KR20220168666A - 유기발광소자 봉지용 조성물 및 이로부터 제조된 유기층을 포함하는 유기발광소자 표시장치 - Google Patents

유기발광소자 봉지용 조성물 및 이로부터 제조된 유기층을 포함하는 유기발광소자 표시장치 Download PDF

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한명숙
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Abstract

식 1로 표시되는 CLD 값이 50 이상인 것인, 유기발광소자 봉지용 조성물 및 이로부터 형성된 유기층을 포함하는 유기발광소자 표시장치가 제공된다.

Description

유기발광소자 봉지용 조성물 및 이로부터 제조된 유기층을 포함하는 유기발광소자 표시장치{COMPOSITION FOR ENCAPSULATING ORGANIC LIGHT EMITTING DIODES AND ORGANIC LIGHT EMITTING DIODES DISPLAY COMPRISING ORGANIC LAYER PREPARED USING THE SAME}
본 발명은 유기발광소자 봉지용 조성물 및 이로부터 제조된 유기층을 포함하는 유기발광소자 표시장치에 관한 것이다.
유기발광소자는 외부의 수분, 산소 등이 침투될 경우, 쉽게 손상되고 기능이 상실되어 신뢰성이 낮아질 수 있다. 따라서, 유기발광소자는 유기발광소자 봉지용 조성물로 형성되는 유기층과 무기층을 포함하는 봉지층에 의해 봉지되어야 한다.
봉지층은 유기층과 무기층이 반복적으로 형성되는 구조를 포함할 수 있다. 예를 들면, 유기발광소자에 유기층-무기층-유기층-무기층 등과 같이 유기층과 무기층이 교대로 반복적으로 형성됨으로써 봉지층을 형성한다. 무기층은 유기층과는 달리 무기물로 형성될 수 있다. 일반적으로 무기층은 플라즈마 공정, 진공 공정, 예를 들면 스퍼터링, 화학기상증착, 플라즈마화학기상증착, 증발, 승화, 전자사이클로트론공명-플라즈마증기증착 및 이의 조합으로 형성될 수 있다.
그런데, 본 발명자는 유기층에 무기층을 반복적으로 형성하는 경우 유기층의 막 강도가 높지 않을 경우 유기층에 주름이 발생됨으로써 유기발광소자의 신뢰성이 낮아짐을 확인하였다. 유기층의 막 강도를 높이기 위하여 유기발광소자 봉지용 조성물의 광 경화율을 높이는 방법이 고려될 수 있다. 그러나, 광 경화율을 높인다고 하여 막 강도를 높이는데 한계가 있었다.
본 발명의 배경 기술은 한국공개특허 제10-2016-0150255 등에 기술되어 있다.
본 발명의 목적은 막 강도가 우수한 유기층을 형성하는 유기발광소자 봉지용 조성물을 제공하는 것이다.
본 발명의 다른 목적은 무기층을 반복적으로 형성하였을 때 주름 발생을 최소화함으로써 신뢰성이 우수한 유기층을 형성하는 유기발광소자 봉지용 조성물을 제공하는 것이다.
본 발명의 또 다른 목적은 적정 점도를 가져 표면이 균일한 유기층을 형성하고 경화율 및 잉크젯 제팅성이 우수한 유기발광소자 봉지용 조성물을 제공하는 것이다.
본 발명의 일 관점은 유기발광소자 봉지용 조성물이다.
1.유기발광소자 봉지용 조성물은 하기 식 1로 표시되는 CLD 값이 50 이상이다:
[식 1]
Figure pat00001
(상기 식 1에서,
Mtotal은 상기 조성물에 포함된 광경화성 모노머의 몰수의 총합,
Mx는 상기 조성물에 포함된 x번째의 광경화성 모노머의 몰수,
Nx는 상기 조성물에 포함된 x번째의 광경화성 모노머의 광경화성 반응기의 개수,
x는 1 이상의 자연수).
2.1에서, 상기 CLD 값은 50 내지 90일 수 있다.
3.1-2에서, 상기 조성물은 제1 광경화성 모노머, 제2 광경화성 모노머 및 개시제를 포함하고, 상기 제1 광경화성 모노머는 광경화성 반응기를 2개 이상 가지며, 상기 제2 광경화성 모노머는 광경화성 반응기를 1개 가질 수 있다.
4.3에서, 상기 제1 광경화성 모노머, 상기 제2 광경화성 모노머 및 상기 개시제의 총합 100중량부 중 상기 제1 광경화성 모노머는 35중량부 내지 90중량부, 상기 제2 광경화성 모노머는 5중량부 내지 60중량부, 상기 개시제는 1중량부 내지 10중량부로 포함될 수 있다.
5.3에서, 상기 제1 광경화성 모노머는 하기 화학식 1로 표시되는 2관능 (메트)아크릴레이트, 트리메틸올프로판 트리(메트)아크릴레이트, 펜타에리트리톨 트리(메트)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨 트리(메트)아크릴레이트, 트리스(2-히드록시에틸)이소시아누레이트 트리(메트)아크릴레이트. 펜타에리트리톨 테트라(메트)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨 테트라(메트)아크릴레이트, 디트리메틸올프로판 테트라(메트)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨 펜타(메트)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨 헥사(메트)아크릴레이트 중 1종 이상을 포함할 수 있다:
[화학식 1]
Figure pat00002
(상기 화학식 1에서,
A는 치환 또는 비치환된 C6 내지 C20의 알킬렌기 또는 치환 또는 비치환된 C3 내지 C20의 시클로알킬렌기,
A1, A2는 각각 단일 결합, 또는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C10의 알킬렌기,
Z1, Z2는 하기 화학식 2이다
[화학식 2]
Figure pat00003
(상기 화학식 2에서, *는 원소의 연결 부위이고, R3은 수소 또는 메틸기이다)).
6.3에서, 상기 제1 광경화성 모노머는 하기 화학식 3으로 표시되는 실리콘계 광경화성 모노머를 포함할 수 있다:
[화학식 3]
Figure pat00004
(상기 화학식 3에서,
R15, R16는 각각 독립적으로, 단일 결합, 치환 또는 비치환된 탄소수 1-20의 알킬렌기, 치환 또는 비치환된 탄소수 1-30의 알킬렌에테르기, *-N(R')-R"-*(*는 원소의 연결 부위, R'은 치환 또는 비치환된 탄소수 1-30의 알킬기, R"은 치환 또는 비치환된 탄소수 1-20의 알킬렌기), 치환 또는 비치환된 탄소수 6-30의 아릴렌기, 치환 또는 비치환된 탄소수 7-30의 아릴알킬렌기, 또는 *-O-R"-*(이때, *는 원소의 연결 부위, R"은 치환 또는 비치환된 탄소수 1-20의 알킬렌기)이고,
X1,X2,X3,X4,X5,X6는 각각 독립적으로, 수소, 치환 또는 비치환된 탄소수 1-30의 알킬기, 치환 또는 비치환된 탄소수 1-30의 알킬에테르기, *-N(R')(R")(이때, *는 원소의 연결 부위, R' 및 R"은 동일하거나 다르고, 수소 또는 치환 또는 비치환된 탄소수 1-30의 알킬기), 치환 또는 비치환된 탄소수 1-30의 알킬술파이드기, 치환 또는 비치환된 탄소수 6-30의 아릴기, 또는 치환 또는 비치환된 탄소수 7-30의 아릴알킬기이고,
Y1,Y2는 각각 독립적으로, 하기 화학식 4이고,
[화학식 4]
Figure pat00005
(상기 화학식 4에서, *는 원소의 연결 부위이고, R17은 수소 또는 메틸기이다)
n은 0-30의 정수이거나, n의 평균값은 0-30이다).
7.3에서, 상기 제2 광경화성 모노머는 방향족계 광경화성 모노머, 비 방향족계 광경화성 모노머 중 1종 이상을 포함할 수 있다.
8.1-7에서, 상기 유기발광소자 봉지용 조성물은 25±2℃에서 점도가 7cps 내지 100cps일 수 있다.
본 발명의 유기발광소자 표시장치는 본 발명의 유기발광소자 봉지용 조성물로 형성된 유기층을 포함한다.
본 발명은 막 강도가 우수한 유기층을 형성하는 유기발광소자 봉지용 조성물을 제공하였다.
본 발명은 무기층을 반복적으로 형성하였을 때 주름 발생을 최소화함으로써 신뢰성이 우수한 유기층을 형성하는 유기발광소자 봉지용 조성물을 제공하였다.
본 발명은 적정 점도를 가져 표면이 균일한 유기층을 형성하고 광 경화율 및 잉크젯 제팅성이 우수한 유기발광소자 봉지용 조성물을 제공하였다.
도 1은 본 발명 일 실시예의 유기발광표시장치의 단면도이다.
도 2는 본 발명 다른 실시예의 유기발광표시장치의 단면도이다.
첨부한 도면을 참고하여 실시예에 의해 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 본 발명을 상세히 설명한다. 본 발명은 여러 가지 상이한 형태로 구현될 수 있으며 여기에서 설명하는 실시예에 한정되지 않는다. 도면에서 본 발명을 명확하게 설명하기 위해서 설명과 관계없는 부분은 생략하였으며, 명세서 전체를 통하여 동일 또는 유사한 구성 요소에 대해서는 동일한 도면 부호를 붙였다. 도면에서 각 구성 요소의 길이, 크기는 본 발명을 설명하기 위한 것으로 본 발명이 도면에 기재된 각 구성 요소의 길이, 크기에 제한되는 것은 아니다.
본 명세서에서, “(메트)아크릴”은 아크릴 및/또는 메타아크릴을 의미한다.
본 명세서에서, "치환된”은 별도의 정의가 없는 한, 본 발명의 작용기 중 하나 이상의 수소 원자가, 할로겐(F, Cl, Br 또는 I), 히드록시기, 니트로기, 시아노기, 이미노기(=NH, =NR, R은 탄소수 1-10의 알킬기이다), 아미노기(-NH2, -NH(R'), -N(R")(R"'), R',R",R"'은 각각 독립적으로 탄소수 1-10의 알킬기이다), 아미디노기, 히드라진 또는 히드라존기, 카르복시기, 탄소수 1-20의 알킬기, 탄소수 6-30의 아릴기, 탄소수 3-30의 시클로알킬기, 탄소수 3-30의 헤테로아릴기, 또는 탄소수 2-30의 헤테로시클로알킬기로 치환되는 것을 의미할 수 있다.
본 명세서 수치 범위 기재시 "X 내지 Y"는 X 이상 Y 이하(X≤ 그리고 ≤Y)를 의미한다.
본 발명 일 실시예의 유기발광소자 봉지용 조성물(이하, "조성물"이라고도 함)은 막 강도가 높은 유기층을 형성하였다. 하기에서 설명되겠지만, 유기층 상에는 무기층이 증착됨으로써 유기발광소자 봉지 역할을 수행할 수 있다. 그런데, 일반적으로 유기발광소자 봉지층은 유기층과 무기층이 반복적으로 형성됨으로써 유기발광소자 봉지 역할을 수행할 수 있다. 무기층은 특별히 제한되지 않지만 화학 증기 증착(CVD)에 의해 형성될 수 있다. 본 발명은 막 강도가 높은 유기층을 형성함으로써 CVD에 의한 반복적인 무기층의 형성에도 유기층의 주름 발생을 최소화함으로써 신뢰성이 우수한 유기층을 형성할 수 있는 유기발광소자 봉지용 조성물을 제공하였다. 또한, 본 발명의 조성물은 잉크젯 공정에 적합한 점도를 가짐으로써 잉크젯 제팅성이 우수하여 표면이 균일한 유기층을 형성할 수 있다.
본 발명 일 실시예의 유기발광소자 봉지용 조성물(이하, "조성물"이라고 함)은 하기 식 1로 표시되는 표시되는 CLD 값이 50 이상이다:
[식 1]
Figure pat00006
(상기 식 1에서,
Mtotal은 상기 조성물에 포함된 광경화성 모노머의 몰수의 총합,
Mx는 상기 조성물에 포함된 x번째의 광경화성 모노머의 몰수,
Nx는 상기 조성물에 포함된 x번째의 광경화성 모노머의 광경화성 반응기의 개수,
x는 1 이상의 자연수).
일 구체예에서, x는 2 이상의 자연수, 바람직하게는 2 내지 5의 자연수가 될 수 있다. 상기 광경화성 반응기는 아크릴레이트기 또는 메타크릴레이트기가 될 수 있다. Nx는 1 이상의 정수, 바람직하게는 1 내지 6의 정수일 수 있다.
상기 CLD는 조성물에 포함되는 광경화성 모노머가 광 조사시 경화되었을 때 높은 가교 밀도로 경화되도록 함으로써 막의 경도가 높아 본 발명의 효과를 구현할 수 있는지 여부를 판단하는 기준이 된다. 즉, CLD는 광경화성 모노머 중 광경화성 반응기를 2개 이상 갖는 광경화성 모노머들이 광 조사시 경화되었을 때 2중 이상으로 가교됨으로써 가교 밀도를 높일 수 있는지 판단하는 기준이 된다. CLD는 조성물의 광 경화율과는 다르다. 광 경화율은 조성물에 포함되는 광경화성 모노머 중 경화된 비율을 나타내는 것인데 비하여, CLD는 광경화성 모노머 중에서도 2개 이상의 반응성 관능기를 갖는 광경화성 모노머들이 높은 가교 밀도로 경화됨으로써 막 강도를 높일 수 있는 지를 판단한 것이다.
바람직하게는 CLD는 50 내지 90, 더 바람직하게는 50 내지 80, 가장 바람직하게는 50 내지 70이 될 수 있다.
일 구체예에서, 상기 조성물로 형성된 유기층은 막 강도(hardness)가 200kPa 이상, 바람직하게는 200kPa 내지 300kPa이 될 수 있다. 상기 범위에서, 본 발명의 효과 구현이 용이할 수 있다.
상기 조성물은 상기 식 1의 CLD가 50 이상이 될 수 있다면, 조성에 특별한 제한을 두지 않는다. 일 구체예에서, 상기 조성물은 제1 광경화성 모노머, 제2 광경화성 모노머 및 개시제를 포함한다.
제2 광경화성 모노머의 함량에 대한 제1 광경화성 모노머의 함량의 비는 0.5 내지 6, 예를 들면 0.7 내지 5.5이 될 수 있다. 상기 범위에서, 본 발명의 효과 구현에 용이할 수 있다.
이하, 본 발명 일 실시예의 조성물 중 각 성분에 대해 상세히 설명한다.
제1 광경화성 모노머
제1 광경화성 모노머는 광경화성 반응기를 2개 이상 갖는 모노머를 포함할 수 있다. 바람직하게는, 제1 광경화성 모노머는 광경화성 반응기를 2개 내지 6개 가질 수 있다.
일 구체예에서, 제1 광경화성 모노머는 실리콘을 갖지 않는 비실리콘계 모노머, 실리콘을 갖는 실리콘계 광경화성 모노머 중 1종 이상을 포함할 수 있다.
비실리콘계 광경화성 모노머
비실리콘계 광경화성 모노머는 하기 화학식 1로 표시되는 2관능 (메트)아크릴레이트를 포함할 수 있지만, 이에 제한되지 않는다:
[화학식 1]
Figure pat00007
(상기 화학식 1에서,
A는 치환 또는 비치환된 C6 내지 C20의 알킬렌기 또는 치환 또는 비치환된 C3 내지 C20의 시클로알킬렌기,
A1, A2는 각각 단일 결합, 또는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C10의 알킬렌기,
Z1, Z2는 하기 화학식 2이다.
[화학식 2]
Figure pat00008
(상기 화학식 2에서, *는 원소의 연결 부위이고, R3은 수소 또는 메틸기이다).
바람직하게는, A는 치환 또는 비치환된 C3 내지 C20의 시클로알킬렌기일 수 있다. 이 경우, 본 발명의 효과 구현이 용이할 수 있다. 예를 들어, 화학식 1의 화합물은 트리사이클로데칸 디메탄올 디(메트)아크릴레이트, 사이클로헥산 디메탄올 디(메트)아크릴레이트 중 1종 이상을 포함할 수 있다.
비실리콘계 광경화성 모노머는 상기 화학식 1의 디(메트)아크릴레이트 이외에, 3관능 이상의 (메트)아크릴레이트로서, 트리(메트)아크릴레이트, 테트라(메트)아크릴레이트, 펜타(메트)아크릴레이트, 헥사(메트)아크릴레이트 중 하나 이상을 포함할 수 있다. 트리(메트)아크릴레이트는 트리메틸올프로판 트리(메트)아크릴레이트, 펜타에리트리톨 트리(메트)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨 트리(메트)아크릴레이트, 트리스(2-히드록시에틸)이소시아누레이트 트리(메트)아크릴레이트 등을 포함하는 탄소수 3-20의, 트리올, 테트라올, 펜타올 또는 헥사올의 트리(메트)아크릴레이트를 포함할 수 있다. 테트라(메트)아크릴레이트는 펜타에리트리톨 테트라(메트)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨 테트라(메트)아크릴레이트, 디트리메틸올프로판 테트라(메트)아크릴레이트 등을 포함하는 탄소수 4-20의, 테트라올, 펜타올 또는 헥사올의 테트라(메타)아크릴레이트를 포함할 수 있다. 펜타(메트)아크릴레이트는 디펜타에리트리톨 펜타(메트)아크릴레이트 등을 포함하는 탄소수 4-20의, 펜타올 또는 헥사올의 펜타(메타)아크릴레이트를 더 포함할 수 있다. 헥사(메트)아크릴레이트는 디펜타에리트리톨 헥사(메트)아크릴레이트 등을 포함하는 탄소수 4-20의 헥산올의 헥사(메타)아크릴레이트를 포함할 수 있다.
실리콘계 광경화성 모노머
실리콘계 광경화성 모노머는 하기 화학식 3으로 표시될 수 있다.
[화학식 3]
Figure pat00009
(상기 화학식 3에서,
R15, R16는 각각 독립적으로, 단일 결합, 치환 또는 비치환된 탄소수 1-20의 알킬렌기, 치환 또는 비치환된 탄소수 1-30의 알킬렌에테르기, *-N(R')-R"-*(*는 원소의 연결 부위, R'은 치환 또는 비치환된 탄소수 1-30의 알킬기, R"은 치환 또는 비치환된 탄소수 1-20의 알킬렌기), 치환 또는 비치환된 탄소수 6-30의 아릴렌기, 치환 또는 비치환된 탄소수 7-30의 아릴알킬렌기, 또는 *-O-R"-*(이때, *는 원소의 연결 부위, R"은 치환 또는 비치환된 탄소수 1-20의 알킬렌기)이고,
X1, X2, X3, X4, X5, X6는 각각 독립적으로, 수소, 치환 또는 비치환된 탄소수 1-30의 알킬기, 치환 또는 비치환된 탄소수 1-30의 알킬에테르기, *-N(R')(R")(이때, *는 원소의 연결 부위, R' 및 R"은 동일하거나 다르고, 수소 또는 치환 또는 비치환된 탄소수 1-30의 알킬기), 치환 또는 비치환된 탄소수 1-30의 알킬술파이드기, 치환 또는 비치환된 탄소수 6-30의 아릴기, 또는 치환 또는 비치환된 탄소수 7-30의 아릴알킬기이고,
Y1, Y2는 각각 독립적으로, 하기 화학식 4이고,
[화학식 4]
Figure pat00010
(상기 화학식 4에서, *는 원소의 연결 부위이고, R17은 수소 또는 메틸기이다)
n은 0-30의 정수이거나, n의 평균값은 0-30이다).
상기 "단일결합"은 Si와 Y1이 어떠한 원소도 개재되지 않고 직접적으로 연결(Y1-Si)되거나, Si와 Y2가 어떠한 원소도 개재되지 않고 직접적으로 연결(Si-Y2)된 것을 의미한다.
일 구체예에서, R15, R16는 탄소수 1 내지 5의 알킬렌기 또는 단일 결합일 수 있다.
일 구체예에서, X1,X2,X3,X4,X5,X6 중 1종 이상은 치환 또는 비치환된 탄소수 6-30의 아릴기일 수 있다. 구체적으로, X1,X2,X3,X4,X5,X6는 탄소수 1 내지 5의 알킬기 또는 탄소수 6 내지 10의 아릴기이고, X1,X2,X3,X4,X5,X6 중 하나 이상은 탄소수 6 내지 10의 아릴기일 수 있다. 더 구체적으로, X1,X2,X3,X4,X5,X6는 탄소수 1 내지 5의 알킬기 또는 탄소수 6 내지 10의 아릴기이고, X1,X2,X3,X4,X5,X6 중 1개, 2개, 3개 또는 6개는 탄소수 6 내지 10의 아릴기일 수 있다. 보다 구체적으로, X1,X2,X3,X4,X5,X6는 메틸기, 에틸기, 프로필기, 부틸기, 펜틸기, 페닐기, 또는 나프틸기이고, X1,X2,X3,X4,X5,X6 중 1개, 2개, 3개 또는 6개는 페닐기 또는 나프틸기가 될 수 있다. n은 1 내지 5의 정수가 될 수 있다.
다른 구체예에서, X1,X2,X3,X4,X5,X6는 각각 독립적으로, 치환 또는 비치환된 탄소수 1-30의 알킬기이고, 바람직하게는, 치환 또는 비치환된 탄소수 1-5의 알킬기, 더 바람직하게는 메틸기일 수 있다.
구체적으로, 실리콘계 광경화성 모노머는 하기 화학식 3-1 내지 3-7 중 어느 하나로 표시될 수 있다:
[화학식 3-1]
Figure pat00011
[화학식 3-2]
Figure pat00012
[화학식 3-3]
Figure pat00013
[화학식 3-4]
Figure pat00014
[화학식 3-5]
Figure pat00015
[화학식 3-6]
Figure pat00016
[화학식 3-7]
Figure pat00017
(상기 화학식 3-7에서, n은 1-31의 정수이거나, n의 평균값은 1-31이다).
화학식 3의 모노머는 통상의 방법으로 제조하거나, 상업적으로 시판되는 제품을 사용할 수 있다. 예를 들면, 화학식 3의 모노머는 하나 이상의 실리콘 연결된 아릴기를 갖는 실록산 화합물과 탄소수를 연장시키는 화합물(예:알릴 알코올)을 반응시키고, (메트)아크릴로일클로라이드를 반응시켜 제조될 수 있지만, 이에 제한되지 않는다. 또는, 화학식 3의 모노머는 하나 이상의 실리콘 연결된 아릴기를 갖는 실록산 화합물과 (메트)아크릴로일클로라이드를 반응시켜 제조될 수 있지만, 이에 제한되지 않는다.
제1 광경화성 모노머는 제1 광경화성 모노머, 제2 광경화성 모노머 및 개시제의 총합 100중량부 중 35중량부 내지 90중량부, 바람직하게는 40중량부 내지 85중량부로 포함될 수 있다. 상기 범위에서, 본 발명의 식 1의 CLD 값 50 이상에 용이하게 도달될 수 있다.
제2 광경화성 모노머
제2 광경화성 모노머는 광경화성 반응기를 1개 갖는 모노머를 포함할 수 있다. 제2 광경화성 모노머는 광경화성 반응기를 1개 가지므로 본 발명의 식 1의 CLD 값 50 이상에 기여하지 못하지만 조성물이 적정 점도를 가짐으로써 잉크젯 제팅성을 좋게 하고 균일한 표면을 갖는 유기층을 형성할 수 있게 할 수 있다.
제2 광경화성 모노머는 방향족을 갖는 방향족계 광경화성 모노머, 방향족기를 갖지 않는 비 방향족계 광경화성 모노머 중 1종 이상을 포함할 수 있다.
방향족계 광경화성 모노머
방향족계 광경화성 모노머는 하기 화학식 5로 표시되는 화합물을 포함할 수 있지만, 이에 제한되지 않는다:
[화학식 5]
Figure pat00018
(상기 화학식 5에서,
R13은 수소 또는 메틸기이고, s는 0 내지 10의 정수이고,
R14는 치환 또는 비치환된 C6 내지 C50의 아릴기 또는 치환 또는 비치환된 C6 내지 C50의 아릴옥시기이다).
예를 들면, R14는 페닐페녹시에틸기, 페녹시에틸기, 벤질기, 페닐기, 페닐페녹시기, 페녹시기, 페닐에틸기, 페닐프로필기, 페닐부틸기, 메틸페닐에틸기, 프로필페닐에틸기, 메톡시페닐에틸기, 시클로헥실페닐에틸기, 클로로페닐에틸기, 브로모페닐에틸기, 메틸페닐기, 메틸에틸페닐기, 메톡시페닐기, 프로필페닐기, 시클로헥실페닐기, 클로로페닐기, 브로모페닐기, 페닐페닐기, 바이페닐기, 터페닐(terphenyl)기, 쿼터페닐(quaterphenyl)기, 안트라센일(anthracenyl)기, 나프탈렌일기, 트리페닐레닐기, 메틸페녹시기, 에틸페녹시기, 메틸에틸페녹시기, 메톡시페닐옥시기, 프로필페녹시기, 시클로헥실페녹시기, 클로로페녹시기, 브로모페녹시기, 비페닐옥시기, 터페닐옥시(terphenyloxy)기, 쿼터페닐옥시(quaterphenyloxy)기, 안트라센일옥시(anthracenyloxy)기, 나프탈렌일옥시(naphthalenyloxy)기, 트리페닐렌일옥시(triphenylenyloxy)기가 될 수 있다.
구체적으로, 화학식 5로 표시되는 화합물은 2-페닐페녹시에틸 (메트)아크릴레이트, 페녹시에틸(메트)아크릴레이트, 페닐(메트)아크릴레이트, 페녹시(메트)아크릴레이트, 2-에틸페녹시(메트)아크릴레이트, 벤질(메트)아크릴레이트, 2-페닐에틸(메트)아크릴레이트, 3-페닐프로필(메트)아크릴레이트, 4-페닐부틸 (메트)아크릴레이트, 2-(2-메틸페닐)에틸(메트)아크릴레이트, 2-(3-메틸페닐)에틸 (메트)아크릴레이트, 2-(4-메틸페닐)에틸(메트)아크릴레이트, 2-(4-프로필페닐)에틸 (메트)아크릴레이트, 2-(4-(1-메틸에틸)페닐)에틸(메트)아크릴레이트, 2-(4-메톡시페닐)에틸 (메트)아크릴레이트, 2-(4-사이클로헥실페닐)에틸 (메트)아크릴레이트, 2-(2-클로로페닐)에틸(메트)아크릴레이트, 2-(3-클로로페닐)에틸(메트)아크릴레이트, 2-(4-클로로페닐)에틸(메트)아크릴레이트, 2-(4-브로모페닐)에틸(메트)아크릴레이트, 2-(3-페닐페닐)에틸(메트)아크릴레이트, 4-(비페닐-2-일옥시)부틸(메트)아크릴레이트, 3-(비페닐-2-일옥시)부틸(메트)아크릴레이트, 2-(비페닐-2-일옥시)부틸(메트)아크릴레이트, 1-(비페닐-2-일옥시)부틸(메트)아크릴레이트, 4-(비페닐-2-일옥시)프로필(메트)아크릴레이트, 3-(비페닐-2-일옥시)프로필(메트)아크릴레이트, 2-(비페닐-2-일옥시)프로필(메트)아크릴레이트, 1-(비페닐-2-일옥시)프로필(메트)아크릴레이트, 4-(비페닐-2-일옥시)에틸(메트)아크릴레이트, 3-(비페닐-2-일옥시)에틸(메트)아크릴레이트, 2-(비페닐-2-일옥시)에틸(메트)아크릴레이트, 1-(비페닐-2-일옥시)에틸(메트)아크릴레이트, 2-(4-벤질페닐)에틸(메트)아크릴레이트, 1-(4-벤질페닐)에틸(메트)아크릴레이트 또는 이들의 구조이성질체 중 하나 이상을 포함할 수 있지만, 이에 제한되는 것은 아니다. 즉, 또한, 본 발명에서 언급된 (메트)아크릴레이트는 일 예에 해당할 뿐 이로 한정되는 것은 아니며, 더욱이 본 발명은 구조이성질체 관계에 있는 아크릴레이트를 모두 포함한다. 예를 들어, 본 발명의 일예로 2-페닐에틸(메트)아크릴레이트만 언급되어 있더라도, 본 발명은 3-페닐에틸(메트)아크릴레이트, 4-페닐(메트)아크릴레이트를 포함하는 이성질체를 모두 포함한다.
비 방향족계 광경화성 모노머
비 방향족계 광경화성 모노머는 탄소수 1 내지 20의 직쇄형 또는 분지쇄형의 알킬기를 갖는 모노(메트)아크릴레이트를 포함할 수 있다. 예를 들면, 비 방향족계 광경화성 모노머는 옥틸 (메트)아크릴레이트, 노닐 (메트)아크릴레이트, 라우릴 (메트)아크릴레이트, 테트라데실 (메트)아크릴레이트, 2-데실 테트라데실 (메트)아크릴레이트 등을 포함하는 테트라데실 (메트)아크릴레이트, 운데실 (메트)아크릴레이트, 도데실 (메트)아크릴레이트, 테트라데실 (메트)아크릴레이트, 이소스테아릴 (메트)아크릴레이트 중 1종 이상을 포함할 수 있다.
제2 광경화성 모노머는 제1 광경화성 모노머, 제2 광경화성 모노머 및 개시제의 총합 100중량부 중 5중량부 내지 60중량부, 바람직하게는 10중량부 내지 60중량부로 포함될 수 있다. 상기 범위에서, 본 발명의 식 1의 CLD 값 50 이상에 용이하게 도달될 수 있고, 잉크 제팅성을 좋게 하고 균일한 표면을 갖는 유기층을 형성할 수 있게 할 수 있다.
개시제
개시제는 광경화성 반응을 수행할 수 있는 통상의 광중합 개시제를 제한없이 포함할 수 있다. 예를 들면, 광중합 개시제는 트리아진계, 아세토페논계, 벤조페논계, 티오크산톤계, 벤조인계, 인계, 옥심계 또는 이들의 혼합물을 포함할 수 있다.
바람직하게는, 개시제는 최대흡수파장이 360nm 내지 400nm를 갖는 인계 개시제를 포함할 수 있다. 상기 인계 개시제를 사용할 경우 본 발명의 조성물에서 장파장의 UV(예: 300nm 내지 400nm)에서 더 좋은 개시 성능을 보일 수 있다. 인계 개시제로는 디페닐(2,4,6-트리메틸벤조일)포스핀 옥시드, 페닐 비스(2,4,6-트리메틸벤조일)포스핀 옥시드, 2,4,6-트리메틸벤조일 디페닐포스피네이트, 또는 이들의 혼합물이 될 수 있다. 예를 들어, 개시제는 단독 또는 2종 이상 혼합하여 포함될 수 있다. 상기 "최대흡수파장"은 당업자에게 알려진 통상의 방법으로 측정되거나 제품 카탈로그를 참고하여 얻은 값일 수 있다.
개시제는 상기 제1 광경화성 모노머, 제2 광경화성 모노머 및 개시제의 총 합 100중량부 중 1중량부 내지 10중량부, 바람직하게는 1중량부 내지 5중량부로 포함될 수 있다. 상기 범위에서, 조성물의 광 경화율이 높아지고 잔량의 개시제가 남아서 광 투과율이 낮아지는 것을 막을 수 있다.
본 발명의 조성물은 상기 제1 광경화성 모노머, 제2 광경화성 모노머 및 개시제를 혼합하여 형성될 수 있다. 예를 들면, 본 발명의 조성물은 용제를 포함하지 않는 무용제 타입으로 형성할 수 있다.
본 발명의 조성물은 광경화형 조성물로서, UV 파장에서 10mW/cm2 내지 500mW/cm2에서 1초 내지 50초 동안 조사에 의해 광경화됨으로써 봉지층을 형성할 수 있다.
본 발명의 조성물은 당업자에게 알려진 통상의 첨가제를 더 포함할 수도 있다. 상기 첨가제는 열안정제, 산화방지제, UV 흡수제 등을 포함할 수 있지만, 이에 제한되지 않는다.
본 발명의 조성물은 25±2℃(23℃ 내지 27℃)에서 점도가 7cps 내지 100cps, 바람직하게는 7cps 내지 60cps, 더 바람직하게는 7cps 내지 50cps 가 될 수 있다. 상기 범위에서 봉지용 조성물의 잉크 제팅성이 우수할 수 있다.
본 발명의 조성물은 광 경화율이 89% 내지 100%, 바람직하게는 91% 내지 99%, 더 바람직하게는 91% 내지 93%가 될 수 있다. 상기 범위에서, 유기층으로 기능할 수 있다. 광 경화율은 하기 식 2로부터 계산될 수 있다.
본 발명의 조성물은 유기발광소자를 봉지하는데 사용될 수 있다. 구체적으로 상기 조성물은 무기층과 유기층이 순차로 형성되는 봉지 구조에서 유기층을 형성할 수 있다.
본 발명의 조성물은 장치용 부재 특히 디스플레이 장치용 부재로서 주변 환경의 기체 또는 액체, 예를 들면 대기 중의 산소 및/또는 수분 및/또는 수증기와 전자제품으로 가공시 사용된 화학물질의 투과에 의해 분해되거나 불량이 될 수 있는 장치용 부재의 봉지 용도로도 사용될 수 있다. 예를 들면, 장치용 부재는 조명 장치, 금속 센서 패드, 마이크로디스크 레이저, 전기변색 장치, 광변색장치, 마이크로전자기계 시스템, 태양전지, 집적 회로, 전하 결합 장치, 발광 중합체 등이 될 수 있지만, 이에 제한되지 않는다.
본 발명의 유기발광소자 표시장치는 본 발명 일 실시예의 유기발광소자 봉지용 조성물로 형성된 유기층을 포함할 수 있다. 구체적으로, 유기발광소자 표시장치는 유기발광소자, 및 유기 발광소자 위에 형성되고 무기층과 유기층을 포함하는 장벽 스택을 포함하고, 유기층은 본 발명 실시예의 유기발광소자 봉지용 조성물로 형성될 수 있다. 그 결과, 유기발광소자 표시장치의 신뢰성이 좋아질 수 있다.
이하, 도 1을 참고하여 본 발명 일 실시예의 유기발광소자 표시장치를 설명한다. 도 1은 본 발명 일 실시예의 유기발광소자 표시장치의 단면도이다.
도 1을 참조하면, 유기발광소자 표시장치(100)는 기판(10), 기판(10) 위에 형성된 유기발광소자(20), 및 유기발광소자(20) 위에 형성되고 무기층(31)과 유기층(32)을 포함하는 장벽 스택(30)을 포함하고, 무기층(31)은 유기발광소자(20)와 접촉하는 상태로 되어 있고, 유기층(32)은 본 발명 실시예의 유기발광소자 봉지용 조성물로 형성될 수 있다.
기판(10)은 유기발광소자가 형성될 수 있는 기판이라면 특별히 제한되지 않는다. 예를 들면, 투명 유리, 플라스틱 시트, 실리콘 또는 금속 기판 등과 같은 물질로 이루어질 수 있다.
유기발광소자(20)는 유기발광소자 표시장치에서 통상적으로 사용되는 것으로 도 1에서 도시되지 않았지만, 제1전극, 제2전극, 제1전극과 제2전극 사이에 형성된 유기발광막을 포함하고, 유기발광막은 홀 주입층, 홀 수송층, 발광층, 전자 수송층, 전자 주입층이 순차적으로 적층된 것일 수 있지만, 이에 제한되지 않는다.
장벽 스택(30)은 유기층과 무기층을 포함하고, 유기층과 무기층은 각각 층을 구성하는 성분이 서로 달라 각각 유기발광소자 봉지 기능을 구현할 수 있다.
무기층은 유기층과 성분이 상이함으로써, 유기층의 효과를 보완할 수 있다. 예를 들면, 무기층은 금속, 비금속, 금속간 화합물 또는 합금, 비금속간 화합물 또는 합금, 금속 또는 비금속의 산화물, 금속 또는 비금속의 불화물, 금속 또는 비금속의 질화물, 금속 또는 비금속의 탄화물, 금속 또는 비금속의 산소질화물, 금속 또는 비금속의 붕소화물, 금속 또는 비금속의 산소붕소화물, 금속 또는 비금속의 실리사이드, 또는 이들의 혼합물이 될 수 있다. 금속 또는 비금속은 실리콘(Si), 알루미늄(Al), 셀레늄(Se), 아연(Zn), 안티몬(Sb), 인듐(In), 게르마늄(Ge), 주석(Sn), 비스무트(Bi), 전이금속, 란탄족 금속, 등이 될 수 있지만, 이에 제한되지 않는다. 구체적으로, 무기층은 실리콘 산화물(SiOx), 실리콘 질화물(SiNx), 실리콘 산소 질화물(SiOxNy), ZnSe, ZnO, Sb2O3, Al2O3 등을 포함하는 AlOx, In2O3, SnO2가 될 수 있다.
무기층은 플라즈마 공정, 진공 공정, 예를 들면 스퍼터링, 화학기상증착, 플라즈마화학기상증착, 증발, 승화, 전자사이클로트론공명-플라즈마증기증착 및 이의 조합으로 증착될 수 있다.
유기층은 무기층과 교대로 증착시, 무기층의 평활화 특성을 확보하고, 무기층의 결함이 또 다른 무기층으로 전파되는 것을 막을 수 있다.
유기층은 본 발명 실시예의 유기발광소자 봉지용 조성물의 코팅, 증착, 경화 등의 조합에 의해 형성될 수 있다. 예를 들면, 유기발광소자 봉지용 조성물을 1㎛ 내지 50㎛ 두께로 코팅하고, 10mW/cm2 내지 500mW/cm2에서 1초 내지 50초 동안 UV 조사하여 경화시킬 수 있다.
장벽 스택은 유기층과 무기층을 포함하되, 유기층과 무기층의 총 개수는 제한되지 않는다. 유기층과 무기층의 총 개수는 산소 및/또는 수분 및/또는 수증기 및/또는 화학 물질에 대한 투과 저항성의 수준에 따라 변경할 수 있다. 예를 들면, 유기층과 무기층의 총 개수는 10층 이하, 예를 들면 2 내지 7층이 될 수 있고, 구체적으로 무기층/유기층/무기층/유기층/무기층/유기층/무기층의 순서로 7층으로 형성될 수 있다.
장벽 스택에서 유기층과 무기층은 교대로 증착될 수 있다. 이는 상술한 조성물이 갖는 물성으로 인해 생성된 유기층에 대한 효과 때문이다. 이로 인해, 유기층과 무기층은 장치에 대한 봉지 효과를 보완 또는 강화할 수 있다.
이하, 도 2를 참고하여 본 발명 다른 실시예의 유기발광소자 표시장치를 설명한다. 도 2는 본 발명 다른 실시예의 유기발광소자 표시장치의 단면도이다.
도 2를 참조하면, 유기발광소자 표시장치(200)는 기판(10), 기판(10) 위에 형성된 유기발광소자(20), 및 유기발광소자(20) 위에 형성되고 무기층(31)과 유기층(32)을 포함하는 장벽 스택(30)을 포함하고, 무기층(31)은 유기발광소자(20)가 수용된 내부 공간(40)을 봉지하고, 유기층(32)은 본 발명 실시예의 유기발광소자 봉지용 조성물로 형성될 수 있다. 무기층이 유기발광소자와 접촉하지 않은 점을 제외하고는 본 발명 일 실시예의 유기발광소자 표시장치와 실질적으로 동일하다.
이하, 본 발명의 바람직한 실시예를 통해 본 발명의 구성 및 작용을 더욱 자세히 설명하기로 한다. 다만, 이는 본 발명의 바람직한 예시로 제시된 것이며 어떠한 의미로도 이에 의해 본 발명이 제한되는 것으로 해석될 수는 없다.
제조예 1: 화학식 3-2의 화합물 제조
냉각관과 교반기를 구비한 1000ml 플라스크에 에틸아세테이트 300ml를 넣고, 3,3-디페닐-1,1,5,5-테트라메틸트리실록산 21g과 알릴 알콜 43g(대정화금 社)을 넣고 30분 동안 질소 퍼징한 후, Pt on carbon black powder(Aldrich社) 72ppm을 추가한 후, 플라스크 내 온도를 80℃로 올린 후 4시간 동안 교반하였다. 잔류 용매를 증류로 제거하였다. 얻어진 화합물 71.5g을 디클로로메탄 300ml에 넣고, 트리에틸아민 39g을 추가하고, 0℃에서 교반하면서 메타아크릴로일 클로라이드 30.2g을 천천히 첨가하였다. 잔류 용매를 증류로 제거하여, 화학식 3-2의 화합물을 HPLC 순도 96%로 얻었다. (1H NMR:δ7.52, m, 6H; δ7.42, m, 4H; δ6.25, d, 2H;δ6.02, dd, 2H;δ5.82, t, 1H;δ5.59, d, 2H;δ3.86, m, 4H;δ1.52, m, 4H;δ0.58, m, 4H;δ0.04, m, 12H)
[화학식 3-2]
Figure pat00019
실시예와 비교예에서 사용한 성분의 구체적인 사양은 다음과 같다.
(A)제1 광경화성 모노머
(A1)DMS-R05 (메타크릴록시프로필 터미네이티드 폴리다이메틸실록산, Gelest, 디메타크릴레이트, Mw: 420)
(A2)DMS-R11 (메타크릴록시프로필 터미네이티드 폴리다이메틸실록산, Gelest, 디메타크릴레이트, Mw: 1200)
(A3) M-262(트리사이클로데칸 디메탄올 디아크릴레이트, 미원스페셜티, Mw: 304.38)
(A5)M-370 (트리스(2-히드록시에틸)이소시아누레이트 트리아크릴레이트, 미원스페셜티, Mw: 261.23)
(A6) M-410(디트리메틸올프로판 테트라아크릴레이트, 미원스페셜티, Mw: 466)
(A7) M-300(트리메틸올프로판 트리아크릴레이트, 미원스페셜티, Mw: 296.32)
(A8)제조예 1의 화합물(Mw: 584.92)
(B)제2 광경화성 모노머
(B1)2-페닐페녹시에틸 아크릴레이트(M1142, 미원, Mw: 268.31)
(B2)라우릴 아크릴레이트(Mw: 240.38)
(B3)이소스테아릴 아크릴레이트(Mw: 324.5)
(C)인계 개시제(Irgacure TPO)
실시예 1
(A2) 64중량부, (B1) 33중량부, (C) 3중량부를 125ml 갈색 폴리프로필렌 병에 넣고, 쉐이커를 이용하여 3시간 동안 실온에서 혼합하여 봉지용 조성물을 제조하였다.
실시예 2 내지 실시예 6과 비교예 1 내지 비교예 3
실시예 1에서 각 성분의 함량을 하기 표 1(단위:중량부)와 같이 변경한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 봉지용 조성물을 제조하였다. 하기 표 1에서 "-"는 해당 성분이 함유되어 있지 않음을 의미한다.
실시예와 비교예에서 제조한 조성물에 대해 하기 물성을 측정하고, 그 결과를 표 1에 나타내었다.
(1)CLD 값: 실시예와 비교예의 봉지용 조성물에 대하여 상기 식 1에 따라 CLD 값을 계산하였다.
(2)점도(단위: cps): 실시예와 비교예의 봉지용 조성물에 대해 24.8℃에서 점도 측정기 LV DV-II Pro(Brookfield社)로 스핀들 번호(No. spindle) 40으로 측정하였다.
(3)광 경화율(단위: %): 봉지용 조성물에 대하여 FT-IR(NICOLET 4700, Thermo社)을 사용하여 1635cm-1 부근(C=C), 1720cm-1 부근(C=O)에서의 흡수 피크의 강도를 측정한다. 유리 기판 위에 봉지용 조성물을 스프레이로 도포하고 100mW/cm2으로 20초 동안 조사하여 UV 경화시켜, 20cm x 20cm x 3㎛(가로 x 세로 x 두께)의 시편을 얻는다. 경화된 필름을 분취하고, FT-IR(NICOLET 4700, Thermo社)를 이용하여 1635cm-1 부근(C=C), 1720cm-1 부근(C=O)에서의 흡수 피크의 강도를 측정한다. 광 경화율은 하기 식 2에 따라 계산한다.
[식 2]
광 경화율(%)= │1-(A/B)│ x 100
(상기 식 2에서, A는 경화된 필름에 대해 1720cm-1 부근에서의 흡수 피크의 강도에 대한 1635cm-1 부근에서의 흡수 피크의 강도의 비이고,
B는 봉지용 조성물에 대해 1720cm-1 부근에서의 흡수 피크의 강도에 대한 1635cm-1 부근에서의 흡수 피크의 강도의 비이다).
(4)잉크젯 제팅성: 실시예와 비교예의 봉지용 조성물 적하 속도 2.5㎛/sec, 잉크젯 헤드 온도 25~35℃에서 잉크젯 제팅시켰다. 잉크젯 제팅시켰을 때 drop의 형태가 정확한 구형인 경우 ○, 구형에서 약간 벗어나지만 사용 가능한 구형인 경우 △, 구형이 완전히 아닌 경우 ⅹ로 평가하였다.
(5)조성물로 형성된 유기층의 막 강도(Hardness, 단위: kPa): 유리 기판 위에 봉지용 조성물을 8㎛ 두께로 코팅 후 100mW/cm2으로 20초 동안 조사하여 UV 경화시켜, 20cm x 20cm x 3㎛(가로 x 세로 x 두께)의 시편을 얻는다. 경화된 기판을 분취하고, Nano Indenter (G200, Keysight Technologies社)를 이용하여 유기층의 막 강도를 측정하였다.
(6)조성물로 형성된 유기층에 무기층을 증착할 때 유기층에 주름이 발생되기 시작하는 증착 회수: 유리 기판 위에 봉지용 조성물을 8㎛ 두께로 코팅 후 100mW/cm2으로 20초 동안 조사하여 UV 경화시켜 시편을 얻는다. PECVD (PLUS200-SP, QUROS社)를 이용하여 SiNx 증착을 진행하였다. 각 회차 진행 후 광학 현미경을 통하여 주름 발생이 확인되는 최초의 차수를 기재하였다.
실시예 비교예
1 2 3 4 5 6 1 2 3
A A1 64 - - 50 - - - - 40
A2 - 65 55 - - - - 48 -
A3 - - - - 30 - - - -
A4 - - - - - 37 20 - 10
A5 - - 10 - - - - - -
A6 - - - - 10 - - - -
A7 - - - 10 - - - - -
A8 - 17 - - - 20 - - -
B B1 33 15 - - 10 20 20 - 15
B2 - - - - - 20 57 34 32
B3 - - 32 37 47 - - 15 -
C 3 3 3 3 3 3 3 3 3
CLD 55.31 59.41 55.35 69.89 53.90 55.62 21.07 16.02 42.14
점도 14.7 20.3 21.2 17.2 34.4 16.8 14 15.2 17.9
광 경화율 91 92 94 91 92 93 94 95 89
잉크젯 제팅성 ○ ○ ○ ○ △ △ X ○ ○
막 강도 231 272 253 254 297 221 16 201 152
주름 발생 회차 4 4 3 4 4 3 1 2 2
상기 표 1에서와 같이, 본 발명의 유기발광소자 봉지용 조성물은 막 강도가 우수하고, 무기층을 반복적으로 형성하였을 때 주름 발생을 최소화함으로써 신뢰성이 우수하며, 적정 점도를 가져 표면이 균일한 유기층을 형성하고 광 경화율 및 잉크젯 제팅성이 우수하였다.
반면에, 본 발명의 식 1의 값이 50 미만인 비교예 1 내지 비교예 3은 본 발명의 효과를 얻을 수 없었다.
본 발명의 단순한 변형 내지 변경은 이 분야의 통상의 지식을 가진 자에 의하여 용이하게 실시될 수 있으며, 이러한 변형이나 변경은 모두 본 발명의 영역에 포함되는 것으로 볼 수 있다.

Claims (9)

  1. 하기 식 1로 표시되는 CLD 값이 50 이상인 것인, 유기발광소자 봉지용 조성물:
    [식 1]
    Figure pat00020

    (상기 식 1에서,
    Mtotal은 상기 조성물에 포함된 광경화성 모노머의 몰수의 총합,
    Mx는 상기 조성물에 포함된 x번째의 광경화성 모노머의 몰수,
    Nx는 상기 조성물에 포함된 x번째의 광경화성 모노머의 광경화성 반응기의 개수,
    x는 1 이상의 자연수).
  2. 제1항에 있어서, 상기 CLD 값은 50 내지 90인 것인, 유기발광소자 봉지용 조성물.
  3. 제1항에 있어서, 상기 조성물은 제1 광경화성 모노머, 제2 광경화성 모노머 및 개시제를 포함하고, 상기 제1 광경화성 모노머는 광경화성 반응기를 2개 이상 가지며, 상기 제2 광경화성 모노머는 광경화성 반응기를 1개 갖는 것인, 유기발광소자 봉지용 조성물.
  4. 제3항에 있어서, 상기 제1 광경화성 모노머, 상기 제2 광경화성 모노머 및 상기 개시제의 총합 100중량부 중 상기 제1 광경화성 모노머는 35중량부 내지 90중량부, 상기 제2 광경화성 모노머는 5중량부 내지 60중량부, 상기 개시제는 1중량부 내지 10중량부로 포함되는 것인, 유기발광소자 봉지용 조성물.
  5. 제3항에 있어서, 상기 제1 광경화성 모노머는 하기 화학식 1로 표시되는 2관능 (메트)아크릴레이트, 트리메틸올프로판 트리(메트)아크릴레이트, 펜타에리트리톨 트리(메트)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨 트리(메트)아크릴레이트, 트리스(2-히드록시에틸)이소시아누레이트 트리(메트)아크릴레이트. 펜타에리트리톨 테트라(메트)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨 테트라(메트)아크릴레이트, 디트리메틸올프로판 테트라(메트)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨 펜타(메트)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨 헥사(메트)아크릴레이트 중 1종 이상을 포함하는 것인, 유기발광소자 봉지용 조성물:
    [화학식 1]
    Figure pat00021

    (상기 화학식 1에서,
    A는 치환 또는 비치환된 C6 내지 C20의 알킬렌기 또는 치환 또는 비치환된 C3 내지 C20의 시클로알킬렌기,
    A1, A2는 각각 단일 결합, 또는 치환 또는 비치환된 C1 내지 C10의 알킬렌기,
    Z1, Z2는 하기 화학식 2이다
    [화학식 2]
    Figure pat00022

    (상기 화학식 2에서, *는 원소의 연결 부위이고, R3은 수소 또는 메틸기이다)).
  6. 제3항에 있어서, 상기 제1 광경화성 모노머는 하기 화학식 3으로 표시되는 실리콘계 광경화성 모노머를 포함하는 것인, 유기발광소자 봉지용 조성물:
    [화학식 3]
    Figure pat00023

    (상기 화학식 3에서,
    R15, R16는 각각 독립적으로, 단일 결합, 치환 또는 비치환된 탄소수 1-20의 알킬렌기, 치환 또는 비치환된 탄소수 1-30의 알킬렌에테르기, *-N(R')-R"-*(*는 원소의 연결 부위, R'은 치환 또는 비치환된 탄소수 1-30의 알킬기, R"은 치환 또는 비치환된 탄소수 1-20의 알킬렌기), 치환 또는 비치환된 탄소수 6-30의 아릴렌기, 치환 또는 비치환된 탄소수 7-30의 아릴알킬렌기, 또는 *-O-R"-*(이때, *는 원소의 연결 부위, R"은 치환 또는 비치환된 탄소수 1-20의 알킬렌기)이고,
    X1,X2,X3,X4,X5,X6는 각각 독립적으로, 수소, 치환 또는 비치환된 탄소수 1-30의 알킬기, 치환 또는 비치환된 탄소수 1-30의 알킬에테르기, *-N(R')(R")(이때, *는 원소의 연결 부위, R' 및 R"은 동일하거나 다르고, 수소 또는 치환 또는 비치환된 탄소수 1-30의 알킬기), 치환 또는 비치환된 탄소수 1-30의 알킬술파이드기, 치환 또는 비치환된 탄소수 6-30의 아릴기, 또는 치환 또는 비치환된 탄소수 7-30의 아릴알킬기이고,
    Y1,Y2는 각각 독립적으로, 하기 화학식 4이고,
    [화학식 4]
    Figure pat00024

    (상기 화학식 4에서, *는 원소의 연결 부위이고, R17은 수소 또는 메틸기이다)
    n은 0-30의 정수이거나, n의 평균값은 0-30이다).
  7. 제3항에 있어서, 상기 제2 광경화성 모노머는 방향족계 광경화성 모노머, 비 방향족계 광경화성 모노머 중 1종 이상을 포함하는 것인, 유기발광소자 봉지용 조성물.
  8. 제1항에 있어서, 상기 유기발광소자 봉지용 조성물은 25±2℃에서 점도가 7cps 내지 100cps인 것인, 유기발광소자 봉지용 조성물.
  9. 제1항 내지 제8항 중 어느 한 항의 유기발광소자 봉지용 조성물로 형성된 유기층을 포함하는 것인, 유기발광소자 표시장치.

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