KR20220162707A - 친수 처리 도료 조성물 및 친수화 처리 방법 - Google Patents
친수 처리 도료 조성물 및 친수화 처리 방법 Download PDFInfo
- Publication number
- KR20220162707A KR20220162707A KR1020227033711A KR20227033711A KR20220162707A KR 20220162707 A KR20220162707 A KR 20220162707A KR 1020227033711 A KR1020227033711 A KR 1020227033711A KR 20227033711 A KR20227033711 A KR 20227033711A KR 20220162707 A KR20220162707 A KR 20220162707A
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- hydrophilic
- hydrophilic compound
- compound
- group
- coating composition
- Prior art date
Links
- 238000011282 treatment Methods 0.000 title claims abstract description 131
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 39
- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims description 21
- 239000003973 paint Substances 0.000 title claims description 11
- 150000002433 hydrophilic molecules Chemical class 0.000 claims abstract description 203
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 claims abstract description 85
- 239000008199 coating composition Substances 0.000 claims abstract description 77
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 59
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 29
- 125000000542 sulfonic acid group Chemical group 0.000 claims abstract description 29
- -1 alkali metal salt Chemical class 0.000 claims abstract description 26
- 125000002091 cationic group Chemical group 0.000 claims abstract description 11
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 10
- 125000001453 quaternary ammonium group Chemical group 0.000 claims abstract description 10
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 claims description 77
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 22
- 239000007870 radical polymerization initiator Substances 0.000 claims description 14
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 13
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 11
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 7
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 7
- 125000003396 thiol group Chemical group [H]S* 0.000 claims description 7
- 125000003647 acryloyl group Chemical group O=C([*])C([H])=C([H])[H] 0.000 claims description 6
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 claims description 6
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 claims description 5
- HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N Acrylamide Chemical group NC(=O)C=C HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 125000005504 styryl group Chemical group 0.000 claims description 5
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 claims description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 2
- 150000007529 inorganic bases Chemical class 0.000 claims 1
- 230000002265 prevention Effects 0.000 abstract description 14
- 239000002689 soil Substances 0.000 abstract 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 29
- 239000003599 detergent Substances 0.000 description 12
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 11
- XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N Urea Chemical compound NC(N)=O XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 9
- 125000003808 silyl group Chemical group [H][Si]([H])([H])[*] 0.000 description 8
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 8
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 7
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 7
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 7
- 150000002484 inorganic compounds Chemical class 0.000 description 7
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 7
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 7
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 6
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 6
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 6
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 6
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 5
- 239000004202 carbamide Substances 0.000 description 5
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 5
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 5
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 5
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 5
- IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N isocyanate group Chemical group [N-]=C=O IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 125000005372 silanol group Chemical group 0.000 description 5
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 5
- BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-M sulfonate Chemical compound [O-]S(=O)=O BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 5
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 description 5
- ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 1-methoxypropan-2-ol Chemical compound COCC(C)O ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 4
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 4
- UHESRSKEBRADOO-UHFFFAOYSA-N ethyl carbamate;prop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C=C.CCOC(N)=O UHESRSKEBRADOO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 4
- 229910052500 inorganic mineral Inorganic materials 0.000 description 4
- ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N isocyanuric acid Chemical group OC1=NC(O)=NC(O)=N1 ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000011707 mineral Substances 0.000 description 4
- 235000010755 mineral Nutrition 0.000 description 4
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 4
- MPNXSZJPSVBLHP-UHFFFAOYSA-N 2-chloro-n-phenylpyridine-3-carboxamide Chemical compound ClC1=NC=CC=C1C(=O)NC1=CC=CC=C1 MPNXSZJPSVBLHP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOC(=O)C(C)=C XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- SJRJJKPEHAURKC-UHFFFAOYSA-N N-Methylmorpholine Chemical compound CN1CCOCC1 SJRJJKPEHAURKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LXEKPEMOWBOYRF-UHFFFAOYSA-N [2-[(1-azaniumyl-1-imino-2-methylpropan-2-yl)diazenyl]-2-methylpropanimidoyl]azanium;dichloride Chemical compound Cl.Cl.NC(=N)C(C)(C)N=NC(C)(C)C(N)=N LXEKPEMOWBOYRF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 3
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 3
- 230000003373 anti-fouling effect Effects 0.000 description 3
- LWMFAFLIWMPZSX-UHFFFAOYSA-N bis[2-(4,5-dihydro-1h-imidazol-2-yl)propan-2-yl]diazene Chemical compound N=1CCNC=1C(C)(C)N=NC(C)(C)C1=NCCN1 LWMFAFLIWMPZSX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000001951 carbamoylamino group Chemical group C(N)(=O)N* 0.000 description 3
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 3
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 3
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 description 3
- BWYYYTVSBPRQCN-UHFFFAOYSA-M sodium;ethenesulfonate Chemical compound [Na+].[O-]S(=O)(=O)C=C BWYYYTVSBPRQCN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 3
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 3
- 150000003460 sulfonic acids Chemical class 0.000 description 3
- 239000012956 1-hydroxycyclohexylphenyl-ketone Substances 0.000 description 2
- VZSRBBMJRBPUNF-UHFFFAOYSA-N 2-(2,3-dihydro-1H-inden-2-ylamino)-N-[3-oxo-3-(2,4,6,7-tetrahydrotriazolo[4,5-c]pyridin-5-yl)propyl]pyrimidine-5-carboxamide Chemical compound C1C(CC2=CC=CC=C12)NC1=NC=C(C=N1)C(=O)NCCC(N1CC2=C(CC1)NN=N2)=O VZSRBBMJRBPUNF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XMLYCEVDHLAQEL-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one Chemical compound CC(C)(O)C(=O)C1=CC=CC=C1 XMLYCEVDHLAQEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NMZSJIQGMAGSSO-UHFFFAOYSA-N 3-[[1-amino-2-[[1-amino-1-(2-carboxyethylimino)-2-methylpropan-2-yl]diazenyl]-2-methylpropylidene]amino]propanoic acid Chemical compound OC(=O)CCNC(=N)C(C)(C)N=NC(C)(C)C(=N)NCCC(O)=O NMZSJIQGMAGSSO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VFXXTYGQYWRHJP-UHFFFAOYSA-N 4,4'-azobis(4-cyanopentanoic acid) Chemical compound OC(=O)CCC(C)(C#N)N=NC(C)(CCC(O)=O)C#N VFXXTYGQYWRHJP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N Calcium Chemical group [Ca] OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004386 Erythritol Substances 0.000 description 2
- UNXHWFMMPAWVPI-UHFFFAOYSA-N Erythritol Natural products OCC(O)C(O)CO UNXHWFMMPAWVPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerine Chemical compound OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N Hydrogen peroxide Chemical compound OO MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YNAVUWVOSKDBBP-UHFFFAOYSA-N Morpholine Chemical compound C1COCCN1 YNAVUWVOSKDBBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GLUUGHFHXGJENI-UHFFFAOYSA-N Piperazine Chemical compound C1CNCCN1 GLUUGHFHXGJENI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N Propane Chemical compound CCC ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 229930006000 Sucrose Natural products 0.000 description 2
- CZMRCDWAGMRECN-UGDNZRGBSA-N Sucrose Chemical compound O[C@H]1[C@H](O)[C@@H](CO)O[C@@]1(CO)O[C@@H]1[C@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)[C@@H](CO)O1 CZMRCDWAGMRECN-UGDNZRGBSA-N 0.000 description 2
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 2
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 2
- ROOXNKNUYICQNP-UHFFFAOYSA-N ammonium persulfate Chemical compound [NH4+].[NH4+].[O-]S(=O)(=O)OOS([O-])(=O)=O ROOXNKNUYICQNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N benzophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012965 benzophenone Substances 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- MQDJYUACMFCOFT-UHFFFAOYSA-N bis[2-(1-hydroxycyclohexyl)phenyl]methanone Chemical compound C=1C=CC=C(C(=O)C=2C(=CC=CC=2)C2(O)CCCCC2)C=1C1(O)CCCCC1 MQDJYUACMFCOFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011575 calcium Substances 0.000 description 2
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 2
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-N dimethylselenoniopropionate Natural products CCC(O)=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UNXHWFMMPAWVPI-ZXZARUISSA-N erythritol Chemical compound OC[C@H](O)[C@H](O)CO UNXHWFMMPAWVPI-ZXZARUISSA-N 0.000 description 2
- 235000019414 erythritol Nutrition 0.000 description 2
- 229940009714 erythritol Drugs 0.000 description 2
- 239000012456 homogeneous solution Substances 0.000 description 2
- 239000012948 isocyanate Substances 0.000 description 2
- BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N methanoic acid Natural products OC=O BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WVFLGSMUPMVNTQ-UHFFFAOYSA-N n-(2-hydroxyethyl)-2-[[1-(2-hydroxyethylamino)-2-methyl-1-oxopropan-2-yl]diazenyl]-2-methylpropanamide Chemical compound OCCNC(=O)C(C)(C)N=NC(C)(C)C(=O)NCCO WVFLGSMUPMVNTQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- USHAGKDGDHPEEY-UHFFFAOYSA-L potassium persulfate Chemical compound [K+].[K+].[O-]S(=O)(=O)OOS([O-])(=O)=O USHAGKDGDHPEEY-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 2
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000003242 quaternary ammonium salts Chemical class 0.000 description 2
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 2
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 2
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 2
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 2
- 239000005720 sucrose Substances 0.000 description 2
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 2
- 238000010998 test method Methods 0.000 description 2
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 2
- NSMWYRLQHIXVAP-OLQVQODUSA-N (2r,5s)-2,5-dimethylpiperazine Chemical compound C[C@H]1CN[C@H](C)CN1 NSMWYRLQHIXVAP-OLQVQODUSA-N 0.000 description 1
- IFNWESYYDINUHV-OLQVQODUSA-N (2s,6r)-2,6-dimethylpiperazine Chemical compound C[C@H]1CNC[C@@H](C)N1 IFNWESYYDINUHV-OLQVQODUSA-N 0.000 description 1
- WYTZZXDRDKSJID-UHFFFAOYSA-N (3-aminopropyl)triethoxysilane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCN WYTZZXDRDKSJID-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LTQBNYCMVZQRSD-UHFFFAOYSA-N (4-ethenylphenyl)-trimethoxysilane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C1=CC=C(C=C)C=C1 LTQBNYCMVZQRSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HXKKHQJGJAFBHI-UHFFFAOYSA-N 1-aminopropan-2-ol Chemical compound CC(O)CN HXKKHQJGJAFBHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XLPJNCYCZORXHG-UHFFFAOYSA-N 1-morpholin-4-ylprop-2-en-1-one Chemical compound C=CC(=O)N1CCOCC1 XLPJNCYCZORXHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OWEGMIWEEQEYGQ-UHFFFAOYSA-N 100676-05-9 Natural products OC1C(O)C(O)C(CO)OC1OCC1C(O)C(O)C(O)C(OC2C(OC(O)C(O)C2O)CO)O1 OWEGMIWEEQEYGQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CRJIYMRJTJWVLU-UHFFFAOYSA-N 2,4,4-trimethylpentan-2-yl 3-(5,5-dimethylhexyl)dioxirane-3-carboxylate Chemical compound CC(C)(C)CCCCC1(C(=O)OC(C)(C)CC(C)(C)C)OO1 CRJIYMRJTJWVLU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LCPVQAHEFVXVKT-UHFFFAOYSA-N 2-(2,4-difluorophenoxy)pyridin-3-amine Chemical compound NC1=CC=CN=C1OC1=CC=C(F)C=C1F LCPVQAHEFVXVKT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PRAMZQXXPOLCIY-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methylprop-2-enoyloxy)ethanesulfonic acid Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCS(O)(=O)=O PRAMZQXXPOLCIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LJDSTRZHPWMDPG-UHFFFAOYSA-N 2-(butylamino)ethanol Chemical compound CCCCNCCO LJDSTRZHPWMDPG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IUXYVKZUDNLISR-UHFFFAOYSA-N 2-(tert-butylamino)ethanol Chemical compound CC(C)(C)NCCO IUXYVKZUDNLISR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GJKGAPPUXSSCFI-UHFFFAOYSA-N 2-Hydroxy-4'-(2-hydroxyethoxy)-2-methylpropiophenone Chemical compound CC(C)(O)C(=O)C1=CC=C(OCCO)C=C1 GJKGAPPUXSSCFI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WMYINDVYGQKYMI-UHFFFAOYSA-N 2-[2,2-bis(hydroxymethyl)butoxymethyl]-2-ethylpropane-1,3-diol Chemical compound CCC(CO)(CO)COCC(CC)(CO)CO WMYINDVYGQKYMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 2-[[3-hydroxy-2,2-bis(hydroxymethyl)propoxy]methyl]-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol Chemical compound OCC(CO)(CO)COCC(CO)(CO)CO TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GVNHOISKXMSMPX-UHFFFAOYSA-N 2-[butyl(2-hydroxyethyl)amino]ethanol Chemical compound CCCCN(CCO)CCO GVNHOISKXMSMPX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XHJGXOOOMKCJPP-UHFFFAOYSA-N 2-[tert-butyl(2-hydroxyethyl)amino]ethanol Chemical compound OCCN(C(C)(C)C)CCO XHJGXOOOMKCJPP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940058020 2-amino-2-methyl-1-propanol Drugs 0.000 description 1
- BFSVOASYOCHEOV-UHFFFAOYSA-N 2-diethylaminoethanol Chemical compound CCN(CC)CCO BFSVOASYOCHEOV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012957 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropanone Substances 0.000 description 1
- YAQDPWONDFRAHF-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-2-(2-methylpentan-2-ylperoxy)pentane Chemical class CCCC(C)(C)OOC(C)(C)CCC YAQDPWONDFRAHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YMMLZUQDXYPNOG-UHFFFAOYSA-N 2-methylpentan-2-yl 7,7-dimethyloctaneperoxoate Chemical compound CCCC(C)(C)OOC(=O)CCCCCC(C)(C)C YMMLZUQDXYPNOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JOMNTHCQHJPVAZ-UHFFFAOYSA-N 2-methylpiperazine Chemical compound CC1CNCCN1 JOMNTHCQHJPVAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WFCSWCVEJLETKA-UHFFFAOYSA-N 2-piperazin-1-ylethanol Chemical compound OCCN1CCNCC1 WFCSWCVEJLETKA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DOYKFSOCSXVQAN-UHFFFAOYSA-N 3-[diethoxy(methyl)silyl]propyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)CCCOC(=O)C(C)=C DOYKFSOCSXVQAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IKYAJDOSWUATPI-UHFFFAOYSA-N 3-[dimethoxy(methyl)silyl]propane-1-thiol Chemical compound CO[Si](C)(OC)CCCS IKYAJDOSWUATPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LZMNXXQIQIHFGC-UHFFFAOYSA-N 3-[dimethoxy(methyl)silyl]propyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CO[Si](C)(OC)CCCOC(=O)C(C)=C LZMNXXQIQIHFGC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JHUFGBSGINLPOW-UHFFFAOYSA-N 3-chloro-4-(trifluoromethoxy)benzoyl cyanide Chemical compound FC(F)(F)OC1=CC=C(C(=O)C#N)C=C1Cl JHUFGBSGINLPOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UVRCNEIYXSRHNT-UHFFFAOYSA-N 3-ethylpent-2-enamide Chemical compound CCC(CC)=CC(N)=O UVRCNEIYXSRHNT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WHNPOQXWAMXPTA-UHFFFAOYSA-N 3-methylbut-2-enamide Chemical compound CC(C)=CC(N)=O WHNPOQXWAMXPTA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DCQBZYNUSLHVJC-UHFFFAOYSA-N 3-triethoxysilylpropane-1-thiol Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCS DCQBZYNUSLHVJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- URDOJQUSEUXVRP-UHFFFAOYSA-N 3-triethoxysilylpropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCOC(=O)C(C)=C URDOJQUSEUXVRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LVNLBBGBASVLLI-UHFFFAOYSA-N 3-triethoxysilylpropylurea Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCNC(N)=O LVNLBBGBASVLLI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SJECZPVISLOESU-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropan-1-amine Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCN SJECZPVISLOESU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UUEWCQRISZBELL-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropane-1-thiol Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCS UUEWCQRISZBELL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KBQVDAIIQCXKPI-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropyl prop-2-enoate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOC(=O)C=C KBQVDAIIQCXKPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 4-(3-methoxyphenyl)aniline Chemical compound COC1=CC=CC(C=2C=CC(N)=CC=2)=C1 OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HVCNXQOWACZAFN-UHFFFAOYSA-N 4-ethylmorpholine Chemical compound CCN1CCOCC1 HVCNXQOWACZAFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SBVKVAIECGDBTC-UHFFFAOYSA-N 4-hydroxy-2-methylidenebutanamide Chemical compound NC(=O)C(=C)CCO SBVKVAIECGDBTC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PRKPGWQEKNEVEU-UHFFFAOYSA-N 4-methyl-n-(3-triethoxysilylpropyl)pentan-2-imine Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCN=C(C)CC(C)C PRKPGWQEKNEVEU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZWAPMFBHEQZLGK-UHFFFAOYSA-N 5-(dimethylamino)-2-methylidenepentanamide Chemical compound CN(C)CCCC(=C)C(N)=O ZWAPMFBHEQZLGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GUBGYTABKSRVRQ-XLOQQCSPSA-N Alpha-Lactose Chemical compound O[C@@H]1[C@@H](O)[C@@H](O)[C@@H](CO)O[C@H]1O[C@@H]1[C@@H](CO)O[C@H](O)[C@H](O)[C@H]1O GUBGYTABKSRVRQ-XLOQQCSPSA-N 0.000 description 1
- 241000894006 Bacteria Species 0.000 description 1
- 229920000858 Cyclodextrin Polymers 0.000 description 1
- GUBGYTABKSRVRQ-CUHNMECISA-N D-Cellobiose Chemical compound O[C@@H]1[C@@H](O)[C@H](O)[C@@H](CO)O[C@H]1O[C@@H]1[C@@H](CO)OC(O)[C@H](O)[C@H]1O GUBGYTABKSRVRQ-CUHNMECISA-N 0.000 description 1
- HAIWUXASLYEWLM-UHFFFAOYSA-N D-manno-Heptulose Natural products OCC1OC(O)(CO)C(O)C(O)C1O HAIWUXASLYEWLM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001353 Dextrin Polymers 0.000 description 1
- 239000004375 Dextrin Substances 0.000 description 1
- JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N Ethyl urethane Chemical compound CCOC(N)=O JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WQZGKKKJIJFFOK-GASJEMHNSA-N Glucose Natural products OC[C@H]1OC(O)[C@H](O)[C@@H](O)[C@@H]1O WQZGKKKJIJFFOK-GASJEMHNSA-N 0.000 description 1
- HSNZZMHEPUFJNZ-UHFFFAOYSA-N L-galacto-2-Heptulose Natural products OCC(O)C(O)C(O)C(O)C(=O)CO HSNZZMHEPUFJNZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GUBGYTABKSRVRQ-QKKXKWKRSA-N Lactose Natural products OC[C@H]1O[C@@H](O[C@H]2[C@H](O)[C@@H](O)C(O)O[C@@H]2CO)[C@H](O)[C@@H](O)[C@H]1O GUBGYTABKSRVRQ-QKKXKWKRSA-N 0.000 description 1
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GUBGYTABKSRVRQ-PICCSMPSSA-N Maltose Natural products O[C@@H]1[C@@H](O)[C@H](O)[C@@H](CO)O[C@@H]1O[C@@H]1[C@@H](CO)OC(O)[C@H](O)[C@H]1O GUBGYTABKSRVRQ-PICCSMPSSA-N 0.000 description 1
- 229920000877 Melamine resin Polymers 0.000 description 1
- UEEJHVSXFDXPFK-UHFFFAOYSA-N N-dimethylaminoethanol Chemical compound CN(C)CCO UEEJHVSXFDXPFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MUPFEKGTMRGPLJ-RMMQSMQOSA-N Raffinose Natural products O(C[C@H]1[C@@H](O)[C@H](O)[C@@H](O)[C@@H](O[C@@]2(CO)[C@H](O)[C@@H](O)[C@@H](CO)O2)O1)[C@@H]1[C@H](O)[C@@H](O)[C@@H](O)[C@@H](CO)O1 MUPFEKGTMRGPLJ-RMMQSMQOSA-N 0.000 description 1
- HAIWUXASLYEWLM-AZEWMMITSA-N Sedoheptulose Natural products OC[C@H]1[C@H](O)[C@H](O)[C@H](O)[C@@](O)(CO)O1 HAIWUXASLYEWLM-AZEWMMITSA-N 0.000 description 1
- UIIMBOGNXHQVGW-DEQYMQKBSA-M Sodium bicarbonate-14C Chemical compound [Na+].O[14C]([O-])=O UIIMBOGNXHQVGW-DEQYMQKBSA-M 0.000 description 1
- 229920002472 Starch Polymers 0.000 description 1
- ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane Chemical compound CCC(CO)(CO)CO ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007983 Tris buffer Substances 0.000 description 1
- MUPFEKGTMRGPLJ-UHFFFAOYSA-N UNPD196149 Natural products OC1C(O)C(CO)OC1(CO)OC1C(O)C(O)C(O)C(COC2C(C(O)C(O)C(CO)O2)O)O1 MUPFEKGTMRGPLJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GUCYFKSBFREPBC-UHFFFAOYSA-N [phenyl-(2,4,6-trimethylbenzoyl)phosphoryl]-(2,4,6-trimethylphenyl)methanone Chemical compound CC1=CC(C)=CC(C)=C1C(=O)P(=O)(C=1C=CC=CC=1)C(=O)C1=C(C)C=C(C)C=C1C GUCYFKSBFREPBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 238000000862 absorption spectrum Methods 0.000 description 1
- 235000011054 acetic acid Nutrition 0.000 description 1
- DPXJVFZANSGRMM-UHFFFAOYSA-N acetic acid;2,3,4,5,6-pentahydroxyhexanal;sodium Chemical compound [Na].CC(O)=O.OCC(O)C(O)C(O)C(O)C=O DPXJVFZANSGRMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 1
- 150000008044 alkali metal hydroxides Chemical class 0.000 description 1
- 229920005603 alternating copolymer Polymers 0.000 description 1
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- LHIJANUOQQMGNT-UHFFFAOYSA-N aminoethylethanolamine Chemical compound NCCNCCO LHIJANUOQQMGNT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CBTVGIZVANVGBH-UHFFFAOYSA-N aminomethyl propanol Chemical compound CC(C)(N)CO CBTVGIZVANVGBH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001870 ammonium persulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003945 anionic surfactant Substances 0.000 description 1
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 description 1
- 230000000844 anti-bacterial effect Effects 0.000 description 1
- 239000002518 antifoaming agent Substances 0.000 description 1
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 1
- 230000003078 antioxidant effect Effects 0.000 description 1
- WQZGKKKJIJFFOK-VFUOTHLCSA-N beta-D-glucose Chemical compound OC[C@H]1O[C@@H](O)[C@H](O)[C@@H](O)[C@@H]1O WQZGKKKJIJFFOK-VFUOTHLCSA-N 0.000 description 1
- GUBGYTABKSRVRQ-QUYVBRFLSA-N beta-maltose Chemical compound OC[C@H]1O[C@H](O[C@H]2[C@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)O[C@@H]2CO)[C@H](O)[C@@H](O)[C@@H]1O GUBGYTABKSRVRQ-QUYVBRFLSA-N 0.000 description 1
- LBSPZZSGTIBOFG-UHFFFAOYSA-N bis[2-(4,5-dihydro-1h-imidazol-2-yl)propan-2-yl]diazene;dihydrochloride Chemical compound Cl.Cl.N=1CCNC=1C(C)(C)N=NC(C)(C)C1=NCCN1 LBSPZZSGTIBOFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001400 block copolymer Polymers 0.000 description 1
- 239000001768 carboxy methyl cellulose Substances 0.000 description 1
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 239000003093 cationic surfactant Substances 0.000 description 1
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 description 1
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 1
- 239000004927 clay Substances 0.000 description 1
- 239000012141 concentrate Substances 0.000 description 1
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 1
- 210000003298 dental enamel Anatomy 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 235000019425 dextrin Nutrition 0.000 description 1
- 125000004983 dialkoxyalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- OTARVPUIYXHRRB-UHFFFAOYSA-N diethoxy-methyl-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)CCCOCC1CO1 OTARVPUIYXHRRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WHGNXNCOTZPEEK-UHFFFAOYSA-N dimethoxy-methyl-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CO[Si](C)(OC)CCCOCC1CO1 WHGNXNCOTZPEEK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012153 distilled water Substances 0.000 description 1
- 230000003670 easy-to-clean Effects 0.000 description 1
- FWDBOZPQNFPOLF-UHFFFAOYSA-N ethenyl(triethoxy)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)C=C FWDBOZPQNFPOLF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NKSJNEHGWDZZQF-UHFFFAOYSA-N ethenyl(trimethoxy)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C=C NKSJNEHGWDZZQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZLNAFSPCNATQPQ-UHFFFAOYSA-N ethenyl-dimethoxy-methylsilane Chemical compound CO[Si](C)(OC)C=C ZLNAFSPCNATQPQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WOXXJEVNDJOOLV-UHFFFAOYSA-N ethenyl-tris(2-methoxyethoxy)silane Chemical compound COCCO[Si](OCCOC)(OCCOC)C=C WOXXJEVNDJOOLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DECIPOUIJURFOJ-UHFFFAOYSA-N ethoxyquin Chemical compound N1C(C)(C)C=C(C)C2=CC(OCC)=CC=C21 DECIPOUIJURFOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004494 ethyl ester group Chemical group 0.000 description 1
- 239000010433 feldspar Substances 0.000 description 1
- 238000010304 firing Methods 0.000 description 1
- 235000019253 formic acid Nutrition 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 239000008103 glucose Substances 0.000 description 1
- 235000011187 glycerol Nutrition 0.000 description 1
- 150000002402 hexoses Chemical class 0.000 description 1
- 125000001165 hydrophobic group Chemical group 0.000 description 1
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 1
- 229940102253 isopropanolamine Drugs 0.000 description 1
- 239000008101 lactose Substances 0.000 description 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 1
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- JDSHMPZPIAZGSV-UHFFFAOYSA-N melamine Chemical compound NC1=NC(N)=NC(N)=N1 JDSHMPZPIAZGSV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 229910001507 metal halide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000005309 metal halides Chemical class 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- CRVGTESFCCXCTH-UHFFFAOYSA-N methyl diethanolamine Chemical compound OCCN(C)CCO CRVGTESFCCXCTH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- PHQOGHDTIVQXHL-UHFFFAOYSA-N n'-(3-trimethoxysilylpropyl)ethane-1,2-diamine Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCNCCN PHQOGHDTIVQXHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MQWFLKHKWJMCEN-UHFFFAOYSA-N n'-[3-[dimethoxy(methyl)silyl]propyl]ethane-1,2-diamine Chemical compound CO[Si](C)(OC)CCCNCCN MQWFLKHKWJMCEN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KBJFYLLAMSZSOG-UHFFFAOYSA-N n-(3-trimethoxysilylpropyl)aniline Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCNC1=CC=CC=C1 KBJFYLLAMSZSOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QYZFTMMPKCOTAN-UHFFFAOYSA-N n-[2-(2-hydroxyethylamino)ethyl]-2-[[1-[2-(2-hydroxyethylamino)ethylamino]-2-methyl-1-oxopropan-2-yl]diazenyl]-2-methylpropanamide Chemical compound OCCNCCNC(=O)C(C)(C)N=NC(C)(C)C(=O)NCCNCCO QYZFTMMPKCOTAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HMDRAGZZZBGZJC-UHFFFAOYSA-N n-[3-[3-aminopropoxy(dimethoxy)silyl]propyl]-1-phenylprop-2-en-1-amine Chemical compound NCCCO[Si](OC)(OC)CCCNC(C=C)C1=CC=CC=C1 HMDRAGZZZBGZJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QNILTEGFHQSKFF-UHFFFAOYSA-N n-propan-2-ylprop-2-enamide Chemical compound CC(C)NC(=O)C=C QNILTEGFHQSKFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002736 nonionic surfactant Substances 0.000 description 1
- 229920001542 oligosaccharide Polymers 0.000 description 1
- 150000002482 oligosaccharides Chemical class 0.000 description 1
- 125000005825 oxyethoxy group Chemical group [H]C([H])(O[*:1])C([H])([H])O[*:2] 0.000 description 1
- FZUGPQWGEGAKET-UHFFFAOYSA-N parbenate Chemical compound CCOC(=O)C1=CC=C(N(C)C)C=C1 FZUGPQWGEGAKET-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002972 pentoses Chemical class 0.000 description 1
- JRKICGRDRMAZLK-UHFFFAOYSA-L persulfate group Chemical group S(=O)(=O)([O-])OOS(=O)(=O)[O-] JRKICGRDRMAZLK-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- FAQJJMHZNSSFSM-UHFFFAOYSA-N phenylglyoxylic acid Chemical compound OC(=O)C(=O)C1=CC=CC=C1 FAQJJMHZNSSFSM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 1
- 239000002798 polar solvent Substances 0.000 description 1
- 229920001495 poly(sodium acrylate) polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920000036 polyvinylpyrrolidone Polymers 0.000 description 1
- 239000001267 polyvinylpyrrolidone Substances 0.000 description 1
- 235000013855 polyvinylpyrrolidone Nutrition 0.000 description 1
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 1
- 239000001294 propane Substances 0.000 description 1
- 235000019260 propionic acid Nutrition 0.000 description 1
- IUVKMZGDUIUOCP-BTNSXGMBSA-N quinbolone Chemical compound O([C@H]1CC[C@H]2[C@H]3[C@@H]([C@]4(C=CC(=O)C=C4CC3)C)CC[C@@]21C)C1=CCCC1 IUVKMZGDUIUOCP-BTNSXGMBSA-N 0.000 description 1
- MUPFEKGTMRGPLJ-ZQSKZDJDSA-N raffinose Chemical compound O[C@H]1[C@H](O)[C@@H](CO)O[C@@]1(CO)O[C@@H]1[C@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)[C@@H](CO[C@@H]2[C@@H]([C@@H](O)[C@@H](O)[C@@H](CO)O2)O)O1 MUPFEKGTMRGPLJ-ZQSKZDJDSA-N 0.000 description 1
- 229920005604 random copolymer Polymers 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 1
- JPPLPDOXWBVPCW-UHFFFAOYSA-N s-(3-triethoxysilylpropyl) octanethioate Chemical compound CCCCCCCC(=O)SCCC[Si](OCC)(OCC)OCC JPPLPDOXWBVPCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HFHDHCJBZVLPGP-UHFFFAOYSA-N schardinger α-dextrin Chemical compound O1C(C(C2O)O)C(CO)OC2OC(C(C2O)O)C(CO)OC2OC(C(C2O)O)C(CO)OC2OC(C(O)C2O)C(CO)OC2OC(C(C2O)O)C(CO)OC2OC2C(O)C(O)C1OC2CO HFHDHCJBZVLPGP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HSNZZMHEPUFJNZ-SHUUEZRQSA-N sedoheptulose Chemical compound OC[C@@H](O)[C@@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)C(=O)CO HSNZZMHEPUFJNZ-SHUUEZRQSA-N 0.000 description 1
- SCPYDCQAZCOKTP-UHFFFAOYSA-N silanol Chemical compound [SiH3]O SCPYDCQAZCOKTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 1
- WBHQBSYUUJJSRZ-UHFFFAOYSA-M sodium bisulfate Chemical compound [Na+].OS([O-])(=O)=O WBHQBSYUUJJSRZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910000342 sodium bisulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000029 sodium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000019812 sodium carboxymethyl cellulose Nutrition 0.000 description 1
- 229920001027 sodium carboxymethylcellulose Polymers 0.000 description 1
- CHQMHPLRPQMAMX-UHFFFAOYSA-L sodium persulfate Substances [Na+].[Na+].[O-]S(=O)(=O)OOS([O-])(=O)=O CHQMHPLRPQMAMX-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- NNMHYFLPFNGQFZ-UHFFFAOYSA-M sodium polyacrylate Chemical compound [Na+].[O-]C(=O)C=C NNMHYFLPFNGQFZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- XFTALRAZSCGSKN-UHFFFAOYSA-M sodium;4-ethenylbenzenesulfonate Chemical compound [Na+].[O-]S(=O)(=O)C1=CC=C(C=C)C=C1 XFTALRAZSCGSKN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 241000894007 species Species 0.000 description 1
- 239000008107 starch Substances 0.000 description 1
- 235000019698 starch Nutrition 0.000 description 1
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 1
- 239000004575 stone Substances 0.000 description 1
- 235000000346 sugar Nutrition 0.000 description 1
- 150000005846 sugar alcohols Polymers 0.000 description 1
- 150000008163 sugars Chemical class 0.000 description 1
- XJAJNAQBHCNNBM-UHFFFAOYSA-N sulfo hydrogen sulfate dihydrate Chemical compound O.O.OS(=O)(=O)OS(O)(=O)=O XJAJNAQBHCNNBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 1
- XOAAWQZATWQOTB-UHFFFAOYSA-N taurine Chemical compound NCCS(O)(=O)=O XOAAWQZATWQOTB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OPQYOFWUFGEMRZ-UHFFFAOYSA-N tert-butyl 2,2-dimethylpropaneperoxoate Chemical compound CC(C)(C)OOC(=O)C(C)(C)C OPQYOFWUFGEMRZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NMOALOSNPWTWRH-UHFFFAOYSA-N tert-butyl 7,7-dimethyloctaneperoxoate Chemical compound CC(C)(C)CCCCCC(=O)OOC(C)(C)C NMOALOSNPWTWRH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005369 trialkoxysilyl group Chemical group 0.000 description 1
- NBXZNTLFQLUFES-UHFFFAOYSA-N triethoxy(propyl)silane Chemical compound CCC[Si](OCC)(OCC)OCC NBXZNTLFQLUFES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JXUKBNICSRJFAP-UHFFFAOYSA-N triethoxy-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCOCC1CO1 JXUKBNICSRJFAP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HQYALQRYBUJWDH-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(propyl)silane Chemical compound CCC[Si](OC)(OC)OC HQYALQRYBUJWDH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DQZNLOXENNXVAD-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[2-(7-oxabicyclo[4.1.0]heptan-4-yl)ethyl]silane Chemical compound C1C(CC[Si](OC)(OC)OC)CCC2OC21 DQZNLOXENNXVAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOCC1CO1 BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FZGFBJMPSHGTRQ-UHFFFAOYSA-M trimethyl(2-prop-2-enoyloxyethyl)azanium;chloride Chemical compound [Cl-].C[N+](C)(C)CCOC(=O)C=C FZGFBJMPSHGTRQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- RRHXZLALVWBDKH-UHFFFAOYSA-M trimethyl-[2-(2-methylprop-2-enoyloxy)ethyl]azanium;chloride Chemical compound [Cl-].CC(=C)C(=O)OCC[N+](C)(C)C RRHXZLALVWBDKH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- UZNHKBFIBYXPDV-UHFFFAOYSA-N trimethyl-[3-(2-methylprop-2-enoylamino)propyl]azanium;chloride Chemical compound [Cl-].CC(=C)C(=O)NCCC[N+](C)(C)C UZNHKBFIBYXPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AISMNBXOJRHCIA-UHFFFAOYSA-N trimethylazanium;bromide Chemical compound Br.CN(C)C AISMNBXOJRHCIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003641 trioses Chemical class 0.000 description 1
- LENZDBCJOHFCAS-UHFFFAOYSA-N tris Chemical compound OCC(N)(CO)CO LENZDBCJOHFCAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006097 ultraviolet radiation absorber Substances 0.000 description 1
- 150000003672 ureas Chemical class 0.000 description 1
- NLVXSWCKKBEXTG-UHFFFAOYSA-N vinylsulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C=C NLVXSWCKKBEXTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D4/00—Coating compositions, e.g. paints, varnishes or lacquers, based on organic non-macromolecular compounds having at least one polymerisable carbon-to-carbon unsaturated bond ; Coating compositions, based on monomers of macromolecular compounds of groups C09D183/00 - C09D183/16
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D5/00—Coating compositions, e.g. paints, varnishes or lacquers, characterised by their physical nature or the effects produced; Filling pastes
- C09D5/16—Antifouling paints; Underwater paints
- C09D5/1606—Antifouling paints; Underwater paints characterised by the anti-fouling agent
- C09D5/1612—Non-macromolecular compounds
- C09D5/1618—Non-macromolecular compounds inorganic
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F220/00—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride ester, amide, imide or nitrile thereof
- C08F220/02—Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms; Derivatives thereof
- C08F220/52—Amides or imides
- C08F220/54—Amides, e.g. N,N-dimethylacrylamide or N-isopropylacrylamide
- C08F220/60—Amides, e.g. N,N-dimethylacrylamide or N-isopropylacrylamide containing nitrogen in addition to the carbonamido nitrogen
- C08F220/606—Amides, e.g. N,N-dimethylacrylamide or N-isopropylacrylamide containing nitrogen in addition to the carbonamido nitrogen and containing other heteroatoms
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D—PROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D3/00—Pretreatment of surfaces to which liquids or other fluent materials are to be applied; After-treatment of applied coatings, e.g. intermediate treating of an applied coating preparatory to subsequent applications of liquids or other fluent materials
- B05D3/02—Pretreatment of surfaces to which liquids or other fluent materials are to be applied; After-treatment of applied coatings, e.g. intermediate treating of an applied coating preparatory to subsequent applications of liquids or other fluent materials by baking
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D—PROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D3/00—Pretreatment of surfaces to which liquids or other fluent materials are to be applied; After-treatment of applied coatings, e.g. intermediate treating of an applied coating preparatory to subsequent applications of liquids or other fluent materials
- B05D3/06—Pretreatment of surfaces to which liquids or other fluent materials are to be applied; After-treatment of applied coatings, e.g. intermediate treating of an applied coating preparatory to subsequent applications of liquids or other fluent materials by exposure to radiation
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D—PROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D7/00—Processes, other than flocking, specially adapted for applying liquids or other fluent materials to particular surfaces or for applying particular liquids or other fluent materials
- B05D7/24—Processes, other than flocking, specially adapted for applying liquids or other fluent materials to particular surfaces or for applying particular liquids or other fluent materials for applying particular liquids or other fluent materials
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D133/00—Coating compositions based on homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof; Coating compositions based on derivatives of such polymers
- C09D133/04—Homopolymers or copolymers of esters
- C09D133/14—Homopolymers or copolymers of esters of esters containing halogen, nitrogen, sulfur or oxygen atoms in addition to the carboxy oxygen
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D141/00—Coating compositions based on homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by a bond to sulfur or by a heterocyclic ring containing sulfur; Coating compositions based on derivatives of such polymers
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D143/00—Coating compositions based on homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and containing boron, silicon, phosphorus, selenium, tellurium, or a metal; Coating compositions based on derivatives of such polymers
- C09D143/04—Homopolymers or copolymers of monomers containing silicon
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D183/00—Coating compositions based on macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing silicon, with or without sulfur, nitrogen, oxygen, or carbon only; Coating compositions based on derivatives of such polymers
- C09D183/04—Polysiloxanes
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D201/00—Coating compositions based on unspecified macromolecular compounds
- C09D201/02—Coating compositions based on unspecified macromolecular compounds characterised by the presence of specified groups, e.g. terminal or pendant functional groups
- C09D201/06—Coating compositions based on unspecified macromolecular compounds characterised by the presence of specified groups, e.g. terminal or pendant functional groups containing oxygen atoms
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D5/00—Coating compositions, e.g. paints, varnishes or lacquers, characterised by their physical nature or the effects produced; Filling pastes
- C09D5/16—Antifouling paints; Underwater paints
- C09D5/1656—Antifouling paints; Underwater paints characterised by the film-forming substance
- C09D5/1662—Synthetic film-forming substance
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D7/00—Features of coating compositions, not provided for in group C09D5/00; Processes for incorporating ingredients in coating compositions
- C09D7/40—Additives
- C09D7/60—Additives non-macromolecular
- C09D7/61—Additives non-macromolecular inorganic
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D7/00—Features of coating compositions, not provided for in group C09D5/00; Processes for incorporating ingredients in coating compositions
- C09D7/40—Additives
- C09D7/60—Additives non-macromolecular
- C09D7/63—Additives non-macromolecular organic
-
- E—FIXED CONSTRUCTIONS
- E03—WATER SUPPLY; SEWERAGE
- E03D—WATER-CLOSETS OR URINALS WITH FLUSHING DEVICES; FLUSHING VALVES THEREFOR
- E03D11/00—Other component parts of water-closets, e.g. noise-reducing means in the flushing system, flushing pipes mounted in the bowl, seals for the bowl outlet, devices preventing overflow of the bowl contents; devices forming a water seal in the bowl after flushing, devices eliminating obstructions in the bowl outlet or preventing backflow of water and excrements from the waterpipe
- E03D11/02—Water-closet bowls ; Bowls with a double odour seal optionally with provisions for a good siphonic action; siphons as part of the bowl
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D—PROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D2203/00—Other substrates
- B05D2203/30—Other inorganic substrates, e.g. ceramics, silicon
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D—PROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D5/00—Processes for applying liquids or other fluent materials to surfaces to obtain special surface effects, finishes or structures
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Wood Science & Technology (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Hydrology & Water Resources (AREA)
- Public Health (AREA)
- Water Supply & Treatment (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
- Sanitary Device For Flush Toilet (AREA)
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
Abstract
오염 부착 방지성을 부여함과 함께, 오염 부착 방지 성능의 내구성이 우수한, 친수 처리 도료 조성물을 제공한다. 실레인 커플링제(S)로 표면 처리한 무기 기재용의 친수 처리 도료 조성물로서, 친수성 화합물(A) 및 친수성 화합물(B)를 포함하고, 친수성 화합물(A)는 설폰산기 및 설폰산기의 알칼리 금속염 중 적어도 한쪽을 갖는 화합물이고, 친수성 화합물(B)는 제4급 암모늄 양이온성기를 갖는 화합물인, 친수 처리 도료 조성물이다.
Description
본 발명은, 친수 처리 도료 조성물 및 이것을 이용한 친수화 처리 방법에 관한 것이다.
종래, 변기, 세면대 등 물을 사용하는 곳에 설치되는 도기류 등에 대해, 표면의 오염을 세정하기 쉽게 하기 위해서 여러 가지의 표면 처리가 행해지고 있다.
표면을 세정하는 것을 목적으로 한 것은 아니지만, 유리 제품에 대해, 방담성, 방오성 등을 부여하기 위해서, 산화 규소를 주로 포함하는 물질의 표면을 실레인 커플링제로 처리한 후에, 그의 표면에, 측쇄 또는 소수성기의 중간에 아크릴로일기 또는 바이닐기 등의 반응성기를 갖는 반응성 계면활성제를 반응시키는 방법 및 구체적인 화합물이 제안되어 있다(일본 특허공개 평8-259270호 공보(특허문헌 1) 참조).
일본 특허공개 2016-20461호 공보(특허문헌 2)에는, 무기 화합물을 함유하는 표면층을, 라디칼 반응성 작용기를 함유하는 실레인 커플링제에 의해 처리한 후에, 상기 실레인 커플링제의 라디칼 반응성 작용기에 대해서 반응시키는 조성물이 개시되어 있다. 이 조성물은, 라디칼 반응성 작용기 및 설폰산기의 알칼리 금속염을 함유하고, 분자쇄의 단부 이외의 친수부 및 분기쇄를 함유하지 않는 친수성 화합물과, 라디칼 중합 개시제와, 극성을 갖는 상용화제를 함유한다. 일본 특허공개 2016-20462호 공보(특허문헌 3)에는, 무기 화합물을 함유하는 표면층을, 아이소사이아네이트기, 에폭시기, 아미노기, 머캅토기로부터 선택되는 적어도 하나의 반응성 작용기를 함유하는 실레인 커플링제에 의해 처리한 후에, 상기 실레인 커플링제의 반응성 작용기에 대해서 반응시키는 조성물이 개시되어 있다. 이 조성물은, 아미노기, 수산기, 머캅토기, 에폭시기로부터 선택되는 적어도 하나이고, 상기 실레인 커플링제의 반응성 작용기와 반응하는 작용기, 및, 설폰산기 또는 설폰산기의 알칼리 금속염을 함유하고, 분자쇄의 단부 이외에 친수부를 함유하지 않는 친수성 화합물과, 극성을 갖는 상용화제를 함유하는 친수 처리 도료 조성물이 개시되어 있다.
상기 특허문헌 1에 기재된 화합물은, 분기쇄 구조를 갖기 때문에, 친수부가 표면에 집약되기 어렵다. 그 때문에, 그 화합물을, 변기, 세면대 등 물에 의한 세정이 빈번하게 이루어지는 도기류에 이용하더라도, 충분한 세정성을 갖지 않을 것이 염려된다. 또한, 한편으로 분기 구조를 갖지 않는 화합물은, 친수기의 친수성이 높기 때문에 결정화되기 쉽다. 그 때문에, 이 화합물을 이용하더라도, 도기류 등의 표면을 균일하게 친수화 처리하는 것이 곤란하다.
상기 특허문헌 2, 3에 기재된 친수화 처리제는, 산화 규소 등의 무기 화합물이 함유되는, 변기, 세면대 등의 도기류에 대해서 이용하는 것에 의해, 칼슘 등의 침착을 막음과 함께, 균의 번식이나 취기(臭氣)의 원인이 되는 유성의 오염도 세정하기 쉬워진다고 기재되어 있다. 한편으로, 상기 도기류는 일반 가정에 있어서 세정용 세제를 이용하여 세정되는 경우가 많고, 그리고 세정용 세제로서 다종다양한 종류의 세제가 시판되고 있다. 이와 같은 세제는, 보다 높은 세정 기능을 갖는 신상품의 개발이 요망되고 있고, 그리고 실제로 다양한 신상품이 등장하고 있다. 상기 도기류에 이용할 수 있는 친수화 처리제는, 새롭게 등장하는 다양한 세정용 세제에 대해서도, 우수한 내구성을 가질 것이 필요하게 된다.
본 발명은 상기 종래의 과제를 해결하는 것으로, 그 목적으로 하는 바는, 예를 들면 도기류 등의 피도물에 대해서, 오염 부착 방지성을 부여함과 함께, 오염 부착 방지 성능의 내구성이 우수한, 친수 처리 도료 조성물 및 친수화 처리 방법을 제공하는 것에 있다.
상기 과제를 해결하기 위해, 본 발명은 하기 태양을 제공한다.
[1]
실레인 커플링제(S)로 표면 처리한 무기 기재용의, 친수 처리 도료 조성물로서,
친수성 화합물(A), 및
친수성 화합물(B)
를 포함하고,
상기 친수성 화합물(A)는, 설폰산기 및 설폰산기의 알칼리 금속염 중 적어도 한쪽을 갖는 화합물이고,
상기 친수성 화합물(B)는, 제4급 암모늄 양이온성기를 갖는 화합물인,
친수 처리 도료 조성물.
[2]
무기 기재용의, 친수 처리 도료 조성물로서,
실레인 커플링제(S),
친수성 화합물(A), 및
친수성 화합물(B)
를 포함하고,
상기 친수성 화합물(A)는, 설폰산기 및 설폰산기의 알칼리 금속염 중 적어도 한쪽을 갖는 화합물이고,
상기 친수성 화합물(B)는, 제4급 암모늄 양이온성기를 갖는 화합물인,
친수 처리 도료 조성물.
[3]
상기 실레인 커플링제(S)는, 라디칼 반응성 작용기(RS)를 갖고,
상기 친수성 화합물(A)는 라디칼 반응성 작용기(RA)를 갖고, 또한
상기 친수성 화합물(B)는 라디칼 반응성 작용기(RB)를 갖고,
상기 조성물은, 라디칼 중합 개시제를 더 포함하는,
[1] 또는 [2]에 기재된 친수 처리 도료 조성물.
[4]
상기 실레인 커플링제(S)는, 1개의 축합형의 반응성 작용기(RS2)를 갖는 단작용기형의 실레인 커플링제이며,
상기 친수성 화합물(A)는, 축합형의 반응성 작용기(RA2)를 갖고,
상기 친수성 화합물(B)는, 축합형의 반응성 작용기(RB2)를 갖는,
[1] 또는 [2]에 기재된 친수 처리 도료 조성물.
[5]
상기 친수성 화합물의 라디칼 반응성 작용기(RA) 및 (RB) 중 적어도 하나가, 아크릴아마이드기, 아크릴로일기, 메타크릴로일기, 알릴기, 바이닐기, 스타이릴기 및 머캅토기로부터 선택되는 적어도 1종인, [1]∼[3] 중 어느 하나에 기재된 친수 처리 도료 조성물.
[6]
상기 친수성 화합물(A)는, 분자쇄의 단부 이외에 친수부를 갖지 않는, [1]∼[5] 중 어느 하나에 기재된 친수 처리 도료 조성물.
[7]
상기 친수성 화합물(B)는, 분자쇄의 단부 이외에 친수부를 갖지 않는, [1]∼[6] 중 어느 하나에 기재된 친수 처리 도료 조성물.
[8]
상기 친수성 화합물(A)의 수 평균 분자량이, 70∼500이고,
상기 친수성 화합물(B)의 수 평균 분자량이, 70∼500인,
[1]∼[7] 중 어느 하나에 기재된 친수 처리 도료 조성물.
[9]
상기 친수성 화합물(A)의 라디칼 반응성 작용기(RA)와 설폰산기 사이에 존재하는 탄소수의 평균치를 (n1)로 하고,
상기 친수성 화합물(B)의 라디칼 반응성 작용기(RB)와 제4급 암모늄 양이온성 작용기 사이에 존재하는 탄소수의 평균치를 (n2)로 하고,
상기 (n1)과 상기 (n2)가,
(n2)>(n1)
의 관계를 갖는, [3] 및 [5]∼[8] 중 어느 하나에 기재된 친수 처리 도료 조성물.
[10]
상기 친수성 화합물(A)에 있어서의, 상기 축합형의 반응성 작용기(RA2)와, 설폰산기 사이에 존재하는 탄소수의 평균치를 (n12)로 하고,
상기 친수성 화합물(B)에 있어서의, 상기 축합형의 반응성 작용기(RB2)와, 제4급 암모늄 양이온성 작용기 사이에 존재하는 탄소수의 평균치를 (n22)로 하고,
상기 (n12)와 상기 (n22)가,
(n22)>(n12)
의 관계를 갖는, [4] 및 [6]∼[8] 중 어느 하나에 기재된 친수 처리 도료 조성물.
[11]
[1]∼[10] 중 어느 하나에 기재된 친수 처리 도료 조성물에 있어서의, 상기 친수성 화합물(A)와, 상기 친수성 화합물(B)가, 서로 나누어 수납된,
친수 처리 도료 조성물 세트.
[12]
무기 기재의 표면을, 실레인 커플링제(S)로 표면 처리하는 공정과,
상기 실레인 커플링제(S)로 처리한 무기 기재에, [1] 및 [3]∼[11] 중 어느 하나에 기재된 친수 처리 도료 조성물을 도포하고,
광 또는 열에 의해, 상기 실레인 커플링제(S)와,
상기 친수성 화합물(A) 및 상기 친수성 화합물(B) 중 적어도 하나를 반응시키는 공정을 포함하는, 무기 기재의 친수화 처리 방법.
[13]
[2]∼[11] 중 어느 하나에 기재된 친수 처리 도료 조성물에 광 또는 열을 가하여,
상기 실레인 커플링제(S)와, 상기 친수성 화합물(A) 및 상기 친수성 화합물(B) 중 적어도 하나를 반응시키는 것을 포함하고,
상기 반응 후의 상기 친수 처리 도료 조성물을, 무기 기재의 표면에 도장하는 것을 포함하는,
무기 기재의 친수화 처리 방법.
[14]
무기 기재의 표면에, [2]∼[11] 중 어느 하나에 기재된 친수 처리 도료 조성물을 도포하고,
광 조사 또는 가열에 의해, 상기 실레인 커플링제(S)와, 상기 친수성 화합물(A) 및 상기 친수성 화합물(B) 중 적어도 하나를 반응시키는 것을 포함하는,
무기 기재의 친수화 처리 방법.
[15]
상기 실레인 커플링제(S)와, 상기 친수성 화합물(A) 및 상기 친수성 화합물(B) 중 적어도 하나를, 광 조사에 의해 반응시키는 것을 포함하는, [12]∼[14] 중 어느 하나에 기재된, 무기 기재의 친수화 처리 방법.
[16]
상기 무기 기재가 위생 도기인, [1]∼[10] 중 어느 하나에 기재된 친수화 처리 방법.
상기 친수 처리 도료 조성물을 이용하는 것에 의해, 산화 규소 등의 무기 화합물이 함유되는, 변기, 세면대 등의 물을 사용하는 곳에 설치되는 도기류 등에 대해, 칼슘 등의 침착을 효과적으로 막을 수 있다. 상기 친수 처리 도료 조성물은 추가로, 이와 같은 오염 부착 방지 성능의 내구성이 우수한 이점이 있다.
이하, 상기 친수 처리 도료 조성물, 친수 처리 도료 조성물 세트 및 친수화 처리 방법에 대하여 설명한다.
본 명세서에 있어서의 친수 처리 도료 조성물은, 하기 제 1 태양 및 제 2 태양으로 대별할 수 있다.
제 1 태양
실레인 커플링제(S)로 표면 처리한 무기 기재용의, 친수 처리 도료 조성물로서,
친수성 화합물(A), 및
친수성 화합물(B)
를 포함하고,
상기 친수성 화합물(A)는, 설폰산기 및 설폰산기의 알칼리 금속염 중 적어도 한쪽을 갖는 화합물이고,
상기 친수성 화합물(B)는, 제4급 암모늄 양이온성기를 갖는 화합물이다.
제 2 태양
무기 기재용의, 친수 처리 도료 조성물로서,
실레인 커플링제(S),
친수성 화합물(A), 및
친수성 화합물(B)
를 포함하고,
상기 친수성 화합물(A)는, 설폰산기 및 설폰산기의 알칼리 금속염 중 적어도 한쪽을 갖는 화합물이고,
상기 친수성 화합물(B)는, 제4급 암모늄 양이온성기를 갖는 화합물이다.
상기 제 1 태양 및 제 2 태양 모두, 상기 실레인 커플링제(S), 친수성 화합물(A) 및 친수성 화합물(B)가 이용된다. 이하, 각 성분에 대하여 기재한다.
실레인 커플링제(S)
상기 친수 처리 도료 조성물에 있어서 이용되는 실레인 커플링제(S)는, 분자 중에 반응성 실릴기 및 유기 작용기의 양쪽을 갖는 화합물이다. 반응성 실릴기로서, 가수분해에 의해 실란올기를 생성하는 기를 들 수 있다. 반응성 실릴기의 구체예로서, 예를 들면, 트라이알콕시실릴기(알콕시기에 포함되는 탄소수는 1∼7이 바람직하다), 다이알콕시알킬기(알콕시기에 포함되는 탄소수는 1∼7이 바람직하고, 알킬기에 포함되는 탄소수는 1∼7이 바람직하다)를 들 수 있고, 보다 구체적으로는, 트라이메톡시실릴기, 트라이에톡시실릴기, 트라이프로폭시실릴기, 트리스(2-메톡시에톡시)실릴기, 다이메톡시알킬실릴기, 다이에톡시알킬실릴기, 다이프로폭시알킬실릴기, 비스(2-메톡시에톡시)알킬실릴기(상기 알킬기는, 탄소수 1∼7의 직쇄상 또는 분기상 알킬기여도 된다) 등을 들 수 있다.
상기 유기 작용기의 일례로서, 라디칼 반응성 작용기(RS)를 들 수 있다. 라디칼 반응성 작용기(RS)로서, 예를 들면, 아크릴아마이드기, 아크릴로일기, 메타크릴로일기, 알릴기, 바이닐기, 스타이릴기, 머캅토기 등을 들 수 있다. 이들 유기 작용기는, 1종만을 포함해도 되고, 2종 또는 그 이상을 포함해도 된다.
상기 유기 작용기의 다른 일례로서, 축합형의 반응성 작용기(RS2)를 들 수 있다. 축합형의 반응성 작용기(RS2)로서, 예를 들면, 카복시기, 하이드록시기, 아미노기, 에폭시기, 유레이도기, 아이소사이아네이트기, 아이소사이아누레이트기 등을 들 수 있다. 이들 유기 작용기는, 1종만을 포함해도 되고, 2종 또는 그 이상을 포함해도 된다.
상기 실레인 커플링제(S)의 구체예로서,
바이닐트라이에톡시실레인,
바이닐트라이메톡시실레인,
바이닐트리스(2-메톡시에톡시)실레인,
바이닐메틸다이메톡시실레인,
p-스타이릴트라이메톡시실레인,
p-스타이릴트라이에톡시실레인,
3-메타크릴옥시프로필트라이에톡시실레인,
3-메타크릴옥시프로필트라이메톡시실레인,
3-메타크릴옥시프로필메틸다이메톡시실레인,
3-메타크릴옥시프로필메틸다이에톡시실레인,
3-아크릴옥시프로필트라이메톡시실레인,
2-(3,4-에폭시사이클로헥실)에틸트라이메톡시실레인,
3-글라이시독시프로필트라이메톡시실레인,
3-글라이시독시프로필트라이에톡시실레인,
3-글라이시독시프로필메틸다이메톡시실레인,
3-글라이시독시프로필메틸다이에톡시실레인,
3-머캅토프로필메틸다이메톡시실레인,
3-머캅토프로필트라이메톡시실레인,
3-머캅토프로필트라이에톡시실레인,
3-옥타노일싸이오-1-프로필트라이에톡시실레인,
3-아미노프로필트라이에톡시실레인,
3-아미노프로필트라이메톡시실레인,
N-(2-아미노에틸)-3-아미노프로필트라이메톡시실레인,
N-(2-아미노에틸)-3-아미노프로필메틸다이메톡시실레인,
3-(N-페닐)아미노프로필트라이메톡시실레인,
3-트라이에톡시실릴-N-(1,3-다이메틸-뷰틸리덴)프로필아민,
N-(바이닐벤질)-2-아미노에틸-3-아미노프로필트라이메톡시실레인,
3-유레이도프로필트라이에톡시실레인,
3-아이소사이아네이트프로필트라이에톡시실레인,
3-아이소사이아네이트프로필트라이메톡시실레인,
트리스(트라이메톡시실릴프로필)아이소사이아누레이트
등을 들 수 있다.
상기 실레인 커플링제(S)는, 1종을 단독으로 이용해도 되고, 2종 또는 그 이상을 병용해도 된다.
실레인 커플링제(S)의 일례로서. 실레인 커플링제(S)가 2 또는 그 이상의 라디칼 반응성 작용기(RS)를 갖는 태양을 들 수 있다. 이 태양에서는, 실레인 커플링제(S)의 적어도 1개의 라디칼 반응성 작용기(RS)와 친수성 화합물(A)가 결합성을 갖고, 실레인 커플링제(S)의 적어도 다른 1개의 라디칼 반응성 작용기(RS)와 친수성 화합물(B)가 결합성을 더 갖게 된다. 이에 의해, 예를 들면 시판되는 세제 등에 포함되는 경우가 있는 4급 암모늄염 등의 염기성 세정 성분이, 친수성 화합물(A)가 갖는 설폰산류와 이온 결합하는 것을 효과적으로 막을 수 있어, 오염 부착 방지 성능의 내구성이 보다 우수하게 되는 등의 이점이 있다.
상기 실레인 커플링제(S)로서 시판품을 이용할 수도 있다. 시판품으로서, 예를 들면 신에쓰 화학공업사, 모멘티브사, 도아 합성사, 아사히 화성사 등으로부터 입수할 수 있는 각종 실레인 커플링제를 이용할 수 있다.
상기 실레인 커플링제(S)를 이용하면, 무기 표면을 갖는 기재인 무기 기재의 표면에, 반응성 실릴기의 가수분해에 의해 생성된 실란올기가 결합 반응한다고 생각된다.
상기 제 1 태양에 있어서, 이용되는 실레인 커플링제(S)의 양은, 친수성 화합물의 합계량 100질량부에 대해서, 0.1질량부 이상 10질량부 이하가 바람직하고, 1질량부 이상 5질량부 이하가 보다 바람직하다.
상기 제 2 태양에 있어서, 친수 처리 도료 조성물 중에 포함되는 실레인 커플링제(S)의 양은, 친수성 화합물의 합계량 100질량부에 대해서, 0.1질량부 이상 10질량부 이하가 바람직하고, 0.2질량부 이상 7질량부 이하가 보다 바람직하다. 여기에서 「친수성 화합물의 합계량」은, 친수성 화합물로서 친수성 화합물(A) 및 친수성 화합물(B)가 포함되는 경우는, 친수성 화합물(A) 및 친수성 화합물(B)의 합계량을 의미한다.
상기 제 1 태양, 제 2 태양에 있어서, 실레인 커플링제(S)와 아울러, 촉매를 이용해도 된다. 촉매로서는, 산성 촉매(예를 들면, 염산 수용액, 황산 수용액, 질산 수용액, 인산 수용액, 폼산, 아세트산, 프로피온산 등의 카복실산을 갖는 화합물의 수용액 등), 및, 염기성 촉매(예를 들면, 암모니아 수용액, 모폴린, N-메틸모폴린, N-에틸모폴린, 피페라진, 하이드록시에틸피페라진, 2-메틸피페라진, 트랜스 2,5-다이메틸피페라진, 시스 2,6-다이메틸피페라진, 트라이에틸아민, N,N-다이메틸에탄올아민, N,N-다이에틸에탄올아민, N-(β-아미노에틸)에탄올아민, N-메틸다이에탄올아민, N-n-뷰틸에탄올아민, N-n-뷰틸다이에탄올아민, N-t-뷰틸에탄올아민, N-t-뷰틸다이에탄올아민, N-(β-아미노에틸)아이소프로판올아민, N,N-다이에틸아이소프로판올아민, 2-아미노-2-메틸-1-프로판올, 수산화 나트륨 수용액, 수산화 칼륨 수용액 등)를 들 수 있다.
친수성 화합물(A)
상기 친수성 화합물(A)는, 설폰산기 및 설폰산기의 알칼리 금속염 중 적어도 한쪽(이하 「설폰산기류」라고 약기하는 경우도 있다.)을 갖는 화합물이다. 친수 처리 도료 조성물이 친수성 화합물(A)를 포함하는 것에 의해, 무기 기재에 대해서 설폰산기 및/또는 그의 염을 도입할 수 있고, 이에 의해 친수성의 기능이 발휘되게 된다.
상기 친수성 화합물(A)는, 상기 설폰산기에 더하여, 실레인 커플링제(S)와 반응하는 작용기를 갖는 것이 바람직하다. 여기에서, 상기 실레인 커플링제(S)가 라디칼 반응성 작용기(RS)를 갖는 경우는, 친수성 화합물(A)는 라디칼 반응성 작용기(RA)를 갖는 것이 바람직하다. 라디칼 반응성 작용기(RA)의 예로서, 아크릴아마이드기, 아크릴로일기, 메타크릴로일기, 알릴기, 바이닐기, 스타이릴기, 머캅토기 등을 들 수 있다. 이들 라디칼 반응성 작용기는, 1종만을 포함해도 되고, 2종 또는 그 이상을 포함해도 된다.
또한, 상기 실레인 커플링제(S)가 축합형의 반응성 작용기(RS2)를 갖는 경우는, 친수성 화합물(A)는 축합형의 반응성 작용기(RA2)를 갖는 것이 바람직하다. 축합형의 반응성 작용기(RA2)의 예로서, 카복시기, 하이드록시기, 아미노기, 에폭시기, 유레이도기, 아이소사이아네이트기, 아이소사이아누레이트기 등을 들 수 있다. 이들 축합형의 반응성 작용기는, 1종만을 포함해도 되고, 2종 또는 그 이상을 포함해도 된다.
상기 친수성 화합물(A)는, 분자쇄의 단부 이외에 친수부를 갖지 않는 것이 바람직하다. 친수성 화합물(A)에 있어서의 「친수부」란, 친수성 화합물(A)가 갖는 설폰산기류, 및 그 밖의 친수성기를 의미한다. 친수성 화합물(A)가 이와 같은 구조를 갖는 것에 의해, 친수성 화합물(A)의 친수기를 무기 기재 측이 아닌 도막 표면에 집약시킬 수 있다. 그 때문에, 예를 들면 위생 도기 등과 같이, 물에 의한 세정이 빈번하게 이루어지는 부재류에 대해서, 충분한 세정성 및 세정 내구성을 부여할 수 있는 이점이 있다.
상기 친수성 화합물(A)의 구체예로서,
바이닐 설폰산 나트륨,
바이닐 설폰산,
N-t-뷰틸아크릴아마이드설폰산 리튬,
N-t-뷰틸아크릴아마이드설폰산 나트륨,
N-t-뷰틸아크릴아마이드설폰산 칼륨,
2-나트륨 설포에틸 메타크릴레이트,
알릴설폰산 나트륨,
p-스타이렌설폰산 나트륨,
설폰산 나트륨 함유 유레테인 아크릴레이트,
N-t-뷰틸아크릴아마이드설폰산
등을 들 수 있다. 상기 친수성 화합물(A)는, 1종을 단독으로 이용해도 되고, 2종 또는 그 이상을 병용해도 된다. 상기 친수성 화합물(A)에 대해서, 수산화 나트륨, 수산화 칼륨 등의 알칼리 금속의 수산화물 수용액을 가하여 중화시켜, 설폰산염을 형성해도 된다.
친수성 화합물(A)로서 시판품을 이용해도 된다. 시판품으로서, 예를 들면, 도아 합성 주식회사의 ATBS(등록상표)-Na, 아사히 화성 파인켐 주식회사의 N-SVS-25, 닛폰유화제 주식회사의 안톡스 MS-2N, 도소 유기 화학 주식회사의 스피노머(등록상표) NaSS 등을 들 수 있다. 친수성 화합물(A)는 또한, 통상 이용되는 수법에 의해 조제해도 된다. 예를 들면 설폰산 나트륨 함유 유레테인 아크릴레이트 등은, 당업자에게 통상 이용되는 수법에 의해 조제할 수 있다.
상기 친수성 화합물(A)는, 수 평균 분자량이 70 이상 500 이하가 바람직하다. 수 평균 분자량이 상기 범위 내인 것에 의해, 친수성을 보다 양호하게 부여할 수 있는 이점이 있다.
친수성 화합물(B)
상기 친수성 화합물(B)는, 제4급 암모늄 양이온성기를 갖는 화합물이다. 상기 친수 처리 도료 조성물이, 친수성 화합물(A)에 더하여 친수성 화합물(B)를 포함하는 것에 의해, 양호한 오염 부착 방지성, 및, 오염 부착 방지 성능의 양호한 내구성을 얻을 수 있는 이점이 있다. 특정의 이론에 구속되는 것은 아니지만, 친수성 화합물(A)에 더하여 친수성 화합물(B)가 포함되는 것에 의해, 예를 들면 시판되는 세제 등에 포함되는 경우가 있는 4급 암모늄염 등의 염기성 세정 성분이, 친수성 화합물(A)가 갖는 설폰산류와 이온 결합하는 것을 효과적으로 막을 수 있고, 이에 의해, 오염 부착 방지 성능의 내구성이 양호해진다고 생각된다.
상기 친수성 화합물(B)는, 제4급 암모늄 양이온성기에 더하여, 실레인 커플링제(S)와 반응하는 작용기를 갖는 것이 바람직하다. 여기에서, 상기 실레인 커플링제(S)가 라디칼 반응성 작용기(RS)를 갖는 경우는, 친수성 화합물(B)는 라디칼 반응성 작용기(RB)를 갖는 것이 바람직하다. 라디칼 반응성 작용기(RB)의 예로서, 아크릴아마이드기, 아크릴로일기, 메타크릴로일기, 알릴기, 바이닐기, 스타이릴기, 머캅토기 등을 들 수 있다. 이들 라디칼 반응성 작용기는, 1종만을 포함해도 되고, 2종 또는 그 이상을 포함해도 된다.
또한, 상기 실레인 커플링제(S)가 축합형의 반응성 작용기(RS2)를 갖는 경우는, 친수성 화합물(B)는 축합형의 반응성 작용기(RB2)를 갖는 것이 바람직하다. 축합형의 반응성 작용기(RB2)의 예로서, 카복시기, 하이드록시기, 아미노기, 에폭시기, 유레이도기, 아이소사이아네이트기, 아이소사이아누레이트기 등을 들 수 있다. 이들 축합형의 반응성 작용기는, 1종만을 포함해도 되고, 2종 또는 그 이상을 포함해도 된다.
상기 친수성 화합물(B)는, 분자쇄의 단부 이외에 친수부를 갖지 않는 것이 바람직하다. 친수성 화합물(B)에 있어서의 「친수부」란, 친수성 화합물(B)가 갖는 제4급 암모늄 양이온성기, 및 그 밖의 친수성기를 의미한다. 친수성 화합물(B)가 이와 같은 구조를 갖는 것에 의해, 친수성 화합물(B)의 친수기를 무기 기재 측이 아닌 도막 표면에 집약시킬 수 있다. 이에 의해, 예를 들면 위생 도기 등과 같이, 물에 의한 세정이 빈번하게 이루어지는 부재류에 대해서, 충분한 세정성 및 세정 내구성을 부여할 수 있는 이점이 있다.
상기 친수성 화합물(B)의 구체예로서,
(3-아크릴아마이드프로필)트라이메틸암모늄 클로라이드,
(3-아크릴아마이드프로필)트라이메틸암모늄 브로마이드,
[3-(메타크릴로일아미노)프로필]트라이메틸암모늄 클로라이드,
2-(아크릴로일옥시)-N,N,N-트라이메틸에테인아미늄·클로라이드,
2-(메타크릴로일옥시)에틸트라이메틸암모늄 클로라이드
등을 들 수 있다. 상기 친수성 화합물(B)는, 1종을 단독으로 이용해도 되고, 2종 또는 그 이상을 병용해도 된다.
친수성 화합물(B)로서 시판품을 이용해도 된다. 친수성 화합물(B)는 또한, 통상 이용되는 수법에 의해 조제해도 된다.
상기 친수성 화합물(B)는, 수 평균 분자량이 70 이상 500 이하가 바람직하다. 수 평균 분자량이 상기 범위 내인 것에 의해, 친수성을 보다 양호하게 부여할 수 있는 이점이 있다.
상기 친수 처리 도료 조성물 중에 포함되는 친수성 화합물(A) 및 친수성 화합물(B)의 양의 비율은, (A):(B)=15:85∼85:15가 바람직하고, 30:70∼70:30이 보다 바람직하며, 40:60∼60:40이 더 바람직하다. 비율 (A):(B)가 상기 범위 내인 것에 의해, 오염 부착 방지 성능의 양호한 내구성을 얻을 수 있는 이점이 있다.
상기 친수성 화합물(A) 및 친수성 화합물(B)가 라디칼 반응성 작용기를 갖는 경우에 있어서, 상기 친수성 화합물(A)의 라디칼 반응성 작용기(RA)와 설폰산기 사이에 존재하는 탄소수의 평균치를 (n1)로 하고, 상기 친수성 화합물(B)의 라디칼 반응성 작용기(RB)와 제4급 암모늄 양이온성 작용기 사이에 존재하는 탄소수의 평균치를 (n2)로 했을 때,
상기 (n1)과 상기 (n2)가,
(n2)>(n1)
의 관계를 갖는 것이 바람직하다.
상기 탄소수의 평균치(n1), 탄소수의 평균치(n2)가, (n2)>(n1)의 관계를 갖는 경우는, 친수 처리 도료 조성물을 무기 기재에 도포하고, 반응시킨 후에 있어서, 친수성 화합물(B)가 갖는 제4급 암모늄 양이온성 작용기가, 친수성 화합물(A)가 갖는 설폰산류와 비교하여, 보다 표면 측에 존재하는 비율이 높아진다고 생각된다. 이에 의해, 오염 부착 방지 성능의 보다 양호한 내구성을 달성하는 것이 가능해진다고 생각된다. 상기 탄소수의 평균치(n1) 및 탄소수의 평균치(n2)의 차는, 1 이상인 것이 보다 바람직하고, 2 이상인 것이 더 바람직하다.
마찬가지로, 상기 친수성 화합물(A) 및 친수성 화합물(B)가 축합형의 반응성 작용기를 갖는 경우에 있어서는, 상기 친수성 화합물(A)의 축합형의 반응성 작용기(RA2)와 설폰산기 사이에 존재하는 탄소수의 평균치를 (n12)로 하고, 상기 친수성 화합물(B)의 축합형의 반응성 작용기(RB2)와 제4급 암모늄 양이온성 작용기 사이에 존재하는 탄소수의 평균치를 (n22)로 했을 때,
상기 (n12)와 상기 (n22)가,
(n22)>(n12)
의 관계를 갖는 것이 바람직하다. 상기 탄소수의 평균치(n12) 및 탄소수의 평균치(n22)의 차는, 1 이상인 것이 보다 바람직하고, 2 이상인 것이 더 바람직하다.
친수 처리 도료 조성물의 다른 태양에 있어서, 예를 들면,
상기 친수성 화합물(A) 및 친수성 화합물(B)는, 모두, 공중합성을 갖고, 이들 화합물은, 교대 공중합체, 랜덤 공중합체 및 블록 공중합체로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종의 직쇄상 폴리머를 형성하는 화합물이며, 또한,
상기 친수성 화합물(A) 및 친수성 화합물(B) 중 적어도 한쪽이, 실레인 커플링제와의 결합성을 더 갖는,
친수 처리 도료 조성물인 태양을 들 수 있다. 이와 같은 태양에 있어서도, 무기 화합물을 포함하는 표면층을 갖는 무기 기재에 대해서, 양호한 오염 부착 방지성을 부여할 수 있는 이점이 있다.
친수성 화합물(C)
상기 친수 처리 도료 조성물은, 필요에 따라서 친수성 화합물(C)를 포함해도 된다. 친수성 화합물(C)는, 비이온성기를 갖는 친수성 화합물이다. 단, 비이온성기를 갖는 친수성 화합물이더라도, 상기 친수성 화합물(A) 또는 (B)에 해당하는 화합물은, 친수성 화합물(C)로는 간주되지 않는다.
라디칼 중합 개시제
상기 실레인 커플링제(S), 친수성 화합물(A) 및 친수성 화합물(B)가 라디칼 반응성 작용기를 갖는 경우는, 상기 친수 처리 도료 조성물은 라디칼 중합 개시제를 더 포함하는 것이 바람직하다. 라디칼 중합 개시제는, 광 또는 열에 의해 분해되어, 라디칼을 발생시키는 화합물이다. 라디칼 중합 개시제로는, 광에 의해 분해되는 광 라디칼 중합 개시제와, 열에 의해 분해되는 열 라디칼 중합 개시제로 분류된다. 라디칼 중합 개시제는, 수용성인 것이 바람직하다.
광 라디칼 중합 개시제로서는, 벤조페논, 1-하이드록시-사이클로헥실-페닐-케톤, 1-하이드록시-사이클로헥실-페닐-케톤과 벤조페논의 혼합물, 1-[4-(2-하이드록시에톡시)-페닐]-2-하이드록시-2-메틸-1-프로판-1-온, 2-하이드록시-2-메틸-1-페닐-프로판-1-온, 2-하이드록시-1-[4-{4-(2-하이드록시-2-메틸-프로피온일)-벤질}페닐]-2-메틸-1-프로판-1-온, 옥시페닐아세트산, 2-[2-옥소-2-페닐아세톡시에톡시]에틸 에스터와 옥시페닐아세트산, 2-(2-하이드록시에톡시)에틸 에스터의 혼합물, 비스(2,4,6-트라이메틸벤조일)-페닐포스핀 옥사이드 등이 바람직하다. 필요에 따라서, 상기 광 라디칼 중합 개시제에, p-다이메틸아미노벤조산 에틸(닛폰화약 주식회사제 카야큐어 EPA) 등의 증감제 등을 첨가할 수도 있다. 이들의 시판품으로서, IGM RESINS사의 Omnirad(등록상표) 184, Omnirad(등록상표) 500, Omnirad(등록상표) 2959, DAROCURE(등록상표) 1173, Omnirad(등록상표) 127, Omnirad(등록상표) 754, Omnirad(등록상표) 819DW 등을 사용할 수 있다.
열 라디칼 중합 개시제로서는, 2,2'-아조비스[2-(2-이미다졸린-2-일)프로페인]다이하이드로클로라이드, 2,2'-아조비스[2-(2-이미다졸린-2-일)프로페인]다이설페이트다이하이드레이트, 2,2'-아조비스[2-(2-이미다졸린-2-일)프로페인], 2,2'-아조비스(프로페인-2-카보아미딘)이염산염, 2,2'-아조비스[N-(2-카복시에틸)-2-메틸프로피온아미딘]n-하이드레이트, 2,2'-아조비스[2-메틸-N-(2-하이드록시에틸)프로피온아마이드], 4,4'-아조비스(4-사이아노펜타노익 애시드) 등의 아조계 화합물, 과황산 암모늄, 과황산 나트륨, 과황산 칼륨 등의 과황산염, 과산화수소, 큐밀 퍼옥시네오데카노에이트, 1,1,3,3-테트라메틸뷰틸 퍼옥시네오데카노에이트, t-헥실 퍼옥시네오데카노에이트, t-뷰틸 퍼옥시네오데카노에이트, t-헥실 퍼옥시피발레이트, t-뷰틸 퍼옥시피발레이트 등의 과산화물 등이 바람직하다. 또한, 필요에 따라서, 상기 열 라디칼 중합 개시제에, 물 등을 첨가할 수도 있다. 이들의 시판품으로서, 와코준야쿠 공업 주식회사의 VA-044, VA-046B, VA-061, V-50, VA-057, VA-086, V-501, 니치유 주식회사의 퍼큐밀 ND-50E, 퍼옥타 ND-50E, 퍼헥실 ND-50E, 퍼뷰틸 ND-50E, 퍼헥실 PV-50E, 퍼뷰틸 PV-40E, 각 회사 시약을 사용할 수 있다.
라디칼 중합 개시제의 배합량은, 상기 친수성 화합물의 합계량(고형분 질량) 100질량부에 대해서 1질량부 이상 75질량부 이하가 바람직하고, 5질량부 이상 60질량부 이하가 더 바람직하다.
그 밖의 성분
상기 친수 처리 도료 조성물은, 필요에 따라서 용매를 포함해도 된다. 용매를 포함하는 것에 의해, 친수성 화합물을 양호하게 용해 또는 분산시킬 수 있는 이점이 있다. 바람직한 용매로서, 예를 들면, 물, 메탄올, 에탄올, 아이소프로필알코올, n-프로필알코올 등을 들 수 있다. 이들 용매는, 상기 각 친수성 화합물의 종류 및 함유량 등에 따라 적절히 선택할 수 있다.
상기 친수 처리 도료 조성물은, 상기 성분에 더하여, 필요에 따른 첨가제를 포함해도 된다. 첨가제로서, 예를 들면, 표면 조정제, 상용화제, 레벨링제, 가소제, 소포제, 자외선 흡수제, 산화 방지제, 점성 제어제 등을 들 수 있다. 이들 첨가제는 1종만을 포함해도 되고, 2종 또는 그 이상을 포함해도 된다.
첨가제로서 이용할 수 있는 상용화제로서, 예를 들면, 요소, 멜라민, 아크릴로일모폴린, 다이메틸아크릴아마이드, 다이메틸아미노프로필아크릴아마이드, 아이소프로필아크릴아마이드, 다이에틸아크릴아마이드, 하이드록시에틸아크릴아마이드 등의 아마이드 화합물, 다이메틸설폭사이드, 아세토나이트릴, N,N-다이메틸폼아마이드 등의 비프로톤성 극성 용매, 에틸렌 글라이콜, 글리세린, 트라이메틸올프로페인, 다이트라이메틸올프로페인, 에리트리톨, 에리스리톨, 다이펜타에리스리톨 등의 다가 알코올, 트리오스, 테트로오스, 펜토오스, 헥소오스, 세도헵툴로오스, 글루코오스, 말토오스, 수크로오스(자당), 락토오스, 셀로비오스, 라피노오스, 아카보오스, 올리고당, 사이클로덱스트린, 덱스트린, 전분 등의 당류, 카복시메틸셀룰로스 나트륨, 폴리바이닐 피롤리돈, 폴리아크릴산 나트륨, 변성 유레아 등의 극성을 갖는 수지, 탄산수소 나트륨, 탄산 나트륨, 황산수소 나트륨, 황산 나트륨 등의 무기염류 등을 들 수 있다. 상용화제의 함유량은, 친수성 화합물의 합계량 100질량부에 대해서 10질량부 이상 100질량부 이하가 바람직하다.
상기 친수성 화합물의 고형분 농도는, 0.1질량% 이상 60질량% 이하가 바람직하다. 고형분 농도가 상기 범위 내인 것에 의해, 양호한 오염 부착 방지성 등을 얻을 수 있는 이점이 있다.
상기 친수 처리 도료 조성물의 다른 태양으로서, 예를 들면, 친수성 화합물(A)와 친수성 화합물(B)가 서로 나누어 수납된, 친수 처리 도료 조성물 세트인 태양을 들 수 있다. 그 밖에도, 상기 제 2 태양에 있어서, 실레인 커플링제(S), 친수성 화합물(A), 친수성 화합물(B)가 서로 나누어 수납된, 친수 처리 도료 조성물 세트인 태양을 들 수 있다. 이들 태양은, 각 성분의 보존 안정성 및 반응성에 따라서 적절히 선택할 수 있다.
무기 기재의 친수화 처리 방법
본 명세서는, 상기 친수 처리 도료 조성물을 이용한 무기 기재의 친수화 처리를 제공한다. 친수화 처리 방법으로서, 하기의 2 태양을 들 수 있다.
친수화 처리 방법의 제 1 태양
상기 제 1 태양의 친수 처리 도료 조성물을 이용하는, 친수화 처리 방법으로서,
무기 기재의 표면을, 실레인 커플링제(S)로 표면 처리하고,
상기 실레인 커플링제(S)로 처리한 무기 기재에, 상기 제 1 태양의 친수 처리 도료 조성물을 도포하고,
광 또는 열에 의해, 상기 실레인 커플링제(S)와, 친수성 화합물(A) 및 친수성 화합물(B) 중 적어도 하나를 반응시키는 것
을 포함하는, 무기 기재의 친수화 처리 방법.
친수화 처리 방법의 제 2 태양(1)
상기 제 2 태양의 친수 처리 도료 조성물에 광 또는 열을 가하여,
실레인 커플링제(S)와, 상기 친수성 화합물(A) 및 친수성 화합물(B) 중 적어도 하나를 반응시키는 것을 포함하고,
상기 반응 후의 상기 친수 처리 도료 조성물을, 무기 기재의 표면에 도장하는 것을 포함하는,
무기 기재의 친수화 처리 방법.
친수화 처리 방법의 제 2 태양(2)
무기 기재의 표면에, 상기 제 2 태양의 친수 처리 도료 조성물을 도포하고,
광 조사 또는 가열에 의해, 실레인 커플링제(S)와, 친수성 화합물(A) 및 친수성 화합물(B) 중 적어도 하나를 반응시키는 것을 포함하는,
무기 기재의 친수화 처리 방법.
상기 어느 친수화 처리 방법에 있어서, 친수 처리 도료 조성물을 이용한 친수화 처리 방법을 행하는 대상(피도물)은, 무기 기재이다. 본 명세서에 있어서 「무기 기재」란, 무기 화합물을 포함하는 표면층을 갖는 기재(무기 표면을 갖는 기재)를 의미한다. 무기 화합물을 포함하는 표면층으로서 예를 들면, 유리, 금속 및 금속 산화물, 유리 이외의 이산화 규소 등을 들 수 있다. 무기 기재의 구체예로서, 예를 들면, 위생 도기, 타일, 법랑, 유리, 사이딩재, 새시, 벽, 거울, 욕조 등의 주택 등 관련 부재를 들 수 있다. 상기 친수화 처리 방법에 있어서의 적합한 피도물의 일례로서, 위생 도기를 들 수 있다. 위생 도기는, 변기, 세면기, 화장실 등의 물을 사용하는 곳의 주택 설비 기기로서 그의 대부분 또는 그의 일부가 도기로 구성되는 부재이다. 이와 같은 위생 도기는 일반적으로, 점토, 도석(陶石), 장석(長石) 등의 원료로 구성된 소지(예를 들면 초벌구이 도기 등)에, 유약을 입혀 소성하는 것에 의해, 그의 표면에 유리질의 층이 형성된 부재이다.
상기 친수화 처리 방법의 제 1 태양에 있어서는, 무기 기재의 표면에 대해서 실레인 커플링제(S)를 도포하는 것에 의해, 무기 기재의 표면이 실레인 커플링제(S)로 표면 처리된다. 보다 구체적으로는, 무기 기재가 갖는 무기 표면에 대해서, 반응성 실릴기의 가수분해에 의해 생성된 실란올기가 결합 반응한다.
이어서, 상기 실레인 커플링제(S)로 처리한 무기 기재에, 상기 제 1 태양의 친수 처리 도료 조성물을 도포한다. 그리고, 친수 처리 도료 조성물을 도포한 후에, 광 또는 열에 의해, 상기 실레인 커플링제(S)와, 친수성 화합물(A) 및 친수성 화합물(B) 중 적어도 하나를 반응시킨다. 예를 들면, 상기 실레인 커플링제(S), 친수성 화합물(A) 및 친수성 화합물(B)가 라디칼 반응성 작용기를 갖는 경우는, 광을 조사하거나 또는 가열하는 것에 의해, 실레인 커플링제(S), 친수성 화합물(A) 및 친수성 화합물(B)가 갖는 라디칼 반응성 작용기를 라디칼 반응시킬 수 있다. 또한, 상기 실레인 커플링제(S), 친수성 화합물(A) 및 친수성 화합물(B)가 축합형의 반응성 작용기를 갖는 경우는, 가열하는 것에 의해, 실레인 커플링제(S), 친수성 화합물(A) 및 친수성 화합물(B)가 갖는 축합형 반응성 작용기를 축합 반응시킬 수 있다.
상기 반응에 의해, 무기 기재의 표면을 친수화 처리할 수 있다. 상기 친수 처리 도료 조성물을 이용하는 친수화 처리에 있어서, 친수 처리 도료 조성물이 친수성 화합물(A) 및 친수성 화합물(B)의 양쪽을 포함하는 것에 의해, 양호한 오염 부착 방지성이 얻어짐과 함께, 양호한 오염 부착 방지 성능 내구성도 얻을 수 있는 이점이 있다.
상기 친수화 처리 방법의 제 2 태양(1)에 있어서는, 제 2 태양의 친수 처리 도료 조성물, 즉 실레인 커플링제(S), 친수성 화합물(A) 및 친수성 화합물(B)를 적어도 포함하는 친수 처리 도료 조성물에 대해서, 광 또는 열을 가하는 것에 의해, 실레인 커플링제(S)와, 상기 친수성 화합물(A) 및 친수성 화합물(B) 중 적어도 하나가 반응하게 된다. 이 반응은, 상기 실레인 커플링제(S), 친수성 화합물(A) 및 친수성 화합물(B)가 라디칼 반응성 작용기를 갖는 경우는, 광을 조사하거나 또는 가열하는 것에 의해, 실레인 커플링제(S), 친수성 화합물(A) 및 친수성 화합물(B)가 갖는 라디칼 반응성 작용기를 라디칼 반응시킬 수 있다. 또한, 상기 실레인 커플링제(S), 친수성 화합물(A) 및 친수성 화합물(B)가 축합형의 반응성 작용기를 갖는 경우는, 가열하는 것에 의해, 실레인 커플링제(S), 친수성 화합물(A) 및 친수성 화합물(B)가 갖는 축합형 반응성 작용기를 축합 반응시킬 수 있다.
상기 반응한 조성물을, 무기 기재가 갖는 무기 표면에 도포하는 것에 의해, 실레인 커플링제(S)가 갖는 반응성 실릴기의 가수분해에 의해 생성된 실란올기가, 무기 기재가 갖는 무기 표면에 대해서 반응하고, 이에 의해 무기 기재의 표면을 친수화 처리할 수 있다.
상기 친수화 처리 방법의 제 2 태양(2)에 있어서는, 제 2 태양의 친수 처리 도료 조성물, 즉 실레인 커플링제(S), 친수성 화합물(A) 및 친수성 화합물(B)를 적어도 포함하는 친수 처리 도료 조성물을, 무기 기재가 갖는 무기 표면에 도포한 후, 광 또는 열을 가한다. 여기에서, 실레인 커플링제(S)에 있어서의 라디칼 반응성 작용기와, 상기 친수성 화합물(A) 및 친수성 화합물(B)가 갖는 라디칼 반응성 작용기 중 적어도 하나가 반응하거나, 또는, 실레인 커플링제(S)에 있어서의 축합형 반응성 작용기와, 상기 친수성 화합물(A) 및 친수성 화합물(B)가 갖는 축합형 반응성 작용기 중 적어도 하나가 반응한다. 그 한편으로, 실레인 커플링제(S)가 갖는 반응성 실릴기의 가수분해에 의해 생성된 실란올기가, 무기 기재가 갖는 무기 표면에 대해서 반응하고, 반응성 실릴기의 가수분해에 의해 생성된 실란올기가 결합 반응한다. 이에 의해 무기 기재의 표면을 친수화 처리할 수 있다.
상기 실레인 커플링제(S)와, 친수성 화합물(A) 및 친수성 화합물(B)의 반응에 있어서, 친수성 화합물(A) 및 친수성 화합물(B) 중 어느 한쪽을 우선적으로 반응시키고, 그 후에, 다른 한쪽을 반응시키는 태양이어도 된다. 친수성 화합물(A) 및 친수성 화합물(B)의 반응 순서를 제어하는 방법으로서, 예를 들면, 친수성 화합물(A) 및 친수성 화합물(B) 중 어느 한쪽으로서, 반응성이 보다 높은 화합물을 이용하는 방법 등을 들 수 있다.
상기 광 조사로서, 활성 에너지선을 조사하는 태양을 들 수 있다. 보다 구체적으로는, 예를 들면 고압 수은 램프, 초고압 수은 램프, 메탈 할라이드 램프, 자외선 LED 램프 등을 이용하여, 활성 에너지선, 보다 바람직하게는 예를 들면 파장 220∼450nm의 범위의 자외선을 조사하면 된다. 상기 가열 조건으로서는, 예를 들면, 통상 이용되는 가열로, 열풍 건조기 또는 IR 히터 등을 이용한 가열, 적외선 열 조사 장치 등을 이용한 열 조사, 등을 들 수 있다. 가열 조건에 있어서는, 예를 들면 가열 온도는 80℃ 이상 150℃ 이하여도 된다.
실시예
이하의 실시예에 의해 본 발명을 더 구체적으로 설명하지만, 본 발명은 이들로 한정되지 않는다. 실시예 중, 「부」 및 「%」는, 예고가 없는 한, 질량 기준에 의한다.
합성예 1 설폰산 나트륨 함유 유레테인 아크릴레이트의 합성
아미노에틸 설폰산 45.2질량부, 수산화 나트륨 14.8질량부, 이온 교환수 40질량부를, 20∼25℃의 실온에서 반응시켰다.
얻어진 반응물 42.5질량부를 5∼10℃의 온도로 유지하고, 이것에, 1-메톡시-2-프로판올 33질량부에 2-아이소사이아네이토에틸 아크릴레이트(쇼와덴코 주식회사제 카렌즈 AOI(등록상표)) 24.5질량부를 혼합 용해한 용액을 5분에 걸쳐 적하했다. 계속해서, 4시간 교반했다. 적외 흡수 스펙트럼으로, 아이소사이아네이트기에서 유래하는 흡수가 확인되지 않고 반응이 종료된 것을 확인하여, 설폰산 나트륨 함유 유레테인 아크릴레이트를 얻었다.
실시예 1-1
친수 처리 도료 조성물의 조제
이온 교환수 27.5중량부 및 요소 10중량부를 혼합하여 요소가 용해될 때까지 교반했다. 이어서, 이것에, 바이닐 설폰산 나트륨 30질량부, (3-아크릴아마이드프로필)트라이메틸암모늄 클로라이드 70질량부, 2-하이드록시-2-메틸-1-페닐프로판온 50질량부, 아이소프로필알코올 100질량부를 가하고, 투명한 균일 용액이 될 때까지 교반하여, 친수 처리 도료 조성물을 조제했다.
친수화 처리
실레인 커플링제(S)인 3-메타크릴옥시프로필트라이메톡시실레인 1부 및 1-메톡시-2-프로판올 98질량부를 실온에서 교반 혼합했다. 이어서, 이것에 3% 염산 수용액 1질량부를 가하고, 추가로 30분간 교반하여, 가수분해를 행했다.
산화 규소를 표면에 갖는 도기에 얻어진 용액을 도포하고, 전기 오븐을 이용하여 60℃에서 30분간 건조시키고, 이어서 실온에서 30분간 방치했다.
계속해서, 상기에서 조제한 친수 처리 도료 조성물을 도포했다. 그 후, 고압 수은 램프를 이용하여 적산 광량이 1000mJ/cm2인 에너지가 되는 자외선 조사를 행하는 것에 의해, 친수화 처리를 행했다.
실시예 1-2∼1-42 및 비교예 1-1∼1-16
실시예 1-2∼1-42 및 비교예 1-1∼1-16에서는, 실레인 커플링제(S)의 종류 및 양, 그리고, 친수성 화합물(A), (B), 중합 개시제의 종류 및 양 등을, 하기 표 1 또는 2에 따라 변경한 것 이외에는, 실시예 1-1과 마찬가지로 하여, 친수 처리 도료 조성물을 조제하여, 친수화 처리를 행했다.
실시예 2-1
친수 처리 도료 조성물의 조제
이온 교환수 27.5중량부 및 요소 10중량부를 혼합하여 요소가 용해될 때까지 교반했다. 그 후, 이것에, 바이닐 설폰산 나트륨 30질량부, (3-아크릴아마이드프로필)트라이메틸암모늄 클로라이드 70질량부, 과황산 칼륨 5질량부, 아이소프로필알코올 100질량부를 가하고, 투명한 균일 용액이 될 때까지 교반하여, 친수 처리 도료 조성물을 조제했다.
친수화 처리
실레인 커플링제(S)인 3-메타크릴옥시프로필트라이메톡시실레인 1부 및 1-메톡시-2-프로판올 98질량부를 실온에서 교반 혼합했다. 그 후, 이것에 3% 염산 수용액 1질량부를 가하고, 추가로 30분간 교반하여, 가수분해를 행했다.
산화 규소를 표면에 갖는 도기에 얻어진 용액을 도포하고, 전기 오븐을 이용하여 60℃에서 30분간 건조시키고, 이어서 실온에서 30분간 방치했다.
이어서, 상기에서 조제한 친수 처리 도료 조성물을 도포하고, 그 후, 전기 오븐을 이용하여 가열을 행하는 것에 의해, 친수화 처리를 행했다.
실시예 2-2∼2-32 및 비교예 2-1∼2-15
실시예 2-2∼2-32 및 비교예 2-1∼2-15에서는, 실레인 커플링제(S)의 종류, 및, 친수성 화합물(A), (B), 중합 개시제의 종류 및 양 등을, 하기 표에 따라 변경한 것 이외에는, 실시예 2-1과 마찬가지로 하여, 친수 처리 도료 조성물을 조제하여, 친수화 처리를 행했다.
상기 실시예 및 비교예에 있어서 행한 친수화 처리에 대하여, 하기 평가를 행했다. 평가 결과를 하기 표에 나타낸다.
내구성 평가
친수화 처리의 내구성을 평가하는 기준으로서, JIS R 3257 「기판 유리 표면의 젖음성 시험 방법」(시험 방법의 종류로서, 정적법을 채용)에 준하여, 표면의 물방울의 접촉각을 이용했다.
구체적으로는, 물방울의 접촉각의 측정에 대하여, 교와 계면 과학 주식회사제의 DMo-701을 이용하고, 증류수 4μL를 도막에 적하하여 60초 후의 접촉각을 측정했다. 표면에 물리적 또는 화학적 처리를 행하는 것에 의해 물리적 또는 화학적 변화가 일어난 경우, 물방울의 접촉각이 변화되는 것을 이용한 것이다.
친수화 처리 후의 피도물 도면에 대해서, 아무것도 처리를 행하지 않는 것을 「초기」로 했다.
친수화 처리 후의 피도물 도면에 대해서, 양이온성 계면활성제인 선폴(상품명) 1mL를 적하한 후, 물로 세정한 도막에 대한 평가를, 「내세제성(양이온)」으로 했다.
친수화 처리 후의 피도물 도면에 대해서, 비이온성 계면활성제인 배스 매직 클린(상품명) 1mL를 적하한 후, 물로 세정한 도막에 대한 평가를, 「내세제성(비이온)」으로 했다.
친수화 처리 후의 피도물 도면에 대해서, 음이온성 계면활성제인 마마 레몬(상품명) 1mL를 적하한 후, 물로 세정한 도막에 대한 평가를, 「내세제성(음이온)」으로 했다.
각각의 도막에 대한, 물방울의 접촉각을 측정하여, 이하의 기준에 의해 평가를 행했다. 평가에 있어서 ○, △를 양호, ×를 불량으로 판단했다.
○: 물방울의 접촉각이 10°보다 크고 20° 이하인 것
△: 물방울의 접촉각이 20°보다 크고 40° 이하인 것
×: 물방울의 접촉각이 40°보다 큰 것
미네랄 제거성 평가(무기물에 대한 세정성 평가)
친수화 처리 후의 피도물의 도면에 대해서, 150μL의 물을 적하하고, 40℃에서 24시간 건조시켜 백색의 물방울 얼룩을 작성했다. 그 후, 20∼25℃의 수중에 있어서 3M 스카치 브라이트(상표) 항균 유레테인 스펀지 S-21KS를 이용하여, 500gf 하중을 가하여 20왕복하고, 잔존하는 물방울 얼룩을 육안으로 관찰하여, 이하의 기준에 의해 평가를 행했다. 하기 기준에 있어서, ○ 및 △를 합격으로 하고, ×를 불량으로 판단했다.
○: 20왕복 후의 상태에서, 물방울 얼룩이 시인되지 않는다
△: 20왕복 후의 상태에서, 약간 물방울 얼룩이 시인된다
×: 20왕복 후의 상태에서, 물방울 얼룩이 확실히 시인된다
실시예의 친수 처리 조성물을 이용하는 경우는 모두, 양호한 내구성 및 미네랄 제거가 얻어지는 것이 확인되었다.
비교예 1-1, 2-1은, 실레인 커플링제(S)가 이용되지 않는 예이다. 이들 예에서는, 내구성 및 미네랄 제거성의 양쪽이 뒤떨어지는 것이 확인되었다.
상기 이외의 비교예는 모두, 친수성 화합물(A), (B) 중 어느 한쪽만이 이용된 예이다. 이들 예에서는, 양이온 내세제성, 음이온 내세제성 및 미네랄 제거성 평가 중에서, 적어도 하나가 뒤떨어지는 것이 확인되었다.
본 개시는, 오염 부착 방지성을 부여함과 함께, 오염 부착 방지 성능의 내구성이 우수한, 친수 처리 도료 조성물 및 친수화 처리 방법을 제공한다.
본원은, 2020년 3월 13일자로 일본에서 출원된 특허출원 2020-044430에 기초하는 우선권을 주장하고, 그 기재 내용의 모두가, 참조하는 것에 의해 본 명세서에 원용된다.
Claims (16)
- 실레인 커플링제(S)로 표면 처리한 무기 기재용의, 친수 처리 도료 조성물로서,
친수성 화합물(A), 및
친수성 화합물(B)
를 포함하고,
상기 친수성 화합물(A)는, 설폰산기 및 설폰산기의 알칼리 금속염 중 적어도 한쪽을 갖는 화합물이고,
상기 친수성 화합물(B)는, 제4급 암모늄 양이온성기를 갖는 화합물인,
친수 처리 도료 조성물. - 무기 기재용의, 친수 처리 도료 조성물로서,
실레인 커플링제(S),
친수성 화합물(A), 및
친수성 화합물(B)
를 포함하고,
상기 친수성 화합물(A)는, 설폰산기 및 설폰산기의 알칼리 금속염 중 적어도 한쪽을 갖는 화합물이고,
상기 친수성 화합물(B)는, 제4급 암모늄 양이온성기를 갖는 화합물인,
친수 처리 도료 조성물. - 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
상기 실레인 커플링제(S)는, 라디칼 반응성 작용기(RS)를 갖고,
상기 친수성 화합물(A)는 라디칼 반응성 작용기(RA)를 갖고, 또한
상기 친수성 화합물(B)는 라디칼 반응성 작용기(RB)를 갖고,
상기 조성물은, 라디칼 중합 개시제를 더 포함하는,
친수 처리 도료 조성물. - 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
상기 실레인 커플링제(S)는, 1개의 축합형의 반응성 작용기(RS2)를 갖는 단작용기형의 실레인 커플링제이며,
상기 친수성 화합물(A)는, 축합형의 반응성 작용기(RA2)를 갖고,
상기 친수성 화합물(B)는, 축합형의 반응성 작용기(RB2)를 갖는,
친수 처리 도료 조성물. - 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 친수성 화합물의 라디칼 반응성 작용기(RA) 및 (RB) 중 적어도 하나가, 아크릴아마이드기, 아크릴로일기, 메타크릴로일기, 알릴기, 바이닐기, 스타이릴기 및 머캅토기로부터 선택되는 적어도 1종인, 친수 처리 도료 조성물. - 제 1 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 친수성 화합물(A)는, 분자쇄의 단부 이외에 친수부를 갖지 않는, 친수 처리 도료 조성물. - 제 1 항 내지 제 6 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 친수성 화합물(B)는, 분자쇄의 단부 이외에 친수부를 갖지 않는, 친수 처리 도료 조성물. - 제 1 항 내지 제 7 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 친수성 화합물(A)의 수 평균 분자량이, 70∼500이고,
상기 친수성 화합물(B)의 수 평균 분자량이, 70∼500인,
친수 처리 도료 조성물. - 제 3 항 및 제 5 항 내지 제 8 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 친수성 화합물(A)의 라디칼 반응성 작용기(RA)와 설폰산기 사이에 존재하는 탄소수의 평균치를 (n1)로 하고,
상기 친수성 화합물(B)의 라디칼 반응성 작용기(RB)와 제4급 암모늄 양이온성 작용기 사이에 존재하는 탄소수의 평균치를 (n2)로 하고,
상기 (n1)과 상기 (n2)가,
(n2)>(n1)
의 관계를 갖는, 친수 처리 도료 조성물. - 제 4 항 및 제 6 항 내지 제 8 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 친수성 화합물(A)에 있어서의, 상기 축합형의 반응성 작용기(RA2)와, 설폰산기 사이에 존재하는 탄소수의 평균치를 (n12)로 하고,
상기 친수성 화합물(B)에 있어서의, 상기 축합형의 반응성 작용기(RB2)와, 제4급 암모늄 양이온성 작용기 사이에 존재하는 탄소수의 평균치를 (n22)로 하고,
상기 (n12)와 상기 (n22)가,
(n22)>(n12)
의 관계를 갖는, 친수 처리 도료 조성물. - 제 1 항 내지 제 10 항 중 어느 한 항에 기재된 친수 처리 도료 조성물에 있어서의, 상기 친수성 화합물(A)와, 상기 친수성 화합물(B)가, 서로 나누어 수납된,
친수 처리 도료 조성물 세트. - 무기 기재의 표면을, 실레인 커플링제(S)로 표면 처리하는 공정과,
상기 실레인 커플링제(S)로 처리한 무기 기재에, 제 1 항 및 제 3 항 내지 제 11 항 중 어느 한 항에 기재된 친수 처리 도료 조성물을 도포하고,
광 또는 열에 의해, 상기 실레인 커플링제(S)와,
상기 친수성 화합물(A) 및 상기 친수성 화합물(B) 중 적어도 하나를 반응시키는 공정을 포함하는, 무기 기재의 친수화 처리 방법. - 제 2 항 내지 제 11 항 중 어느 한 항에 기재된 친수 처리 도료 조성물에 광 또는 열을 가하여,
상기 실레인 커플링제(S)와, 상기 친수성 화합물(A) 및 상기 친수성 화합물(B) 중 적어도 하나를 반응시키는 것을 포함하고,
상기 반응 후의 상기 친수 처리 도료 조성물을, 무기 기재의 표면에 도장하는 것을 포함하는,
무기 기재의 친수화 처리 방법. - 무기 기재의 표면에, 제 2 항 내지 제 11 항 중 어느 한 항에 기재된 친수 처리 도료 조성물을 도포하고,
광 조사 또는 가열에 의해, 상기 실레인 커플링제(S)와, 상기 친수성 화합물(A) 및 상기 친수성 화합물(B) 중 적어도 하나를 반응시키는 것을 포함하는,
무기 기재의 친수화 처리 방법. - 제 12 항 내지 제 14 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 실레인 커플링제(S)와, 상기 친수성 화합물(A) 및 상기 친수성 화합물(B) 중 적어도 하나를, 광 조사에 의해 반응시키는 것을 포함하는, 무기 기재의 친수화 처리 방법. - 제 1 항 내지 제 10 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 무기 기재가 위생 도기인, 친수화 처리 방법.
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JPJP-P-2020-044430 | 2020-03-13 | ||
| JP2020044430A JP2021143312A (ja) | 2020-03-13 | 2020-03-13 | 親水処理塗料組成物 |
| PCT/JP2021/010195 WO2021182629A1 (ja) | 2020-03-13 | 2021-03-12 | 親水処理塗料組成物および親水化処理方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR20220162707A true KR20220162707A (ko) | 2022-12-08 |
Family
ID=77670725
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1020227033711A KR20220162707A (ko) | 2020-03-13 | 2021-03-12 | 친수 처리 도료 조성물 및 친수화 처리 방법 |
Country Status (7)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US20230113284A1 (ko) |
| JP (1) | JP2021143312A (ko) |
| KR (1) | KR20220162707A (ko) |
| CN (1) | CN115443316A (ko) |
| DE (1) | DE112021001608T5 (ko) |
| MX (1) | MX2022011324A (ko) |
| WO (1) | WO2021182629A1 (ko) |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH08259270A (ja) | 1995-03-17 | 1996-10-08 | Seiko Epson Corp | 防曇性能を有する光学物品 |
| JP2016020462A (ja) | 2014-07-16 | 2016-02-04 | 株式会社Ｌｉｘｉｌ | 親水処理塗料組成物及び親水化処理方法 |
| JP2016020461A (ja) | 2014-07-16 | 2016-02-04 | 株式会社Ｌｉｘｉｌ | 親水処理塗料組成物及び親水化処理方法 |
Family Cites Families (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH05179160A (ja) * | 1991-12-26 | 1993-07-20 | Mitsubishi Rayon Co Ltd | 制電性被覆材組成物 |
| JPH0827290A (ja) * | 1994-07-19 | 1996-01-30 | Sekisui Chem Co Ltd | 防曇性被覆物品の製造方法 |
| JPH0829270A (ja) | 1994-07-20 | 1996-02-02 | Riken Corp | 押圧力検知装置 |
| JP4102028B2 (ja) * | 1998-10-15 | 2008-06-18 | 日本パーカライジング株式会社 | 金属材料の親水化処理剤、親水化処理液、親水化処理方法、金属材料および熱交換器 |
| JP4094331B2 (ja) * | 2002-04-23 | 2008-06-04 | 川崎重工業株式会社 | 親水性コーティング組成物の製造方法 |
| JP6075718B2 (ja) * | 2012-11-09 | 2017-02-08 | Toto株式会社 | 親水性塗料組成物、親水性塗膜、水回り物品及び親水性塗膜の製造方法 |
| JP5675005B1 (ja) * | 2013-06-03 | 2015-02-25 | 関西ペイント株式会社 | 塗料組成物 |
| WO2016011071A2 (en) * | 2014-07-14 | 2016-01-21 | Enki Technology, Inc. | High gain durable anti-reflective coating |
| KR102445521B1 (ko) * | 2014-07-16 | 2022-09-20 | 가부시키가이샤 리쿠시루 | 친수 처리 도료 조성물 및 친수화 처리 방법 |
| CN106883344B (zh) * | 2017-02-23 | 2020-10-23 | 湖南松井新材料股份有限公司 | 防雾聚合物、涂料组合物及其制备方法 |
| JP7189618B2 (ja) | 2019-12-26 | 2022-12-14 | 株式会社サンセイアールアンドディ | 遊技機 |
-
2020
- 2020-03-13 JP JP2020044430A patent/JP2021143312A/ja active Pending
-
2021
- 2021-03-12 US US17/910,087 patent/US20230113284A1/en active Pending
- 2021-03-12 KR KR1020227033711A patent/KR20220162707A/ko active Search and Examination
- 2021-03-12 CN CN202180020122.5A patent/CN115443316A/zh active Pending
- 2021-03-12 DE DE112021001608.3T patent/DE112021001608T5/de active Pending
- 2021-03-12 WO PCT/JP2021/010195 patent/WO2021182629A1/ja active Application Filing
- 2021-03-12 MX MX2022011324A patent/MX2022011324A/es unknown
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH08259270A (ja) | 1995-03-17 | 1996-10-08 | Seiko Epson Corp | 防曇性能を有する光学物品 |
| JP2016020462A (ja) | 2014-07-16 | 2016-02-04 | 株式会社Ｌｉｘｉｌ | 親水処理塗料組成物及び親水化処理方法 |
| JP2016020461A (ja) | 2014-07-16 | 2016-02-04 | 株式会社Ｌｉｘｉｌ | 親水処理塗料組成物及び親水化処理方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE112021001608T5 (de) | 2022-12-29 |
| JP2021143312A (ja) | 2021-09-24 |
| MX2022011324A (es) | 2022-12-08 |
| WO2021182629A1 (ja) | 2021-09-16 |
| CN115443316A (zh) | 2022-12-06 |
| US20230113284A1 (en) | 2023-04-13 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CN106459614B (zh) | 亲水处理涂料组合物及亲水化处理方法 | |
| JP5308436B2 (ja) | 親水膜 | |
| KR100987908B1 (ko) | 실란올 작용성 중합체를 함유하는 조성물 및 관련 친수성코팅 필름 | |
| JP2009256556A (ja) | ２液型組成物、親水性組成物、および親水性部材 | |
| JP2009255490A (ja) | 親水性部材および親水性組成物 | |
| JP6300097B2 (ja) | 親水処理塗料組成物及び親水化処理方法 | |
| JP2009108187A (ja) | 塗膜、および水性被覆材とその製造方法 | |
| JP2008284715A (ja) | 親水性部材 | |
| KR20220162707A (ko) | 친수 처리 도료 조성물 및 친수화 처리 방법 | |
| JP7414598B2 (ja) | 塗料組成物及び成形品 | |
| JP2008189884A (ja) | 水性被覆材および塗装物 | |
| JP6300098B2 (ja) | 親水処理塗料組成物及び親水化処理方法 | |
| JP2007031648A (ja) | 塗膜および塗装物 | |
| JP2020114905A (ja) | 親水化剤 | |
| WO2022138288A1 (ja) | 表面処理剤、親水化無機基材およびその製造方法 | |
| WO2021182630A1 (ja) | 衛生設備および衛生設備を製造する方法 | |
| JP2021143312A5 (ko) | ||
| JP2020063411A (ja) | 塗膜、塗膜の製造方法および塗膜を形成するための塗料 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A201 | Request for examination |