KR820001913B1 - 디스아조 염료 조성물 - Google Patents

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세이조 고오니시
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우따지 사와
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    • C09B33/08Disazo dyes in which the coupling component is a hydroxy-amino compound
    • C09B33/10Disazo dyes in which the coupling component is a hydroxy-amino compound in which the coupling component is an amino naphthol

Abstract

내용 없음.

Description

[발명의 명칭]
디스아조 염료 조성물
[발명의 상세한 설명]
본 발명은 디스아조염료조성물과 그의 제조 방법에 관한 것이다. 더 상세히 설명하면, 본 발명은 우수한 디스아 조염료 조성물과 공업적으로 유익한 방법으로 이 염료를 제조하는 방법에 관한 것이다.
1-아미노-8-나프톨-3, 6-디설폰산으로 4-아미노페닐-β-설페이토에틸설폰을 커플링 디아조하여 제조된 흑색 염료는 칼라인덱스에서 시. 아이(C.I) 반응성 특색 5호로 잘 알려졌다.
이 흑색 염료를 제조하는 공지의 방법에서 4-아미노페닐-β-설페이토에틸설폰의 합성은 곤란하여 그 방법은 상품화에 만족스럽지 못하다.
통상 4-아미노페닐-β-설페이토에틸설폰은
(1) 묽은 무기산 중 4-아세틸아미노페닐-β-하이드록시 에틸설폰을 가수분해하고 가수분해 생성물을 분리한 후 이 생성물을 농황산으로 그의 설페이트에스테르로 전환시키므로서 생성하는 것과
(2) 농황산 중 4-아세틸아미노페밀-β하이드록시설폰의 아세틸아미노기를 가수분해하고 이 가수분해 생성물과 부생성물(4-아미노페닐-β-아세톡시에틸설폰)을 발열황산을 가해 그의 설페이토 에스테르로전환시켜 생성하는 것과
(3) 4-아세틸아미노페닐-β-하이드록시에틸설폰을 그의 설페이토에스테르로 전환시키고 아세틸아미노기를 묽은 황산으로 가수분해시켜 생성된다.
그러나 이들 잘 알려진 방법들은 공정 중 문제가 있고 많은 량의 황산이나 발연황산이 요구된다. 결과적으로는 많은 공정. 예를 들면 황산의 제거 및 폐 무기산의 처리가 요구되며 생성물의 수율을 낮추게 한다.
이러한 문제를 제거하려는 연구의 결과, 본 발명자들은 본 발명에 이르게 되었다.
본 발명은 유리산의 형태로 표시된 다음 구조식(Ⅰ)의 디스아보염료 하나 이상과 유리산이 형태로표시된 다음 구조식(Ⅱ)의 디스아조염료 하나이상을 함유하는 염료조성물을 제공하고 또한 4-아미노페닐-β-설페이토에틸설폰과 4-아미노페닐-β -아세톡시에틸설폰을 30내지 70대 70내지 30의 비율의 혼합물을 아질산염으로 디아조화하고 디아조늄염을 1-아미노-8-나프톨-3.6-디설폰산으로 커플링시킴을 특징으로 하는 상기 염료 조성물의 제조 방법을 부여하고 더 나아가 농황산 중 4-아세틸아미노페닐-β-하이드록시에틸폰을 80 내지 130℃에서 가열하여 4-아미노페닐-β-설페이토설폰과 4-아미노페닐-β-아세톡시에틸설폰을 30대 70내지 70대 30의 비율의 혼합물을 얻고 (이 때 황산의 양은 4-아세틸아미노페닐-β-하이록시에틸설폰 1몰당 2.4내지 3.8몰임). 이 혼합물을 아질산염으로 디아조화한 후 생성된 디아조늄의 혼합물을 1-아미노-8-나프톨-3.6-디설폰산으로 커플링함을 특징으로 하여 상기 염료조 성물의 제조방법을 제공하는 것이다.
Figure kpo00001
상기식에서
X1및 X2는 -SO2CH2CH2OCOCH3,- -SO2CH2CH2OSO3H 또는 -SO2CH=CH2이며 단, X1및 X2중의 적어도 하나는 -SO2CH2CH2OCOCH3이다.
Y1및 Y2는 -SO2CH2CH2OSO3H, -SO2CH=CH2또는 -SO2CH2CH2OH이며 단, Y1및 Y2중 적어도 하나는 -SO2CH2CH2OSO3H
커플링이 완료된 직후 생성물(커플링반응혼합물)은 유리산으로 표시된 다음 구조식(1), (2), (3) 및 (4)의 각 화합물을 5내지 50중량%를 함유한다.
Figure kpo00002
Figure kpo00003
상기식에서
X는 -SO2CH2CH2OSO3H이고
Y는 -SO2CH2CH2OCOCH3이다.
그러나 이 혼합물은 연속농축 또는 커플링 반응혼 합물의 건조과정에서 성분 염료(Ⅰ)과 (Ⅱ)를 함유하는 전술한 염료조성물로 변한다.
성분 염료 (Ⅰ) 및 (Ⅱ)의 각각 함량은 반응조건에 따라 변하나 일반적으로 20 내지 80중량 퍼센트, 통상 30내지 70중량퍼센트의 범위내이다. 성분염료 (Ⅰ)은 신규의 화합물이며 이는 반포된 간행물에 실제로 기재되어 있지 않으며 다른 염료(Ⅱ)는 공지의 방법에 의해제조된다.
본 발명의 특성은 전술한 염료조성물의 제조에 유익한 방법을 부여한다. 즉 본 발명에 따라서 4-이세틸아미노페닐-β-하이드록시에틸설폰의 가수분해 및 에스테르화는 소량의 황산으로 달성될 수 있어, 큰 이점은 반응혼합물이 최종생성물로 진행하는 연속단계로 수행할 수 있는 것이다.
본 발명의 방법에서 출발물질에 대해 2.4내지 3.8배의 황산이면 충분하고, 이 양은 종래 방법에서 사용하던 것 보다 상당히 적은량이다. 결국 반응 종료후 과량의 황산을 중화하는 것과 부생된 황산나트륨의 분리가 감소될 수 있다.
본 발명에 따라서, 모든 각 가수분해 및 4-아세닐아미노페닐-β-하이드록시에틸설폰을 황산으로 에스테르하는 것 및 염료공정이 중간생성물의 분리나 여과하지 않고 일단계로 수행될 수 있다. 더우기 충분한 염색친화력을 갖는 최종생성물은 단지 염료-함유 반응혼합물을 건조시키므로서 생성될 수 있다. 그외에 반응진행이 매우 수월하고 염료의 수율이 종래의 방법에 비해 현저히 진보된 것이다.
본 발명의 또다른 특성은 본 발명의 염료조성물이 구조식(Ⅱ)의 염료 단독으로 하는 것보다 염색 수행(예, 용해도, 염색능, 착색성)이 우수하다. 본 발명의 염료 조성물은 자연섬유 또는 셀루로오즈섬유를 염색하는 데 사용할 때 다음의 염색수형을 나타낸다.
1. 침지 염색
머어서 가공(mercerized) 면실상에 고착된 염료의 양이 1과 4%(o.w.f) 사이에서 증가 되었다.
2. 단일상 날염
칼라 페이스트의 안정도는 2.0%(o.w.f)의 중탄산나트륨이 4.0%(o.w.p)의 칼라 페이스트에 가할 때에도 양호했다. 더우기 이 날염법에 따라 모노클로로트리아진계 염료와의 조합염료가 가능하다.
3. 이상(二相) 날염
고착제 RC(알칼리 시약)로 머어서가 공목면의 얼룩날염에서 착색성질은 1%와 11%(o.w.p) 사이에서 선모양으로 증가되었다. 또한 염색능이 우수하였고 특별히 인견날염에 빠른 증가를 나타냈고 약 2.5%(o.w.p)에서 흑색을 생성하는데 염색 평형에 도달했다. 또한 고착율은 염료농도에 관계없이 94%(목면)이 항수를 유지했다.
4. 2조(二槽)-패드공정과 뱃취염색
참치 염색에서와 같은 염색수행이 이 염료방법에서도 얻어졌다.
본 발명에 따른 구조식(1)에 유사한 구조식을 갖는 가지의 염료가 미국특허 제3,114,754호의 실시예 61에 기재되었다. 본 발명의 염료조성물이 전술한 기지의 염료보다 우수하다는 것을 주목할만하다. 다음 본 발명의 방법을 더 상세히 예시한다.
본 방법의 처음반응(가수분해 및 에스테르)에서 4-아미노페닐-β-설페이토(및 β-아세톡시) 에틸설폰의 제조에 출발물질인 4-아세틸아미노페닐-β-하이드록시에틸설폰은 96내지 100%의 순도(건조상태에서)를 갖는다. 본 발명의 방법에서 사용된 농황산은 90내지 102%의 황산, 바람직하기로는 95내지 100%황산을 함유한다. 사용된 황산의 양은 전술한 출발물질 1물에 대해 2.4 내지 3.8물, 바람직하기로는 2.85 내지 3.25물이 사용되었다.
이 반은은 80내지 130℃ 바람직하기로는 95내지 115℃의 온도에서 교반하여 수행한다. 제조된 4-아미노페닐-β-설페이토(및 β-아세톡시)에틸설폰의 전량은 이론치의 80내지 100%에 달한다. β-아세톡시화합물의 양은 β-설페이토와 균형을 이루면서 30내지 70중량퍼센트의 범위내이다. 이 반응은 예를 들면 이어서 크로마토그라피하여 1내지 10시간내에 고수율로 얻는다.
본 발명의 방법의 둘째 반응(디아조화)에서 4-아미노페닐-β-설페이토(및 아세톡시)에틸설폰의 생성혼합물을 산성매질하에서 상당히 낮은온도(약 0 내지 20℃)에서 아질산염으로 디아조화한다. 아질산염으로 알칼리금속의 아질산염, 특히 아질산나트륨이 바람직하다. 이 경우에 아질산염은 아민을 함유하는 산성매질에 부분적으로 가하는 통상의 디아조화반응 및 아민이 중성화에 의해 용해되고 아질산염으로 혼합된 후 생성용액을 산성매질에 가하는 가역디아조화 반응이 적용될 수 있다. 사용된 산은 황산과 염산과 같은 통상의 무지산을 포함한다.
커플링 성분인 1-아미노-8-나프톨-3,6-디설폰산(이하 수소산이라 칭함)은 유리산 또는 알카리 금속염을 수용액의 형태로 사용한다. 수소산으로 얻어진 디아조늄염(이하 디아조화혼합물이라 칭함)의 혼합물의 커플링은 수성매질 중 상당히 낮은온도 즉-10 내지 40℃. 바람직하기로는 0 내지 20℃에서 수행한다. 본 발명의 커플링은 강한 산성(pH 0 내지 4)에서 1몰의 디아조 혼합물을 약 1몰의 수소산으로 반응시킨 다음 상당히 높은 pH(4내지 8)에서 상기 커플링 혼합물을 신선한 디아조혼합물 1몰을 혼합한다. 또 다른 방법으로 커플링은 2몰의 디아조혼합물과 약 2몰의 수소산을 혼합하고 이 혼합물을 알칼리로 단계적 또는 연속적으로 중화시켜 혼합물의 pH를 증가시켜 2단계로 커플링을 완결시키므로 수행될 수 있다.
커플링 반응 중 중화에 사용된 알칼리 시약은 예를 들면 알칼리금속 또는 알칼리토금속의 수산화물, 산화물, 중탄산염 및 인산염을 포함한다. 특별히 탄산나트롬, 중탄산나트륨, 또는 수산화나트륨 고체 또는 수용액으로 사용하는 것이 요구된다. 이 경우에 7-위치에서 원치 않는 커플링을 방지하기 위해 pH의 부분적 증가는 피하여야 한다. 커플링의 최종 pH는 8 혹은 그 이하에서 유지하는 것이 바람직하다. 그렇지 않으면 구조식(Ⅱ)중 Y1또는 Y2로 -SO2CH2CH2OH를 갖는 염료의 양이 원치 않게 증가한다.
수소산 대디아조 혼합물의 몰비는 0.45에서 0.55의 범위내이다.
커플링에 의해 제조된 반응 혼합물은 전술한 바와 같이 구조식 (1), (2), (3) 및 (4)의 4가지 화합물을 함유한다. 이 화합물외에 때때로 출발물질 및 반응조건에 기인하여 소량의 모노아조염료와 β-하이드록시에 틸설픈 또는 비닐설폰기를 갖는 염료를 포함한다.
본 디아조화반응과 커플링 반응은 계면활성제, 요소, 티오우례아 및 에틸렌글리콜과 같은 수화제와피리딘과 같은 염기 촉매 존재하에서 수행될 수 있다. 또한 pH완충액이 보호하기 위해 사용된다.
생성염료 수용액은 있는 그대로 또는 농축 후에 염색이 사용된다. 염료수용액은 분무건조하여 건조생성물로 얻어질 수 있다. 어떤 경우에는 염료 용액은 냉각 또는 냉각하지 않고 여과하여 무기염을 제거하고 여액을 전술한 바와 같이 처리한다. 이렇게 하여 얻어진 염료 조성물은 구조식(Ⅰ) 및 구조식(Ⅱ)의 염료성분을 함유한다.
본 발명을 참고로 다음 실시예에 예시하였다. 실시예에서 모든 부는 중량부이다.
[실시예 1]
4-아세틸아미노페놀-β-하이드록시에틸설폰(24.8 부순도는 98%)를 60내지 70℃에서 교반하여 98%의 황산(31부 : 상기 에틸설폰에 대한 몰비는 3.1)에 가하고 1시간 동안 60 내지 70℃에서 교반한다. 이 혼합물을 100 내지 105℃에서 1시간 동안 동안가열한 후 이 온도에서 8시간 동안 교반한다. 반응이 끝난 후 반응혼합물을 액상크로마토그라피로 4-아미노페닐-β-설페이토설폰(이하 "설페이토 화합물"이라 칭함) 대 4-아미노페닐-β-아세톡시에틸설폰(이하 "아세톡시화합물"이라 칭함)의 중량비로 분석했다. 그 결과는 다음과 같다.
설레이트 화합물 53
아세톡시 화합물 47
이렇게 얻어진 반응 혼합물을 빙수(100부)에 붓고 탄산나트륨(14.3부)를 가했다. 아질산나트륨(35% 수용액으로 14.3부)을 0 내지 5℃에서 가하고 이어서 5내지 10℃에서 2시간 동안 교반했다. 과량의 아질산나트륨을 설파민산 (0.4부)를 가해 분해하여 디아조액을 얻었다. 이것과 분리하여, 1-아미노-8-나프톨-3.6-디설폰산(20.6부 : 순도 75% 분자량 319)를 탄산나트륨(4.8부)를 사용하여 몰(90부)에 녹여 액체 커플링화제를 얻었다. 생성액체 커플링화제를 상기 디아조액에 30분에 걸쳐 가하였다. 이를 얼음(100부)에 가한 후 탄산나트륨 분말(25부)를 30에 걸쳐 가하여 pH6.5 로 조정했다. 60분간 교반한 후 생성반응용액을 분무 건조하여 86.7부의 흑색분말을 수득한다.
이렇게 얻어진 반응성 염료는 물에 매우 잘 녹으며 알칼리를 사용하는 통상의 염색 방법에 의하여 셀루로오즈 섬유를 흑색으로 염색했다. 한편 전술한 반응용액을 분무건조 하기전 0내지 5℃로 냉각하고 여과하여 침적된 황산나트륨을 제거했다. 이 여액을 분무건조하여 70.9부의 흑색분말을 얻었다. 또한 이 염료는 우수한 흑색염색을 부여했다.
[실시예 2]
1-아미노-8-나프톨-3,6-디설폰산의 일나트륨염을 20.6부에서 21.3부로 변경한 것을 제외하고는 실시예 1에서와 같은 방법으로 수행했다. 이렇게 얻어진 염료는 실시예 1에서보다 약간 더 붉은 흑색의 양호한 염색을 부여했다.
이 반응 후에 반응용액을 0℃까지 냉각하고 침적된 황산나트륨을 여과하여 제거한다. 디에틸렌글리콜모노부틸에테르(0.39부)를 이 여액에 가한다. 이 용액이 냉소에서 오랫동안 두어도 염료용액으로부터 결정이 생기지 않았다. 이 용액은 고농도의 염료를 가지며 저장용액으로 우수한 저장 안정성을 갖는다. 활성염료 용액은 셀루로오즈 섬유에 반응성 염료로 염색 방법에 의해 흑색으로 염색되었다.
[실시예 3 내지 8]
실시예 1에서 98% 황산의 양, 반응온도 및 반응시간을 다음 표에서 나타난 바와 같이 변경하고 설페이토 화합물 대 아세톡시 화합물의 중량비의 변화를 측정했다. 이 결과는 다음 표에 나타나 있다.
이렇게 얻어진 설페이토 화합물과 아세톡시화합물의 혼합물을 각각 디아조화하고 실시예 1 또는 2에서와 같이 1-아미노-8-나프톨-3.6-디설폰산의 일나트륨염으로 커플링했다. 이렇게 얻어진 염료는 실시예 1 또는 2에서와 유사한 염색 성질을 나타냈다.
Figure kpo00004
[실시예 9]
4-아세틸아미노페닐-β-하이드록시에틸설폰을 98% 황산으로 처리하는 것은 혼합물은 100내지 105℃에서 8시간동안 교반하면서 혼합물을 통해 질소가스를 통과해 준 것을 제외하고는 실시예 1에서와 같은 방법으로 수행하였다.
이리하여
설페이트화합물 65중량%와
아세톡시화합물 35준량%의 혼합물을 얻었다.
실시예 1에서와 같이 이 혼합물을 디아조화하고, Ⅰ-아미노-8-나프톨-3,6-디설폰산의 일나트륨염으로 커플링하고 생성 반응용액을 처리했다. 이렇게 얻어지 염료는 실시예 1에서와 똑같은 염색 수행 나타냈다.
[비교실시예]
본 발명 염료 조성물의 우수한 수행능을 반포된 간행물에 기재된 염료와 비교하여 나타냈다. 다음 표에서 측정된 염료 A, B, C, D 및 E는 다음과 같이 제조되었다.
A : 4-아미노페닐-β-설페이토에틸설폰을 디아조성분으로 사용하는 것을 제외하고는 실시예 1에서와 같은 방법으로 디아조화, 커플링 및 분무건조를 수행했다.
B : 실시예 1에 따름
C : 실시예 2에 따름
D : 실시예 9에 따름
E : 미국특허 제3,114,754호의 실시예 61에 따름
(1) 염료 조성물
Figure kpo00005
(2) 용해도
Figure kpo00006
(3) 염색시험
다음 표에서 각 수치는 비교될 각 염료의 조건과 같은 염색조건하 염료 A를 사용하여 얻어진 표준 염색물질의 짙음(100으로 함)에 대한 각 염색물질의 상대 짙음을 의미한다.
(ⅰ) 침지 염색
Figure kpo00007
(ⅱ) 날염
Figure kpo00008
주 : 상기표에서 "-"는 "실제화되지 않음"을 나타낸다.
(ⅲ) 냉-패드-뱃취 염색
Figure kpo00009

Claims (1)

  1. 유리산의 형태로 다음 구조식(Ⅰ)의 한개 이상의 디스아조 염료와 유리산의 형태로 나타낸 다음 구조식(Ⅱ)의 한개 이상의 디스아조 염료를 포함하는 염색 조성물.
    Figure kpo00010
    상기 식에서,
    X1과 X2는 -SO2CH2CH2OCOCH3, -SO2CH2CH2OSO3H 또는 -SO2CH=CH2이다. 단 X1과 X2의 적어도 하나는 -SO2CH2CH2OCOCH3이다.
    Y1과 Y2는 -SO2CH2CH2OSO3H, -SO2CH=CH2또는 -SO2CH2CH2OH이다. 단 Y1과 Y|2중 적어도 한개는 SO2CH2CH2OSO3H 또는 -SO2CH=CH2이다.
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O063 Decision on refusal after opposition [patent]: decision to refuse application
O132 Decision on opposition [patent]
J2X1 Appeal (before the patent court)

Free format text: TRIAL NUMBER: 1984201000145; APPEAL AGAINST DECISION TO DECLINE REFUSAL

O073 Decision to grant registration after opposition [patent]: decision to grant registration
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