KR870002151A - 3,7-이치환된 -3- 세펨 화합물의 제조방법 - Google Patents

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요시꼬 이나모또
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후지사와 토모끼찌로
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    • C07D501/00—Heterocyclic compounds containing 5-thia-1-azabicyclo [4.2.0] octane ring systems, i.e. compounds containing a ring system of the formula:, e.g. cephalosporins; Such ring systems being further condensed, e.g. 2,3-condensed with an oxygen-, nitrogen- or sulfur-containing hetero ring
    • C07D501/14—Compounds having a nitrogen atom directly attached in position 7
    • C07D501/16—Compounds having a nitrogen atom directly attached in position 7 with a double bond between positions 2 and 3
    • C07D501/20—7-Acylaminocephalosporanic or substituted 7-acylaminocephalosporanic acids in which the acyl radicals are derived from carboxylic acids
    • C07D501/24—7-Acylaminocephalosporanic or substituted 7-acylaminocephalosporanic acids in which the acyl radicals are derived from carboxylic acids with hydrocarbon radicals, substituted by hetero atoms or hetero rings, attached in position 3
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Abstract

내용 없음

Description

3,7-이치환된-3-세펨 화합물의 제조방법
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음

Claims (9)

  1. 일반식(II)의 화합물 또는 아미노 그룹 위치에서의 이의 반응성 유도체 또는 이의 염을 일반식(III)의 화합물 또는 카복시 그룹 위치에서의 이의 반응성 유도체 또는 이의 염과 반응시켜 일반식(I)의 화합물 또는 이의 염을 제조하는 방법.
    상기 식에서, R1은 아미노 또는 보호된 아미노이고, R2는 카복시 또는 보호된 카복시이며, R3은 수소 또는 하이드록시 보호그룹이다.
  2. 일반식(Ia)의 화합물 또는 이의 염의 카복시 보호그룹을 제거하여 일반식(Ib)의 화합물 또는 이의 염을 제조하는 방법.
    상기 식에서, R1은 아미노 또는 보호된 아미노이고, R3은 수소 또는 하이드록시 보호그룹이며, R2 a는 보호된 카복시이다.
  3. 일반식(IV)의 화합물 또는 이의 염을 일반식(V)의 화합물과 반응시켜 일반식(I)의 화합물 또는 이의 염을 제조하는 방법.
    상기 식에서, R1은 아미노 또는 보호된 아미노이고, R3은 카복시 또는 보호된 카복시이며, R3은 수소 또는 하이드록시 보호그룹이며, X는 산 잔기이다.
  4. 일반식(Ib)의 화합물 또는 이의 염을 에스테르화하여 일반식(Ic)의 화합물 또는 이의 염을 제조하는 방법.
    상기 식에서, R1은 아미노 또는 보호된 아미노이고, R3은 수소 또는 하이드록시 보호그룹이며, R2 b는 에스테르화된 카복시이다.
  5. 일반식(Id)의 화합물 또는 이의 염의 하이드록시 보호그룹을 제거하여 일반식(Ie) 의 화합물 또는 이의 염을 제조하는 방법.
    상기 식에서, R1은 아미노 또는 보호된 아미노이고, R2은 카복시 또는 보호된 카복시이며, Ra 3은 하이드록시 보호그룹이다.
  6. 일반식(If)의 화합물 또는 이의 염의 아미노 보호그룹을 제거하여 일반식(Ig)의 화합물 또는 이의 염을 제조하는 방법.
    상기 식에서, R2는 카복시 또는 보호된 카복시이고, R3은 수소 또는 하이드록시 보호그룹이며, Ra 1은 보호된 아미노이다.
  7. 일반식(VI)의 화합물 또는 이의 염을 일반식(IX)의 화합물 또는 이의 머캡토그룹 위치에서의 반응성 유도체와 반응시켜 일반식(I)의 화합물 또는 이의 염을 제조하는 방법.
    상기 식에서, R1은 아미노 또는 보호된 아미노이고, R2은 카복시 또는 보호된 카복시이고, R3은 수소 또는 하이드록시 보호그룹이고, Y는 구조식로 대치가능한 그룹이다.
  8. 일반식(II)의 화합물 또는 이의 아미노그룹 위치에서의 반응성 유도체 또는 이의 염을 일빈식(VII) 또는 이의 카복시 그룹 위치에서의 반응성 유도체 또는 이의 염과 반응시켜 일반식(VIII)의 화합물 또는 이의 염을 제조하는 방법.
    상기 식에서, R2은 카복시 또는 보호된 카복시이고, A는 메틸렌 또는 구조식 C=N~OR3의 그룹(여기서, R3은 수소 또는 하이드록시 보호그룹이다)이며, X는 산 잔기이다.
  9. 일반식(VIIIa)의 화합물 또는 이의 염을 니트로 소화제와 반응시켜 일반식(IVa) 의 화합물 또는 이의 염을 제조하는 방법.
    상기 식에서, R2은 카복시 또는 보호된 카복시이고, X는 산 잔기이다.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019860006429A 1985-08-05 1986-08-04 3,7-이치환된 -3- 세펨 화합물의 제조방법 KR870002151A (ko)

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