KR870005445A - 반도체 집적회로 장치의 노출 패턴 데이타 조사 시스템 - Google Patents
반도체 집적회로 장치의 노출 패턴 데이타 조사 시스템 Download PDFInfo
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Abstract
내용 없음
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제 1a 내지 1c도는 패턴 배치 데이타의 제작을 설명하는 도.
제 2a 및 2b, 3a 및 3b, 4, 5a 내지 5c, 및 6도는 패턴 룰 체크를 설명하는 도.
제 7 도는 본 발명의 노출 패턴 데이타 검사 시스템의 윤곽을 보여주는 블록도.
제 8 도는 본 발명의 노출 패턴 데이타 검사 시스템의 실시예의 회로도.
제 9a 내지 9e도는 제 8 도에 표시된 데이타 입력 및 신호 해석장치의 동작을 설명하는 그래프.
제 10 도는 제 8 도에 표시된 슬리트 검사회로의 회로도.
제 11 도는 제 8 도에 표시된 노출 패턴 데이타 검사 시스템의 슬리트 검사 동작을 설명하는 흐름도.
제 12a 및 12b 도는 제 8 도에 표시된 노출 패턴 데이타 검사 시스템에 의한 슬리트 검사를 보여주는 도.
제 13a 내지 13c 도는 제 8 도에 표시된 노출 패턴 테이타 검사 시스템에 의한 패턴 비교검사를 보여주는 도.
제 14a 내지 14g 도는 제 8 도에 표시된 노출 패턴 데이타 검사 시스템에 의한 논리변화 패턴 검사를 보여주는 도.
제 15a 내지 15c 도는 중첩 패턴에 대한 검사 및 패턴의 연속성을 나타내는 도.
제 16 도는 다수 세그먼트를 가진 검사 영역을 지정하기 위한 도.
* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명
제 1 데이타 입력 및 신호 번역장치 : 100
제 2 데이타 입력 및 신호 번역장치 : 200
슬리트 검사회로 : 340, 350
논리회로 : 330
비교기 : 360
산술제어장치 : 300
CRTA : 371
CRTB : 373
CRTC : 372
Claims (14)
- 반도체 집적회로 장치의 십자선(reticle)을 형성하기 위한 노출 패턴 데이타를 조사하기 위한 시스템에 있어서 ; 검사 영역에 대한 요구에 응하여 좌표데이타 형식으로 노출 패턴 데이타를 입력하여, 2차원 형식의 실제패턴에 대응하는 데이타로 상기 입력 노출 패턴 데이타를 변환하고, 상기 변환된 데이타를 기억하며, 비데오 신호 형식으로 상기 기억된 데이타를 출력시키기 위한 수단 ; 상기 입력 및 변환 수단에 작동적으로 접속되어, 소정 패턴룰에 따라 상기 비데오 신호에 기초하여 상기 입력 및 변환 수단으로부터 상기 노출 패턴 데이타를 검사하기 위한 수단 ; 및 상기 패턴 검사장치에 작동적으로 접속되어 상기 검사 수단에서 검사된 데이타를 출력하기 위한 수단으로 구성되는 것을 특징으로 하는 노출 패턴 데이타 조사 시스템.
- 제 1 항에 있어서, 상기 패턴 검사수단은 상기 비데오 신호에 기초하여 기준치에 대하여 상기 검사 영역내의 지정 섹션의 상기 노출 패턴 데이타의 슬리트를 검사하기 위한 적어도 하나의 슬리트 검사 회로를 포함하는 것을 특징으로 하는 노출패턴 데이타 조사 시스템.
- 제 1 항에 있어서, 상기 패턴 검사 수단은 상기 검사 영역내의 지정 섹션의 상기 노출 패턴 데이타의 상태를 변경시키는 적어도 하나의 논리회로를 포함하는 것을 특징으로 하는 노출 패턴 데이타 조사 시스템.
- 제 1 항에 있어서, 상기 입력 및 변경수단은 동일한 검사 영역에 다수의 층에 대한 노출 패턴 데이타를 입력하며, 상기 패턴 검사수단은 상기 다수층의 패턴을 검사하는 것을 특징으로 하는 노출 패턴 데이타 조사 시스템.
- 제 1 항에 있어서, 상기 입력 및 변환수단은 서로 독립적으로 동작하며 동일한 구성을 갖는 2개의 입력 및 변환 장치를 포함하며, 이중 일 입력 및 변환장치는 조사될 노출 패턴 데이타를 입력하는데 사용되고, 다른 입력 및 변환장치는 기준 노출 패턴 데이타를 상기 조사 노출 패턴 데이타로 입력하는데 사용되는 것을 특징으로 하는 노출 패턴 데이타 조사 시스템.
- 제 5 항에 있어서, 상기 패턴 검사수단은 상기 2입력 및 변환 장치로 부터의 상기 노출 패턴 데이타를 비교하기 위한 비교기 회로를 포함하는 것을 특징으로 하는 노출 패턴 데이타 조사 시스템.
- 제 6 항에 있어서, 상기 패턴 검사수단은 더우기 상기 노출 패턴 데이타의 비교전에 상기 2입력 및 변환 장치로 부터의 적어도 하나의 노출 패턴 데이타를 변경하는 논리회로를 포함하는 것을 특징으로 하는 노출 패턴 데이타 조사 시스템.
- 제 5 항에 있어서, 상기 패턴 검사수단은 상기 2입력 및 변환장치로 부터의 상기 노출 패턴 데이타를 결합하기 위한 회로를 포함하는 것을 특징으로 하는 노출 패턴 데이타 조사 시스템.
- 제 8 항에 있어서, 상기 패턴 검사수단은 더우기 상기 노출 패턴 데이타의 결합전에 상기 2입력 및 변환장치로 부터의 적어도 일 노출 패턴 데이타를 변환하는 논리회로를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 노출 패턴 데이타 조사 시스템.
- 제 1 항에 있어서, 상기 입력 및 변환수단은 소정 데이타 입력 해상도로 상기 노출 패턴 데이타를 입력하고, 상기 패턴 검사수단은 상기 데이타 입력 해상도에 의해 정의되는 해상도에 따라 검사를 실행하는 것을 특징으로 하는 노출 패턴 데이타 조사 시스템.
- 제 1 항에 있어서, 상기 패턴 검사 수단은 상기 지정된 해상도의 검사를 실행하는 것을 특징으로 하는 패턴 데이타 조사 시스템.
- 제 1 항에 있어서, 상기 입력 및 변환수단은 데이타 입력속도 및 데이타 변환속도를 개선하기 위한 이중 데이타 기억장치를 포함하는 것을 특징으로 하는 노출 패턴 데이타 조사 시스템.
- 제 1 항에 있어서, 상기 출력수단은 상기 패턴 검사 결과를 시각적으로 조사하기 위한 음극선관 표시장치로 이루어지는 것을 특징으로 하는 노출 패턴 데이타 조사 시스템.
- 제 13 항에 있어서, 상기 출력수단은 더우기 상기 입력 및 변환 수단에 작동적으로 접속되어 상기 노출 패턴 데이타를 출력하는 것을 특징으로 하는 노출 패턴 데이타 조사 시스템.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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