KR850000732A - 원자로에서의 금속 표면 오염제거 방법 및 장치 - Google Patents
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Abstract
내용 없음.
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
도면은 본 발명의 방법을 수행하기 위한 장치의 약도.
Claims (25)
- 방사성 물질을포함한 산화물이 피복된 금속표면을 오염제거하기 위한 방법에 있어서, (가) 복합체내에서 적어도 109의 제2철이온으로 평형상수를 갖는 동시에 물에서 2내지 3의 pH를 산출할 수 있는 0.02 내지 0.5%의 수용성 유기산과, 복합체내에서 1015내지 101 9의 제2철이온으로 평형상수를 갖는동시에 40℃의 물에서 적어도 0.4% 용해가능한 2내지 3의 pH를 갖는 유리산 형태로의 0.01 내지 0.4의 키일레이트로부터 물을 포함하는 오염제거 수용액을 마련하며, (나) 상기 오염제거 수용액을 70 내지 200℃로 가열하며, (다) 상기 오염제거 수용액의 방사능이 상기 금속표면과 접촉하여 상당량 증가하지 않을때까지 상기 금속표면 상부와 양이온 교환수지를 통해 상기 오염제거수용액을 순환시키며, (라) 0.2내지 2.5의 알칼리 금속과망간산염과 0.2내지 2.5%의 알카리 금속 수산화물로부터 물을 포함하는 산화수용액을 마련하며, (마) 상기 산화수용액을 70내지 200℃로 가열하며, (바) 상기 산화수용액내에 있는 중크롬산염의 수준이 상당량 증가하지 않을 때까지 상기 금속표면 상부로 상기 산화수용액을 순환시키며, (사) 상기 오염제거 수용액이 상기 금속표면과 접촉한 후의 방사능이 상당량 증가하지 않을때까지 상기 금속표면상부와 양이온교환수지를 통해 상기 오염제거수용액을 순환시키는 것을 특징으로 하는 원자로에서의 금속표면 오염제거 방법.
- 제1항에 있어서, 단계(바), (사)가 반복되는 것을 특징으로 하는 원자로에서의 금속표면 오염제거방법.
- 제1항 또는 제2항에 있어서, 유기산이 시트르산인 것을 특징으로 하는 원자로에서의 금속표면 오염제거 방법.
- 제1항, 제2항 또는 제3항에 있어서, 키일레이트가 니트릴로 삼아세트 산인것을 특징으로 하는 원자로에서의 금속표면 오염제거 방법.
- 제1항, 제2항 또는 제3항에 있어서, 알칼리 금속 과망간산염이 포타슘과망간산염이고 알카리 금속 수산화물이 수산화나트륨인 것을 특징으로 하는 원자로에서의 금속표면 오염제거방법.
- 제1항 내지 제5항중 어느 한항에 있어서, 산화수용액이 0.5내지 1%의 알카리 금속과망간산염으로 이루어지며, 상기 오염제거수용액이 0.05 내지 3%의 시트르산과 0.03 내지 0.2%니트릴로 삼아세트산으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 원자로에서의 금속 표면오염제거 방법.
- 제1항내지 제6항중 어느 한항에 있어서, 물이 탈이온수인 것을 특징으로 하는 원자로에서의 금속표면 오염 제거 방법.
- 제1항내지 제7항중 어느 한항에 있어서, 탈이온수로 상기금속표면을 세척하는 부가적인 단계가 포함되는 것을 특징으로 하는 원자로에서의 금속표면 오염제거 방법.
- 제1항내지 8항중 어느 한항에 있어서, 금속표면이 가압수형 원자로에 있는 증기 발생기내의 관인 것을 특징으로 하는 원자로에서의 금속표면 오염제거 방법.
- 제9항에 있어서, 오염제거 수용액이 상기 양이온 교환 수지로 순환되기 전에 상기관을 여러차례 상승 및 하강하는 것을 특징으로 하는 원자로에서의 금속표면 오염제거방법.
- 제1항 내지 제10항중 어느 한항에 있어서, 단계(다)와 (라)사이와, 단계(바)와 (사)사이에 70내지 200℃로 가열된 물로 상기 금속표면을 세척하며 상기물을 혼합 양이온-음이온 교환수지 상부로 통과시키는 부가적인 단계가 포함되는 것을 특징으로 하는 원자로에서의 금속표면 오염제거 방법.
- 제1항내지 제11항중 어느 한항에 있어서, 상기 오염제거 수용액을 음이온 교환수지를 통해 순환시키며, 상기 산화수용액을 제2혼합양이온-음이온 교환수지를 통해 순환시키는 부가적인 단계가 포함되는 것을 특징으로 하는 원자로에서의 금속표면 오염제거 방법.
- 제1항내지 제12항중 어느 한항에 있어서, 양이온 교환수지가 강산인 것을 특징으로 하는 원자로에서의 금속표면 오염제거 방법.
- 제12항에 있어서, 음이온 교환수지가 약산인 것을 특징으로 하는 원자로에서의 금속표면 오염제거 방법.
- 제11항에 있어서, 혼합 양이온-음이온 교환수지가 강산과 강염기의 혼합물인 것을 특징으로 하는 원자로에서의 금속표면 오염제거 방법.
- 제12항에 있어서, 제2혼합 양이온-음이온 교환수지가 강산과 강염기의 혼합물인 것을 특징으로 하는 원자로에서의 금속표면 오염제거 방법.
- 방사성 물질을 포함하는 피복체가 있는 금속표면을 오염 제거하기 위한 장치에 있어서, 오염 제거 수용액을 보지하기 위한 오염제거 탱크, 상기 오염제거 탱크와 상기 금속표면사이에 상기 오염 제거수용액을 순환시키기 위한 장치, 양이온교환수지를 보지하는 양이온 교환칼럼, 상기 오염제거 탱크와 상기 양이온 교환컬럼사이에 상기 오염제거수용액을 순환시키는 장치, 산화수용액을 보지하기 위한 산화탱크, 상기 산화탱크와 상기 금속표면 사이에 상기 산화수용액을 순환시키기 위한장치, 물을 수용하기 위한 물탱크, 상기 물탱크와 상기 금속표면사이에 물을 순환시키기 위한 장치, 혼합 양이온-음이온 교환칼럼, 및 상기 물탱크와 상기 혼합 양이온-음이온 교환컬럼 사이에 상기물을 순환시키기 위한 장치를 구비하는 것을 특징으로 하는 원자로에서의 금속표면 오염제거 장치.
- 제17항에 있어서, 음이온 교환수지를 수용하는 음이교환 컬럼과, 상기 오염제거 탱크로 부터 상기 오염제거 수용액을 상기 산화탱크와 상기 음이온 교환컬럼을 통해 순환시키기 위한 장치가 포함되는 것을 특징으로 하는 원자로에서의 금속표면오염제거 장치.
- 제17항 또는 제18항에 있어서, 제2혼합 양이온-음이온 교환수지를 수용하는 제2혼합 양이온-음이온 교환컬럼, 및 상기 산화수용액을 상기 산화탱크로 부터 상기 제2혼합양이온-음이온 교환 컬럼으로부터 순환시키는 장치가 포함되는 것을 특징으로 하는 원자로에서의 금속표면 오염제거 장치.
- 제17항에 있어서, 양이온 교환수지가 강산이며 혼합양이온-음이온 교환수지가 강산 및 강염기인 것을 특징으로 하는 원자로에서의 금속표면 오염제거 장치.
- 제18항에 있어서, 음이온 교환수지가 약산인 것을 특징으로 하는 원자로에서의 금속 표면 오염제거 장치.
- 제19항에 있어서, 제2혼합양이온-음이온 교환수지가 강산 및 강염기인 것을 특징으로 하는 원자로에서의 금속표면 오염제거 장치.
- 산화수용액에서 있어서, 상기 수용액이 0.2내지 2.5%의 알칼리 금속과망간산염과 0.2내지 1.5%의 알카리 금속 수산화물 및 97내지 98.6%의 물로 이루어지는 동시에 상기 알카리 금속 과망간산염의 양이 적어도 상기 알카리 금속수산화물의 양과 동일한 것을 특징으로 하는 산화수용액.
- 제23항에 있어서, 상기 알카리 금속과망간산염의 양이 0.5내지 1%이며, 상기 알카리 금속수산화물의 양이 0.5내지 1%인 것을 특징으로 하는 산화 수용액.
- 제23항 또는 제24항에 있어서, 알카리금속 과망간산염이 포타슘 과망간산염이며, 상기 알카리 금속수산화물이 수산화나트륨인 것을 특징으로 하는 산화 수용액.※참고사항:최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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