KR20240024081A - 아크릴(메타)아크릴레이트 수지, 활성 에너지선 경화성 수지 조성물, 경화물 및 물품 - Google Patents
아크릴(메타)아크릴레이트 수지, 활성 에너지선 경화성 수지 조성물, 경화물 및 물품 Download PDFInfo
- Publication number
- KR20240024081A KR20240024081A KR1020237043084A KR20237043084A KR20240024081A KR 20240024081 A KR20240024081 A KR 20240024081A KR 1020237043084 A KR1020237043084 A KR 1020237043084A KR 20237043084 A KR20237043084 A KR 20237043084A KR 20240024081 A KR20240024081 A KR 20240024081A
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- meth
- acrylate
- acrylic
- resin
- active energy
- Prior art date
Links
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 64
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 title claims abstract description 57
- 239000011342 resin composition Substances 0.000 title claims abstract description 39
- -1 acrylate compound Chemical class 0.000 claims abstract description 85
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 48
- 229920001519 homopolymer Polymers 0.000 claims abstract description 14
- 239000000178 monomer Substances 0.000 claims abstract description 14
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 claims abstract description 13
- 125000003055 glycidyl group Chemical group C(C1CO1)* 0.000 claims abstract description 13
- 229920000058 polyacrylate Polymers 0.000 claims abstract description 11
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 claims abstract description 7
- 239000002994 raw material Substances 0.000 claims abstract description 7
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 claims abstract description 5
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 78
- 125000003647 acryloyl group Chemical group O=C([*])C([H])=C([H])[H] 0.000 claims description 19
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 15
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 15
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 12
- 239000003999 initiator Substances 0.000 claims description 10
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims description 9
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 7
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 claims description 4
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 claims description 3
- DTGKSKDOIYIVQL-WEDXCCLWSA-N (+)-borneol Chemical group C1C[C@@]2(C)[C@@H](O)C[C@@H]1C2(C)C DTGKSKDOIYIVQL-WEDXCCLWSA-N 0.000 claims description 2
- 125000005073 adamantyl group Chemical group C12(CC3CC(CC(C1)C3)C2)* 0.000 claims description 2
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 claims description 2
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 claims description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 abstract description 19
- 239000000047 product Substances 0.000 description 35
- 239000010408 film Substances 0.000 description 28
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 18
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 18
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 description 16
- 239000011324 bead Substances 0.000 description 16
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 15
- 238000000034 method Methods 0.000 description 14
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 13
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 13
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 11
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 11
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 11
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 239000012948 isocyanate Substances 0.000 description 10
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 9
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 9
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 9
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 8
- NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Chemical compound CC(C)CC(C)=O NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 8
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 8
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 8
- UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Natural products CCC(C)C(C)=O UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 7
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 7
- 239000004205 dimethyl polysiloxane Substances 0.000 description 7
- 235000013870 dimethyl polysiloxane Nutrition 0.000 description 7
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 7
- 229920000435 poly(dimethylsiloxane) Polymers 0.000 description 7
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 150000002596 lactones Chemical class 0.000 description 6
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 6
- 125000005702 oxyalkylene group Chemical group 0.000 description 6
- 229920005862 polyol Polymers 0.000 description 6
- DNAJDTIOMGISDS-UHFFFAOYSA-N prop-2-enylsilane Chemical compound [SiH3]CC=C DNAJDTIOMGISDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-N triphenylphosphine Chemical compound C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- UKRDPEFKFJNXQM-UHFFFAOYSA-N vinylsilane Chemical compound [SiH3]C=C UKRDPEFKFJNXQM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 5
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 5
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 5
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 5
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 5
- 239000002096 quantum dot Substances 0.000 description 5
- 239000012508 resin bead Substances 0.000 description 5
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 5
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 4
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 4
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 4
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000000412 dendrimer Substances 0.000 description 4
- 229920000736 dendritic polymer Polymers 0.000 description 4
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 4
- IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N isocyanate group Chemical group [N-]=C=O IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000000463 material Substances 0.000 description 4
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 4
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 4
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 4
- ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 1-methoxypropan-2-ol Chemical compound COCC(C)O ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N Propylene glycol Chemical compound CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- GOOHAUXETOMSMM-UHFFFAOYSA-N Propylene oxide Chemical group CC1CO1 GOOHAUXETOMSMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000002723 alicyclic group Chemical group 0.000 description 3
- 239000002216 antistatic agent Substances 0.000 description 3
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 3
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 3
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 3
- VOZRXNHHFUQHIL-UHFFFAOYSA-N glycidyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC1CO1 VOZRXNHHFUQHIL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 3
- 125000006353 oxyethylene group Chemical group 0.000 description 3
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 3
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 3
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 3
- 239000005056 polyisocyanate Substances 0.000 description 3
- 229920001228 polyisocyanate Polymers 0.000 description 3
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 3
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 3
- 230000000475 sunscreen effect Effects 0.000 description 3
- 239000000516 sunscreening agent Substances 0.000 description 3
- 238000009864 tensile test Methods 0.000 description 3
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- FVQMJJQUGGVLEP-UHFFFAOYSA-N (2-methylpropan-2-yl)oxy 2-ethylhexaneperoxoate Chemical compound CCCCC(CC)C(=O)OOOC(C)(C)C FVQMJJQUGGVLEP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FKTHNVSLHLHISI-UHFFFAOYSA-N 1,2-bis(isocyanatomethyl)benzene Chemical class O=C=NCC1=CC=CC=C1CN=C=O FKTHNVSLHLHISI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WMYINDVYGQKYMI-UHFFFAOYSA-N 2-[2,2-bis(hydroxymethyl)butoxymethyl]-2-ethylpropane-1,3-diol Chemical compound CCC(CO)(CO)COCC(CC)(CO)CO WMYINDVYGQKYMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 2-[[3-hydroxy-2,2-bis(hydroxymethyl)propoxy]methyl]-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol Chemical compound OCC(CO)(CO)COCC(CO)(CO)CO TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FDSUVTROAWLVJA-UHFFFAOYSA-N 2-[[3-hydroxy-2,2-bis(hydroxymethyl)propoxy]methyl]-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol;prop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OCC(CO)(CO)COCC(CO)(CO)CO FDSUVTROAWLVJA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SBYMUDUGTIKLCR-UHFFFAOYSA-N 2-chloroethenylbenzene Chemical compound ClC=CC1=CC=CC=C1 SBYMUDUGTIKLCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethanol Chemical compound CCOCCO ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RZVINYQDSSQUKO-UHFFFAOYSA-N 2-phenoxyethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCOC1=CC=CC=C1 RZVINYQDSSQUKO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LDMRLRNXHLPZJN-UHFFFAOYSA-N 3-propoxypropan-1-ol Chemical compound CCCOCCCO LDMRLRNXHLPZJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOC(=O)C(C)=C XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229930185605 Bisphenol Natural products 0.000 description 2
- GAWIXWVDTYZWAW-UHFFFAOYSA-N C[CH]O Chemical group C[CH]O GAWIXWVDTYZWAW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acrylate Chemical compound CCOC(=O)C=C JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N Ethyl urethane Chemical compound CCOC(N)=O JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerine Chemical compound OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N Hydroquinone Chemical compound OC1=CC=C(O)C=C1 QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 2
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 2
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IAXXETNIOYFMLW-GYSYKLTISA-N [(1r,3r,4r)-4,7,7-trimethyl-3-bicyclo[2.2.1]heptanyl] 2-methylprop-2-enoate Chemical compound C1C[C@@]2(C)[C@H](OC(=O)C(=C)C)C[C@@H]1C2(C)C IAXXETNIOYFMLW-GYSYKLTISA-N 0.000 description 2
- MPIAGWXWVAHQBB-UHFFFAOYSA-N [3-prop-2-enoyloxy-2-[[3-prop-2-enoyloxy-2,2-bis(prop-2-enoyloxymethyl)propoxy]methyl]-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C MPIAGWXWVAHQBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 2
- XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N alpha-Methylstyrene Chemical compound CC(=C)C1=CC=CC=C1 XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ADCOVFLJGNWWNZ-UHFFFAOYSA-N antimony trioxide Chemical compound O=[Sb]O[Sb]=O ADCOVFLJGNWWNZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000003078 antioxidant effect Effects 0.000 description 2
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 2
- AOJOEFVRHOZDFN-UHFFFAOYSA-N benzyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC1=CC=CC=C1 AOJOEFVRHOZDFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PXKLMJQFEQBVLD-UHFFFAOYSA-N bisphenol F Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1CC1=CC=C(O)C=C1 PXKLMJQFEQBVLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- YCIMNLLNPGFGHC-UHFFFAOYSA-N catechol Chemical compound OC1=CC=CC=C1O YCIMNLLNPGFGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 2
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 2
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 2
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GYZLOYUZLJXAJU-UHFFFAOYSA-N diglycidyl ether Chemical class C1OC1COCC1CO1 GYZLOYUZLJXAJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VFHVQBAGLAREND-UHFFFAOYSA-N diphenylphosphoryl-(2,4,6-trimethylphenyl)methanone Chemical compound CC1=CC(C)=CC(C)=C1C(=O)P(=O)(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 VFHVQBAGLAREND-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005886 esterification reaction Methods 0.000 description 2
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 2
- 239000004210 ether based solvent Substances 0.000 description 2
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 2
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 238000010528 free radical solution polymerization reaction Methods 0.000 description 2
- 238000005227 gel permeation chromatography Methods 0.000 description 2
- 229910021480 group 4 element Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 description 2
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 2
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 2
- 150000002513 isocyanates Chemical class 0.000 description 2
- 239000005453 ketone based solvent Substances 0.000 description 2
- VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N methane Chemical compound C VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UAEPNZWRGJTJPN-UHFFFAOYSA-N methylcyclohexane Chemical compound CC1CCCCC1 UAEPNZWRGJTJPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PCILLCXFKWDRMK-UHFFFAOYSA-N naphthalene-1,4-diol Chemical compound C1=CC=C2C(O)=CC=C(O)C2=C1 PCILLCXFKWDRMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N pentaerythritol Chemical compound OCC(CO)(CO)CO WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N pent‐4‐en‐2‐one Natural products CC(=O)CC=C PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 description 2
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 2
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 2
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 2
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 2
- 230000000379 polymerizing effect Effects 0.000 description 2
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 2
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 125000003808 silyl group Chemical group [H][Si]([H])([H])[*] 0.000 description 2
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 2
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 2
- 150000003440 styrenes Chemical class 0.000 description 2
- SJMYWORNLPSJQO-UHFFFAOYSA-N tert-butyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC(C)(C)C SJMYWORNLPSJQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YRHRIQCWCFGUEQ-UHFFFAOYSA-N thioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC=CC=C3SC2=C1 YRHRIQCWCFGUEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PZJJKWKADRNWSW-UHFFFAOYSA-N trimethoxysilicon Chemical compound CO[Si](OC)OC PZJJKWKADRNWSW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000006097 ultraviolet radiation absorber Substances 0.000 description 2
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 2
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 2
- 229940042596 viscoat Drugs 0.000 description 2
- 230000002087 whitening effect Effects 0.000 description 2
- YBNMDCCMCLUHBL-UHFFFAOYSA-N (2,5-dioxopyrrolidin-1-yl) 4-pyren-1-ylbutanoate Chemical compound C=1C=C(C2=C34)C=CC3=CC=CC4=CC=C2C=1CCCC(=O)ON1C(=O)CCC1=O YBNMDCCMCLUHBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QASBHTCRFDZQAM-UHFFFAOYSA-N (2-isocyanato-2-methyl-3-prop-2-enoyloxypropyl) prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(C)(COC(=O)C=C)N=C=O QASBHTCRFDZQAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZXMGHDIOOHOAAE-UHFFFAOYSA-N 1,1,1-trifluoro-n-(trifluoromethylsulfonyl)methanesulfonamide Chemical class FC(F)(F)S(=O)(=O)NS(=O)(=O)C(F)(F)F ZXMGHDIOOHOAAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FDYWJVHETVDSRA-UHFFFAOYSA-N 1,1-diisocyanatobutane Chemical compound CCCC(N=C=O)N=C=O FDYWJVHETVDSRA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MYWOJODOMFBVCB-UHFFFAOYSA-N 1,2,6-trimethylphenanthrene Chemical compound CC1=CC=C2C3=CC(C)=CC=C3C=CC2=C1C MYWOJODOMFBVCB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NNOZGCICXAYKLW-UHFFFAOYSA-N 1,2-bis(2-isocyanatopropan-2-yl)benzene Chemical compound O=C=NC(C)(C)C1=CC=CC=C1C(C)(C)N=C=O NNOZGCICXAYKLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LEEANUDEDHYDTG-UHFFFAOYSA-N 1,2-dimethoxypropane Chemical compound COCC(C)OC LEEANUDEDHYDTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WNXJIVFYUVYPPR-UHFFFAOYSA-N 1,3-dioxolane Chemical compound C1COCO1 WNXJIVFYUVYPPR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SBJCUZQNHOLYMD-UHFFFAOYSA-N 1,5-Naphthalene diisocyanate Chemical compound C1=CC=C2C(N=C=O)=CC=CC2=C1N=C=O SBJCUZQNHOLYMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BOKGTLAJQHTOKE-UHFFFAOYSA-N 1,5-dihydroxynaphthalene Chemical compound C1=CC=C2C(O)=CC=CC2=C1O BOKGTLAJQHTOKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ATOUXIOKEJWULN-UHFFFAOYSA-N 1,6-diisocyanato-2,2,4-trimethylhexane Chemical compound O=C=NCCC(C)CC(C)(C)CN=C=O ATOUXIOKEJWULN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QGLRLXLDMZCFBP-UHFFFAOYSA-N 1,6-diisocyanato-2,4,4-trimethylhexane Chemical compound O=C=NCC(C)CC(C)(C)CCN=C=O QGLRLXLDMZCFBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ADHGPSGWOXRHJK-UHFFFAOYSA-N 1-(4-methylthiophen-2-yl)-2-morpholin-4-ylpropan-1-one Chemical compound CC=1C=C(SC1)C(C(C)N1CCOCC1)=O ADHGPSGWOXRHJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RWNUSVWFHDHRCJ-UHFFFAOYSA-N 1-butoxypropan-2-ol Chemical compound CCCCOCC(C)O RWNUSVWFHDHRCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012956 1-hydroxycyclohexylphenyl-ketone Substances 0.000 description 1
- DVWQNBIUTWDZMW-UHFFFAOYSA-N 1-naphthalen-1-ylnaphthalen-2-ol Chemical compound C1=CC=C2C(C3=C4C=CC=CC4=CC=C3O)=CC=CC2=C1 DVWQNBIUTWDZMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JHGGYGMFCRSWIZ-UHFFFAOYSA-N 2,2-dichloro-1-(4-phenoxyphenyl)ethanone Chemical compound C1=CC(C(=O)C(Cl)Cl)=CC=C1OC1=CC=CC=C1 JHGGYGMFCRSWIZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PIZHFBODNLEQBL-UHFFFAOYSA-N 2,2-diethoxy-1-phenylethanone Chemical compound CCOC(OCC)C(=O)C1=CC=CC=C1 PIZHFBODNLEQBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BTJPUDCSZVCXFQ-UHFFFAOYSA-N 2,4-diethylthioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(CC)=CC(CC)=C3SC2=C1 BTJPUDCSZVCXFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JMVZGKVGQDHWOI-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methylpropoxy)-1,2-diphenylethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OCC(C)C)C(=O)C1=CC=CC=C1 JMVZGKVGQDHWOI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SITYOOWCYAYOKL-UHFFFAOYSA-N 2-[4,6-bis(2,4-dimethylphenyl)-1,3,5-triazin-2-yl]-5-(3-dodecoxy-2-hydroxypropoxy)phenol Chemical compound OC1=CC(OCC(O)COCCCCCCCCCCCC)=CC=C1C1=NC(C=2C(=CC(C)=CC=2)C)=NC(C=2C(=CC(C)=CC=2)C)=N1 SITYOOWCYAYOKL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MIZUYZJRQGACDX-UHFFFAOYSA-N 2-[5-methyl-2-[(2-nitrophenyl)methoxy]phenyl]benzotriazole Chemical compound N1=C2C=CC=CC2=NN1C1=CC(C)=CC=C1OCC1=CC=CC=C1[N+]([O-])=O MIZUYZJRQGACDX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UHFFVFAKEGKNAQ-UHFFFAOYSA-N 2-benzyl-2-(dimethylamino)-1-(4-morpholin-4-ylphenyl)butan-1-one Chemical compound C=1C=C(N2CCOCC2)C=CC=1C(=O)C(CC)(N(C)C)CC1=CC=CC=C1 UHFFVFAKEGKNAQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 2-butoxyethanol Chemical compound CCCCOCCO POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XMLYCEVDHLAQEL-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one Chemical compound CC(C)(O)C(=O)C1=CC=CC=C1 XMLYCEVDHLAQEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DPNXHTDWGGVXID-UHFFFAOYSA-N 2-isocyanatoethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCN=C=O DPNXHTDWGGVXID-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SVIQBUBNVYWIDV-UHFFFAOYSA-N 2-methoxy-2-(2-methoxyphenyl)-1-phenylethanone Chemical compound C=1C=CC=C(OC)C=1C(OC)C(=O)C1=CC=CC=C1 SVIQBUBNVYWIDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 2-methylphenol;3-methylphenol;4-methylphenol Chemical compound CC1=CC=C(O)C=C1.CC1=CC=CC(O)=C1.CC1=CC=CC=C1O QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SEILKFZTLVMHRR-UHFFFAOYSA-N 2-phosphonooxyethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCOP(O)(O)=O SEILKFZTLVMHRR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KTALPKYXQZGAEG-UHFFFAOYSA-N 2-propan-2-ylthioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(C(C)C)=CC=C3SC2=C1 KTALPKYXQZGAEG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VZQSBJKDSWXLKX-UHFFFAOYSA-N 3-(3-hydroxyphenyl)phenol Chemical compound OC1=CC=CC(C=2C=C(O)C=CC=2)=C1 VZQSBJKDSWXLKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ATVJXMYDOSMEPO-UHFFFAOYSA-N 3-prop-2-enoxyprop-1-ene Chemical group C=CCOCC=C ATVJXMYDOSMEPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KBQVDAIIQCXKPI-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropyl prop-2-enoate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOC(=O)C=C KBQVDAIIQCXKPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UPMLOUAZCHDJJD-UHFFFAOYSA-N 4,4'-Diphenylmethane Diisocyanate Chemical compound C1=CC(N=C=O)=CC=C1CC1=CC=C(N=C=O)C=C1 UPMLOUAZCHDJJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VPWNQTHUCYMVMZ-UHFFFAOYSA-N 4,4'-sulfonyldiphenol Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1S(=O)(=O)C1=CC=C(O)C=C1 VPWNQTHUCYMVMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NCAVPEPBIJTYSO-UHFFFAOYSA-N 4-hydroxybutyl prop-2-enoate;2-(oxiran-2-ylmethoxymethyl)oxirane Chemical compound C1OC1COCC1CO1.OCCCCOC(=O)C=C NCAVPEPBIJTYSO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GZVHEAJQGPRDLQ-UHFFFAOYSA-N 6-phenyl-1,3,5-triazine-2,4-diamine Chemical compound NC1=NC(N)=NC(C=2C=CC=CC=2)=N1 GZVHEAJQGPRDLQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910017115 AlSb Inorganic materials 0.000 description 1
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O Ammonium Chemical compound [NH4+] QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- HTVITOHKHWFJKO-UHFFFAOYSA-N Bisphenol B Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(CC)C1=CC=C(O)C=C1 HTVITOHKHWFJKO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002799 BoPET Polymers 0.000 description 1
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N Butyl acetate Natural products CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910004613 CdTe Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910004611 CdZnTe Inorganic materials 0.000 description 1
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910002601 GaN Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910005540 GaP Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910005542 GaSb Inorganic materials 0.000 description 1
- GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N Gallium Chemical compound [Ga] GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001218 Gallium arsenide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000005057 Hexamethylene diisocyanate Substances 0.000 description 1
- 229910004262 HgTe Inorganic materials 0.000 description 1
- RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-O Imidazolium Chemical compound C1=C[NH+]=CN1 RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- 229910000673 Indium arsenide Inorganic materials 0.000 description 1
- GPXJNWSHGFTCBW-UHFFFAOYSA-N Indium phosphide Chemical compound [In]#P GPXJNWSHGFTCBW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000764773 Inna Species 0.000 description 1
- 239000005058 Isophorone diisocyanate Substances 0.000 description 1
- 239000004640 Melamine resin Substances 0.000 description 1
- 229920000877 Melamine resin Polymers 0.000 description 1
- 229910000661 Mercury cadmium telluride Inorganic materials 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M Methacrylate Chemical compound CC(=C)C([O-])=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910002665 PbTe Inorganic materials 0.000 description 1
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M Propionate Chemical compound CCC([O-])=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- UAKWLVYMKBWHMX-UHFFFAOYSA-N SU4312 Chemical compound C1=CC(N(C)C)=CC=C1C=C1C2=CC=CC=C2NC1=O UAKWLVYMKBWHMX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000577 Silicon-germanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910005642 SnTe Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane Chemical compound CCC(CO)(CO)CO ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910007709 ZnTe Inorganic materials 0.000 description 1
- HVVWZTWDBSEWIH-UHFFFAOYSA-N [2-(hydroxymethyl)-3-prop-2-enoyloxy-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CO)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C HVVWZTWDBSEWIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CBERLDHYJQHMCR-UHFFFAOYSA-N [4-dodecoxy-2-[(2-nitrophenyl)methoxy]phenyl]-phenylmethanone Chemical compound C=1C=CC=C([N+]([O-])=O)C=1COC1=CC(OCCCCCCCCCCCC)=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 CBERLDHYJQHMCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GUCYFKSBFREPBC-UHFFFAOYSA-N [phenyl-(2,4,6-trimethylbenzoyl)phosphoryl]-(2,4,6-trimethylphenyl)methanone Chemical compound CC1=CC(C)=CC(C)=C1C(=O)P(=O)(C=1C=CC=CC=1)C(=O)C1=C(C)C=C(C)C=C1C GUCYFKSBFREPBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 1
- KXKVLQRXCPHEJC-UHFFFAOYSA-N acetic acid trimethyl ester Natural products COC(C)=O KXKVLQRXCPHEJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 239000005456 alcohol based solvent Substances 0.000 description 1
- 125000005907 alkyl ester group Chemical group 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 1
- 150000008064 anhydrides Chemical class 0.000 description 1
- 239000003849 aromatic solvent Substances 0.000 description 1
- JRPBQTZRNDNNOP-UHFFFAOYSA-N barium titanate Chemical compound [Ba+2].[Ba+2].[O-][Ti]([O-])([O-])[O-] JRPBQTZRNDNNOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910002113 barium titanate Inorganic materials 0.000 description 1
- BJFLSHMHTPAZHO-UHFFFAOYSA-N benzotriazole Chemical compound [CH]1C=CC=C2N=NN=C21 BJFLSHMHTPAZHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012964 benzotriazole Substances 0.000 description 1
- HIFVAOIJYDXIJG-UHFFFAOYSA-N benzylbenzene;isocyanic acid Chemical class N=C=O.N=C=O.C=1C=CC=CC=1CC1=CC=CC=C1 HIFVAOIJYDXIJG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JGCWKVKYRNXTMD-UHFFFAOYSA-N bicyclo[2.2.1]heptane;isocyanic acid Chemical compound N=C=O.N=C=O.C1CC2CCC1C2 JGCWKVKYRNXTMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VCCBEIPGXKNHFW-UHFFFAOYSA-N biphenyl-4,4'-diol Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1C1=CC=C(O)C=C1 VCCBEIPGXKNHFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MQDJYUACMFCOFT-UHFFFAOYSA-N bis[2-(1-hydroxycyclohexyl)phenyl]methanone Chemical compound C=1C=CC=C(C(=O)C=2C(=CC=CC=2)C2(O)CCCCC2)C=1C1(O)CCCCC1 MQDJYUACMFCOFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OHJMTUPIZMNBFR-UHFFFAOYSA-N biuret Chemical compound NC(=O)NC(N)=O OHJMTUPIZMNBFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001400 block copolymer Polymers 0.000 description 1
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 1
- 238000012662 bulk polymerization Methods 0.000 description 1
- CDQSJQSWAWPGKG-UHFFFAOYSA-N butane-1,1-diol Chemical compound CCCC(O)O CDQSJQSWAWPGKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UHYPYGJEEGLRJD-UHFFFAOYSA-N cadmium(2+);selenium(2-) Chemical compound [Se-2].[Cd+2] UHYPYGJEEGLRJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004202 carbamide Substances 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 1
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 1
- 239000013065 commercial product Substances 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 238000007334 copolymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 239000011258 core-shell material Substances 0.000 description 1
- 229930003836 cresol Natural products 0.000 description 1
- 150000004292 cyclic ethers Chemical class 0.000 description 1
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 1
- OIWOHHBRDFKZNC-UHFFFAOYSA-N cyclohexyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC1CCCCC1 OIWOHHBRDFKZNC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000013530 defoamer Substances 0.000 description 1
- 238000010790 dilution Methods 0.000 description 1
- 239000012895 dilution Substances 0.000 description 1
- 125000000118 dimethyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- PODOEQVNFJSWIK-UHFFFAOYSA-N diphenylphosphoryl-(2,4,6-trimethoxyphenyl)methanone Chemical compound COC1=CC(OC)=CC(OC)=C1C(=O)P(=O)(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 PODOEQVNFJSWIK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
- 238000007720 emulsion polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 230000032050 esterification Effects 0.000 description 1
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 1
- 229910021485 fumed silica Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052733 gallium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052732 germanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 235000011187 glycerol Nutrition 0.000 description 1
- 229920000578 graft copolymer Polymers 0.000 description 1
- RRAMGCGOFNQTLD-UHFFFAOYSA-N hexamethylene diisocyanate Chemical compound O=C=NCCCCCCN=C=O RRAMGCGOFNQTLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ACCCMOQWYVYDOT-UHFFFAOYSA-N hexane-1,1-diol Chemical compound CCCCCC(O)O ACCCMOQWYVYDOT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-M hexanoate Chemical compound CCCCCC([O-])=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- WPYVAWXEWQSOGY-UHFFFAOYSA-N indium antimonide Chemical compound [Sb]#[In] WPYVAWXEWQSOGY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RPQDHPTXJYYUPQ-UHFFFAOYSA-N indium arsenide Chemical compound [In]#[As] RPQDHPTXJYYUPQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- 230000005865 ionizing radiation Effects 0.000 description 1
- 229940119545 isobornyl methacrylate Drugs 0.000 description 1
- ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N isocyanuric acid Chemical compound OC1=NC(O)=NC(O)=N1 ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIMLQBUJDJZYEJ-UHFFFAOYSA-N isophorone diisocyanate Chemical compound CC1(C)CC(N=C=O)CC(C)(CN=C=O)C1 NIMLQBUJDJZYEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005001 laminate film Substances 0.000 description 1
- 229910003002 lithium salt Inorganic materials 0.000 description 1
- 159000000002 lithium salts Chemical class 0.000 description 1
- 230000007774 longterm Effects 0.000 description 1
- 229910001507 metal halide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000005309 metal halides Chemical class 0.000 description 1
- 125000005641 methacryl group Chemical group 0.000 description 1
- DCUFMVPCXCSVNP-UHFFFAOYSA-N methacrylic anhydride Chemical compound CC(=C)C(=O)OC(=O)C(C)=C DCUFMVPCXCSVNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RBQRWNWVPQDTJJ-UHFFFAOYSA-N methacryloyloxyethyl isocyanate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCN=C=O RBQRWNWVPQDTJJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YLHXLHGIAMFFBU-UHFFFAOYSA-N methyl phenylglyoxalate Chemical compound COC(=O)C(=O)C1=CC=CC=C1 YLHXLHGIAMFFBU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GYNNXHKOJHMOHS-UHFFFAOYSA-N methyl-cycloheptane Natural products CC1CCCCCC1 GYNNXHKOJHMOHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001570 methylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])[*:2] 0.000 description 1
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 1
- 229910003465 moissanite Inorganic materials 0.000 description 1
- KTQDYGVEEFGIIL-UHFFFAOYSA-N n-fluorosulfonylsulfamoyl fluoride Chemical class FS(=O)(=O)NS(F)(=O)=O KTQDYGVEEFGIIL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FZZQNEVOYIYFPF-UHFFFAOYSA-N naphthalene-1,6-diol Chemical compound OC1=CC=CC2=CC(O)=CC=C21 FZZQNEVOYIYFPF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MNZMMCVIXORAQL-UHFFFAOYSA-N naphthalene-2,6-diol Chemical compound C1=C(O)C=CC2=CC(O)=CC=C21 MNZMMCVIXORAQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DFQICHCWIIJABH-UHFFFAOYSA-N naphthalene-2,7-diol Chemical compound C1=CC(O)=CC2=CC(O)=CC=C21 DFQICHCWIIJABH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004780 naphthols Chemical class 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920003986 novolac Polymers 0.000 description 1
- 239000012788 optical film Substances 0.000 description 1
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 125000001741 organic sulfur group Chemical group 0.000 description 1
- FZUGPQWGEGAKET-UHFFFAOYSA-N parbenate Chemical compound CCOC(=O)C1=CC=C(N(C)C)C=C1 FZUGPQWGEGAKET-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002989 phenols Chemical class 0.000 description 1
- XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-O phosphonium Chemical compound [PH4+] XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- 150000003014 phosphoric acid esters Chemical class 0.000 description 1
- 239000003504 photosensitizing agent Substances 0.000 description 1
- 239000002985 plastic film Substances 0.000 description 1
- 229920006255 plastic film Polymers 0.000 description 1
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 1
- 229920006122 polyamide resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004645 polyester resin Substances 0.000 description 1
- 229920001225 polyester resin Polymers 0.000 description 1
- 229920013716 polyethylene resin Polymers 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 239000009719 polyimide resin Substances 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 description 1
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 1
- 229920000098 polyolefin Polymers 0.000 description 1
- 229920006389 polyphenyl polymer Polymers 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- ARJOQCYCJMAIFR-UHFFFAOYSA-N prop-2-enoyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OC(=O)C=C ARJOQCYCJMAIFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-O pyridinium Chemical compound C1=CC=[NH+]C=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- 229920005604 random copolymer Polymers 0.000 description 1
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
- 238000000518 rheometry Methods 0.000 description 1
- 239000004576 sand Substances 0.000 description 1
- SBIBMFFZSBJNJF-UHFFFAOYSA-N selenium;zinc Chemical compound [Se]=[Zn] SBIBMFFZSBJNJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 1
- 238000010557 suspension polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- OCGWQDWYSQAFTO-UHFFFAOYSA-N tellanylidenelead Chemical compound [Pb]=[Te] OCGWQDWYSQAFTO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AYEKOFBPNLCAJY-UHFFFAOYSA-O thiamine pyrophosphate Chemical compound CC1=C(CCOP(O)(=O)OP(O)(O)=O)SC=[N+]1CC1=CN=C(C)N=C1N AYEKOFBPNLCAJY-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- DVKJHBMWWAPEIU-UHFFFAOYSA-N toluene 2,4-diisocyanate Chemical compound CC1=CC=C(N=C=O)C=C1N=C=O DVKJHBMWWAPEIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AVWRKZWQTYIKIY-UHFFFAOYSA-N urea-1-carboxylic acid Chemical compound NC(=O)NC(O)=O AVWRKZWQTYIKIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 210000002268 wool Anatomy 0.000 description 1
- 229910052724 xenon Inorganic materials 0.000 description 1
- FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N xenon atom Chemical compound [Xe] FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F265/00—Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers of unsaturated monocarboxylic acids or derivatives thereof as defined in group C08F20/00
- C08F265/04—Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers of unsaturated monocarboxylic acids or derivatives thereof as defined in group C08F20/00 on to polymers of esters
- C08F265/06—Polymerisation of acrylate or methacrylate esters on to polymers thereof
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F220/00—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride ester, amide, imide or nitrile thereof
- C08F220/02—Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms; Derivatives thereof
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F220/00—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride ester, amide, imide or nitrile thereof
- C08F220/02—Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms; Derivatives thereof
- C08F220/04—Acids; Metal salts or ammonium salts thereof
- C08F220/06—Acrylic acid; Methacrylic acid; Metal salts or ammonium salts thereof
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F220/00—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride ester, amide, imide or nitrile thereof
- C08F220/02—Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms; Derivatives thereof
- C08F220/10—Esters
- C08F220/26—Esters containing oxygen in addition to the carboxy oxygen
- C08F220/32—Esters containing oxygen in addition to the carboxy oxygen containing epoxy radicals
- C08F220/325—Esters containing oxygen in addition to the carboxy oxygen containing epoxy radicals containing glycidyl radical, e.g. glycidyl (meth)acrylate
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F222/00—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by a carboxyl radical and containing at least one other carboxyl radical in the molecule; Salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof
- C08F222/10—Esters
- C08F222/1006—Esters of polyhydric alcohols or polyhydric phenols
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F290/00—Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers modified by introduction of aliphatic unsaturated end or side groups
- C08F290/08—Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers modified by introduction of aliphatic unsaturated end or side groups on to polymers modified by introduction of unsaturated side groups
- C08F290/12—Polymers provided for in subclasses C08C or C08F
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F290/00—Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers modified by introduction of aliphatic unsaturated end or side groups
- C08F290/08—Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers modified by introduction of aliphatic unsaturated end or side groups on to polymers modified by introduction of unsaturated side groups
- C08F290/12—Polymers provided for in subclasses C08C or C08F
- C08F290/126—Polymers of unsaturated carboxylic acids or derivatives thereof
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F8/00—Chemical modification by after-treatment
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D151/00—Coating compositions based on graft polymers in which the grafted component is obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds; Coating compositions based on derivatives of such polymers
- C09D151/003—Coating compositions based on graft polymers in which the grafted component is obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds; Coating compositions based on derivatives of such polymers grafted on to macromolecular compounds obtained by reactions only involving unsaturated carbon-to-carbon bonds
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Wood Science & Technology (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Macromonomer-Based Addition Polymer (AREA)
Abstract
본 발명은, 아크릴 중합체(A), 및 카르복시기를 갖는 (메타)아크릴 모노머(B)를 원료로 하는 아크릴(메타)아크릴레이트 수지이고, 상기 아크릴 중합체(A)가, 글리시딜(메타)아크릴레이트(a1)와, 호모폴리머의 유리 전이 온도(Tg)가 50℃ 이상인 (메타)아크릴레이트 화합물(a2)을 포함하는 중합성 화합물의 공중합체인 것을 특징으로 하는 아크릴(메타)아크릴레이트 수지, 활성 에너지선 경화성 수지 조성물, 경화물 및 물품을 제공한다. 이 아크릴(메타)아크릴레이트 수지는, 우수한 밀착성을 갖고, 또한, 경화물에 있어서의 우수한 신도, 내찰상성 및 내약품성을 갖는다.
Description
본 발명은, 아크릴(메타)아크릴레이트 수지, 활성 에너지선 경화성 수지 조성물, 경화물 및 물품에 관한 것이다.
(메타)아크릴로일기를 갖는 수지 재료는, 자외선 조사 등에 의해서 용이하고 순식간에 경화시킬 수 있고, 또한, 경화물의 투명성이나 경도 등이 우수한 점에서, 도료나 코팅제 등의 분야에서 널리 사용되고 있다. 그 도공 대상물은 광학 필름이나 플라스틱 성형품, 목공품 등 다방면에 걸쳐 있고, 도공 대상물의 종류나 용도 등에 따라서 요구 성능도 다양한 점에서, 목적에 따라서 설계된 수지가 많이 제안되어 있다.
(메타)아크릴로일기를 갖는 수지 재료로서는, (메타)아크릴로일기를 갖는 아크릴 수지, 펜타에리트리톨테트라아크릴레이트, 및 펜타에리트리톨트리아크릴레이트를 함유하는 활성 에너지선 경화형 수지 조성물이 알려져 있다(예를 들면, 특허문헌 1 참조). 상기 특허문헌 1에 기재된 활성 에너지선 경화형 수지 조성물은 경화물에 있어서의 표면 경도와 저경화수축성과의 밸런스가 우수한 점에서, 비교적 얇은 플라스틱 필름을 도공 대상으로 하는 코팅제로서 유용하다. 그러나, 필름 기재에의 밀착성, 특히 고온 습윤 조건 하에서의 장기 보존 후의 밀착성이 낮아서, 벗겨짐이 생기기 쉬운 과제가 있었다.
그래서, 우수한 밀착성을 갖고, 또한, 코팅제로서 사용 가능한 내찰상성이 우수한 재료가 요구되고 있었다.
본 발명이 해결하고자 하는 과제는, 우수한 밀착성을 갖고, 또한, 경화물에 있어서의 우수한 신도, 내찰상성 및 내약품성을 갖는 아크릴(메타)아크릴레이트 수지, 활성 에너지선 경화성 수지 조성물, 경화물 및 물품을 제공하는 것이다.
본 발명자들은, 상기 과제를 해결하고자 예의 연구한 결과, 특정의 중합성 화합물의 공중합체인 아크릴 중합체와, 카르복시기를 갖는 (메타)아크릴 모노머(B)를 원료로 하는 아크릴(메타)아크릴레이트 수지를 사용함으로써, 상기 과제를 해결할 수 있는 것을 알아내어, 본 발명을 완성시켰다.
즉, 본 발명은, 아크릴 중합체(A), 및 카르복시기를 갖는 (메타)아크릴 모노머(B)를 원료로 하는 아크릴(메타)아크릴레이트 수지이고, 상기 아크릴 중합체(A)가, 글리시딜(메타)아크릴레이트(a1)와, 호모폴리머의 유리 전이 온도(Tg)가 50℃ 이상인 (메타)아크릴레이트 화합물(a2)을 포함하는 중합성 화합물의 공중합체인 것을 특징으로 하는 아크릴(메타)아크릴레이트 수지, 활성 에너지선 경화성 수지 조성물, 경화물 및 물품에 관한 것이다.
본 발명의 아크릴(메타)아크릴레이트 수지는, 우수한 기재 밀착성을 갖고, 또한, 우수한 신도, 내찰상성 및 내약품성을 갖는 경화물을 형성 가능한 점에서, 코팅제나 접착제로서 사용할 수 있고, 특히 코팅제로서 호적하게 사용할 수 있다.
본 발명의 아크릴(메타)아크릴레이트 수지는, 아크릴 중합체(A), 및 카르복시기를 갖는 (메타)아크릴 모노머(B)를 원료로 하는 것인 것을 특징으로 한다.
또, 본 발명에 있어서, 「(메타)아크릴레이트」란, 아크릴레이트 및/또는 메타크릴레이트를 의미한다. 또한, 「(메타)아크릴로일」이란, 아크릴로일 및/또는 메타크릴로일을 의미한다. 또한, 「(메타)아크릴」이란, 아크릴 및/또는 메타크릴을 의미한다.
상기 아크릴 중합체(A)로서는, 글리시딜(메타)아크릴레이트(a1)와, 호모폴리머의 유리 전이 온도(Tg)가 50℃ 이상인 (메타)아크릴레이트 화합물(a2)을 포함하는 중합성 화합물의 공중합체를 사용한다.
상기 글리시딜(메타)아크릴레이트(a1)의 함유량은, 우수한 기재 밀착성을 갖고, 신도, 내찰상성 및 내약품성이 우수한 경화물을 형성 가능한 아크릴(메타)아크릴레이트 수지가 얻어지는 점에서, 상기 중합성 화합물 중에 5~50질량%의 범위가 바람직하고, 5~20질량%의 범위가 보다 바람직하다.
상기 (메타)아크릴레이트 화합물(a2)로서는, 호모폴리머의 유리 전이 온도(Tg)가 50℃ 이상인 것이면 어느 것이어도 되고, 예를 들면, 메틸(메타)아크릴레이트, tert-부틸(메타)아크릴레이트, 시클로헥실(메타)아크릴레이트, 벤질(메타)아크릴레이트, 이소보르닐(메타)아크릴레이트, 디시클로펜타닐(메타)아크릴레이트, 아다만틸(메타)아크릴레이트 등을 들 수 있다. 이들 (메타)아크릴레이트 화합물은, 단독으로 사용할 수도 2종 이상을 병용할 수도 있다. 또한, 이들 중에서도, 우수한 기재 밀착성을 갖고, 신도, 내찰상성 및 내약품성이 우수한 경화물을 형성 가능한 아크릴(메타)아크릴레이트 수지가 얻어지는 점에서, 적어도 2종 병용하는 것이 바람직하고, 적어도 1종이 메틸(메타)아크릴레이트인 것이 바람직하다.
상기 (메타)아크릴레이트 화합물(a2)로서, 메틸(메타)아크릴레이트를 사용하는 경우, 상기 메틸(메타)아크릴레이트의 함유량은, 우수한 기재 밀착성을 갖고, 신도, 내찰상성 및 내약품성이 우수한 경화물을 형성 가능한 아크릴(메타)아크릴레이트 수지가 얻어지는 점에서, 상기 (메타)아크릴레이트 화합물(a2) 중에 25~65질량%의 범위가 바람직하고, 35~55의 범위가 보다 바람직하다.
상기 글리시딜(메타)아크릴레이트(a1)와 상기 (메타)아크릴레이트 화합물(a2)과의 질량 비율[(a1)/(a2)]은, 우수한 기재 밀착성을 갖고, 신도, 내찰상성 및 내약품성이 우수한 경화물을 형성 가능한 아크릴(메타)아크릴레이트 수지가 얻어지는 점에서, 0.05~20의 범위가 바람직하고, 0.1~8의 범위가 보다 바람직하다.
상기 중합성 화합물로서는, 필요에 따라서, 상기 글리시딜(메타)아크릴레이트(a1) 및 상기 (메타)아크릴레이트 화합물(a2) 이외의 (메타)아크릴레이트 화합물(이하, 「기타 (메타)아크릴레이트 화합물」로 약기한다)을 포함하고 있어도 된다.
상기 기타 (메타)아크릴레이트 화합물로서는, 예를 들면, 에틸(메타)아크릴레이트, 프로필(메타)아크릴레이트, 부틸(메타)아크릴레이트, 2-에틸헥실(메타)아크릴레이트 등의 (메타)아크릴산알킬에스테르; 시클로헥실(메타)아크릴레이트 등의 지환식 구조 함유 (메타)아크릴레이트; 페닐(메타)아크릴레이트, 페녹시에틸아크릴레이트 등의 방향환 함유 (메타)아크릴레이트; 3-메타크릴옥시프로필트리메톡시실란 등의 실릴기를 갖는 (메타)아크릴레이트; 스티렌, α-메틸스티렌, 클로로스티렌 등의 스티렌 유도체 등을 들 수 있다. 이들은 단독으로 사용할 수도 2종 이상을 병용할 수도 있다.
상기 카르복시기를 갖는 (메타)아크릴 모노머(B)로서는, 예를 들면, 아크릴산, 메타크릴산, 무수아크릴산, 무수메타크릴산 등을 들 수 있다. 이들 카르복시기를 갖는 (메타)아크릴 모노머는, 단독으로 사용할 수도 2종 이상을 병용할 수도 있다. 또한, 이들 중에서도, 우수한 기재 밀착성을 갖고, 신도, 내찰상성 및 내약품성이 우수한 경화물을 형성 가능한 아크릴(메타)아크릴레이트 수지가 얻어지는 점에서, 아크릴산이 바람직하다.
상기 카르복시기를 갖는 (메타)아크릴 모노머(B)의 사용량은, 우수한 기재 밀착성을 갖고, 신도, 내찰상성 및 내약품성이 우수한 경화물을 형성 가능한 아크릴(메타)아크릴레이트 수지가 얻어지는 점에서, 글리시딜(메타)아크릴레이트(a1) 1몰에 대해서, 0.98~1.02몰%의 범위가 바람직하다.
본 발명의 아크릴(메타)아크릴레이트 수지의 제조 방법으로서는, 특히 제한되지 않고, 적의 공지의 방법에 의해서 제조할 수 있다. 예를 들면, 상기 아크릴 중합체(A)와 상기 카르복시기를 갖는 (메타)아크릴 모노머(B)를 적하법에 의해서 질소 분위기 하에서 4~10시간 적하해서 제조하는 방법 등을 들 수 있다.
본 발명의 아크릴(메타)아크릴레이트 수지의 (메타)아크릴로일기 당량은, 우수한 기재 밀착성을 갖고, 신도, 내찰상성 및 내약품성이 우수한 경화물을 형성 가능한 아크릴(메타)아크릴레이트 수지가 얻어지는 점에서, 400~3000g/당량의 범위가 바람직하고, 500~2000g/당량의 범위가 보다 바람직하다.
본 발명의 아크릴(메타)아크릴레이트 수지는, 분자 구조 중에 (메타)아크릴로일기를 갖는 점에서, 예를 들면, 광중합개시제를 첨가함으로써, 활성 에너지선 경화성 수지 조성물로서 이용할 수 있다.
상기 광중합개시제로서는, 예를 들면, 1-히드록시시클로헥실페닐케톤, 2-히드록시-2-메틸-1-페닐프로판-1-온, 1-[4-(2-히드록시에톡시)페닐]-2-히드록시-2-메틸-1-프로판-1-온, 티오잔톤 및 티오잔톤 유도체, 2,2'-디메톡시-1,2-디페닐에탄-1-온, 디페닐(2,4,6-트리메톡시벤조일)포스핀옥시드, 2,4,6-트리메틸벤조일디페닐포스핀옥시드, 비스(2,4,6-트리메틸벤조일)페닐포스핀옥시드, 2-메틸-1-(4-메틸티오페닐)-2-모르폴리노프로판-1-온, 2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)-1-부탄온 등의 광라디칼 중합개시제 등을 들 수 있다.
상기 기타 광중합개시제의 시판품으로서는, 예를 들면, 「Omnirad 1173」, 「Omnirad 184」, 「Omnirad 127」, 「Omnirad 2959」, 「Omnirad 369」, 「Omnirad 379」, 「Omnirad 907」, 「Omnirad 4265」, 「Omnirad 1000」, 「Omnirad 651」, 「Omnirad TPO」, 「Omnirad 819」, 「Omnirad 2022」, 「Omnirad 2100」, 「Omnirad 754」, 「Omnirad 784」, 「Omnirad 500」, 「Omnirad 81」(IGM Resins사제); 「KAYACURE DETX」, 「KAYACURE MBP」, 「KAYACURE DMBI」, 「KAYACURE EPA」, 「KAYACURE OA」(니혼가야쿠 가부시키가이샤제); 「Vicure 10」, 「Vicure 55」(Stoffa Chemical사제); 「Trigonal P1」(Akzo Nobel사제), 「SANDORAY 1000」(SANDOZ사제); 「DEAP」(Upjohn Chemical사제), 「Quantacure PDO」, 「Quantacure ITX」, 「Quantacure EPD」(Ward Blenkinsop사제); 「Runtecure 1104」(Runtec사제) 등을 들 수 있다. 이들 광중합개시제는, 단독으로 사용할 수도, 2종 이상을 병용할 수도 있다.
상기 광중합개시제의 첨가량은, 예를 들면, 활성 에너지선 경화성 수지 조성물의 용제 이외의 성분의 합계 중에 0.05~15질량%의 범위인 것이 바람직하고, 0.1~10질량%의 범위인 것이 보다 바람직하다.
또한, 상기 광중합개시제는, 필요에 따라서, 아민 화합물, 요소 화합물, 함황 화합물, 함린 화합물, 함염소 화합물, 니트릴 화합물 등의 광증감제를 병용할 수도 있다.
본 발명의 활성 에너지선 경화성 수지 조성물은, 상술한 아크릴(메타)아크릴레이트 수지 이외의 기타 수지 성분을 함유해도 된다. 상기 기타 수지 성분으로서는, 예를 들면, 덴드리머형 (메타)아크릴레이트 수지, 우레탄(메타)아크릴레이트 수지, 아크릴(메타)아크릴레이트 수지, 에폭시(메타)아크릴레이트 수지 등을 들 수 있다. 이들 기타 (메타)아크릴레이트 수지는, 단독으로 사용할 수도 2종 이상을 병용할 수도 있다.
상기 덴드리머형 (메타)아크릴레이트 수지란, 규칙성이 있는 다분기 구조를 갖고, 각 분기쇄의 말단에 (메타)아크릴로일기를 갖는 수지인 것을 말하고, 덴드리머형 외에, 하이퍼브랜치형 혹은 스타폴리머 등으로 불리고 있다. 이와 같은 화합물은, 예를 들면, 하기 구조식(1-1)~(1-8)으로 표시되는 것 등을 들 수 있지만, 이들에 한정되는 것은 아니고, 규칙성이 있는 다분기 구조를 갖고, 각 분기쇄의 말단에 (메타)아크릴로일기를 갖는 수지이면 어느 것도 사용할 수 있다.
[식(1-1)~(1-8) 중, R1은 수소 원자 또는 메틸기이고, R2는 탄소 원자수 1~4의 탄화수소기이다]
상기 덴드리머형 (메타)아크릴레이트 수지의 시판품으로서는, 예를 들면, 오사카유키가가쿠 가부시키가이샤제 「비스코트 #1000」[중량 평균 분자량(Mw) 1,500~2,000, 일분자당의 평균 (메타)아크릴로일기수 14], 「비스코트 1020」[중량 평균 분자량(Mw) 1,000~3,000], 「SIRIUS 501」[중량 평균 분자량(Mw) 15,000~23,000], MIWON사제 「SP-1106」[중량 평균 분자량(Mw) 1,630, 일분자당의 평균 (메타)아크릴로일기수 18], SARTOMER사제 「CN2301」, 「CN2302」[일분자당의 평균 (메타)아크릴로일기수 16], 「CN2303」[일분자당의 평균 (메타)아크릴로일기수 6], 「CN2304」[일분자당의 평균 (메타)아크릴로일기수 18], 신닛테츠스미킨가가쿠 가부시키가이샤제 「에스드리머 HU-22」, 신나카무라가가쿠 가부시키가이샤제 「A-HBR-5」, 다이이치고교세이야쿠 가부시키가이샤제 「뉴프론티어 R-1150」, 닛산가가쿠 가부시키가이샤제 「하이퍼테크 UR-101」 등을 들 수 있다.
상기 덴드리머형 (메타)아크릴레이트 수지의 중량 평균 분자량(Mw)은, 1,000~30,000의 범위인 것이 바람직하다. 또한, 일분자당의 평균 (메타)아크릴로일기수는, 5~30의 범위가 바람직하다.
상기 우레탄(메타)아크릴레이트 수지(B2)는, 예를 들면, 각종의 폴리이소시아네이트 화합물, 수산기를 갖는 (메타)아크릴레이트 화합물, 및 필요에 따라서 각종의 폴리올 화합물을 반응시켜서 얻어지는 것을 들 수 있다. 상기 폴리이소시아네이트 화합물은, 예를 들면, 부탄디이소시아네이트, 헥사메틸렌디이소시아네이트, 2,2,4-트리메틸헥사메틸렌디이소시아네이트, 2,4,4-트리메틸헥사메틸렌디이소시아네이트 등의 지방족 디이소시아네이트 화합물; 노르보르난디이소시아네이트, 이소포론디이소시아네이트, 수첨 자일릴렌디이소시아네이트, 수첨 디페닐메탄디이소시아네이트 등의 지환식 디이소시아네이트 화합물; 톨릴렌디이소시아네이트, 자일릴렌디이소시아네이트, 테트라메틸자일릴렌디이소시아네이트, 디페닐메탄디이소시아네이트, 1,5-나프탈렌디이소시아네이트 등의 방향족 디이소시아네이트 화합물; 하기 구조식(2)으로 표시되는 반복 구조를 갖는 폴리메틸렌폴리페닐폴리이소시아네이트; 이들의 이소시아누레이트 변성체, 뷰렛 변성체, 알로파네이트 변성체 등을 들 수 있다. 이들은 각각 단독으로 사용해도 되고, 2종류 이상을 병용해도 된다.
[식(2) 중, R3은 각각 독립적으로 수소 원자, 탄소 원자수 1~6의 탄화수소기 중 어느 하나이다. R4는 각각 독립적으로 탄소 원자수 1~4의 알킬기, 또는 구조식(2)으로 표시되는 구조 부위와 *표가 붙은 메틸렌기를 개재해서 연결하는 결합점 중 어느 하나이다. l은 0 또는 1~3의 정수이고, m은 1 이상의 정수이다]
상기 수산기를 갖는 (메타)아크릴레이트 화합물은, 예를 들면, 히드록시에틸(메타)아크릴레이트, 히드록시프로필(메타)아크릴레이트, 트리메틸올프로판디(메타)아크릴레이트, 펜타에리트리톨트리(메타)아크릴레이트, 디트리메틸올프로판트리(메타)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨펜타(메타)아크릴레이트 등의 수산기를 갖는 (메타)아크릴레이트 화합물; 상기 각종의 수산기를 갖는 (메타)아크릴레이트 화합물의 분자 구조 중에 (폴리)옥시에틸렌쇄, (폴리)옥시프로필렌쇄, (폴리)옥시테트라메틸렌쇄 등의 (폴리)옥시알킬렌쇄를 도입한 (폴리)옥시알킬렌 변성체; 상기 각종의 수산기를 갖는 (메타)아크릴레이트 화합물의 분자 구조 중에 (폴리)락톤 구조를 도입한 락톤 변성체 등을 들 수 있다.
상기 폴리올 화합물은, 예를 들면, 에틸렌글리콜, 프로필렌글리콜, 부탄디올, 헥산디올, 글리세린, 트리메틸올프로판, 디트리메틸올프로판, 펜타에리트리톨, 디펜타에리트리톨 등의 지방족 폴리올 화합물; 비페놀(biphenol), 비스페놀 등의 방향족 폴리올 화합물; 상기 각종의 폴리올 화합물의 분자 구조 중에 (폴리)옥시에틸렌쇄, (폴리)옥시프로필렌쇄, (폴리)옥시테트라메틸렌쇄 등의 (폴리)옥시알킬렌쇄를 도입한 (폴리)옥시알킬렌 변성체; 상기 각종의 폴리올 화합물의 분자 구조 중에 (폴리)락톤 구조를 도입한 락톤 변성체 등을 들 수 있다.
상기 아크릴(메타)아크릴레이트 수지로서는, 예를 들면, 수산기나 카르복시기, 이소시아네이트기, 글리시딜기 등의 반응성 관능기를 갖는 (메타)아크릴레이트 화합물(α)을 필수의 성분으로서 중합시켜서 얻어지는 아크릴 수지 중간체에, 이들 관능기와 반응할 수 있는 반응성 관능기를 갖는 (메타)아크릴레이트 화합물(β)을 더 반응시킴으로써 (메타)아크릴로일기를 도입해서 얻어지는 것을 들 수 있다.
상기 반응성 관능기를 갖는 (메타)아크릴레이트 화합물(α)은, 예를 들면, 히드록시에틸(메타)아크릴레이트, 히드록시프로필(메타)아크릴레이트 등의 수산기를 갖는 (메타)아크릴레이트 모노머; (메타)아크릴산 등의 카르복시기를 갖는 (메타)아크릴레이트 모노머; 2-아크릴로일옥시에틸이소시아네이트, 2-메타크릴로일옥시에틸이소시아네이트, 1,1-비스(아크릴로일옥시메틸)에틸이소시아네이트 등의 이소시아네이트기를 갖는 (메타)아크릴레이트 모노머; 글리시딜(메타)아크릴레이트, 4-히드록시부틸아크릴레이트글리시딜에테르 등의 글리시딜기를 갖는 (메타)아크릴레이트 모노머 등을 들 수 있다. 이들은 단독으로 사용할 수도 2종 이상을 병용할 수도 있다.
상기 아크릴 수지 중간체는, 상기 (메타)아크릴레이트 화합물(α) 외에, 필요에 따라서 기타 중합성 불포화기를 갖는 화합물을 공중합시킨 것이어도 된다. 상기 기타 중합성 불포화기를 갖는 화합물은, 예를 들면, 메틸(메타)아크릴레이트, 에틸(메타)아크릴레이트, 프로필(메타)아크릴레이트, 부틸(메타)아크릴레이트, 2-에틸헥실(메타)아크릴레이트 등의 (메타)아크릴산알킬에스테르; 시클로헥실(메타)아크릴레이트, 이소보로닐(메타)아크릴레이트, 디시클로펜타닐(메타)아크릴레이트 등의 지환식 구조 함유 (메타)아크릴레이트; 페닐(메타)아크릴레이트, 벤질(메타)아크릴레이트, 페녹시에틸아크릴레이트 등의 방향환 함유 (메타)아크릴레이트; 3-메타크릴옥시프로필트리메톡시실란 등의 실릴기를 갖는 (메타)아크릴레이트; 스티렌, α-메틸스티렌, 클로로스티렌 등의 스티렌 유도체 등을 들 수 있다. 이들은 단독으로 사용할 수도 2종 이상을 병용할 수도 있다.
상기 아크릴 수지 중간체는, 일반적인 아크릴 수지와 마찬가지의 방법에 의해 제조할 수 있다. 제조 조건의 일례로서는, 예를 들면, 중합개시제의 존재 하, 60℃~150℃의 온도 영역에서 각종 모노머를 중합시킴으로써 제조할 수 있다. 중합의 방법은, 예를 들면, 괴상 중합법, 용액 중합법, 현탁 중합법, 유화 중합법 등을 들 수 있다. 또한, 중합 양식은, 예를 들면, 랜덤 공중합체, 블록 공중합체, 그래프트 공중합체 등을 들 수 있다. 용액 중합법으로 행하는 경우에는, 예를 들면, 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤 등의 케톤 용매나, 프로필렌글리콜모노메틸에테르, 프로필렌글리콜디메틸에테르, 프로필렌글리콜모노프로필에테르, 프로필렌글리콜모노부틸에테르 등의 글리콜에테르 용매를 바람직하게 사용할 수 있다.
상기 (메타)아크릴레이트 화합물(β)은, 상기 (메타)아크릴레이트 화합물(α)이 갖는 반응성 관능기와 반응할 수 있는 것이면 특히 한정되지 않지만, 반응성의 관점에서 이하의 조합인 것이 바람직하다. 즉, 상기 (메타)아크릴레이트 화합물(α)로서 수산기를 갖는 (메타)아크릴레이트를 사용한 경우에는, (메타)아크릴레이트 화합물(β)로서 이소시아네이트기를 갖는 (메타)아크릴레이트를 사용하는 것이 바람직하다. 상기 (메타)아크릴레이트 화합물(α)로서 카르복시기를 갖는 (메타)아크릴레이트를 사용한 경우에는, (메타)아크릴레이트 화합물(β)로서 글리시딜기를 갖는 (메타)아크릴레이트를 사용하는 것이 바람직하다. 상기 (메타)아크릴레이트 화합물(α)로서 이소시아네이트기를 갖는 (메타)아크릴레이트를 사용한 경우에는, (메타)아크릴레이트 화합물(β)로서 수산기를 갖는 (메타)아크릴레이트를 사용하는 것이 바람직하다. 상기 (메타)아크릴레이트 화합물(α)로서 글리시딜기를 갖는 (메타)아크릴레이트를 사용한 경우에는, (메타)아크릴레이트 화합물(β)로서 카르복시기를 갖는 (메타)아크릴레이트를 사용하는 것이 바람직하다. 상기 (메타)아크릴레이트 화합물(β)은, 단독으로 사용할 수도 2종 이상을 병용할 수도 있다.
상기 아크릴 수지 중간체와 (메타)아크릴레이트 화합물(β)과의 반응은, 예를 들면, 당해 반응이 에스테르화 반응인 경우에는, 60~150℃의 온도 범위에서, 트리페닐포스핀 등의 에스테르화 촉매를 적의 사용하는 등의 방법을 들 수 있다. 또한, 당해 반응이 우레탄화 반응인 경우에는, 50~120℃의 온도 범위에서, 아크릴 수지 중간체에 화합물(β)을 적하하면서 반응시키는 등의 방법을 들 수 있다. 양자의 반응 비율은, 상기 아크릴 수지 중간체 중의 관능기수 1몰에 대해서, 상기 (메타)아크릴레이트 화합물(β)을 1.0~1.1몰의 범위에서 사용하는 것이 바람직하다.
상기 에폭시(메타)아크릴레이트 수지로서는, 예를 들면, 에폭시 수지에 (메타)아크릴산 또는 그 무수물을 반응시켜서 얻어지는 것을 들 수 있다. 상기 에폭시 수지는, 예를 들면, 히드로퀴논, 카테콜 등의 2가 페놀의 디글리시딜에테르; 3,3'-비페닐디올, 4,4'-비페닐디올 등의 비페놀 화합물의 디글리시딜에테르; 비스페놀A형 에폭시 수지, 비스페놀B형 에폭시 수지, 비스페놀F형 에폭시 수지, 비스페놀S형 에폭시 수지 등의 비스페놀형 에폭시 수지; 1,4-나프탈렌디올, 1,5-나프탈렌디올, 1,6-나프탈렌디올, 2,6-나프탈렌디올, 2,7-나프탈렌디올, 비나프톨, 비스(2,7-디히드록시나프틸)메탄 등의 나프톨 화합물의 폴리글리시딜에테르; 4,4',4''-메틸리딘트리스페놀 등의 트리글리시딜에테르; 페놀노볼락형 에폭시 수지, 크레졸노볼락 수지 등의 노볼락형 에폭시 수지; 상기 각종의 에폭시 수지의 분자 구조 중에 (폴리)옥시에틸렌쇄, (폴리)옥시프로필렌쇄, (폴리)옥시테트라메틸렌쇄 등의 (폴리)옥시알킬렌쇄를 도입한 (폴리)옥시알킬렌 변성체; 상기 각종의 에폭시 수지의 분자 구조 중에 (폴리)락톤 구조를 도입한 락톤 변성체 등을 들 수 있다.
또한, 본 발명의 활성 에너지선 경화성 수지 조성물은, 추가로 기타 성분을 함유하고 있어도 된다. 상기 기타 성분으로서는, 예를 들면, 무기 미립자, 실란 커플링제, 인산에스테르 화합물, 용제, 자외선 흡수제, 산화 방지제, 실리콘계 첨가제, 불소계 첨가제, 대전 방지제, 유기 비드, 양자 도트(QD), 레올로지 컨트롤제, 탈포제, 방담제, 착색제 등을 들 수 있다.
상기 무기 미립자는, 활성 에너지선 경화성 수지 조성물의 경화 도막에 있어서의 경도나 굴절율 등을 조정하는 등의 목적으로 첨가되는 것이고, 공지 관용의 각종의 무기 미립자를 사용할 수 있다. 일례로서는, 실리카, 알루미나, 지르코니아, 티타니아, 티탄산바륨, 삼산화안티몬 등의 미립자를 들 수 있다. 이들은 각각 단독으로 사용해도 되고, 2종류 이상을 병용해도 된다.
이들 무기 미립자 중에서도, 입수가 용이하고 취급이 간편한 점에서 실리카 입자가 바람직하다. 실리카 입자는, 예를 들면, 흄드 실리카나, 침전법 실리카, 겔 실리카, 졸겔 실리카 등으로 불리는 습식 실리카 등 각종의 실리카 입자를 들 수 있고, 어느 것을 사용해도 된다.
상기 무기 미립자는, 각종 실란 커플링제로 미립자 표면에 관능기를 도입한 것이어도 된다. 당해 무기 미립자의 표면에 관능기를 도입함으로써, 상기 아크릴(메타)아크릴레이트 수지(A) 등의 유기 성분과의 혼화성이 높아져서, 보존 안정성이 향상한다.
상기 무기 미립자를 수식하는 실란 커플링제는, 예를 들면, [(메타)아크릴로일옥시알킬]트리알킬실란, [(메타)아크릴로일옥시알킬]디알킬알콕시실란, [(메타)아크릴로일옥시알킬]알킬디알콕시실란, [(메타)아크릴로일옥시알킬]트리알콕시실란, 등의 (메타)아크릴로일옥시계 실란 커플링제; 트리알킬비닐실란, 디알킬알콕시비닐실란, 알킬디알콕시비닐실란, 트리알콕시비닐실란, 트리알킬알릴실란, 디알킬알콕시알릴실란, 알킬디알콕시알릴실란, 트리알콕시알릴실란 등의 비닐계 실란 커플링제; 스티릴트리알킬, 스티릴디알킬알콕시실란, 스티릴알킬디알콕시실란, 스티릴트리알콕시실란 등의 스티렌계 실란 커플링제; (글리시딜옥시알킬)트리알킬실란, (글리시딜옥시알킬)디알킬알콕시실란, (글리시딜옥시알킬)알킬디알콕시실란, (글리시딜옥시알킬)트리알콕시실란, [(3,4-에폭시시클로헥실)알킬]트리메톡시실란, [(3,4-에폭시시클로헥실)알킬]트리알킬실란, [(3,4-에폭시시클로헥실)알킬]디알킬알콕시실란, [(3,4-에폭시시클로헥실)알킬]알킬디알콕시실란, [(3,4-에폭시시클로헥실)알킬]트리알콕시실란 등의 에폭시계 실란 커플링제; (이소시아네이트알킬)트리알킬실란, (이소시아네이트알킬)디알킬알콕시실란, (이소시아네이트알킬)알킬디알콕시실란, (이소시아네이트알킬)트리알콕시실란 등의 이소시아네이트계 실란 커플링제 등을 들 수 있다. 이들은 각각 단독으로 사용해도 되고, 2종류 이상을 병용해도 된다.
상기 실란 커플링제 중에서도, 상기 아크릴(메타)아크릴레이트 수지 등의 유기 성분과의 혼화성이 우수한 무기 미립자가 되는 점에서, (메타)아크릴로일옥시계 실란 커플링제가 바람직하고, 3-(메타)아크릴로일옥시프로필트리메톡시실란 등의 [(메타)아크릴로일옥시알킬]트리알콕시실란이 특히 바람직하다.
상기 무기 미립자의 평균 입자경은 특히 한정되지 않고, 원하는 경화물 성능 등에 따라서 적의 조정해도 된다. 특히, 내찰상성과 크랙 방지성 외에, 내블로킹성이나 투명성 등도 우수한 경화 도막이 얻어지는 점에서, 상기 무기 미립자의 평균 입자경은 80~250nm의 범위인 것이 바람직하고, 90~180nm의 범위인 것이 보다 바람직하고, 100~150nm의 범위인 것이 특히 바람직하다.
또, 상기 무기 미립자의 평균 입자경은, 활성 에너지선 경화성 수지 조성물 중의 입자경을 이하의 조건에 의해 측정한 값이다.
입자경 측정 장치: 오츠카덴시 가부시키가이샤제 「ELSZ-2」
입자경 측정 샘플: 활성 에너지선 경화성 수지 조성물을 불휘발분 1질량%의 메틸이소부틸케톤 용액으로 한 것.
본 발명의 활성 에너지선 경화성 수지 조성물 중, 상기 무기 미립자의 함유량은 특히 한정되지 않고, 원하는 경화물 성능 등에 따라서 적의 조정해도 된다. 특히, 내찰상성이 우수한 경화 도막이 얻어지는 점에서, 상기 무기 미립자의 함유율은, 상기 아크릴(메타)아크릴레이트 수지 100질량부에 대해서 10~100질량부의 범위인 것이 바람직하다.
상기 활성 에너지선 경화성 수지 조성물 중에 첨가하는 실란 커플링제는 예를 들면, [(메타)아크릴로일옥시알킬]트리알킬실란, [(메타)아크릴로일옥시알킬]디알킬알콕시실란, [(메타)아크릴로일옥시알킬]알킬디알콕시실란, [(메타)아크릴로일옥시알킬]트리알콕시실란 등의 (메타)아크릴로일옥시계 실란 커플링제; 트리알킬비닐실란, 디알킬알콕시비닐실란, 알킬디알콕시비닐실란, 트리알콕시비닐실란, 트리알킬알릴실란, 디알킬알콕시알릴실란, 알킬디알콕시알릴실란, 트리알콕시알릴실란 등의 비닐계 실란 커플링제; 스티릴트리알킬, 스티릴디알킬알콕시실란, 스티릴알킬디알콕시실란, 스티릴트리알콕시실란 등의 스티렌계 실란 커플링제; (글리시딜옥시알킬)트리알킬실란, (글리시딜옥시알킬)디알킬알콕시실란, (글리시딜옥시알킬)알킬디알콕시실란, (글리시딜옥시알킬)트리알콕시실란, [(3,4-에폭시시클로헥실)알킬]트리메톡시실란, [(3,4-에폭시시클로헥실)알킬]트리알킬실란, [(3,4-에폭시시클로헥실)알킬]디알킬알콕시실란, [(3,4-에폭시시클로헥실)알킬]알킬디알콕시실란, [(3,4-에폭시시클로헥실)알킬]트리알콕시실란 등의 에폭시계 실란 커플링제; (이소시아네이트알킬)트리알킬실란, (이소시아네이트알킬)디알킬알콕시실란, (이소시아네이트알킬)알킬디알콕시실란, (이소시아네이트알킬)트리알콕시실란 등의 이소시아네이트계 실란 커플링제 등을 들 수 있다. 이들은 각각 단독으로 사용해도 되고, 2종류 이상을 병용해도 된다.
상기 인산에스테르 화합물의 시판품으로서는, 예를 들면, 분자 구조 중에 (메타)아크릴로일기를 갖는 인산에스테르 화합물인 니혼가야쿠 가부시키가이샤제 「가야마 PM-2」, 「가야마 PM-21」, 교에이샤가가쿠 가부시키가이샤제 「라이트에스테르 P-1M」, 「라이트에스테르 P-2M」, 「라이트아크릴레이트 P-1A(N)」, SOLVAY사제 「SIPOMER PAM 100」, 「SIPOMER PAM 200」, 「SIPOMER PAM 300」, 「SIPOMER PAM 4000」, 오사카유키가가쿠고교샤제 「비스코트 #3PA」, 「비스코트 #3PMA」, 다이이치고교세이야쿠샤제 「뉴프론티어 S-23A」; 분자 구조 중에 알릴에테르기를 갖는 인산에스테르 화합물인 SOLVAY사제 「SIPOMER PAM 5000」 등을 들 수 있다.
상기 용제는, 활성 에너지선 경화성 수지 조성물의 도공 점도 조절 등의 목적으로 첨가되는 것이고, 그 종류나 첨가량은, 원하는 성능에 따라서 적의 조정된다. 일반적으로는, 활성 에너지선 경화성 수지 조성물의 불휘발분이 10~90질량%의 범위가 되도록 사용된다. 상기 용제의 구체예로서는, 예를 들면, 아세톤, 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤 등의 케톤 용제; 테트라히드로퓨란, 디옥솔란 등의 환상 에테르 용제; 아세트산메틸, 아세트산에틸, 아세트산부틸 등의 에스테르; 톨루엔, 자일렌 등의 방향족 용제; 시클로헥산, 메틸시클로헥산 등의 지환족 용제; 카르비톨, 셀로솔브, 메탄올, 이소프로판올, 부탄올, 프로필렌글리콜모노메틸에테르 등의 알코올 용제; 에틸렌글리콜모노에틸에테르, 에틸렌글리콜모노부틸에테르, 프로필렌글리콜모노메틸에테르, 프로필렌글리콜모노프로필에테르 등의 글리콜에테르계 용제 등을 들 수 있다. 이들 용제는, 단독으로 사용할 수도 2종 이상을 병용할 수도 있다.
상기 자외선 흡수제로서는, 예를 들면, 2-[4-{(2-히드록시-3-도데실옥시프로필)옥시}-2-히드록시페닐]-4,6-비스(2,4-디메틸페닐)-1,3,5-트리아진, 2-[4-{(2-히드록시-3-트리데실옥시프로필)옥시}-2-히드록시페닐]-4,6-비스(2,4-디메틸페닐)-1,3,5-트리아진 등의 트리아진 유도체, 2-(2'-잔텐카르복시-5'-메틸페닐)벤조트리아졸, 2-(2'-o-니트로벤질옥시-5'-메틸페닐)벤조트리아졸, 2-잔텐카르복시-4-도데실옥시벤조페논, 2-o-니트로벤질옥시-4-도데실옥시벤조페논 등을 들 수 있다. 이들 자외선 흡수제는, 단독으로 사용할 수도 2종 이상을 병용할 수도 있다.
상기 산화 방지제로서는, 예를 들면, 힌더드페놀계 산화 방지제, 힌더드아민계 산화 방지제, 유기 황계 산화 방지제, 인산에스테르계 산화 방지제 등을 들 수 있다. 이들 산화 방지제는, 단독으로 사용할 수도 2종 이상을 병용할 수도 있다.
상기 실리콘계 첨가제로서는, 예를 들면, 디메틸폴리실록산, 메틸페닐폴리실록산, 환상 디메틸폴리실록산, 메틸하이드로겐폴리실록산, 폴리에테르 변성 디메틸폴리실록산 공중합체, 폴리에스테르 변성 디메틸폴리실록산 공중합체, 불소 변성 디메틸폴리실록산 공중합체, 아미노 변성 디메틸폴리실록산 공중합체 등과 같은 알킬기나 페닐기를 갖는 폴리오르가노실록산, 폴리에테르 변성 아크릴기를 갖는 폴리디메틸실록산, 폴리에스테르 변성 아크릴기를 갖는 폴리디메틸실록산 등을 들 수 있다. 이들 실리콘계 첨가제는, 단독으로 사용할 수도 2종 이상을 병용할 수도 있다.
상기 불소계 첨가제의 시판품으로서는, 예를 들면, 디아이씨 가부시키가이샤제 「메가페이스」 시리즈 등을 들 수 있다. 이들 불소계 첨가제는, 단독으로 사용할 수도 2종 이상을 병용할 수도 있다.
상기 대전 방지제로서는, 예를 들면, 비스(트리플루오로메탄설포닐)이미드 또는 비스(플루오로설포닐)이미드의 피리디늄, 이미다졸륨, 포스포늄, 암모늄, 또는 리튬염을 들 수 있다. 이들 대전 방지제는, 단독으로 사용할 수도 2종 이상을 병용할 수도 있다.
상기 유기 비드로서는, 예를 들면, 폴리메타크릴산메틸 비드, 폴리카보네이트 비드, 폴리스티렌 비드, 폴리아크릴스티렌 비드, 실리콘 비드, 유리 비드, 아크릴 비드, 벤조구아나민계 수지 비드, 멜라민계 수지 비드, 폴리올레핀계 수지 비드, 폴리에스테르계 수지 비드, 폴리아미드 수지 비드, 폴리이미드계 수지 비드, 폴리불화에틸렌 수지 비드, 폴리에틸렌 수지 비드 등을 들 수 있다. 이들 유기 비드는, 단독으로 사용할 수도 2종 이상을 병용할 수도 있다. 또한, 이들 유기 비드의 평균 입경은 1~10㎛의 범위인 것이 바람직하다.
상기 양자 도트(QD)로서는, II-V족 반도체 화합물, II-VI족 반도체 화합물, III-IV족 반도체 화합물, III-V족 반도체 화합물, III-VI족 반도체 화합물, IV-VI족 반도체 화합물, I-III-VI족 반도체 화합물, II-IV-VI족 반도체 화합물, II-IV-V족 반도체 화합물, I-II-IV-VI족 반도체 화합물, IV족 원소 또는 이것을 포함하는 화합물 등을 들 수 있다. 상기 II-VI족 반도체 화합물은, 예를 들면, ZnO, ZnS, ZnSe, ZnTe, CdS, CdSe, CdTe, HgS, HgSe, HgTe 등의 이원 화합물; ZnSeS, ZnSeTe, ZnSTe, CdZnS, CdZnSe, CdZnTe, CdSeS, CdSeTe, CdSTe, CdHgS, CdHgSe, CdHgTe, HgSeS, HgSeTe, HgSTe, HgZnS, HgZnSe, HgZnTe 등의 삼원 화합물; CdZnSeS, CdZnSeTe, CdZnSTe, CdHgSeS, CdHgSeTe, CdHgSTe, CdHgZnTe, HgZnSeS, HgZnSeTe, HgZnSTe 등의 사원 화합물 등을 들 수 있다. 상기 III-IV족 반도체 화합물은, 예를 들면, B4C3, Al4C3, Ga4C3 등을 들 수 있다. 상기 III-V족 반도체 화합물은, 예를 들면, BP, BN, AlN, AlP, AlAs, AlSb, GaN, GaP, GaAs, GaSb, InN, InP, InAs, InSb 등의 이원 화합물; GaNP, GaNAs, GaNSb, GaPAs, GaPSb, AlNP, AlNAs, AlNSb, AlPAs, AlPSb, InNP, InNAs, InNSb, InPAs, InPSb, GaAlNP 등의 삼원 화합물; GaAlNAs, GaAlNSb, GaAlPAs, GaAlPSb, GaInNP, GaInNAs, GaInNSb, GaInPAs, GaInPSb, InAlNP, InAlNAs, InAlNSb, InAlPAs, InAlPSb 등의 사원 화합물 등을 들 수 있다. 상기 III-VI족 반도체 화합물은, 예를 들면, Al2S3, Al2Se3, Al2Te3, Ga2S3, Ga2Se3, Ga2Te3, GaTe, In2S3, In2Se3, In2Te3, InTe 등을 들 수 있다. 상기 IV-VI족 반도체 화합물은, 예를 들면, SnS, SnSe, SnTe, PbS, PbSe, PbTe 등의 이원 화합물; SnSeS, SnSeTe, SnSTe, PbSeS, PbSeTe, PbSTe, SnPbS, SnPbSe, SnPbTe 등의 삼원 화합물; SnPbSSe, SnPbSeTe, SnPbSTe 등의 사원 화합물 등을 들 수 있다. 상기 I-III-VI족 반도체 화합물은, 예를 들면, CuInS2, CuInSe2, CuInTe2, CuGaS2, CuGaSe2, CuGaSe2, AgInS2, AgInSe2, AgInTe2, AgGaSe2, AgGaS2, AgGaTe2 등을 들 수 있다. 상기 IV족 원소 또는 이것을 포함하는 화합물은, 예를 들면, C, Si, Ge, SiC, SiGe 등을 들 수 있다. 양자 도트는 단일의 반도체 화합물로 이루어져 있어도 되고, 복수의 반도체 화합물로 이루어지는 코어-쉘 구조를 갖고 있어도 된다. 또한, 그 표면을 유기 화합물로 수식한 것이어도 된다.
이들 각종의 첨가제는, 원하는 성능 등에 따라서 임의의 양 첨가할 수 있지만, 통상, 활성 에너지선 경화성 수지 조성물 중의 용제를 뺀 성분의 합계 100질량% 중, 0.01~40질량%의 범위에서 사용하는 것이 바람직하다.
본 발명에서 사용하는 활성 에너지선 경화성 수지 조성물은 상기 각 배합 성분을 혼합해서 제조된다. 혼합 방법은 특히 한정되지 않고, 페인트 쉐이커, 디스퍼, 롤 밀, 비드 밀, 볼 밀, 애트라이터, 샌드 밀, 비드 밀 등을 사용해도 된다.
본 발명의 경화물은, 상기 활성 에너지선 경화성 수지 조성물에, 활성 에너지선을 조사함으로써 얻을 수 있다. 상기 활성 에너지선으로서는, 예를 들면, 자외선, 전자선, α선, β선, γ선 등의 전리 방사선을 들 수 있다. 또한, 상기 활성 에너지선으로서, 자외선을 사용하는 경우, 자외선에 의한 경화 반응을 효율좋게 행하는 경우에, 질소 가스 등의 불활성 가스 분위기 하에서 조사해도 되고, 공기 분위기 하에서 조사해도 된다.
자외선 발생원으로서는, 실용성, 경제성의 면에서 자외선 램프가 일반적으로 사용되고 있다. 구체적으로는, 저압 수은 램프, 고압 수은 램프, 초고압 수은 램프, 제논 램프, 갈륨 램프, 메탈할라이드 램프, 태양광, LED 등을 들 수 있다.
상기 활성 에너지선의 적산 광량은, 특히 제한되지 않지만, 0.1~50kJ/㎡인 것이 바람직하고, 0.5~10kJ/㎡인 것이 보다 바람직하다. 적산 광량이 상기 범위이면, 미경화 부분의 발생의 방지 또는 억제가 가능한 점에서 바람직하다.
또, 상기 활성 에너지선의 조사는, 일단계로 행해도 되고, 이단계 이상으로 나눠 행해도 된다.
또한, 120~200℃의 온도 범위에 있어서의 상기 경화물의 동적 점탄성 스펙트럼으로 측정되는 tanδ는, 우수한 기재 밀착성을 갖고, 신도, 내찰상성 및 내약품성이 우수한 점에서, 0.1~1의 범위가 바람직하다.
본 발명의 물품으로서는, 상기 적층체를 표면에 갖는 것이다. 상기 물품으로서는, 예를 들면, 휴대 전화, 가전 제품, 자동차 내외장재, OA 기기 등의 플라스틱 성형품 등을 들 수 있다.
[실시예]
이하, 실시예와 비교예에 의해, 본 발명을 구체적으로 설명한다. 또, 본 발명은, 이하에 예시한 실시예에 한정되는 것은 아니다.
또, 본 실시예에 있어서, 중량 평균 분자량(Mw)은, 겔·퍼미에이션·크로마토그래피(GPC)을 사용해서, 하기의 조건에 의해서 측정한 값이다.
측정 장치; 도소가부시키가이샤제 「HLC-8220」
칼럼; 도소가부시키가이샤제 「가드칼럼 HXL-H」
+도소가부시키가이샤제 「TSKgel G5000HXL」
+도소가부시키가이샤제 「TSKgel G4000HXL」
+도소가부시키가이샤제 「TSKgel G3000HXL」
+도소가부시키가이샤제 「TSKgel G2000HXL」
검출기; RI(시차굴절계)
데이터 처리: 도소가부시키가이샤제 「SC-8010」
측정 조건: 칼럼 온도 40℃
용매 테트라히드로퓨란
유속 1.0ml/분
표준; 폴리스티렌
시료; 수지 고형분 환산으로 0.4질량%의 테트라히드로퓨란 용액을 마이크로필터로 여과한 것(100μl)
(실시예 1: 아크릴아크릴레이트 수지(1)의 조제)
교반 장치, 냉각관, 적하 깔때기 및 질소 도입관을 구비한 반응 장치에, 메틸이소부틸케톤 67.9질량부를 투입하고, 교반하면서 계내 온도가 110℃가 되기까지 승온했다. 이어서, 글리시딜메타크릴레이트 8.4질량부, 메틸메타크릴레이트 37.8질량부, 터셔리부틸메타크릴레이트 53.8질량부, 에틸아크릴레이트 0.2질량부, t-부틸퍼옥시-2-에틸헥사노에이트(니혼뉴카자이 가부시키가이샤제 「퍼부틸O」) 1.8질량부로 이루어지는 혼합액을 4시간 걸려서 적하 깔때기로부터 적하하며, 110℃에서 15시간 유지했다. 이어서, 90℃까지 강온한 후, 메토퀴논 0.05질량부 및 아크릴산 4.3질량부를 투입하고, 트리페닐포스핀 0.5질량부를 첨가하고, 100℃에서 8시간 이상 반응시킨 후, 메틸이소부틸케톤으로 희석을 행해서, 아크릴아크릴레이트 수지의 메틸이소부틸케톤 용액 238질량부(불휘발분 45.0질량%)를 얻었다. 이 아크릴아크릴레이트 수지(1)의 중량 평균 분자량(Mw)은 26,000이고, 고형분 환산의 이론 아크릴로일기 당량은, 1790g/당량이었다.
(실시예 2~5: 아크릴아크릴레이트 수지(2)~(6)의 제조)
표 1에 나타내는 배합 비율로 실시예 1과 마찬가지의 방법에 의해, 아크릴아크릴레이트(2)~(6)를 얻었다.
(비교예 1 및 2: 아크릴아크릴레이트 수지(R1) 및 (R2)의 제조)
표 1에 나타내는 배합 비율로 실시예 1과 마찬가지의 방법에 의해, 아크릴아크릴레이트(2)~(5)를 얻었다.
실시예 1~6, 그리고, 비교예 1 및 2에 의해 조제한 아크릴아크릴레이트 수지(1)~(6), (R1) 및 (R2)의 조성을 표 1에 나타낸다.
[표 1]
표 1 중의 「GMA」는, 글리시딜메타크릴레이트(호모폴리머의 Tg: 46℃)를 나타낸다.
표 1 중의 「MMA」는, 메틸메타크릴레이트(호모폴리머의 Tg: 105℃)를 나타낸다.
표 1 중의 「tBMA」는, 터셔리부틸메타크릴레이트(호모폴리머의 Tg: 107℃)를 나타낸다.
표 1 중의 「CHMA」는, 시클로헥실메타크릴레이트(호모폴리머의 Tg: 66℃)를 나타낸다.
표 1 중의 「IBXMA」는, 이소보르닐메타크릴레이트(호모폴리머의 Tg: 180℃)를 나타낸다.
표 1 중의 「BZMA」는, 벤질메타크릴레이트(호모폴리머의 Tg: 54℃)를 나타낸다.
표 1 중의 「EA」는, 에틸아크릴레이트(호모폴리머의 Tg: -20℃)를 나타낸다.
표 1 중의 「AA」는, 아크릴산을 나타낸다.
표 1 중의 「MIBK」는, 메틸이소부틸케톤을 나타낸다.
표 1 중의 「p-O」는, t-부틸퍼옥시-2-에틸헥사노에이트(니혼뉴카자이 가부시키가이샤제 「퍼부틸O」)를 나타낸다.
표 1 중의 「TPP」는, 트리페닐포스핀을 나타낸다.
(실시예 7: 활성 에너지선 경화성 수지 조성물(1)의 조제)
실시예 1에서 얻은 불휘발분 45질량%의 아크릴아크릴레이트 수지 15.5질량부(고형분으로서 7질량부), 디펜타에리트리톨펜타아크릴레이트와 디펜타에리트리톨헥사아크릴레이트의 혼합물(도아고세이 가부시키가이샤제 「아로닉스 M-403」) 3질량부, 광중합개시제(IGM Resins사제 「Omnirad-184」) 0.3질량부를 혼합해서, 활성 에너지선 경화성 수지 조성물(1)을 얻었다.
(실시예 8~12: 활성 에너지선 경화성 수지 조성물(2)~(6)의 조제)
표 1에 나타내는 배합 비율로 실시예 6과 마찬가지의 방법에 의해, 활성 에너지선 경화성 수지 조성물(2)~(6)을 얻었다.
상기의 실시예 및 비교예에서 얻어진 활성 에너지선 경화성 수지 조성물(1)~(6), (R1) 및 (R2)을 사용해서, 하기의 평가를 행했다.
[tanδ의 측정 방법]
활성 에너지선 경화성 수지 조성물을 경면 알루미늄판에 애플리케이터로 도포하고, 100℃ 30분의 예비 과열 후에, 질소 분위기 하, 고압 수은 램프로 자외선을 조사함으로써(150mJ/㎠) 경화막을 작성했다. 얻어진 경화막을 경면 알루미늄판으로부터 단리해서, 두께 50㎛, 폭 6mm, 길이 54mm의 시험편을 작성했다. TA인스트루먼트사제 「고체 점탄성 측정 장치 RSA-G2」를 사용하고, DMA(동적 점탄성) 측정에 의해서, 승온 속도를 5℃/분, 주파수가 1Hz, 부하 변형을 0.1%로 시험편의 탄성율을 측정했다. tanδ는 신도 측정 온도와 동온인 130℃에 있어서의 수치를 채용했다.
[기재 밀착성의 평가 방법]
활성 에너지선 경화성 수지 조성물을 두께 250㎛의 폴리카보네이트-아크릴 적층 필름(주식회사 샤인테크노제 「ShineTech AW-10U」) 상에 바코터로 도포하고, 80℃에서 1분간 건조시켰다. 이어서, 공기 분위기 하, 80W 고압 수은 램프로 자외선을 400mJ/㎠ 조사해서, 아크릴 필름 상에 막두께 5㎛의 경화 도막을 갖는 적층체(2)를 얻었다. 이 적층체(2)의 경화 도막 표면에 커터 나이프로 칼집을 내어서, 1mm×1mm의 기반목(碁盤目)을 100개 작성하고, 그 위로부터 셀로판 점착 테이프를 첩착한 후, 급속하게 박리하는 조작을 행하고, 박리하지 않고 잔존한 기반목의 수를 세어서, 이하의 기준에 따라서 평가했다.
A: 기반목의 잔존수가 80개 이상이었다.
B: 기반목의 잔존수가 80개 미만이었다.
[신도의 평가 방법]
신도의 측정은, 인장 시험에 기해서 행했다.
<적층 필름1의 제작>
실시예 및 비교예에서 얻은 활성 에너지선 경화성 수지 조성물을 두께 188㎛의 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET) 필름(도레 루미라 SF-20)에 바코터로 도포하고, 80℃에서 1분간 건조했다. 이어서, 질소 분위기 하, 고압 수은 램프로 자외선을 조사함으로써(150mJ/㎠), PET 필름 상에 막두께 5㎛의 경화물이 적층된 적층 필름1을 얻었다.
<인장 시험>
얻어진 적층 필름을 폭 10mm×길이 100mm의 시험편이 되도록 잘라내고, 얻어진 시험편에 대해서, 이하의 조건에 의해 인장 시험을 행하고, 시험편 표면에 크랙이 발생 또는 시험편이 파단하기까지의 신장 신도를 측정하고, 이하의 기준에 따라서 만능 시험기(메이커: 시마즈세이사쿠쇼, 오토그래프 AG-IS)를 사용해서 평가를 행했다.
측정 조건: 인장 속도: 100mm/분, 척간 거리: 40mm, 온도: 130℃
로드셀: 1kN
[내찰상성의 평가 방법]
스틸울(니혼스틸울 가부시키가이샤제 「본스타 #0000」) 0.5g으로 직경 2.4센티미터의 원반상의 압자를 감싸고, 당해 압자에 500g중의 하중을 걸고, 상기 <적층 필름1의 제작>에서 얻은 적층 필름의 도장 표면을 10왕복시키는 마모 시험을 행했다. 마모 시험 전후의 적층 필름의 헤이즈값을 스가시켄키 가부시키가이샤제 「헤이즈컴퓨터 HZ-2」를 사용해서 측정하고, 그들의 차의 값(dH)을 사용해서, 이하의 기준에 따라서 평가했다. 또, 차의 값(dH)이 작을수록, 찰상에 대한 내성이 높다.
A: dH가, 1.0% 이하였다.
B: dH가, 1.0% 초과~3.0% 이하였다.
C: dH가, 3.0% 초과였다.
[내약품성의 평가 방법]
<적층 필름2의 제작>
실시예 및 비교예에서 얻은 활성 에너지선 경화성 수지 조성물을 두께 250㎛의 폴리카보네이트(PC) 필름(주식회사 샤인테크노제 「ShineTechPC-10U」)에 바코터로 도포하고, 90℃에서 2분간 건조했다. 이어서, 공기 분위기 하, 고압 수은 램프로 자외선을 조사함으로써(500mJ/㎠), PC 필름 상에 막두께 5㎛의 경화물이 적층된 적층 필름2를 얻었다.
<내약품성 시험>
상기 적층 필름2의 경화 도막 표면 상에 썬크림(Johnson&Johnson Consumer Inc.사제 「뉴트로지나 울트라 시어 썬크림」)을 0.1g/㎠가 되도록 도포하고, 80℃의 오븐 내에서 4시간 정치했다. 오븐으로부터 취출하고 상온으로 되돌린 후, 천으로 썬크림을 닦아내고, 닦아낸 후의 도막 표면의 상태를 하기의 기준에 따라서 평가했다.
A: 시험 전의 적층체와 비교해서 변화가 없다.
B: 도막에 얇은 투명한 흔적이 남는다.
C: 도포부의 일부에 백화나 크랙이 생긴다.
D: 도포부의 전면에 백화나 크랙이 생긴다.
실시예 7~12에서 조제한 활성 에너지선 경화성 수지 조성물(1)~(6), 그리고, 비교예 3 및 4에서 조제한 (R1) 및 (R2)의 조성 및 평가 결과를 표 1에 나타낸다.
[표 2]
표 2 중의 「아로닉스 M-403」는, 도아고세이 가부시키가이샤제 「아로닉스 M-403」; 디펜타에리트리톨펜타아크릴레이트와 디펜타에리트리톨헥사아크릴레이트의 혼합물을 나타낸다.
표 2 중의 「Omnirad 184」는 IGM Resins사제 「Omnirad 184」; 광중합개시제를 나타낸다.
표 2에 나타낸 실시예 7~12는, 본 발명의 아크릴아크릴레이트 수지를 함유하는 활성 에너지선 경화성 수지 조성물의 예이다. 이들 활성 에너지선 경화성 수지 조성물의 경화물은, 우수한 기재 밀착성, 신도, 내찰상성 및 내약품성을 갖는 것을 확인할 수 있었다.
한편, 표 2에 나타낸 비교예 3은, 호모폴리머의 유리 전이 온도(Tg)가 50℃ 미만인 (메타)아크릴레이트 화합물을 원료에 사용한 활성 에너지선 경화성 수지 조성물의 예이다. 이 활성 에너지선 경화성 수지 조성물의 경화물은, 기재 밀착성은 우수하지만, 신도, 내찰상성 및 내약품성에 관해서는, 현저하게 불충분한 것을 확인할 수 있었다.
비교예 4는, 호모폴리머의 유리 전이 온도(Tg)가 50℃ 이상인 (메타)아크릴레이트 화합물(a2)을 원료에 사용하지 않는 활성 에너지선 경화성 수지 조성물의 예이다. 이 활성 에너지선 경화성 수지 조성물의 경화물은, 신도, 내찰상성 및 내약품성에 관해서, 현저하게 불충분한 것을 확인할 수 있었다.
Claims (10)
- 아크릴 중합체(A),
및 카르복시기를 갖는 (메타)아크릴 모노머(B)를 원료로 하는 아크릴(메타)아크릴레이트 수지이고,
상기 아크릴 중합체(A)가,
글리시딜(메타)아크릴레이트(a1)와,
호모폴리머의 유리 전이 온도(Tg)가 50℃ 이상인 (메타)아크릴레이트 화합물(a2)
을 포함하는 중합성 화합물의 공중합체인 것을 특징으로 하는 아크릴(메타)아크릴레이트 수지. - 제1항에 있어서,
상기 (메타)아크릴레이트 화합물(a2)이, 메틸(메타)아크릴레이트, tert-부틸(메타)아크릴레이트, 시클로헥실(메타)아크릴레이트, 벤질(메타)아크릴레이트, 이소보르닐(메타)아크릴레이트, 디시클로펜타닐(메타)아크릴레이트 및 아다만틸(메타)아크릴레이트로 이루어지는 군에서 선택되는 2종 이상인 아크릴(메타)아크릴레이트 수지. - 제1항 또는 제2항에 있어서,
상기 글리시딜(메타)아크릴레이트(a1)의 함유량이, 상기 중합성 화합물 중에 5~50질량%의 범위인 아크릴(메타)아크릴레이트 수지. - 제1항 또는 제2항에 있어서,
상기 (메타)아크릴레이트 화합물(a2)이, 메틸(메타)아크릴레이트를 포함하는 것인 아크릴(메타)아크릴레이트 수지. - 제4항에 있어서,
상기 메틸(메타)아크릴레이트의 함유량이, 상기 (메타)아크릴레이트 화합물(a2) 중에 25~65질량%의 범위인 아크릴(메타)아크릴레이트 수지. - 제1항 또는 제2항에 있어서,
(메타)아크릴로일기 당량이, 400~3000g/당량인 아크릴(메타)아크릴레이트 수지. - 제1항에 기재된 아크릴(메타)아크릴레이트 수지와, 광중합개시제를 함유하는 것을 특징으로 하는 활성 에너지선 경화성 수지 조성물.
- 제7항에 기재된 활성 에너지선 경화성 수지 조성물의 경화물.
- 제8항에 있어서,
120~200℃의 온도 범위에 있어서의, 동적 점탄성 스펙트럼으로 측정되는 tanδ가 0.1~1의 범위인 경화물. - 제8항 또는 제9항에 기재된 경화물로 이루어지는 도막을 갖는 것을 특징으로 하는 물품.
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2021107472 | 2021-06-29 | ||
| JPJP-P-2021-107472 | 2021-06-29 | ||
| PCT/JP2022/023220 WO2023276600A1 (ja) | 2021-06-29 | 2022-06-09 | アクリル（メタ）アクリレート樹脂、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物、硬化物及び物品 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR20240024081A true KR20240024081A (ko) | 2024-02-23 |
Family
ID=84691698
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1020237043084A KR20240024081A (ko) | 2021-06-29 | 2022-06-09 | 아크릴(메타)아크릴레이트 수지, 활성 에너지선 경화성 수지 조성물, 경화물 및 물품 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP7364098B2 (ko) |
| KR (1) | KR20240024081A (ko) |
| CN (1) | CN117580874A (ko) |
| WO (1) | WO2023276600A1 (ko) |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2011207947A (ja) | 2010-03-29 | 2011-10-20 | Dic Corp | 活性エネルギー線硬化型樹脂組成物及びフィルム基材 |
Family Cites Families (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3329877B2 (ja) * | 1993-03-02 | 2002-09-30 | 互応化学工業株式会社 | プリント回路基板製造用レジストインク組成物、それを用いたレジスト膜及びプリント回路基板 |
| JP2001059005A (ja) * | 1999-08-24 | 2001-03-06 | Hitachi Chem Co Ltd | 光硬化性樹脂組成物及び塗料 |
| JP2004010772A (ja) * | 2002-06-07 | 2004-01-15 | Hitachi Chem Co Ltd | 光硬化型樹脂、該樹脂を含む樹脂組成物及び塗料 |
| JP4984799B2 (ja) * | 2006-10-02 | 2012-07-25 | 大日本印刷株式会社 | エンボス付き工程離型紙 |
| JP2009286068A (ja) * | 2008-05-30 | 2009-12-10 | Dainippon Printing Co Ltd | エンボス離型シートの原反、エンボス離型シート、エンボス離型シートの原反の製造方法、エンボス離型シートの製造方法、及び合成皮革の製造方法 |
| JP5484773B2 (ja) * | 2009-04-16 | 2014-05-07 | 互応化学工業株式会社 | アルカリ現像可能な硬化性組成物及びその硬化物 |
| JPWO2012176570A1 (ja) * | 2011-06-24 | 2015-02-23 | Dic株式会社 | 活性エネルギー線硬化型樹脂組成物、活性エネルギー線硬化型樹脂組成物の製造方法、塗料、塗膜、及びフィルム |
| CN103193960A (zh) * | 2013-03-22 | 2013-07-10 | 江门市恒光新材料有限公司 | 改性uv光固化纯丙烯酸树脂及其制备方法 |
| JP6459366B2 (ja) * | 2014-10-02 | 2019-01-30 | 東洋インキＳｃホールディングス株式会社 | 両性イオン含有化合物、生体適合性材料、およびその製造方法。 |
| WO2017073522A1 (ja) * | 2015-10-27 | 2017-05-04 | 関西ペイント株式会社 | 活性エネルギー線硬化型塗料組成物 |
| JP2021161393A (ja) * | 2020-03-31 | 2021-10-11 | 住友化学株式会社 | 硬化性樹脂組成物及び表示装置 |
| JP2022065304A (ja) * | 2020-10-15 | 2022-04-27 | 東洋インキＳｃホールディングス株式会社 | 感光性着色組成物、カラーフィルタ、および画像表示装置 |
-
2022
- 2022-06-09 WO PCT/JP2022/023220 patent/WO2023276600A1/ja active Application Filing
- 2022-06-09 JP JP2022575713A patent/JP7364098B2/ja active Active
- 2022-06-09 CN CN202280046465.3A patent/CN117580874A/zh active Pending
- 2022-06-09 KR KR1020237043084A patent/KR20240024081A/ko unknown
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2011207947A (ja) | 2010-03-29 | 2011-10-20 | Dic Corp | 活性エネルギー線硬化型樹脂組成物及びフィルム基材 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CN117580874A (zh) | 2024-02-20 |
| JP7364098B2 (ja) | 2023-10-18 |
| WO2023276600A1 (ja) | 2023-01-05 |
| JPWO2023276600A1 (ko) | 2023-01-05 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR102225709B1 (ko) | 파장 변환 부재, 백라이트 유닛, 화상 표시 장치, 파장 변환용 수지 조성물 및 파장 변환용 수지 경화물 | |
| KR20200060396A (ko) | 파장 변환 부재, 백라이트 유닛, 화상 표시 장치, 파장 변환용 수지 조성물 및 파장 변환용 수지 경화물 | |
| JP7338154B2 (ja) | 活性エネルギー線硬化型樹脂組成物及び積層体 | |
| CN113661064B (zh) | 活性能量射线固化性树脂组合物、固化物、层叠体及物品 | |
| EP3761077A1 (en) | Wavelength conversion member, backlight unit, image display device, curable composition and cured product | |
| JP2023143911A (ja) | 活性エネルギー線硬化性樹脂組成物、積層フィルム、その製造方法、及び加飾フィルムの製造方法 | |
| CN110741025B (zh) | 固化性组合物和层叠薄膜 | |
| JP7364098B2 (ja) | アクリル（メタ）アクリレート樹脂、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物、硬化物及び物品 | |
| JP7346817B2 (ja) | 積層体及びその用途 | |
| JP7003453B2 (ja) | ウレタン（メタ）アクリレート樹脂 | |
| EP3734334A1 (en) | Laminate, wavelength conversion member, backlight unit, and image display device | |
| KR20220166708A (ko) | 무기 미립자 분산체, 활성 에너지선 경화성 조성물, 경화물, 적층체 및 물품 | |
| JP6919308B2 (ja) | （メタ）アクリロイル基含有樹脂及び積層フィルム | |
| WO2021106556A1 (ja) | 波長変換部材及びその製造方法、バックライトユニット、並びに画像表示装置 | |
| CN114656767A (zh) | 活性能量射线固化性树脂组合物、固化物及物品 | |
| CN116783267A (zh) | 无溶剂量子点组合物、其制备方法以及包含其的固化膜、彩色滤光片和显示装置 | |
| KR20240051227A (ko) | 활성 에너지선 경화성 수지 조성물, 경화 도막 및 물품 | |
| JP7013682B2 (ja) | ウレタン（メタ）アクリレート樹脂 | |
| CN113557456A (zh) | 波长转换构件及其应用、背光单元和图像显示装置 |