KR880001614A - 콜린 수용체의 효능약인 신규의 트리시클릭 유도체 및 그를 함유하는 약물 - Google Patents
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Abstract
내용 없음
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
Claims (12)
- 하기 일반식(I)의 신규 트리시클릭 화합물 및 약재학적으로 허용 가능한 무기산 또는 유기산과의 그의 염 ;[상기 식중, X는 기(CH2)n(식중, n은 정수 2,3 또는 4를 나타낸다.), 또는 양자택일로 비닐렌기 또는 메틸비닐렌기를 나타내고 ;R1및 R2는, 독립적으로 수소 또는 할로겐, 저급알킬기, 저급 알콕시기, 히드록시기, 티올기, 니트로기 및 임의로 치환된 아미노기로 구성된 군으로 부터 선택되어 벤젠고리의 자유 위치중 하나를 차지한 치환기를 나타내며 ;Y는 산소, 황 또는 기 -NH-를 나타내고 ; 및R3는 기(식중 Alk는 탄소원자수 2~5의 직쇄 또는 측쇄 알킬렌기를 나타내고 ; 및 R4및 R5는 각각 독립적으로 수소, 저급알킬기 또는 저급 히드록시알킬기, 또는 양자택일로, R4및 R5가 그들이 결합되어 있는 질소원자와 함께, 임의로 세컨드 헤테로원자를 함유하고 임의로 치환된 5-원 또는 6-원 시콜릭 아미노기를 형성한다.) ;기(식중, R6는 탄소원자수 1~4의 저급알킬기를 나타낸다.); 또는기(식중, R6는 상기에서 정의한 바와 동일하다,)를 나타낸다]
- 제1항에 있어서, 식중, 기 R3가,이 피롤리딘-1-일, 피페리디노, 모르폴리노, 피페라진-1-일 또는 2-옥소모르폴리노기를 나타내는를 나타내는 상기 일반식(I)의 신규 트리스클릭 화합물 및 약제학적으로 허용 가능한 무기산 또는 유기산과의 그의 염.
- 제1항 또는 2항에 있어서, 식중, X가 n이 정수2,3 또는 4인 기(CH2)n을 나타내는 상기 일반식(I)의 신규 트리시클릭 화합물 및 약제학적으로 허용가능한 무기산 또는 유기산과의 그의 염.
- 제1항 또는 2항에 있어서, 식중, X가 비닐렌 또는 메틸비닐렌기를 나타내는 상기 일반식(I)의 신규 트리시클릭 화합물 및 약제학적으로 허용 가능한 무기산 또는 유기산과의 그의 염.
- 하기 일반식(I)의 화합물 및 약제학적으로 허용 가능한 무기산 또는 유기산과의 그의 염을 제조하는 방법으로서, 벤조시클로알칸-1-온을 열 작용하에 60및 150℃사이의 온도에서 에틸글리옥실레이트 또는 글리옥실산으로 처리하여 하기 일반식(A)의 히드록시 에스테르 또는 히드록시산을 생성하고, 수득된 히드록시에스테르를 적당한 용매 내에서 히드라진 히드레이트와 함께 가열하여 하기 일반식(B)의 피리다존을 생성하여 수득한 피리다존을 환류하에 과량의 포스포러스 옥시클로타이드 또는 옥시브로마이드로 처리하여 상용하는 할로겐 유도체(c)를 생성하고 ; 수득된 할로겐 유도체를 적당하다면, 반응 활성제의 존재하에 B가 OH,SH, 또는 NH2를 나타내는 유도체 B-R3와 함께 가열함으로서 치환시켜 상승하는 화합물(I)을 생성하여, 적당하다면, 화합물(I)을 공지의 방법에 의해 염으로 바꾸는 것을 특징으로 하는 일반식(I)의 화합물 및 약제학적으로 허용 가능한 무기산 또는 유기산과의 그의 염을 제조하는 방법.[상기 식중, X는 기(CH2)n(식중, n은 정수 2,3 또는 4를 나타낸다.), 또는 양자택일로 비닐렌기 또는 메틸비닐렌기를 나타내고 ;R1및 R2는, 독립적으로 수소 또는 할로겐, 저급알킬기, 저급 알콕시기, 히드록시기, 티올기, 니트로기 및 임의로 치환된 아미노기로 구성된 군으로 부터 선택되어 벤젠고리의 자유 위치중 하나를 차지한 치환기를 나타내며 ;Y는 산소, 황 또는 기 -NH-를 나타내고 ;R3는 기(식중 Alk는 탄소원자수 2~5의 직쇄 또는 측쇄 알킬렌기를 나타내고 ; 및 R4및 R5는 각각 독립적으로 수소, 저급알킬기 또는 저급 히드록시알킬기, 또는 양자택일로, R4및 R5가 그들이 결합되어 있는 질소원자와 함께, 임의로 세컨드 헤테로 원자를 함유하고 임의로 치환된 5-원 또는 6-원 시콜릭 아미노기를 형성한다.) ;기(식중, R6는 탄소원자수 1~4의 저급알킬기를 나타낸다.); 또는기(식중, R6는 상기에서 정의한 바와 동일하다.)를 나타낸다 ;A'는 (CH2)n(식중, n은 정수 2,3 또는 4를 나타낸다.)이고 ;R7은 H 도는 C2H5이며 ; 및Hal은 Cl, Br이다.
- 하기 일반식(I)의 화합물 및 약제학적으로 허용가능한 무기산 또는 유기산과의 그의 염을 제조하는 방법으로서, R1이 수소를 나타내는 염소 유도체(c)를 니트로화 시켜 R1이 NO2인 화합물을 얻고, 염소 유도체를 B가 OH, SH 또는 NH2를 나타내는 유도체 B-R3와 함께 가열함으로써 치환시켜 ;적당하다면, 니트로 유도체를 촉매 수소화 반응에 의해서 또는 환원제를 사용하는 아민 유도체로 바꾸고 ; 적당하다면, 아미노기를 공지된 반응에 의해 다른 치환기로 바꾸며 ; 및 적당하다면, 생성된 화합물(I)을 염으로 바꾸는 것을 특징으로 하는 일반식(I) 의 화합물 및 약제학적으로 허용 가능한 무기산 또는 유기산과의 그의 염을 제조하는 방법.[상기 식들중, X는 기(CH2)n(식중, n은 정수 2,3 또는 4를 나타낸다.)를 나타내고 ;R1및 R2는, 독립적으로 수소 또는 할로겐, 저급 알킬기, 저급 알콕시기, 히드록시기, 티올기, 니트로기 및 임의로 치환된 아미노기로 구성된 군으로 부터 선택되어 벤젠고리의 자유 위치중 하나를 차지한 치환기를 나타내는데, X에 대해 p-위치에 있는 R1은 수소를 제외한 다른 기이며 ;Y는 산소, 황 또는 기 -NH-를 나타내고 ;R3는 기(식중 Alk는 탄소원자수 2~5의 직쇄 또는 측쇄 알킬렌기를 나타내고 ; 및 R4및 R5는 각각 독립적으로 수소, 저급알킬기 또는 저급 히드록시알킬기, 또는 양자택일로, R4및 R5가 그들이 결합되어 있는 질소원자와 함께, 임의로 세컨드 헤테로 원자를 함유하고 임의로 치환된 5-원 또는 6-원 시클릭 아미노기를 형성한다.) ;기(식중, R6는 탄소원자수 1~4의 저급알킬기를 나타낸다.); 또는기(식중, R6는 상기에서 정의한 바와 동일하다,)를 나타낸다]A'는 (CH2)n(식중, n은 정수 2,3 또는 4를 나타낸다.)이고 ;Hal은 Cl,Br이다.]
- 하기 일반식(I)의 화합물 및 약제학적으로 허용가능한 무기산 또는 유기산과의 그의 염을 제조하는 방법으로서, R1이 수소를 나타내는 염소 유도체(c)를 니트로화 시켜 R1이NO2인 화합물을 얻고, 수득된 염소 유도체(c)를 촉매 수소화 반응에 의해서 또는 환원제를 사용하여 상응하는 아민 유도체로 바꾸어 ; 적당하다면, 공지된 반응에 의해서 아미노기를 다른 치환기로 바꾸고 ; 염소 유도체를 B가 OH,SH 또는 NH2를 나타내는 유도체 B-R3와 함께 가열시킴으로써 치환시켜 ;적당하다면, 생성된 화합물(I)을 염으로 바꾸는 것을 특징으로 하는 일반식(I) 의 화합물 및 약제학적으로 허용 가능한 무기산 또는 유기산과의 그의 염을 제조하는 방법.[상기 식들중, X는 기(CH2)n(식중, n은 정수 2,3 또는 4를 나타낸다.)를 나타내고 ;R1및 R2는, 독립적으로 수소 또는 할로겐, 저급 알킬기, 저급 알콕시기, 히드록시기, 티올기, 니트로기 및 임의로 치환된 아미노기로 구성된 군으로 부터 선택되어 벤젠고리의 자유 위치중 하나를 차지한 치환기를 나타내는데, X에 대해 p-위치에 있는 R1은 수소를 제외한 다른 기이며 ;Y는 산소, 황 또는 기 -NH-를 나타내고 ;R3는 기(식중 Alk는 탄소원자수 2~5의 직쇄 또는 측쇄 알킬렌기를 나타내고 ; 및 R4및 R5는 각각 독립적으로 수소, 저급 알킬기 또는 저급 히드록시알킬기, 또는 양자택일로, R4및 R5가 그들이 결합되어 있는 질소원자와 함께, 임의로 세컨드 헤테로원자를 함유하고 임의로 치환된 5-원 또는 6-원 시콜릭 아미노기를 형성한다.) ;기(식중, R6는 탄소원자수 1~4의 저급알킬기를 나타낸다.); 또는기(식중, R6는 상기에서 정의한 바와 동일하다,)를 나타낸다 ;A'는 (CH2)n(식중, n은 정수 2,3 또는 4를 나타낸다.)이고 ;Hal은 Cl,Br이다.]
- 하기 일반식(I)의 화합물 및 약제학적으로 허용가능한 무기산 또는 유기산과의 그의 염을 제조하는 방법으로서, 하기의 피리디존(b)를 적당한 용매 내에서 탄소수소 나트륨의 존재하에 과량의 포스포러스 팬타술피드와 함께 가열 시킴으로써 상용하는 티온으로 바꾸고 ; 수득된 티온을 Hal이 염소 및 브롬으로 구성된 군으로 부터 선택된 할로겐을 나타내는, 할라이드 Hal-R3와 함께 알코올 내에서 상응하는 소듐 알코올 레이트의 존재하에 또는 디메틸로픔 아미드내에서 반응시켜 치환 시키고 ; 및 적당하다면, 생성된 화합물(I)을 염으로 바꾸는 것을 특징으로 하는 일반식(I)의 화합물 및 약제학적으로 허용 가능한 무기산 또는 유기산과의 그이 염을 제조하는 방법.[상기 식들중, X는 기(CH2)n(식중, n은 정수 2,3 또는 4를 나타낸다.)를 나타내고 ;R1및 R2는, 독립적으로 수소 또는 할로겐, 저급 알킬기, 저급 알콕시기, 히드록시기, 티올기, 니트로기 및 임의로 치환된 아미노기로 구성된 군으로 부터 선택되어 벤젠고리의 자유 위치중 하나를 차지한 치환기를 나타내며 ;Y는 황원자를 나타내고 ;R3는 기(식중 Alk는 탄소원자수 2~5의 직쇄 또는 측쇄 알킬렌기를 나타내고 ; 및 R4및 R5는 각각 독립적으로 수소, 저급 알킬기 또는 저급 히드록시알킬기, 또는 양자택일로, R4및 R5가 그들이 결합되어 있는 질소원자와 함께, 임의로 세컨드 헤테로원자를 함유하고 임의로 치환된 5-원 또는 6-원 시콜릭 아미노기를 형성한다.) ;기(식중, R6는 탄소원자수 1~4의 저급알킬기를 나타낸다.); 또는기(식중, R6는 상기에서 정의한 바와 동일하다,)를 나타내며 ; 및A'는 (CH2)n(식중, n은 정수 2,3 또는 4를 나타낸다.)이고 )이다
- 하기 일반식(I)의 화합물 및 약제학적으로 허용가능한 무기산 또는 유기산과의 그의 염을 제조하는 방법으로서, 하기의 염소 유도체(c)를 암모늄 클로라이드의 존재하에 과량의 유도체 R3NH2와 함께 120~150℃에서 가열하고 ; X가 비닐렌기를 나타내는 화합물(I)을 그와 함께 생성된 X가 에틸렌기를 나타내는 화합물(I)로 부터 분리하여; 및 적당하다면 ;상기와 같이 분리된 화합물(I)을 염으로 바꾸는 것을 특징으로 하는 일반식(I)의 화합물 및 약제학적으로 허용가능한 무기산 또는 유기산과의 그의 염을 제조하는 방법[상기 식중, X는 비닐렌기를 나타내고 ;R1및 R2는, 독립적으로 수소 또는 할로겐, 저급 알킬기, 저급 알콕시기, 히드록시기, 티올기, 니트로기 및 임의로 치환된 아미노기로 구성된 군으로 부터 선택되어 벤젠고리의 자유 위치중 하나를 차지한 치환기를 나타내며 ;Y는 산소, 황 또는 기 -NH-를 나타내고 ; 및R3는 기(식중 Alk는 탄소원자수 2~5의 직쇄 또는 측쇄 알킬렌기를 나타내고 ; 및 R4및 R5는 각각 독립적으로 수소, 저급 알킬기 또는 저급 히드록시알킬기, 또는 양자택일로, R4및 R5가 그들이 결합되어 있는 질소원자와 함께, 임의로 세컨드 헤테로원자를 함유하고 임의로 치환된 5-원 또는 6-원 시콜릭 아미노기를 형성한다.) ;기(식중, R6는 탄소원자수 1~4의 저급 알킬기를 나타낸다.); 또는기(식중, R6는 상기에서 정의한 바와 동일하다,)를 나타내며 ;A'는 (CH2)2이고 ;및Hal은 Cl, Br 이다
- 하기 일반식(I)의 화합물 및 약제학적으로 허용가능한 무기산 또는 유기산과의 그의 염을 제조하는 방법으로서, 하기 일반식(B)의 피리디존을 포스포러스 옥시클로라이드로 처리함을 특징으로 하는 일반식(I)의 화합물 및 약제학적으로 허용 가능한 무기산 또는 유기산과의 그의 염을 제조하는방법 ;[상기 식들중, 비닐렌기를 나타내고 ;R1및 R2는, 독립적으로 수소 또는 할로겐, 저급알킬기, 저급 알콕시기, 히드록시기, 티올기, 니트로기 및 임의로 치환된 아미노기로 구성된 군으로 부터 선택되어 벤젠고리의 자유 위치중 하나를 차지한 치환기를 나타내며 ;Y는 산소, 황 또는 기 -NH-를 나타내고 ; 및R3는 기(식중 Alk는 탄소원자수 2~5의 직쇄 또는 측쇄 알킬렌기를 나타내고 ; 및 R4및 R5는 각각 독립적으로 수소, 저급알킬기 또는 저급 히드록시알킬기, 또는 양자택일로, R4및 R5가 그들이 결합되어 있는 질소원자와 함께, 임의로 세컨드 헤테로원자를 함유하고 임의로 치환된 5-원 또는 6-원 시콜릭 아미노기를 형성한다.) ;기(식중, R6는 탄소원자수 1~4의 저급알킬기를 나타낸다.); 또는기(식중, R6는 상기에서 정의한 바와 동일하다,)를 나타낸다]A'는 (CH2)n (식중, n은 정수 2,3 또는 4이다 ;이다)
- 하기 일반식(I)의 화합물 및 약제학적으로 허용 가능한 무기산 또는 유기산과의 그의 염을 제조하는 방법으로서, 식중,가 기 NH-CH2-CH2OH를 나타내는 일반식(I)의 상용하는 화합물을 에틸클로로아세테이트에 의한 질소의 치환및 생성된 히드록시에스테르의 고리화에 의해서 전환시키는 것을 특징으로 하는, 일반식(I)의 화합물 및 약제학적으로 허용 가능한 무기산 또는 유기산과의 그의 염을 제조하는 방법 ;[상기 식중, X는 기(CH2)n(식중, n은 정수 2,3 또는 4를 나타낸다.), 또는 양자택일로 비닐렌기 또는 메틸비닐렌기를 나타내고 ;R1 및 R2는, 독립적으로 수소 또는 할로겐, 저급알킬기, 저급 알콕시기, 히드록시기, 티올기, 니트로기 및 임의로 치환된 아미노기로 구성된 군으로 부터 선택되어 벤젠고리의 자유 위치중 하나를 차지한 치환기를 나타내며 ;Y는 산소, 황 또는 기 -NH-를 나타내고 ; 및R3는 기(식중 Alk는 탄소원자수 2~5의 직쇄 또는 측쇄 알킬렌기를 나타내고 ; 및NR4R5는 2-옥소모트폴리노기를 나타낸다.)를 나타낸다]
- 활성 원자로서, 하기 일반식(I)의 화합물 및 약제학적으로 허용가능한 무기산 또는 유기산과의 그의 염을 약제학적으로 가능한 부형제와 조합하여 함유하는 약학조성물;[상기 식중, X는 기(CH2)n(식중, n은 정수 2,3 또는 4를 나타낸다.), 또는 양자택일로 비닐렌기 또는 메틸비닐렌기를 나타내고 ;R1및 R2는, 독립적으로 수소 또는 할로겐, 저급 알킬기, 저급 알콕시기, 히드록시기, 티올기, 니트로기 및 임의로 치환된 아미노기로 구성된 군으로 부터 선택되어 벤젠고리의 자유 위치중 하나를 차지한 치환기를 나타내며 ;Y는 산소, 황 또는 기 -NH-를 나타내고 ; 및R3는 기(식중 Alk는 탄소원자수 2~5의 직쇄 또는 측쇄 알킬렌기를 나타내고 ; 및 R4및 R5는 각각 독립적으로 수소, 저급알킬기 또는 저급 히드록시알킬기, 또는 양자택일로, R4및 R5가 그들이 결합되어 있는 질소원자와 함께, 임의로 세컨드 헤테로원자를 함유하고 임의로 치환된 5-원 또는 6-원 시콜릭 아미노기를 형성한다.) ;기(식중, R6는 탄소원자수 1~4의 저급알킬기를 나타낸다.); 또는기(식중, R6는 상기에서 정의한 바와 동일하다. 를 나타낸다]※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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