KR840006727A - 반도체 기상성장 장치 - Google Patents

반도체 기상성장 장치 Download PDF

Info

Publication number
KR840006727A
KR840006727A KR1019830005595A KR830005595A KR840006727A KR 840006727 A KR840006727 A KR 840006727A KR 1019830005595 A KR1019830005595 A KR 1019830005595A KR 830005595 A KR830005595 A KR 830005595A KR 840006727 A KR840006727 A KR 840006727A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
susceptor
semiconductor
growth apparatus
substrate
vapor phase
Prior art date
Application number
KR1019830005595A
Other languages
English (en)
Other versions
KR880001438B1 (ko
Inventor
히또시 에바다 (외 1)
Original Assignee
이이무라 가즈오
도오시바 기까이 가부시기 가이샤
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 이이무라 가즈오, 도오시바 기까이 가부시기 가이샤 filed Critical 이이무라 가즈오
Publication of KR840006727A publication Critical patent/KR840006727A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR880001438B1 publication Critical patent/KR880001438B1/ko

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/68Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for positioning, orientation or alignment
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/44Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
    • C23C16/54Apparatus specially adapted for continuous coating
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/677Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations
    • H01L21/67739Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations into and out of processing chamber
    • H01L21/67745Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations into and out of processing chamber characterized by movements or sequence of movements of transfer devices
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S414/00Material or article handling
    • Y10S414/135Associated with semiconductor wafer handling

Abstract

내용없음

Description

반도체 기상성장 장치
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도는 본 발명에 의한 반도체 기상성장 장치의 한 실시예를 나타내는 부분파단 사시도,
제2도는 반응로 및 반출입장치의 부분단면도,
제3도는 제어장치의 블록구성도.

Claims (13)

  1. 회전 또는 이동가능하게 설치된 서셉타상에 복수개의 기판을 배열하고, 이 기판상에 에피탁시얼층을 형성하는 반도체 기상성장 장치에 있어서, 서셉타상에 배열되는 기판의 위치에 관한 데이터의 기억부와 상기 데이터에 의하여 서셉터를 소정위치에 정지시키는 위치 결정수단과, 위치 결정된 서셉터에 대한 기판의 반출입장치를 구비하는 것을 특징으로 하는 반도체 기상성장 장치.
  2. 상기 서셉타는 회전반으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 특허청구의 범위 1기재의 반도체 기상성장 장치.
  3. 상기 서셉터는 다각단면상을 이루는 회동편으로 구성되어 있는 것을 특징으로 하는 특허청구의 범위 1기재의 반도체 기상성장 장치.
  4. 상기 반도체 기상성장 장치는 상기 서셉타상에 상기 반도체 기판을 반출입하는 수단으로 구성되어 있는 것을 특징으로 하는 상기 특허청구의 범위 1기재의 반도체 기상성장 장치.
  5. 상기 반도체 기판은 상이한 반경을 가진 한개 이상의 원주상에 따라 상기 회전판형상의 서셉타상에 배열되며, 상기 반도체기판은 서로 겹쳐지지 않게 배치되어 있는 것을 특징으로 하는 특허청구 범위 2기재의 반도체 기상성장 장치.
  6. 반도체시험편은 상기 기판이 인접기판 사이에 기재되므로 동일 또는 상이한 구성을 가진 반도체 시험편으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 특허청구 범위 5기재의 반도체 기상성장 장치.
  7. 상기 반도체 기판은 극좌표평면상에 배열되며, 상기 서셉타는 상기 극좌표의 일방향에 따라 위치되며, 상기 반출입수단은 상기 극좌표의 다른 방향에 따라 상기 반도체 기판을 위치시키도록 구성되어 있는 것을 특징으로 하는 특허청구 범위 4기재의 반도체 기상성장 장치.
  8. 상기 회전판은 상기 데이터에 의하여 소정환상위치에 정지되어 있는 것을 특징으로 하는 특허청구의 범위 2기재의 반도체 기상성장 장치.
  9. 상기 기억부에는 상기 서셉터의 환상위치에 관한 데이터를 저장하는 복수개의 기억영역이 설치되어 있는 것을 특징으로 하는 특허청구 범위 4기재의 반도체 기상성장 장치.
  10. 상기 기역영역은 원형판상 서셉터상에 상기 반도체 기판의 방사위치에 관한 다른 데이터를 저장하며, 상기 반출입수단은 상기 다른 데이터에 의하여 위치되어 있는 것을 특징으로 하는 특허청구의 범위 9기재의 반도체 기상성장 장치.
  11. 상기 기억부는 상이한 규격을 가진 기판에 대응한 복수개의 위치에 관한 다른 데이터를 저장하는 것을 특징으로 하는 특허청구의 범위 1기재의 반도체 기상성장 장치.
  12. 상기 다각회전 서셉타는 그 축에 따라 변경가능하게 이루어지는 것을 특징으로 하는 특허청구의 범위 3기재의 반도체 기상성장 장치.
  13. 상기 기억부는 상기 회전각의 절대치 및 상기 원의 반경으로 상기 기판의 장착될 곳에 있는 상기 서셉타의 회전각을 저장하는 복수개의 기억 영역을 가지고 있는 것을 특징으로 하는 특허청구의 범위 5기재의 반도체 기상성장 장치.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019830005595A 1982-11-27 1983-11-26 반도체 기상성장장치 KR880001438B1 (ko)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP82-207,954 1982-11-27
JP57207954A JPS5998520A (ja) 1982-11-27 1982-11-27 半導体気相成長装置
JP207954 1982-11-27

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR840006727A true KR840006727A (ko) 1984-12-01
KR880001438B1 KR880001438B1 (ko) 1988-08-08

Family

ID=16548283

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1019830005595A KR880001438B1 (ko) 1982-11-27 1983-11-26 반도체 기상성장장치

Country Status (3)

Country Link
US (1) US4770121A (ko)
JP (1) JPS5998520A (ko)
KR (1) KR880001438B1 (ko)

Families Citing this family (26)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5198034A (en) * 1987-03-31 1993-03-30 Epsilon Technology, Inc. Rotatable substrate supporting mechanism with temperature sensing device for use in chemical vapor deposition equipment
US5117769A (en) * 1987-03-31 1992-06-02 Epsilon Technology, Inc. Drive shaft apparatus for a susceptor
US4996942A (en) * 1987-03-31 1991-03-05 Epsilon Technology, Inc. Rotatable substrate supporting susceptor with temperature sensors
JPH0691952B2 (ja) * 1987-04-17 1994-11-16 株式会社日立製作所 真空装置
KR970006206B1 (ko) * 1988-02-10 1997-04-24 도오교오 에레구토론 가부시끼가이샤 자동 도포 시스템
US5041907A (en) * 1990-01-29 1991-08-20 Technistar Corporation Automated assembly and packaging system
US5040056A (en) * 1990-01-29 1991-08-13 Technistar Corporation Automated system for locating and transferring objects on a conveyor belt
JPH06252241A (ja) * 1993-03-02 1994-09-09 Toshiba Corp 半導体製造装置
US6245189B1 (en) 1994-12-05 2001-06-12 Nordson Corporation High Throughput plasma treatment system
JPH0964148A (ja) * 1995-08-18 1997-03-07 Shinkawa Ltd ウェーハリングの供給・返送装置
JP3602372B2 (ja) * 1999-06-07 2004-12-15 松下電器産業株式会社 真空処理装置
US6972071B1 (en) 1999-07-13 2005-12-06 Nordson Corporation High-speed symmetrical plasma treatment system
US6709522B1 (en) 2000-07-11 2004-03-23 Nordson Corporation Material handling system and methods for a multichamber plasma treatment system
US7063301B2 (en) * 2000-11-03 2006-06-20 Applied Materials, Inc. Facilities connection bucket for pre-facilitation of wafer fabrication equipment
US7032614B2 (en) * 2000-11-03 2006-04-25 Applied Materials, Inc. Facilities connection box for pre-facilitation of wafer fabrication equipment
US6841033B2 (en) * 2001-03-21 2005-01-11 Nordson Corporation Material handling system and method for a multi-workpiece plasma treatment system
TW559905B (en) * 2001-08-10 2003-11-01 Toshiba Corp Vertical chemical vapor deposition system cross-reference to related applications
JP4515275B2 (ja) * 2005-01-31 2010-07-28 大日本スクリーン製造株式会社 基板処理装置
US20060281310A1 (en) * 2005-06-08 2006-12-14 Applied Materials, Inc. Rotating substrate support and methods of use
US20070082588A1 (en) * 2005-09-27 2007-04-12 De Vries Nicholas Methods and apparatus for coupling semiconductor device manufacturing equipment to the facilities of a manufacturing location
US8022372B2 (en) * 2008-02-15 2011-09-20 Veeco Instruments Inc. Apparatus and method for batch non-contact material characterization
US9653340B2 (en) 2011-05-31 2017-05-16 Veeco Instruments Inc. Heated wafer carrier profiling
JP2014179508A (ja) * 2013-03-15 2014-09-25 Tokyo Electron Ltd 基板処理装置及び基板処理方法
JP6078407B2 (ja) * 2013-04-05 2017-02-08 古河機械金属株式会社 ベルジャ
WO2014200927A1 (en) * 2013-06-10 2014-12-18 View, Inc. Glass pallet for sputtering systems
US11688589B2 (en) 2013-06-10 2023-06-27 View, Inc. Carrier with vertical grid for supporting substrates in coater

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3306471A (en) * 1964-05-19 1967-02-28 George C Devol Programmed apparatus
US3765763A (en) * 1969-07-29 1973-10-16 Texas Instruments Inc Automatic slice processing
US3749383A (en) * 1971-04-29 1973-07-31 Rca Corp Apparatus for processing semiconductor devices
JPS5024686A (ko) * 1973-07-09 1975-03-15
US3918593A (en) * 1973-11-26 1975-11-11 Monark Crescent Ab Article handling and transferring machine
US3989003A (en) * 1974-03-15 1976-11-02 The Sippican Corporation Paint spray control system
US4207836A (en) * 1977-07-01 1980-06-17 Hitachi, Ltd. Vacuum vapor-deposition apparatus
US4293249A (en) * 1980-03-03 1981-10-06 Texas Instruments Incorporated Material handling system and method for manufacturing line
US4433951A (en) * 1981-02-13 1984-02-28 Lam Research Corporation Modular loadlock
US4386578A (en) * 1981-05-26 1983-06-07 The Boeing Company High velocity metallic mass increment vacuum deposit gun

Also Published As

Publication number Publication date
KR880001438B1 (ko) 1988-08-08
JPS5998520A (ja) 1984-06-06
US4770121A (en) 1988-09-13

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR840006727A (ko) 반도체 기상성장 장치
ES482775A1 (es) Un soporte para platos giratorios porta-botellas
ES226637U (es) Dispensador perfeccionado para materiales volatiles.
BR7603830A (pt) Aparelho para carregar materiais liquidos em um disco rotativo
KR900702625A (ko) 타코 제너레이터
IT1091351B (it) Procedimento per formare uno strato epitassiale sulla superficie di un sottostrato particolarmente per semiconduttori
Cotton et al. Preparation and molecular structure of a σ-bonded lanthanide phenyl
JPS625548A (ja) イオンビ−ム加工装置
DE3668717D1 (de) Duennfilmtraeger fuer vertikale magnetische aufzeichnung mit substrat, zwischenschicht und magnetisierbarer schicht.
JPS56101459A (en) Seal-ring type shaft sealing device
JP2643240B2 (ja) レーダビーム走査方式
JPS5835612Y2 (ja) レンズホルダ−
IT1271659B (it) Pacco di lamierini magnetici per macchine elettriche rotanti e simili, ad elevata superficie raffreddante
JPH01287939A (ja) ウェハ位置決め機構
JPS51112263A (en) Semiconductor surface processor base
JP2526071Y2 (ja) 回転塗布装置の回転吸着ヘッド
KR100238202B1 (ko) 서셉터를 구비한 반도체소자 제조장치 및 서셉터 제조방법
JPH0345947Y2 (ko)
JPH0145626B2 (ko)
JPH01268541A (ja) Ct装置
JPH04335107A (ja) 回転体の角度位置検出装置
JPH08127Y2 (ja) ワークのラッピング装置
JPH07108421A (ja) アライメントマークの自動サーチ方式
JPS6311245A (ja) 組立治具パレツト
ES219737U (es) Tulipa para lamparas.

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E601 Decision to refuse application
J2X1 Appeal (before the patent court)

Free format text: APPEAL AGAINST DECISION TO DECLINE REFUSAL

G160 Decision to publish patent application
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 19950713

Year of fee payment: 8

LAPS Lapse due to unpaid annual fee