KR850008058A - 양성 포토레지스트 전개제 및 전개방법 - Google Patents

양성 포토레지스트 전개제 및 전개방법 Download PDF

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KR850008058A
KR850008058A KR1019850003309A KR850003309A KR850008058A KR 850008058 A KR850008058 A KR 850008058A KR 1019850003309 A KR1019850003309 A KR 1019850003309A KR 850003309 A KR850003309 A KR 850003309A KR 850008058 A KR850008058 A KR 850008058A
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KR1019850003309A
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죠셉 블레이커니 앤드류
Original Assignee
로이 에이취, 맷신길
알라이드 코오포레이션
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    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L33/00Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof

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  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
  • Non-Silver Salt Photosensitive Materials And Non-Silver Salt Photography (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)

Abstract

내용 없음

Description

양성 포토레지스트 전개제 및 전개방법
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
도면은 전개 후 잔류하는 정규화 필름두께대 필름에 주어진 노출의 로그값을 프롯트화한 전개제 콘트라스트 곡선(A)이다.

Claims (10)

  1. 기질에 부착되어 빛에 감광된, 나프로퀴논 디아지드 슬폰산 에스테르 및 알카리용해성 수지로 구성된 양성 포토레지스트필름을 다음 일반식(A)의 4차 암모늄염 또는 그 혼합물로부터 선택된 비금속이온계 양이온성 계면활성제 및 일반식(B)의 폴리옥시에틸렌계 알코올 또는 그 페놀류로부터 선택된 비금속이온계 비이온성 계면활성제를 전개제 중량의 최소한 0.0005%이상 포함하는 수성유기 수산화암모늄 전개제에 필름의 감광부분이 최소한 부분용해될 때까지 접촉시키고 건조시킴을 특징으로 하는 양성 포토레지스트의 전개방법.
    식중, R1은 (a) 탄소수 8-18개의 포화 또는 불포화, 분지쇄 또는 직쇄의 탄화수소이거나, (b)(여기서 R5는 탄소수 6-18개의 포화 또는 불포화의 분지쇄 또는 직쇄탄화수소이고 m은 1-2임)이거나, 또는 (C)(여기서 R6와 R7은 각각 탄소수 1-10개의 탄화수소이거나 수소이며 p는 1 또는 2임)이며, R2와 R3는 각각 (a) 탄소수 1-3개의 알킬기어거나, (b)(CH2CH2O)qH(여기서 q=1-2)이거나, (c)-(CH2)3 (s=1-5)이거나, (d) (CH2)S-CH(OH)CH2OH (여기서 s=1-2)이거나, (e) 탄소수 2-8개이고 0-2개의 수소, 질소 또는 황원자를 포함하는 지방족 고리탄화수소이며, R4는 (a) 탄소수 1-10개의 포화 또는 불포화, 분지쇄 또는 직쇄의 탄화수소이거나, (b) 알킬렌부분의 탄소소가 0-2개인 펜알킬기이거나, (c) 일반식의 화합물이거나, (여기서 R2와 R3는 앞서 정의한 바와 같으며 R8은 탄소수 1-10개의 포화 또는 불포화 탄화수소이고, t는 1-10임)이거나, (d) 일반식 R9R10R11SiR12의 화합물(여기서 R9,R10,R11은 각각 수소, 알킬기(C1-C10), 알콕시기(C1-C10), 페녹시기 (C1-C10)으로부터 선택되며, R12는 알킬렌(C1-C5)이거나 일반식(단 y=1-5)의 펜알킬렌기임)이며,
    식중, R은 (a) 탄소수 6-25개의 포화 또는 불포화알콕시기이거나, (b) 일반식의 치환페닐기(여기서 R2는 탄소수 6-25개의 포화 또는 불포화, 직쇄 또는 분지쇄의 탄화수소임)이거나, (c) 탄소수 1-15개의 직쇄 또는 분지쇄의 플루오로카본이거나, (d)일반식 R3R4N의 알킬아민기(여기서 R3와 R4는 각각 탄소수 1-25개의 직쇄 또는 분지쇄의 탄화수소이거나 혹은 R4는 -(CH2CH2O)nCH2CH2OR1임)이며,
    R1은 탄소수 1-6개의 직쇄 또는 분지쇄의 포화탄화수소이거나 수소이며,
    n은 4-100의 정수임.
  2. 청구범위 제1항에 있어서, 양이은성 계면화성제(A) 및 비이온성 계면화성제(B)가 전개제의 충중량비로 약0.0005-2%범위로 포함됨을 특징으로 하는, 양성 포토레지스트의 전개방법.
  3. 약 0.1-20wt%의 유기수산화암모늄을 포함하는 유기수산화암모늄 수용액과 다음 일반식(A)의 4차 암모늄염 또는 그 혼합물로부터 선택된 비금속이온계 양이온성 계면활성제 및 다음 일반식(B)의 폴리옥시에틸렌계 알코올 또는 폐놀류로부터 선택된 비금속이온계 비이온성 계면활성제로 구성된 양성 포토레지스트 전개제.
    식중, R1은(a) 탄소수 8-18개의 포화 또는 불포화, 분지쇄 또는 직쇄의 탄화수소이거나, (b)(여기서 R5는 탄소수 6-18개의 포화 또는 불포화의 분지쇄 또는 직쇄탄화수소이고 m은 1-2임)이거나, (c)(여기서 R6와 R7은 각각 탄소수 1-10개의 탄화수소이거나 수소이며 p는 1 또는 2임)이며, R2와 R3는 각각 (a) 탄소수 1-3개의 알킬기어거나, (b) (CH2CH2O)qH(여기서 q=1-2)이거나, (c)(S=1-5)이거나, (d) (CH2)S-CH(OH)CH2OH(여기서 s=1-2)이거나, (e) 탄소수 2-8개이고 0-2개의 수소, 질소 또는 황원자를 포함하는 지방족 고리탄화수소이며, R4는 (a) 탄소수 1-10개의 포화 또는 불포화, 분지쇄 또는 직쇄의 탄화수소이거나, (b) 알킬렌부분의 탄소수가 0-2개인 펜알킬기어거나, (c) 일반식의 화합물이거나, (여기서 R2와 R3는 앞서 정의한 바와 같으며 R6은 탄소수 1-10개의 포화 또는 불포화 탄화수소이고, t는 1-10임) (d) 일반식 R9R10R11SIR12의 화합물(여기서 R9, R10, R11은 각각 수소, 알킬기(C1-C10), 알콕시기(C1-C10), 페녹시기(C1-C10)으로부터 선택되며12R는 알킬렌(C1-C5)이거나, 일반식(단 y=1-5)의 펜알킬렌기임)이며,
    X-로부터 선택됨.
    식중, R은 (a) 탄소수 6-25개의 포화 또는 불포화 알콕시기이거나, (b) 일반식의 치환페닐기(역기서 R2는 탄소수 6-25개의 포화 또는 불포화, 직쇄 또는 분지쇄의 탄화수소)이거나 (c)탄소수 1-15개의 직쇄 또는 분지쇄의 플루오로카본이거나, (d) 일반식 R3R4N의 알킬아민기(여기서 R3와 R4는 각각 탄소수 1-25개의 직쇄 또는 분지쇄의 포화탄화수소이거나 또는 R4는 -(CH2CH2O)nCH2CH2OR1임)이며, R1은 탄소수 1-6개의 직쇄 또는 분지쇄의 포화탄화수소이거나 수소이며, n은 4-100의 정수임.
  4. 청구범위 제3항에 있어서, 유기수산화암모늄은 테트라메틸수산화암모늄 또는 2-히드록시에틸 트리메틸 수산화암모늄이고, 양이온성 계면활성제(A)의 존재비는 약 0.0005-0.5wt%이며, 비이온성 계면활성제(B)의 존재비는 약 0.001-1wt%인 것인, 양성 포토레지스트 전개제.
  5. 청구범위 제3항에 있어서, 양이온성 계면활성제(A)가다음 일반식의 화합물로부터 선택된 것인, 양성 포토레지스트 전개제.
    식중 R1은 앞서 정의한 바와 같으며 R2와 R3는 각각 (CH2CH2O)qH(q는 1또는 2)이거나 -(CH2)S 이거나, 메틸기이거나 또는(CH2)SCHOH-CH2OH(s는 1-5)이며 R4는 탄소수 1-10개의 포화 또는 불포화 분지쇄 또는 직쇄의 탄화수소이거나 또는 알킬렌부분의 탄소수가 0-2개인 펜알킬기임.
  6. 청구범위 제3항에 있어서, 비이온성 계면활성제(B)가 다음 일반식의 화합물로부터 선택된 것인, 양성 포토레지스트 전개제.
    R(CH2CH2O)nCH2CH2OR1
    식중 R은 (a) 탄소수 10-10개의 포화알콕시기이거나, (b)는 탄소수 6-20개의 직쇄 또는 분지쇄의 플루오로카본이거나, (c) 일반식 R3R4N의 알킬아민기(여기서 R3와 R4는 각각 탄소수 10-20개의 직쇄 또는 분지쇄의 탄화수소이거나 또는 R4는 -(CH2CH2O)nCH2CH2OR1이며, R1은 탄소수 1-6개의 직쇄 또는 분지쇄의 포화탄화수소이거나 수소이며, n은 4-25의 정수임.
  7. 청구범위 제3항에 있어서, 양이온성 계면활성제가 다음 화합물인 것인, 양성 포토레지스트 전개제.
  8. 청구범위 제3항에 있어서, 양이온성 계면활성제가 다음 일반식의 화합물인 것인, 양성포토레지스트전개제.
    R-N+(Me)(CH2CH2OH)2C1-
    식중, R은 코코넛 오일로부터 유도된 탄소수 12-14개의 탄화수소임.
  9. 청구범위 제3항에 있어서, 양이온성 계면활성제가 다음의 화합물로부터 선택된 것인, 양성포토테지스트 전개제.
    또는
  10. 청구범위 제3항에 있어서, 비이온성 계면활성제가 다음의 화합물들로부터 선택된 것인, 양성 포토레지스트 전개제.
    F(CF2CF2)3-8(CH2CH2O)5-25CH2CH2OH,
    C10H21O(CH2CH2O)6CH2CH2OH,
    C12H23N[(CH2CH2O)4-10CH2CH2OH]2
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019850003309A 1984-05-16 1985-05-15 양성 포토레지스트 전개제 및 전개방법 KR850008058A (ko)

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