstract

내용 없음.

Description

폴리트리알킬 게르밀 프로핀 중합체와 막
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음

Claims (47)

  1. 다음의 일반적 구조식을 갖는 중합체.
    [상기식에서 R1은 수소 또는 C1-C2알킬기이고 R2와 R3은 독립적으로 선상이거나 분기된 C1-C6알킬기이며, R4는 선상이거나 분기된 C1-C12알킬 또는 아킬기이고, X는 C1-C3알릴기 또는 페닐이며 m은 적어도 100, n은 0 또는 1이다.]
  2. 제1항에 있어서, 다음의 일반적인 구조식을 갖는 중합화하는 단량체 단위에 의해 형성된 중합체.
    [상기식에서 R1은 수소 또는 C1-C2알킬기이고 R2와 R3은 독립적으로 선상이거나 분기된 C1-C6알킬기이며, R4는 선상이거나 분기된 C1-C12알킬 또는 아킬기이고, X는 C1-C12알킬기 또는 페닐이며 n은 0 또는 1이다]
  3. 제1항에 있어서, 막의 형태로 주조되는 것을 특징으로 하는 중합체.
  4. 제3항에 있어서, 막 형태로 주조되어 가스분리, 액체분리. 투석증발 또는 한외여과에 사용되는 중합체.
  5. 제1항에 있어서, R1, R2, R3, R4가 메틸이고 n은 0임을 특징으로 하는 중합체.
  6. 제1항의 구조적 단위를 포함하고 또한 1또는 그이상의 다른 공중합화 단량체를 포함하는 공중합체.
  7. 여러 단량체 단위를 포함하는 제6항의 공중합체에 있어서, 그 공중합체가 교대,블록 또는 무작위 형태로 배열하는 것을 특징으로 하는 공중합체.
  8. 제7항에 있어서, 트리알킬시릴아세틸렌에서 유도한 단량체 단위가 전체 중합체의 약 50%까시를 포함하는 것을 특징으로 하는 공중합체.
  9. 제3항에 있어서, 막 형태로 주조되고, 연속해서 자외선 또는 전자기 처리되는 중합체.
  10. 제3항에 있어서, 막 형태로 주조되고, 연속해서 플라즈마장에서 처리되는 중합체.
  11. 막형태로 주조되고 다음의 일반식 구조식을 갖는 중합체로 구성된 막으로서, 막을 변경시킬 수 있는 충분한 시간동안 활성 불화원으로 처리되어 막의 O2/N2선택비를 활성불화원으로 처리하기 전보다 적어도 50%이상 증가시켜 공급 가스 혼합물의 성분 분리에 사용할 때 증가된 선택도를 갖는 처리된 반 투과성의 중합체 막.
    [상기식에서 R1은 수소 또는 C1-C2알킬기이고 R2, R3, R4는 독립적으로 선상 또는 분기된 C1-C3알킬기이며, X는 C1-C3알킬기 또는 페닐이고 m는 적어도 100, n은 0 또는 1이다.]
  12. 제11항에 있어서, 활성 불화원이 0.0l-25% -불화가스를 포함한 가스류인 것을 특징으로 하는 처리된 반투과성의 중합체 막.
  13. 제12항에 있어서, 활성불화원이 0.1-2% 불화가스를 포함한 가스류인 것을 특징으로 하는 처리된 반투과성의 중합체 막.
  14. 제11항에 있어서, 활성불화원에 10초 내지 24시간동안 접촉시킨 것을 특징으로 하는 처리된 반투과성의 중합체 막.
  15. 제14항에 있어서, 활성불화원에 0.5분 내지 120분 동안 접촉시킨 것을 특징으로 하는 처리된 반투과성의 중합체 막.
  16. 제11항에 있어서, 막 형태로 주조된 중합체가 n=0 일때의 구조식을 갖는 것을 특징으로 하는 처리된 반투과성의 중합체 막.
  17. 제11항에 있어서, 막형태로 주조된 주합체가 R1, R2, R3은 CH3군이고 R4는 선상의 또는 분기된 C1-C3알킬기인 구조식을 갖는 것을 특징으로 하는 처리된 반투과성의 중합체 막.
  18. 제17항에 있어서, 막형태로 주조된 중합체가 n=0일때의 구조식을 갖는 것을 특징으로 하는 처리된 반투과성의 중합체 막.
  19. 제11항에 있어서, 가스 분리, 액체 분리, 투석증발, 초여과에 사용되는, 처리된 반투과성의 중합체 막.
  20. 제11항에 있어서, 막 형태로 주조된 중합체가 트리알킬아세틸렌에서 유도한 공중합체를 또한 포함하는 것을 특징으로 하는 처리된 반투과성의 중합체 막.
  21. 제20항에 있어서, 공중합체가 10% 내지 98%의 농도를 존재하는 것을 특징으로 하는, 처리된 반투과성의 중합체 막.
  22. 제11항에 있어서, 막 형태로 주조된 중합체가 다음의 구조식을 갖는 것을 특징으로 하는, 처리된 반투과성의 중합체 막.
    [상기식에서 m은 적어도 100이다.]
  23. 제11항에 있어서, 중합체가 다공층위에 얇고 치밀한 층을 갖는 비대칭막으로 주조되는 것을 특징으로 하는 막.
  24. 제11항에 있어서, 활성불화원으로 처리되기 전 중합체가 첫번째로 다공성 기질의 표면으로 덮히는 것을 특징으로 하는 막.
  25. 제24항에 있어서, 덮히기전 다공성 기질이 평평한 판이나 속이 빈 섬유질 형태인 것을 특징으로 하는 막.
  26. 제14항에 있어서, 다공성 기질이 폴리 올레핀이나 폴리설폰인 것을 특징으로 하는 막.
  27. 적어도 한 층이 제11항의 막 구조를 이루는 2 또는 그 이상의 층을 포함하는 막.
  28. 공급가스 혼합물을 막형태로 주조되고 다음의 일반적 구조식을 갖는 중합체로 구성된, 처리된 반투과성의 중합체 막과 접촉시키는 방법으로서, 막을 변경시킬 수 있는 충분한 시간동안 활성불화원으로 처리하여 막의 O2/N2선택비를 활성불화원으로 처리하기 전보다 50% 이상 증가시켜 적어도 2성분을 포함하는 공급가스 혼합물을 분리하는 방법.
    [상기식에서 R1은 수소 또는 C1-C2알킬기이고 R2, R3, R4는 독립적으로 선상 또는 분기된 C1-C3알킬기이며, X는 C1-C3알킬기 또는 페닐이고 m은 적어도 100, n은 0또는 1이다.]
  29. 제28항에 있어서, 활성불화원이 0.01-25% 불화가스를 포함한 가스류인 것을 특징으로 하는 방법.
  30. 제29항에 있어서. 활성불화원이 0.1-2% 불화가스를 포함한 가스류인 것을 특징으로 하는 방법.
  31. 제28항에 있어서, 처리된 반투과성의 중합체 막을 활성불학원에 10초 내지 24시간 동안 접촉시킨 것을 특징으로 하는 방법.
  32. 제31항에 있어서, 처리된 반투과성의 중합체 막을 활성불화원에 0.5분 내지 l20분동안 접촉시킨 것을 특징으로 하는 방법.
  33. 제28항에 있어서, 공급 가스 혼합물을 막형태로 주조되고 n=0일때의 구조식을 갖는 중합체로 구성된, 처리된 반투과성의 중합체 막과 접촉시키는 것을 특징으로 하는 방법.
  34. 제33항에 있어서, 공급 가스 혼합물을, 막형태로 주조되고 R1, R2, R3이 CH3군이고 R4는 선상의 또는 분기된 C1-C3알킬기인 구조식을 갖는 중합체로 구성된 처리된 반투과성의 중합체 막과 접촉시키는 것을 특징으로 하는 방법.
  35. 제34항에 있어서, 공급가스 혼합물을 막형태로 주조되고 다음의 일반식을 갖는 처리된 반투과의 중합체로 구성된 막과 접촉시키는 것을 특징으로 하는 방법.
    [상기식에서 m은 적어도 100다.]
  36. 제28항에 있어서, 막형태로 주조된 중합체가 1또는 그 이상의 공중합체를 또한 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.
  37. 제36항에 있어서, 막형태로 주조된 중합체가 트리알킬아세틸렌에서 유래한 공중합체를 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.
  38. 제28항에 있어서, 공급가스 혼합물이 O2/N2, He/CH4, H2/CH4, H2/CO, CO2/CH4, CO2/N2, H2/N2, 그리고 He/N2로 구성된 군에서 선택되는 것을 특징으로 하는 방법.
  39. 다음의 과정으로 구성되는, 공급가스 혼합물의 성분 분리에 사용하여 증가된 선택도를 갖는 반투과성의 중합체 막을 생산하는 방법.
    (1) 다음의 일반적 구조식을 갖는 중합체로 막 형태 주조.
    [상기식에서 R1은 수소 또는 C1-C2알킬기이며, R2, R3, R4는 독립적으로 선상이거나 분기된 C1-C3알킬기이고, X는 C1-C3알킬기 또는 페닐이며, m은 적어도 100, n은 0또는 1이다.]
    (2) 막 형태의 이 중합체를 막을 변경시킬 수 있는 충분한 시간동안 활성불화원으로 처리하여 막의 O2/N2선택비를 활성불화원으로 처리하기 전보다 적어도 50% 이상 증가시킴.
  40. 제39항에 있어서, 활성불화원이 0.01-25%의 불화가스를 포함하는 가스류인 것은 특징으로 하는 방법.
  41. 제40항에 있어서, 막 형태의 중합체가 활성 불화원으로 10초 내지 24시간동안 처리되는 것을 특징으로 하는 방법.
  42. 제39항에 있어서, 막형태로 주조된 중합체가 R1, R2, R3이 CH3군이고 R4는 선상 또는 분기된 C1-C3알킬기이고 n=0인 일반식 구조식을 갖는 것을 특징으로 하는 방법.
  43. 제39항에 있어서, 막 형태로 주조된 중합체가 다음의 일반적 구조식을 갖는 것을 특징으로 하는 방법.
    [상기식에서 m은 적어도 100이다.]
  44. 제39항에 있어서, 막형태의 중합체가 주위의 온도와 압력하에서 활성불화원으로 처리되는 것을 특징으로 하는 방법.
  45. 제39항에 있어서, 막형태의 중합체가 플라즈마 장이나 전자기 방사 존재하에서 증가된 온도로서 활성불화원으로 처리되는 것을 특징으로 하는 방법.
  46. 제39항에 있어서, 막 형태로 주조되는 중합체가 2 또는 그이상의 공중합체를 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.
  47. 제46항에 있어서, 막형태로 주조되는 중합체가 트리알킬시릴 아세틸렌에서 유래한 공중합체를 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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