KR20220159429A - 광학용 점착제 조성물 및 광학 적층체 - Google Patents

광학용 점착제 조성물 및 광학 적층체 Download PDF

Info

Publication number
KR20220159429A
KR20220159429A KR1020227037146A KR20227037146A KR20220159429A KR 20220159429 A KR20220159429 A KR 20220159429A KR 1020227037146 A KR1020227037146 A KR 1020227037146A KR 20227037146 A KR20227037146 A KR 20227037146A KR 20220159429 A KR20220159429 A KR 20220159429A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
meth
sensitive adhesive
segment
optical
pressure
Prior art date
Application number
KR1020227037146A
Other languages
English (en)
Inventor
게이타 이에하라
가사네 사나다
료코 아사이
쇼 다카라다
다케시 나카노
Original Assignee
닛토덴코 가부시키가이샤
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 닛토덴코 가부시키가이샤 filed Critical 닛토덴코 가부시키가이샤
Publication of KR20220159429A publication Critical patent/KR20220159429A/ko

Links

Images

Classifications

    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B27/00—Layered products comprising a layer of synthetic resin
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09J—ADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J153/00—Adhesives based on block copolymers containing at least one sequence of a polymer obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds; Adhesives based on derivatives of such polymers
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09J—ADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J7/00—Adhesives in the form of films or foils
    • C09J7/10—Adhesives in the form of films or foils without carriers
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09J—ADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J7/00—Adhesives in the form of films or foils
    • C09J7/30—Adhesives in the form of films or foils characterised by the adhesive composition
    • C09J7/38—Pressure-sensitive adhesives [PSA]
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09J—ADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J7/00—Adhesives in the form of films or foils
    • C09J7/30—Adhesives in the form of films or foils characterised by the adhesive composition
    • C09J7/38—Pressure-sensitive adhesives [PSA]
    • C09J7/381—Pressure-sensitive adhesives [PSA] based on macromolecular compounds obtained by reactions involving only carbon-to-carbon unsaturated bonds
    • C09J7/385—Acrylic polymers
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09J—ADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J7/00—Adhesives in the form of films or foils
    • C09J7/30—Adhesives in the form of films or foils characterised by the adhesive composition
    • C09J7/38—Pressure-sensitive adhesives [PSA]
    • C09J7/381—Pressure-sensitive adhesives [PSA] based on macromolecular compounds obtained by reactions involving only carbon-to-carbon unsaturated bonds
    • C09J7/387—Block-copolymers
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
    • G02B1/11—Anti-reflection coatings
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/02—Diffusing elements; Afocal elements
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L25/00—Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof
    • H01L25/03—Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof all the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes
    • H01L25/04—Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof all the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes the devices not having separate containers
    • H01L25/075—Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof all the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes the devices not having separate containers the devices being of a type provided for in group H01L33/00
    • H01L25/0753—Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof all the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes the devices not having separate containers the devices being of a type provided for in group H01L33/00 the devices being arranged next to each other
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L27/00—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
    • H01L27/15—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components having potential barriers, specially adapted for light emission
    • H01L27/153—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components having potential barriers, specially adapted for light emission in a repetitive configuration, e.g. LED bars
    • H01L27/156—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components having potential barriers, specially adapted for light emission in a repetitive configuration, e.g. LED bars two-dimensional arrays
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L33/00—Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L33/48—Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the semiconductor body packages
    • H01L33/483—Containers
    • H01L33/486—Containers adapted for surface mounting
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L33/00—Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L33/48—Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the semiconductor body packages
    • H01L33/52—Encapsulations
    • H01L33/56—Materials, e.g. epoxy or silicone resin
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09J—ADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J2301/00—Additional features of adhesives in the form of films or foils
    • C09J2301/30—Additional features of adhesives in the form of films or foils characterized by the chemical, physicochemical or physical properties of the adhesive or the carrier
    • C09J2301/312—Additional features of adhesives in the form of films or foils characterized by the chemical, physicochemical or physical properties of the adhesive or the carrier parameters being the characterizing feature

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Adhesives Or Adhesive Processes (AREA)
  • Optical Elements Other Than Lenses (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)
  • Adhesive Tapes (AREA)

Abstract

본 발명은 금속 배선 등의 반사 방지 기능, 콘트라스트가 향상된 미니/마이크로 LED 표시 장치 등의 자발광형 표시 장치를 제조하는 데에 적합함과 함께, 단차 흡수성, 가공성이 우수한 광학용 점착제 조성물 및 광학 적층체를 제공하는 것을 목적으로 한다. 본 발명의 광학용 점착제 조성물은, (메트)아크릴계 블록 코폴리머와, 착색제를 함유하고, 상기 (메트)아크릴계 블록 코폴리머가, 0℃ 이상 100℃ 이하의 유리 전이 온도를 갖는 고 Tg 세그먼트와, -100℃ 이상 0℃ 미만의 유리 전이 온도를 갖는 저 Tg 세그먼트를 갖고, 0℃ 이상의 영역과 0℃ 미만의 영역에 각각 tanδ의 피크를 갖는 것을 특징으로 한다. 또한 본 발명의 광학 적층체는, 기재와, 상기 광학용 점착제 조성물로 형성되는 점착제층을 포함하는 것을 특징으로 한다.

Description

광학용 점착제 조성물 및 광학 적층체
본 발명은 미니/마이크로 LED 등의 자발광형 표시 장치의 발광 소자의 밀봉에 적합한 광학용 점착제 조성물 및 광학 적층체에 관한 것이다.
근년, 차세대형의 표시 장치로서, 미니/마이크로 LED 표시 장치(Mini/Micro Light Emitting Diode Display)로 대표되는 자발광형 표시 장치가 고안되고 있다. 미니/마이크로 LED 표시 장치는, 기본 구성으로서, 다수의 미소한 LED 발광 소자(LED 칩)가 고밀도로 배열된 기판이 표시 패널로서 사용되고, 해당 LED 칩은 밀봉재로 밀봉되고, 최표층에 수지 필름이나 유리판 등의 커버 부재가 적층되는 것이다.
미니/마이크로 LED 표시 장치 등의 자발광형 표시 장치에는, 백색 백라이트 방식, 백색 발광 컬러 필터 방식, RGB 방식 등 몇몇 방식이 있지만, 백색 발광 컬러 필터 방식, RGB 방식에서는, 표시 패널의 기판 상에 배치된 금속 배선이나 ITO 등의 금속 산화물 등의 반사 방지를 위해 흑색의 밀봉재가 사용되는 경우가 있다(예를 들어, 특허문헌 1 내지 3 참조). 그 중에서도, LED 칩이 배열된 RGB 방식의 미니/마이크로 LED 표시 장치에서는, 상기 흑색 밀봉재는 RGB의 혼색 방지나 콘트라스트 향상에도 공헌할 수 있다.
상기 흑색 밀봉재로서는, 흑색 착색제(염료나 안료)를 포함하는 액상 경화성 수지가 사용되고 있다. 흑색 착색제를 포함하는 액상 경화성 수지를 사용하는 경우, 두께 불균일에 의해 흑색도에 불균일이 발생한다는 문제가 있다. 또한, 염료에 비하여 안료는 내열성·내후성 모두 우수하기 때문에 선정되는 경우가 많지만, 안료를 분산시킨 액상 경화성 수지를 사용하는 경우, 상기 두께 불균일에 더하여, 액상 경화성 수지 충전 시의 충전 불균일, 유동 시에 안료의 분산 불균일이 발생하는 등의 문제도 발생한다. 또한, 밀봉 후에 경화된 액상 경화성 수지의 표면에는 밀착력이 없기 때문에, 추가로, 접착제 등을 사용하여 커버 부재를 적층할 필요가 있어, 가일층의 공정수나 부재가 필요하게 된다는 문제도 있었다.
이러한 흑색도의 불균일 등의 문제에 대처하기 위해, 흑색 착색제를 포함하는 점착제의 사용이 생각된다. 점착제는 액상 경화성 수지에 비하여 유동성이 낮기 때문에, 두께나 안료의 분산·침강 등에 의한 불균일이 발생하기 어렵다. 또한, LED 칩을 밀봉한 후에도 점착력이 유지되기 때문에, 커버 부재를 적층하기 위해 접착제 등을 사용할 필요가 없어, 공정수나 부재가 간략화될 수 있다는 이점이 있다.
한편, 미니/마이크로 LED 표시 장치에서는, 기판 상에 LED 칩이 고밀도로 깔려 있고, LED 칩끼리의 간극에는 미세한 단차가 다수 존재한다. 따라서, 미니/마이크로 LED 표시 장치에 사용되는 밀봉재에는, 단차를 매립하는 성능, 즉, 우수한 단차 흡수성(「단차 추종성」이라고도 칭함)이 요구된다. 상기의 단차 흡수성을 향상시키기 위해, 점착제를 저탄성률화하여 유연성을 향상시키는 방법이 시도되고 있다(예를 들어, 특허문헌 4).
일본 특허 공개 제2019-204905호 공보 일본 특허 공개 제2017-203810호 공보 일본 특허 공표 제2018-523854호 공보 국제 공개 WO 2016/170875호 공보
저탄성률화된 점착제는 단차 흡수성은 우수하기는 하지만, 형상 안정성이나 핸들링성 등의 가공성이 저하된다는 문제가 있다. 예를 들어, 저탄성률의 점착제층을 갖는 적층체는, 절단 가공 시에 접착제 결락, 보관 시에 단부로부터의 점착제층의 비어져 나옴이나 늘어짐이 발생하기 쉽고, 비어져 나온 점착제층에 이물이 부착되는 등의 문제를 발생하는 경우가 있었다.
상기의 단차 흡수성과 가공성을 양립시키는 점착제로서는, 하이브리드 점착제가 사용되고 있다. 하이브리드 점착제는, 경화 개시 조건이 다른 2종류의 중합 개시제나 가교제를 배합하여, 단계적으로 경화되는 점착제이다. 하이브리드 점착제에서는, 먼저, 유동성이 높고, 단차 흡수성이 우수한 반경화의 상태로 하여 단차에 대하여 충분히 추종시키고, 그 후에 경화를 완결하여, 가공성을 향상시킬 수 있다는 이점을 갖는다. 그러나, 단차 흡수성이 우수한 반경화의 단계의 점착제는 가공성이 낮아, 최종 경화 전의 공정에 있어서의 핸들링성에 문제가 있었다.
본 발명은 이상과 같은 사정을 토대로 생각해낸 것으로서, 본 발명의 목적은, 금속 배선 등의 반사 방지 기능, 콘트라스트가 향상된 미니/마이크로 LED 표시 장치 등의 자발광형 표시 장치를 제조하는 데에 적합함과 함께, 단차 흡수성, 가공성이 우수한 광학용 점착제 조성물을 제공하는 데에 있다.
또한, 본 발명의 목적은, 금속 배선 등의 반사 방지 기능, 콘트라스트가 향상된 미니/마이크로 LED 표시 장치 등의 자발광형 표시 장치를 제조하는 데에 적합함과 함께, 단차 흡수성, 가공성이 우수한 광학 적층체를 제공하는 데에 있다.
본 발명자들은, 상기 목적을 달성하기 위해 예의 검토한 결과, 광학용 점착제 조성물에 포함되는 폴리머로서, 특정 유리 전이 온도 범위를 갖는 고 Tg 세그먼트와 저 Tg 세그먼트를 갖는 (메트)아크릴계 블록 코폴리머를 채용함으로써, 실온(예를 들어, 25℃) 부근에서는, 높은 저장 탄성률을 나타내어, 단단하고 가공성이 양호하며, 50℃를 초과하는 영역에서 현저하게 저장 탄성률이 저하되어 고유동성이 되어, 단차 흡수성이 양호해지는 것을 알아냈다. 또한, 상기 (메트)아크릴계 블록 코폴리머에 착색제를 배합함으로써, 금속 배선 등의 반사 방지 기능, 콘트라스트가 향상된 자발광형 표시 장치의 제조에 적합하다는 것을 알아냈다. 본 발명은 이들 지견에 기초하여 완성된 것이다.
즉, 본 발명의 제1 측면은,
(메트)아크릴계 블록 코폴리머와, 착색제를 함유하는 광학용 점착제 조성물로서,
상기 (메트)아크릴계 블록 코폴리머가,
0℃ 이상 100℃ 이하의 유리 전이 온도를 갖는 고 Tg 세그먼트와,
-100℃ 이상 0℃ 미만의 유리 전이 온도를 갖는 저 Tg 세그먼트
를 갖고,
0℃ 이상의 영역과 0℃ 미만의 영역에 각각 tanδ의 피크를 갖는 것을 특징으로 하는, 광학용 점착제 조성물을 제공한다.
여기서, 상기 유리 전이 온도는, 각 세그먼트를 구성하는 모노머 성분 조성으로부터 FOX의 식에 의해 산출되는 것이다.
본 발명의 광학용 점착제 조성물이, 상기 고 Tg 세그먼트와, 상기 저 Tg 세그먼트를 갖고, 0℃ 이상의 영역과 0℃ 미만의 영역에 각각 tanδ의 피크를 갖는 (메트)아크릴계 블록 코폴리머를 함유함으로써, 상기 (메트)아크릴계 블록 코폴리머는, 실온(예를 들어, 25℃) 부근에서는, 저 Tg 세그먼트만이 전이·유동화되지만, 고 Tg 세그먼트는 전이하지 않기 때문에, (메트)아크릴계 블록 코폴리머 전체로서는 높은 저장 탄성률을 나타내어, 단단하고 가공성이 양호해진다. 그리고, 50℃를 초과하는 영역에서 고 Tg 세그먼트도 전이·유동화되어 (메트)아크릴계 블록 코폴리머 전체의 저장 탄성률이 저하되어 고유동성이 된다.
본 발명의 광학용 점착제 조성물로 형성된 점착제층을, 발광 소자(LED 칩)가 고밀도로 배열된 표시 패널과 접합할 때, 예를 들어, 오토클레이브 등의 가열 조건(예를 들어, 50℃ 이상)에서 접합함으로써, 고유동성이 되어, 발광 소자(LED 칩) 간의 미세한 단차에 충분히 추종하여 기포가 남지 않고 간극 없이 밀착된다. 그 후, 실온(예를 들어, 25℃)으로 되돌려 보관하는 경우에는 저장 탄성률이 높아져, 가공성이 양호해진다.
또한, 본 발명의 광학용 점착제 조성물이, 추가로, 착색제를 포함하는 구성은, LED 칩 간의 미세한 단차에 간극 없이 충전된 점착제가, 표시 패널 상의 금속 배선 등에 의한 반사를 방지하고, 배열된 발광 소자(LED 칩)끼리의 혼색을 방지하여 콘트라스트를 향상시킴에 있어서 바람직하다.
본 발명의 제1 측면의 광학용 점착제 조성물에 있어서, 상기 0℃ 이상의 영역에 있어서의 tanδ의 피크의 극댓값이 0.5 내지 3.0인 것이 바람직하다. 이 구성은, 상기 (메트)아크릴계 블록 코폴리머의 우수한 가공성과 형상 안정성을 실현할 수 있는 점에서 바람직하다.
본 발명의 제1 측면의 광학용 점착제 조성물에 있어서, 상기 (메트)아크릴계 블록 코폴리머는 ABA형 트리블록 코폴리머인 것이 바람직하다. 이 구성은, 상기 (메트)아크릴계 블록 코폴리머를 제조하기 쉽다는 점에서 적합하다.
본 발명의 제1 측면의 광학용 점착제 조성물에 있어서의 상기 ABA형 트리블록 코폴리머에 있어서, A세그먼트가 상기 고 Tg 세그먼트이고, B 세그먼트가 상기 저 Tg 세그먼트인 양태가 바람직하다. 이 구성은, 본 발명의 우수한 단차 흡수성과 가공성을 실현함에 있어서 적합하다.
본 발명의 제1 측면의 광학용 점착제 조성물에 있어서, 상기 (메트)아크릴계 블록 코폴리머에 있어서의 상기 고 Tg 세그먼트를 구성하는 모노머 성분으로서, 탄소수가 1 내지 3인 직쇄상의 알킬기를 갖는 (메트)아크릴산알킬에스테르, 탄소수가 3 또는 4인 분지 쇄상의 알킬기를 갖는 (메트)아크릴산알킬에스테르 및 지환식 모노머로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1종을 함유하는 것이 바람직하고, 탄소수가 3 또는 4인 분지 쇄상의 알킬기를 갖는 (메트)아크릴산알킬에스테르가 보다 바람직하다. 상기 지환식 모노머로서는 치환기를 갖고 있어도 되는 탄소수가 4 내지 10인 시클로알킬기를 갖는 (메트)아크릴산시클로알킬에스테르가 바람직하다. 이 구성은, 상기 고 Tg 세그먼트를 소정의 유리 전이 온도를 갖고, 상기 (메트)아크릴계 블록 코폴리머가 0℃ 이상의 영역에 tanδ의 피크를 갖도록 제어하여, 본 발명의 우수한 단차 흡수성과 가공성을 실현함에 있어서 적합하다.
본 발명의 제1 측면의 광학용 점착제 조성물에 있어서, 상기 (메트)아크릴계 블록 코폴리머에 있어서의 상기 저 Tg 세그먼트를 구성하는 모노머 성분으로서, 탄소수가 4 내지 18인 직쇄 또는 분지 쇄상의 알킬기를 갖는 (메트)아크릴산알킬에스테르 및 수산기 함유 모노머로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1종을 함유하는 것이 바람직하다. 이 구성은, 상기 저 Tg 세그먼트를 소정의 유리 전이 온도를 갖고, 상기 (메트)아크릴계 블록 코폴리머가 0℃ 미만의 영역에 tanδ의 피크를 갖도록 제어하여, 본 발명의 우수한 단차 흡수성과 가공성을 실현함에 있어서 적합하다.
본 발명의 제1 측면의 광학용 점착제 조성물에 있어서, 상기 (메트)아크릴계 블록 코폴리머에 있어서의 상기 저 Tg 세그먼트를 구성하는 모노머 성분 전량(100중량％)에 대하여, 수산기 함유 모노머를 1중량％ 이상 함유하는 것이 바람직하다. 이 구성은, 상기 저 Tg 세그먼트를 소정의 유리 전이 온도로 제어하여, 본 발명의 우수한 단차 흡수성과 가공성을 실현함에 있어서 적합하다.
본 발명의 제1 측면의 광학용 점착제 조성물에 있어서, 상기 (메트)아크릴계 블록 코폴리머의 중량 평균 분자량은 20만 이상인 것이 바람직하다. 이 구성은, 본 발명의 광학용 점착제 조성물에 있어서, 실온 부근에서 양호한 경도와 가공성이 얻어지기 쉽다는 점에서 바람직하다.
본 발명의 제1 측면의 광학용 점착제 조성물에 있어서, 상기 (메트)아크릴계 블록 코폴리머의 분자량 분포는, 1보다 크고 5 이하인 것이 바람직하다. 이 구성은, 본 발명의 광학용 점착제 조성물에 있어서, 상기 (메트)아크릴계 블록 코폴리머의 균일성이 높아지고, 투명성이 높은 점착제가 얻어지기 쉽다는 점에서 바람직하다.
본 발명의 제1 측면의 광학용 점착제 조성물에 있어서, 25℃에서의 저장 탄성률과 50℃에서의 저장 탄성률의 비(25℃에서의 저장 탄성률/50℃에서의 저장 탄성률)가 3 이상인 것이 바람직하다. 이 구성은, 본 발명의 광학용 점착제 조성물에 있어서, 실온(25℃)에서의 저장 탄성률과 가열(50℃) 시의 저장 탄성률의 차가 충분히 넓어져, 가열 시에는 고유동성이 되어 우수한 단차 흡수성을 나타내고, 실온에서는 단단해져 우수한 가공성을 나타낼 수 있다는 점에서 바람직하다.
본 발명의 제1 측면의 광학용 점착제 조성물에 있어서, 25℃에서의 저장 탄성률이 1MPa 이상이고, 50℃에서의 저장 탄성률이 0.5MPa 이하인 것이 바람직하다. 이 구성은, 본 발명의 광학용 점착제 조성물에 있어서, 실온(25℃)에서의 저장 탄성률과 가열(50℃) 시의 저장 탄성률의 차가 충분히 넓어져, 가열 시에는 고유동성이 되어 우수한 단차 흡수성을 나타내고, 실온에서는 단단해져 우수한 가공성을 나타낼 수 있다는 점에서 바람직하다.
본 발명의 제1 측면의 광학용 점착제 조성물에 있어서, 상기 착색제는, 파장 400 내지 700nm의 투과율의 최댓값이 80％ 이하인 것이 바람직하다. 이 구성은, 발광 소자(LED 칩) 간의 미세한 단차에 간극 없이 충전된 점착제에 가시광에 대한 충분한 차광성을 부여하여, 표시 패널 상의 금속 배선 등에 의한 반사를 방지하고, 배열된 발광 소자(LED 칩)끼리의 혼색을 방지하여 콘트라스트를 향상시킴에 있어서 바람직하다.
또한, 본 발명의 제2 측면은, 본 발명의 제1 측면의 광학용 점착제 조성물로 형성되는 점착제층을 제공한다. 또한, 본 발명의 제3 측면은, 기재와, 본 발명의 제2 측면의 점착제층을 포함하는 광학 적층체를 제공한다. 이들 구성은, 상기 점착제층은, 표시 패널 상에 배열된 LED 칩을 밀봉하는 밀봉재가 되고, 상기 기재는 최표층의 커버 부재가 되기 때문에, 밀봉 후에 별도 커버 부재를 적층시킬 필요가 없어, 공정수나 필요 부재를 삭감할 수 있어, 제조 효율이 향상된다.
본 발명의 제3 측면의 광학 적층체에 있어서, 상기 기재의 상기 점착제층이 적층되어 있지 않은 면은, 반사 방지 처리 및/또는 안티글래어 처리되어 있는 것이 바람직하다. 상기 반사 방지 처리 및/또는 안티글래어 처리는, 상기 기재의 편면에 마련된 안티글레어층인 것이 바람직하다. 상기 안티글레어층은, 수지, 입자 및 틱소트로피 부여제를 포함하는 안티글레어층 형성 재료를 사용하여 형성되어 있고, 상기 안티글레어층이, 상기 입자 및 상기 틱소트로피 부여제가 응집함으로써, 상기 안티글레어층의 표면에 볼록형부를 형성하는 응집부를 갖는 것이 바람직하다. 상기 안티글레어층 표면의 볼록형부에 있어서, 평균 경사각 θa(°)는 0.1 내지 5.0의 범위인 것이 바람직하다. 이들 구성은, 본 발명의 제3 측면의 광학 적층체의 표면에 반사 방지 기능 및/또는 안티글레어 기능을 부여하여, 외광의 반사나 상의 투영 등에 의한 시인성의 저하를 방지하는, 광택도 등의 미관을 조정하는 관점에서 바람직하다.
본 발명의 제3 측면의 광학 적층체는, 추가로, 상기 기재의 상기 점착제층이 적층되어 있지 않은 면에, 표면 보호 필름이 적층되어 있어도 된다. 이러한 구성은, 상기 광학 적층체나 이것을 포함하는 광학 제품의 제조, 반송, 출하 시에, 흠집이나 오염의 부착을 방지함에 있어서 적합하다.
또한, 본 발명의 제4 측면은, 기판의 편면에 복수의 발광 소자가 배열된 표시 패널과, 본 발명의 제3 측면의 광학 적층체를 포함하는 자발광형 표시 장치로서, 상기 표시 패널의 발광 소자가 배열된 면과, 상기 광학 적층체의 점착제층이 적층된, 자발광형 표시 장치를 제공한다. 본 발명의 제4 측면의 자발광형 표시 장치에 있어서, 상기 표시 패널은, 기판의 편면에 복수의 LED 칩이 배열된 LED 패널이어도 된다. 이러한 구성은, 본 발명의 제4 측면의 자발광형 표시 장치에 있어서, 발광 소자(LED 칩) 간의 미세한 단차에 간극 없이 충전된 착색제를 포함하는 점착제가, 기판 상의 금속 배선 등의 반사 방지, RGB의 혼색 방지나 콘트라스트를 향상시킬 수 있다는 점에서 바람직하다.
본 발명의 광학용 점착제 조성물 및 광학 적층체는, 상기 구성을 갖기 때문에, 단차 흡수성, 가공성이 우수함과 함께, 가시광에 대한 차광성이 높다. 이 때문에, 본 발명의 광학용 점착제 조성물 및 광학 적층체를 자발광형 표시 장치의 제조에 사용함으로써, 금속 배선 등의 반사 방지 기능, 콘트라스트가 향상된 자발광형 표시 장치를 효율적으로 제조할 수 있다.
도 1은 본 발명의 점착제층 일 실시 형태를 도시하는 모식도(단면도)이다.
도 2는 본 발명의 광학 적층체의 일 실시 형태를 도시하는 모식도(단면도)이다.
도 3은 본 발명의 광학 적층체의 다른 일 실시 형태를 도시하는 모식도(단면도)이다.
도 4는 본 발명의 광학 적층체의 다른 일 실시 형태를 도시하는 모식도(단면도)이다.
도 5는 본 발명의 자발광형 표시 장치(미니/마이크로 LED 표시 장치)의 일 실시 형태를 도시하는 모식도(단면도)이다.
도 6은 본 발명의 자발광형 표시 장치(미니/마이크로 LED 표시 장치)의 다른 일 실시 형태를 도시하는 모식도(단면도)이다.
도 7은 본 발명의 자발광형 표시 장치(미니/마이크로 LED 표시 장치)의 다른 일 실시 형태를 도시하는 모식도(단면도)이다.
[광학용 점착제 조성물]
본 발명의 제1 측면의 광학용 점착제 조성물은, (메트)아크릴계 블록 코폴리머와, 착색제를 함유한다.
본 발명의 제1 측면의 광학용 점착제 조성물에 있어서의 「광학」이란, 광학 용도에 사용되는 것을 의미하고, 보다 구체적으로는, 광학 부재가 사용된 제품(광학 제품)의 제조 등에 사용되는 것을 의미한다. 광학 제품으로서는, 예를 들어, 화상 표시 장치, 터치 패널 등의 입력 장치 등을 들 수 있지만, 미니/마이크로 LED 표시 장치, 유기 EL(일렉트로루미네센스) 표시 장치 등의 자발광형 표시 장치가 바람직하고, 특히 미니/마이크로 LED 표시 장치의 제조에 적합하게 사용할 수 있다. 본 발명의 제3 측면의 광학 적층체의 「광학」에 대해서도 마찬가지이다.
<(메트)아크릴계 블록 코폴리머>
상기 (메트)아크릴계 블록 코폴리머는, 0℃ 이상 100℃ 이하의 유리 전이 온도를 갖는 고 Tg 세그먼트와, -100℃ 이상 0℃ 미만의 유리 전이 온도를 갖는 저 Tg 세그먼트를 갖고, 0℃ 이상의 영역과 0℃ 미만의 영역에 각각 tanδ의 피크를 갖는다.
본 명세서에 있어서, 「0℃ 이상 100℃ 이하의 유리 전이 온도를 갖는 고 Tg 세그먼트」를 단순히 「고 Tg 세그먼트」, 「-100℃ 이상 0℃ 미만의 유리 전이 온도를 갖는 저 Tg 세그먼트」를 단순히 「저 Tg 세그먼트」, 0℃ 이상의 영역 tanδ의 피크를 단순히 「고온 영역 tanδ 피크」, 0℃ 미만의 영역의 tanδ의 피크를 단순히 「저온 영역 tanδ 피크」, 상기 고 Tg 세그먼트와 상기 저 Tg 세그먼트와 상기 고온 영역 tanδ 피크와 저온 영역 tanδ 피크를 갖는 (메트)아크릴계 블록 코폴리머를 「(메트)아크릴계 블록 코폴리머 A」, 상기 (메트)아크릴계 블록 코폴리머 A와, 착색제를 함유하는 광학용 점착제 조성물을 「광학용 점착제 조성물 A」라고 칭하는 경우가 있다.
또한, 「(메트)아크릴」이란, 「아크릴」 및/또는 「메타크릴」(「아크릴」 및 「메타크릴」 중 한쪽 또는 양쪽)을 의미하고, 이하도 마찬가지이다. 또한, 「(메트)아크릴로일기」란, 「아크릴로일기」 및/또는 「메타크릴로일기」(「아크릴로일기」 및 「메타크릴로일기」 중 한쪽 또는 양쪽)를 의미하고, 이하도 마찬가지이다.
고 Tg 세그먼트 및 저 Tg 세그먼트에 있어서의 「세그먼트」란, (메트)아크릴계 블록 코폴리머 A의 각 블록 단위를 구성하는 부분 구조를 말한다.
본 발명의 (메트)아크릴계 블록 코폴리머 A의 구조는, 선상 블록 코폴리머, 분지상(별 모양) 블록 코폴리머, 또는 이들의 혼합물이어도 된다. 이러한 블록 코폴리머의 구조는, 요구되는 블록 코폴리머의 물성에 따라 적절히 선택하면 되지만, 비용면, 제조 용이성의 관점에서, 선상 블록 코폴리머인 것이 바람직하다. 또한, 선상 블록 코폴리머는, 어느 구조(배열)여도 되지만, 선상 블록 코폴리머의 물성, 또는 광학용 점착제 조성물 A의 물성의 관점에서, (A-B)n형, (A-B)n-A형(n은 1 이상의 정수, 예를 들어 1 내지 3의 정수)으로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1종의 구조를 갖는 블록 코폴리머인 것이 바람직하다. 이들 구조에 있어서 A 및 B는, 다른 모노머 조성으로 구성되는 세그먼트를 의미한다. 본 명세서에 있어서, 상기 선상 블록 코폴리머를 구성하는 A로 표현되는 세그먼트를 「A 세그먼트」, B로 표현되는 세그먼트를 「B 세그먼트」라고 칭하는 경우가 있다.
이들 중에서도, 제조 용이성, 광학용 점착제 조성물 A의 물성 등의 관점에서, A-B로 표현되는 AB형 디블록 코폴리머, A-B-A로 표현되는 ABA형 트리블록 코폴리머가 바람직하고, 보다 바람직하게는 ABA형 트리블록 코폴리머이다. ABA형 트리블록 코폴리머는, 양단의 A 세그먼트끼리의 의사 가교에 의해 블록 코폴리머끼리의 가교 구조가 보다 고도의 것이 되어, 블록 코폴리머의 응집력이 향상되어, 더 높은 밀착성(부착력)이 발현될 수 있는 것으로 생각된다. 또한, ABA형 트리블록 코폴리머에 있어서, 양단에 위치하는 2개의 A 세그먼트는 서로 동일해도 되고, 상이해도 된다.
(메트)아크릴계 블록 코폴리머 A가 ABA형 트리블록 코폴리머인 경우, 2개의 A 세그먼트 및 1개의 B 세그먼트(합계 3개)에 있어서, 적어도 1개가 고 Tg 세그먼트이고, 적어도 다른 1개가 저 Tg 세그먼트이면 된다. 제조의 용이성, 광학용 점착제 조성물 A의 물성 등의 관점에서, A 세그먼트가 상기 고 Tg 세그먼트이고, B 세그먼트가 상기 저 Tg 세그먼트인 ABA형 트리블록 코폴리머가 바람직하다. 그 경우에 있어서, 2개의 A 세그먼트 중 적어도 1개가 고 Tg 세그먼트이고, B 세그먼트가 저 Tg 세그먼트인 ABA형 트리블록 코폴리머가 바람직하고, 2개의 A 세그먼트의 양쪽이 고 Tg 세그먼트이고, B 세그먼트가 저 Tg 세그먼트인 ABA형 트리블록 코폴리머가 보다 바람직하다.
(메트)아크릴계 블록 코폴리머 A를 구성하는 고 Tg 세그먼트의 유리 전이 온도(Tg)는, 상기한 바와 같이, 0℃ 이상 100℃ 이하이다. 고 Tg 세그먼트의 Tg가 이 범위에 있음으로써, 광학용 점착제 조성물 A의 실온(25℃)에 있어서의 저장 탄성률을 높게 제어하기 쉬워져, 단단하고 가공성이 우수함과 함께, 50℃를 초과하는 영역에 있어서 저장 탄성률이 현저하게 저하되어 고유동성의 점착제 조성물이 되는 경향이 있다. 광학용 점착제 조성물 A의 실온(25℃)에 있어서의 가공성을 향상시킬 수 있다는 관점에서, 고 Tg 세그먼트의 Tg는, 4℃ 이상이 바람직하고, 6℃ 이상이 보다 바람직하고, 8℃ 이상이 더욱 바람직하고, 10℃ 이상이 보다 더 바람직하고, 12℃ 이상이 특히 바람직하다. 한편, 50℃를 초과하는 영역에 있어서 광학용 점착제 조성물 A의 저장 탄성률(Ｇ')이 현저하게 저하되어 고유동성이 되기 쉽다는 관점에서, 고 Tg 세그먼트의 Tg는, 90℃ 이하가 바람직하고, 85℃ 이하가 보다 바람직하고, 60℃ 이하가 더욱 바람직하고, 50℃ 이하가 보다 더 바람직하고, 35℃ 이하가 특히 바람직하다.
(메트)아크릴계 블록 코폴리머 A를 구성하는 저 Tg 세그먼트의 Tg는, 상기한 바와 같이, -100℃ 이상 0℃ 미만이다. 저 Tg 세그먼트의 유리 Tg가 이 범위에 있음으로써, 실온(25℃)에 있어서 당해 저 Tg 세그먼트만이 유동화되어, 가공성을 담보하면서, 적당한 점착력을 광학용 점착제 조성물 A에 부여할 수 있는 경향이 있다. 실온(25℃)에 있어서 광학용 점착제 조성물 A의 저장 탄성률이 저하되기 어렵고, 가공성을 향상시킬 수 있다는 관점에서 저 Tg 세그먼트의 Tg는, -95℃ 이상이 바람직하고, -90℃ 이상이 보다 바람직하고, -80℃ 이상이 더욱 바람직하다. 한편, 실온(25℃)에 있어서 광학용 점착제 조성물 A의 적당한 점착력과 가공성을 향상시킬 수 있다는 관점에서, 저 Tg 세그먼트의 Tg는, -5℃ 이하가 바람직하고, -10℃ 이하가 보다 바람직하고, -20℃ 이하가 더욱 바람직하고, -30℃ 이하가 보다 더 바람직하고, -40℃ 이하가 특히 바람직하다.
(메트)아크릴계 블록 코폴리머 A를 구성하는 고 Tg 세그먼트와 저 Tg 세그먼트의 Tg의 차(고 Tg 세그먼트의 Tg-저 Tg 세그먼트의 Tg)는, 특별히 한정되지 않지만, 광학용 점착제 조성물 A의 실온(25℃)에 있어서의 저장 탄성률을 높게 제어하기 쉬워져, 단단하고 가공성이 우수함과 함께, 50℃를 초과하는 영역에 있어서 저장 탄성률이 현저하게 저하되어 고유동성의 점착제 조성물이 된다는 관점에서, 바람직하게는 30℃ 이상, 보다 바람직하게는 35℃ 이상, 보다 바람직하게는 40℃ 이상, 보다 바람직하게는 45℃ 이상, 더욱 바람직하게는 50℃ 이상, 특히 바람직하게는 55℃ 이상이고, 바람직하게는 120℃ 이하, 보다 바람직하게는 115℃ 이하, 보다 바람직하게는 110℃ 이하, 보다 바람직하게는 105℃ 이하, 더욱 바람직하게는 100℃ 이하, 특히 바람직하게는 95℃ 이하이다.
(메트)아크릴계 블록 코폴리머 A를 구성하는 고 Tg 세그먼트 및 저 Tg 세그먼트의 유리 전이 온도(Tg)는 이하의 Fox의 식으로부터 산출되는 계산 유리 전이 온도이다. 이 계산 유리 전이 온도는, (메트)아크릴계 블록 코폴리머 A의 고 Tg 세그먼트 또는 저 Tg 세그먼트를 구성하는 각 모노머 성분의 종류 및 양에 기초하여 산출되는 것이며, 따라서, 각 세그먼트의 모노머 성분의 종류 및 양 등을 선택함으로써 조정할 수 있다.
계산 유리 전이 온도(계산 Tg)는 이하의 Fox의 식 〔1〕로부터 산출할 수 있다.
1/계산 Tg=W1/Tg(1)+W2/Tg(2)+···+Wn/Tg(n) [1〕
여기서, W1, W2, ···Wn은 공중합체를 구성하는 모노머 성분 1, 모노머 성분 2, ···모노머 성분 n의 전체 모노머 성분에 대한 각 중량 분율(중량％)을 의미하고, Tg(1), Tg(2), ···Tg(n)은 모노머 성분 1, 모노머 성분 2, ···모노머 성분 n의 호모폴리머의 유리 전이 온도(단위는 절대 온도: K)를 나타낸다.
또한, 호모폴리머의 유리 전이 온도는, 각종 문헌, 카탈로그 등으로부터 공지이고, 예를 들어, J. Brandup, E. H. Immergut, E. A. Grulke: Polymer Handbook: JOHNWILEY & SONS, INC에 기재되어 있다. 각종 문헌에 수치가 없는 모노머에 대해서는, 일반적인 열분석, 예를 들어 시차 열분석이나 동적 점탄성 측정법 등에 의해 측정한 값을 채용할 수 있다.
(메트)아크릴계 블록 코폴리머 A가 갖는 고온 영역 tanδ 피크가 나타나는 온도 범위는, 전술한 바와 같이 0℃ 이상(예를 들어, 0℃ 이상 100℃ 이하)이다. 고온 영역 tanδ 피크가 이 온도 범위에 있음으로써, 광학용 점착제 조성물 A의 실온(25℃)에 있어서의 저장 탄성률을 높게 제어하기 쉬워져, 단단하고 가공성이 우수함과 함께, 50℃를 초과하는 영역에 있어서 저장 탄성률이 현저하게 저하되어 고유동성의 점착제 조성물이 되는 경향이 있다. 광학용 점착제 조성물 A의 실온(25℃)에 있어서의 가공성을 향상시킬 수 있다는 관점에서, 고온 영역 tanδ 피크가 나타나는 온도는, 3℃ 이상이 바람직하고, 6℃ 이상이 보다 바람직하고, 9℃ 이상이 더욱 바람직하고, 12℃ 이상이 보다 더 바람직하고, 15℃ 이상이 특히 바람직하다. 한편, 50℃를 초과하는 영역에 있어서 광학용 점착제 조성물 A의 저장 탄성률(Ｇ')이 현저하게 저하되어 고유동성이 되기 쉽다는 관점에서, 고온 영역 tanδ 피크가 나타나는 온도는, 90℃ 이하가 바람직하고, 80℃ 이하가 보다 바람직하고, 70℃ 이하가 더욱 바람직하고, 65℃ 이하가 더욱 바람직하고, 60℃ 이하가 특히 바람직하다.
(메트)아크릴계 블록 코폴리머 A가 갖는 저온 영역 tanδ 피크가 나타나는 온도 범위는, 전술한 바와 같이 0℃ 미만(예를 들어, -100℃ 이상 0℃ 미만)이다. 저온 영역 tanδ 피크가 이 온도 범위에 있음으로써, 실온(25℃)에 있어서 당해 저 Tg 세그먼트만이 유동화되어, 가공성을 담보하면서, 적당한 점착력을 광학용 점착제 조성물 A에 부여할 수 있는 경향이 있다. 실온(25℃)에 있어서 광학용 점착제 조성물 A의 저장 탄성률이 저하되기 어렵고, 가공성을 향상시킬 수 있다는 관점에서, 저온 영역 tanδ 피크가 나타나는 온도는, -95℃ 이상이 바람직하고, -90℃ 이상이 보다 바람직하고, -80℃ 이상이 더욱 바람직하고, -70℃ 이상이 더욱 바람직하다. 한편, 실온(25℃)에 있어서 광학용 점착제 조성물 A의 적당한 점착력과 가공성을 향상시킬 수 있다는 관점에서, 저온 영역 tanδ 피크가 나타나는 온도는, -5℃ 이하가 바람직하고, -10℃ 이하가 보다 바람직하고, -20℃ 이하가 더욱 바람직하고, -30℃ 이하가 보다 더 바람직하고, -40℃ 이하가 특히 바람직하다.
상기 고온 영역 tanδ 피크의 극댓값은, 특별히 한정되지 않지만, 0.5 내지 3.0인 것이 바람직하다. 고온 영역 tanδ 피크의 극댓값이 이 범위에 있음으로써, 상기 (메트)아크릴계 블록 코폴리머의 우수한 가공성과 형상 안정성을 실현할 수 있는 점에서 바람직하다. 상기 고온 영역 tanδ 피크의 극댓값은, 우수한 가공성을 실현할 수 있는 점에서, 0.6 이상이 바람직하고, 보다 바람직하게는 0.7 이상이다. 또한, 상기 고온 영역 tanδ 피크의 극댓값은, 타흔이 발생하기 어려운 점에서, 2.5 이하가 바람직하고, 보다 바람직하게는 2.2 이하이다.
상기 저온 영역 tanδ 피크의 극댓값은, 특별히 한정되지 않지만, 0.1 내지 2.0인 것이 바람직하다. 저온 영역 tanδ 피크의 극댓값이 이 범위에 있음으로써, 상기 (메트)아크릴계 블록 코폴리머의 우수한 가공성과 형상 안정성을 실현할 수 있는 점에서 바람직하다. 상기 고온 영역 tanδ 피크의 극댓값은, 우수한 가공성을 실현할 수 있는 점에서, 0.2 이상이 바람직하고, 보다 바람직하게는 0.3 이상이다. 또한, 상기 저온 영역 tanδ 피크의 극댓값은, 타흔이 발생하기 어려운 점에서, 1.5 이하가 바람직하고, 보다 바람직하게는 1 이하이다.
또한, 상기한 고온 영역 tanδ 피크와 저온 영역 tanδ 피크, 그리고 그것들이 나타나는 온도 및 극댓값은, 후술하는 실시예에 기재된 동적 점탄성 측정에 의해 측정되는 것이다.
(메트)아크릴계 블록 코폴리머 A는, 모노머 성분을 중합하여 얻어지는 복수의 세그먼트(고 Tg 세그먼트 및 저 Tg 세그먼트를 포함함)로 구성되고, 당해 모노머 성분이, 분자 중에 (메트)아크릴로일기를 갖는 모노머(아크릴계 모노머)를 포함하는 것이다.
(메트)아크릴계 블록 코폴리머 A 또는 그의 각 세그먼트는, 아크릴계 모노머를 모노머 성분 전량(100중량％)에 대하여 70중량％ 이상 포함하는 것이 바람직하고, 80중량％ 이상 포함하는 것이 보다 바람직하고, 90중량％ 이상 포함하는 것이 특히 바람직하다.
(메트)아크릴계 블록 코폴리머 A 또는 그의 각 세그먼트(고 Tg 세그먼트 및 저 Tg 세그먼트를 포함함)를 구성하는 아크릴계 모노머로서는, 직쇄상 또는 분지 쇄상의 알킬기를 갖는 아크릴산알킬에스테르, 및/또는 직쇄상 또는 분지 쇄상의 알킬기를 갖는 메타크릴산알킬에스테르에서 유래되는 모노머 성분을 중량 비율로 가장 많은 주된 모노머 유닛으로서 포함한다.
(메트)아크릴계 블록 코폴리머 A의 세그먼트를 이루기 위한, 직쇄상 또는 분지 쇄상의 알킬기를 갖는 (메트)아크릴산알킬에스테르, 즉, 상기 세그먼트를 형성하기 위한 모노머 성분에 포함되는 직쇄상 또는 분지 쇄상의 알킬기를 갖는 (메트)아크릴산알킬에스테르로서는, 예를 들어, (메트)아크릴산메틸, (메트)아크릴산에틸, (메트)아크릴산프로필, (메트)아크릴산이소프로필, (메트)아크릴산n-부틸, (메트)아크릴산s-부틸, (메트)아크릴산이소부틸, (메트)아크릴산t-부틸, (메트)아크릴산펜틸, (메트)아크릴산이소펜틸, (메트)아크릴산헥실, (메트)아크릴산헵틸, (메트)아크릴산옥틸, (메트)아크릴산2-에틸헥실, (메트)아크릴산이소옥틸, (메트)아크릴산노닐, (메트)아크릴산이소노닐, (메트)아크릴산데실, (메트)아크릴산이소데실, (메트)아크릴산운데실, (메트)아크릴산도데실, (메트)아크릴산트리데실, (메트)아크릴산테트라데실, (메트)아크릴산펜타데실, (메트)아크릴산헥사데실, (메트)아크릴산헵타데실, (메트)아크릴산옥타데실, (메트)아크릴산이소스테아릴, (메트)아크릴산노나데실, 및 (메트)아크릴산에이코실 등, 탄소수가 1 내지 20인 직쇄상 또는 분지 쇄상의 알킬기를 갖는 (메트)아크릴산알킬에스테르를 들 수 있다. 상기 세그먼트를 위한 당해 (메트)아크릴산알킬에스테르로서는, 1종류의 (메트)아크릴산알킬에스테르를 사용해도 되고, 2종류 이상의 (메트)아크릴산알킬에스테르를 사용해도 된다. 본 실시 형태에서는, 상기 세그먼트를 위한 당해 (메트)아크릴산알킬에스테르로서, 바람직하게는, 아크릴산메틸, 아크릴산n-부틸 및 아크릴산2-에틸헥실, 아크릴산t-부틸, 아크릴산헥실, 아크릴산헵틸, 아크릴산옥틸, 아크릴산이소노닐로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1종이 사용된다.
(메트)아크릴계 블록 코폴리머 A의 세그먼트는, 지환식 모노머에서 유래되는 모노머 유닛을 포함해도 된다. 상기 세그먼트의 모노머 유닛을 이루기 위한 지환식 모노머, 즉, 당해 세그먼트를 형성하기 위한 모노머 성분에 포함되는 지환식 모노머로서는, 예를 들어, 탄소수가 4 내지 10인 시클로알킬기를 갖는 (메트)아크릴산시클로알킬에스테르, 2환식 탄화수소환을 갖는 (메트)아크릴산에스테르, 및 3환 이상의 탄화수소환을 갖는 (메트)아크릴산에스테르를 들 수 있다. 상기 시클로알킬기, 2환식 탄화수소환, 3환 이상의 탄화수소환은, 치환기를 갖고 있어도 된다. 당해 치환기로서는, 할로겐 원자(예, 불소 원자, 염소 원자, 브롬 원자, 요오드 원자), 탄소수 1 내지 6의 직쇄 또는 분지 쇄상의 알킬기(예, 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 이소프로필기 등) 등을 들 수 있다. 상기 치환기의 수는, 특별히 한정되지 않고 1 내지 6개 중에서 적절히 선택할 수 있다. 당해 치환기가 2개 이상 있는 경우에는, 2개 이상의 치환기는 동일해도 되고, 상이해도 된다.
(메트)아크릴산시클로알킬에스테르로서는, 예를 들어, (메트)아크릴산시클로펜틸, (메트)아크릴산시클로헥실, (메트)아크릴산3,3,5-트리메틸시클로헥실, (메트)아크릴산시클로헵틸 및 (메트)아크릴산시클로옥틸을 들 수 있다. 2환식 탄화수소환을 갖는 (메트)아크릴산에스테르로서는, 예를 들어, (메트)아크릴산보르닐 및 (메트)아크릴산이소보르닐을 들 수 있다. 3환 이상의 탄화수소환을 갖는 (메트)아크릴산에스테르로서는, 예를 들어, (메트)아크릴산디시클로펜타닐, (메트)아크릴산디시클로펜타닐옥시에틸, (메트)아크릴산트리시클로펜타닐, (메트)아크릴산1-아다만틸, (메트)아크릴산2-메틸-2-아다만틸 및 (메트)아크릴산2-에틸-2-아다만틸을 들 수 있다. 상기 세그먼트를 위한 지환식 모노머로서는, 1종류의 지환식 모노머를 사용해도 되고, 2종류 이상의 지환식 모노머를 사용해도 된다. 본 실시 형태에서는, 상기 세그먼트를 위한 지환식 모노머로서, 바람직하게는 치환기(예, 탄소수 1 내지 6의 직쇄 또는 분지 쇄의 알킬기)를 갖고 있어도 되는 탄소수가 4 내지 10인 시클로알킬기를 갖는 (메트)아크릴산시클로알킬에스테르이고, 보다 바람직하게는, 아크릴산시클로헥실 및 (메트)아크릴산3,3,5-트리메틸시클로헥실로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1종이 사용된다.
(메트)아크릴계 블록 코폴리머 A의 세그먼트는, 수산기 함유 모노머에서 유래되는 모노머 유닛을 포함해도 된다. 수산기 함유 모노머는, 모노머 유닛 내에 적어도 1개의 수산기를 갖게 되는 모노머이다. (메트)아크릴계 블록 코폴리머 A 내의 세그먼트가 수산기 함유 모노머 유닛을 포함하는 경우, 광학용 점착제 조성물 A에 있어서 접착성이나 적당한 응집력을 얻을 수 있기 쉽다.
상기 세그먼트의 모노머 유닛을 이루기 위한 수산기 함유 모노머, 즉, 당해 세그먼트를 형성하기 위한 모노머 성분에 포함되는 수산기 함유 모노머로서는, 예를 들어, 수산기 함유 (메트)아크릴산에스테르, 비닐알코올 및 알릴알코올을 들 수 있다. 수산기 함유 (메트)아크릴산에스테르로서는, 예를 들어, (메트)아크릴산2-히드록시에틸, (메트)아크릴산2-히드록시프로필, (메트)아크릴산3-히드록시프로필, (메트)아크릴산4-히드록시부틸, (메트)아크릴산6-히드록시헥실, (메트)아크릴산히드록시옥틸, (메트)아크릴산히드록시데실, (메트)아크릴산히드록시라우릴 및 (메트)아크릴산(4-히드록시메틸시클로헥실)메틸을 들 수 있다. 상기 세그먼트를 위한 수산기 함유 모노머로서는, 1종류의 수산기 함유 모노머를 사용해도 되고, 2종류 이상의 수산기 함유 모노머를 사용해도 된다. 본 실시 형태에서는, 상기 세그먼트를 위한 수산기 함유 모노머로서, 바람직하게는 수산기 함유 (메트)아크릴산에스테르이고, 보다 바람직하게는 아크릴산2-히드록시에틸, 메타크릴산2-히드록시에틸, 아크릴산2-히드록시프로필, 메타크릴산2-히드록시프로필, 아크릴산4-히드록시부틸 및 메타크릴산4-히드록시부틸로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1종이 사용된다.
(메트)아크릴계 블록 코폴리머 A의 세그먼트는, 질소 원자 함유 모노머에서 유래되는 모노머 유닛을 포함해도 된다. 질소 원자 함유 모노머는, 모노머 유닛 내에 적어도 1개의 질소 원자를 갖게 되는 모노머이다. (메트)아크릴계 블록 코폴리머 A의 세그먼트가 질소 원자 함유 모노머 유닛을 포함하는 경우, 광학용 점착제 조성물 A에 있어서 경도나 양호한 접착 신뢰성을 얻을 수 있기 쉽다.
상기 세그먼트를 이루기 위한 질소 원자 함유 모노머, 즉, 당해 세그먼트를 형성하기 위한 모노머 성분에 포함되는 질소 원자 함유 모노머로서는, 예를 들어, N-비닐 환상 아미드 및 (메트)아크릴아미드류를 들 수 있다. 질소 원자 함유 모노머인 N-비닐 환상 아미드로서는, 예를 들어, N-비닐-2-피롤리돈, N-비닐-2-피페리돈, N-비닐-3-모르폴리논, N-비닐-2-카프로락탐, N-비닐-1,3-옥사진-2-온 및 N-비닐-3,5-모르폴린디온을 들 수 있다. 질소 원자 함유 모노머인(메트)아크릴아미드류로서는, 예를 들어, (메트)아크릴아미드, N-에틸(메트)아크릴아미드, N-이소프로필(메트)아크릴아미드, N-n-부틸(메트)아크릴아미드, N-옥틸(메트)아크릴아미드, N,N-디메틸(메트)아크릴아미드, N,N-디에틸(메트)아크릴아미드, N,N-디프로필(메트)아크릴아미드 및 N,N-디이소프로필(메트)아크릴아미드를 들 수 있다. 아크릴계 폴리머를 위한 질소 원자 함유 모노머로서는, 1종류의 질소 원자 함유 모노머를 사용해도 되고, 2종류 이상의 질소 원자 함유 모노머를 사용해도 된다. 본 실시 형태에서는, 상기 세그먼트를 위한 질소 원자 함유 모노머로서, 바람직하게는 N-비닐-2-피롤리돈이 사용된다.
(메트)아크릴계 블록 코폴리머 A의 세그먼트는, 카르복시기 함유 모노머에서 유래되는 모노머 유닛을 포함해도 된다. 카르복시기 함유 모노머는, 모노머 유닛 내에 적어도 1개의 카르복시기를 갖게 되는 모노머이다. (메트)아크릴계 블록 코폴리머 A의 세그먼트가 카르복시기 함유 모노머 유닛을 포함하는 경우, 광학용 점착제 조성물 A에 있어서 양호한 접착 신뢰성이 얻어지는 경우가 있다.
상기 세그먼트의 모노머 유닛을 이루기 위한 카르복시기 함유 모노머, 즉, 당해 세그먼트를 형성하기 위한 모노머 성분에 포함되는 카르복시기 함유 모노머로서는, 예를 들어, (메트)아크릴산, 이타콘산, 말레산, 푸마르산, 크로톤산, 및 이소크로톤산을 들 수 있다. 상기 세그먼트를 위한 카르복시기 함유 모노머로서는, 1종류의 카르복시기 함유 모노머를 사용해도 되고, 2종류 이상의 카르복시기 함유 모노머를 사용해도 된다. 본 실시 형태에서는, 상기 세그먼트를 위한 카르복시기 함유 모노머로서, 바람직하게는 아크릴산이 사용된다.
또한, 상기 세그먼트를 이루기 위한 모노머 유닛으로서는, 상기의 (메트)아크릴산알킬에스테르, 지환식 모노머, 수산기 함유 모노머, 질소 원자 함유 모노머, 카르복시기 함유 모노머 이외의 모노머(「기타의 모노머」라고 칭하는 경우가 있음)를 들 수 있다. 기타의 모노머로서는, 예를 들어, (메트)아크릴산알콕시알킬에스테르[예를 들어, (메트)아크릴산2-메톡시에틸, (메트)아크릴산2-에톡시에틸, (메트)아크릴산메톡시트리에틸렌글리콜, (메트)아크릴산3-메톡시프로필, (메트)아크릴산3-에톡시프로필, (메트)아크릴산4-메톡시부틸, (메트)아크릴산4-에톡시부틸 등]; 에폭시기 함유 모노머[예를 들어, (메트)아크릴산글리시딜, (메트)아크릴산메틸글리시딜 등]; 술폰산기 함유 모노머[예를 들어, 비닐술폰산나트륨 등]; 인산기 함유 모노머; 방향족 탄화수소기를 갖는 (메트)아크릴산에스테르[예를 들어, (메트)아크릴산페닐, (메트)아크릴산페녹시에틸, (메트)아크릴산벤질 등]; 비닐에스테르류[예를 들어, 아세트산비닐, 프로피온산비닐 등]; 방향족 비닐 화합물[예를 들어, 스티렌, 비닐톨루엔 등]; 올레핀류 또는 디엔류[예를 들어, 에틸렌, 프로필렌, 부타디엔, 이소프렌, 이소부틸렌 등]; 비닐에테르류[예를 들어, 비닐알킬에테르등]; 염화비닐 등을 들 수 있다.
(메트)아크릴계 블록 코폴리머 A의 세그먼트를 구성하는 모노머 유닛에 있어서의 기타의 모노머의 함유량은, 모노머 성분 전량(100중량％)에 대하여 30중량％ 이하인 한, 특별히 한정되지 않고 본 발명의 효과를 손상시키지 않는 범위에서 적절히 선택된다.
(메트)아크릴계 블록 코폴리머 A의 고 Tg 세그먼트를 구성하는 모노머 성분으로서는, 고 Tg 세그먼트의 Tg를 소정의 범위로 제어하기 쉽고, (메트)아크릴계 블록 코폴리머 A에 원하는 물성을 부여할 수 있다는 관점에서, 탄소수가 1 내지 3인 직쇄상의 알킬기를 갖는 (메트)아크릴산알킬에스테르(이하, 「(메트)아크릴산 C1-3 직쇄상 알킬에스테르」라고 칭하는 경우가 있음), 탄소수가 3 또는 4인 분지 쇄상의 알킬기를 갖는 (메트)아크릴산알킬에스테르(이하, 「(메트)아크릴산 C3-4 분지 쇄상 알킬에스테르」라고 칭하는 경우가 있음) 및 지환식 모노머로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1종을 함유하는 것이 바람직하다. 이들 모노머의 호모폴리머는 비교적 높은 Tg를 갖기 때문에, 이들로부터 선택되는 모노머를 고 Tg 세그먼트를 구성하는 모노머 성분으로서 함유함으로써, 고 Tg 세그먼트의 Tg를 본 발명 소정의 범위로 제어하기 쉽다.
상기 지환식 모노머로서는, 치환기(예, 탄소수 1 내지 6의 직쇄 또는 분지 쇄의 알킬기)를 갖고 있어도 되는 탄소수가 4 내지 10인 시클로알킬기를 갖는 (메트)아크릴산시클로알킬에스테르가 바람직하고, 치환기(예, 탄소수 1 내지 6의 직쇄 또는 분지 쇄의 알킬기)를 갖고 있어도 되는 탄소수가 4 내지 10인 시클로알킬기를 갖는 아크릴산시클로알킬에스테르가 보다 바람직하고, 아크릴산시클로헥실(호모폴리머의 Tg: 15℃), (메트)아크릴산3,3,5-트리메틸시클로헥실(호모폴리머의 Tg: 52℃)이 특히 바람직하다.
고 Tg 세그먼트가 구성하는 모노머 성분으로서 지환식 모노머를 함유하는 경우, 지환식 모노머의 모노머 성분 전량(100중량％)에 대한 함유량은, 고 Tg 세그먼트의 Tg를 소정의 범위로 제어하기 쉽고, (메트)아크릴계 블록 코폴리머 A에 원하는 물성을 부여할 수 있다는 관점에서, 바람직하게는 10중량％ 이상(예를 들어, 10 내지 100중량％), 보다 바람직하게는 20중량％ 이상, 보다 바람직하게는 30중량％ 이상, 보다 바람직하게는 30중량％ 이상, 보다 바람직하게는 40중량％ 이상, 보다 바람직하게는 50중량％ 이상, 보다 바람직하게는 60중량％ 이상, 보다 바람직하게는 70중량％ 이상, 보다 바람직하게는 80중량％ 이상, 보다 바람직하게는 80중량％ 이상, 더욱 바람직하게는 90중량％ 이상, 특히 바람직하게는 95중량％ 이상이다.
상기 (메트)아크릴산 C1-3 직쇄상 알킬에스테르로서는, 아크릴산 C1-3 직쇄상 알킬에스테르가 바람직하고, 아크릴산메틸(호모폴리머의 Tg: 8℃)이 특히 바람직하다.
상기 (메트)아크릴산 C3-4 분지 쇄상 알킬에스테르로서는, 아크릴산 C3-4 분지 쇄상 알킬에스테르가 바람직하고, 아크릴산t-부틸(호모폴리머의 Tg: 35℃)이 특히 바람직하다.
고 Tg 세그먼트가 구성하는 모노머 성분으로서 (메트)아크릴산 C1-3 직쇄상 알킬에스테르 및/또는 (메트)아크릴산 C3-4 분지 쇄상 알킬에스테르를 함유하는 경우, (메트)아크릴산 C1-3 직쇄상 알킬에스테르 및/또는 (메트)아크릴산 C3-4 분지 쇄상 알킬에스테르의 모노머 성분 전량(100중량％)에 대한 함유량은, 고 Tg 세그먼트의 Tg를 소정의 범위로 제어하기 쉽고, (메트)아크릴계 블록 코폴리머 A에 원하는 물성을 부여할 수 있다는 관점에서, 바람직하게는 10중량％ 이상(예를 들어, 10 내지 100중량％), 보다 바람직하게는 20중량％ 이상, 보다 바람직하게는 30중량％ 이상, 보다 바람직하게는 30중량％ 이상, 보다 바람직하게는 40중량％ 이상, 보다 바람직하게는 50중량％ 이상, 보다 바람직하게는 60중량％ 이상, 보다 바람직하게는 70중량％ 이상, 보다 바람직하게는 80중량％ 이상, 보다 바람직하게는 80중량％ 이상, 더욱 바람직하게는 90중량％ 이상, 특히 바람직하게는 95중량％ 이상이다.
(메트)아크릴계 블록 코폴리머 A의 저 Tg 세그먼트를 구성하는 모노머 성분으로서는, 저 Tg 세그먼트의 Tg를 소정의 범위로 제어하기 쉽고, (메트)아크릴계 블록 코폴리머 A에 원하는 물성을 부여할 수 있다는 관점에서, 탄소수가 4 내지 18인 직쇄 또는 분지 쇄상의 알킬기를 갖는 (메트)아크릴산알킬에스테르(이하, 「(메트)아크릴산 C4-18 알킬에스테르」라고 칭하는 경우가 있음) 및 수산기 함유 모노머로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1종을 함유하는 것이 바람직하다. 즉, (메트)아크릴산 C4-18 알킬에스테르의 호모폴리머는 비교적 낮은 Tg를 갖기 때문에, 이것을 저 Tg 세그먼트를 구성하는 모노머 성분으로서 함유함으로써, 저 Tg 세그먼트의 Tg를 본 발명 소정의 범위로 제어하기 쉽다. 한편, 수산기 함유 모노머도 비교적 낮은 Tg를 갖고, 또한 (메트)아크릴계 블록 코폴리머 A에 있어서 접착성이나 적당한 응집력을 얻을 수 있기 쉬워진다. 따라서, (메트)아크릴계 블록 코폴리머 A의 저 Tg 세그먼트를 구성하는 모노머 성분으로서, (메트)아크릴산 C4-18 알킬에스테르와 수산기 함유 모노머의 양쪽을 함유하는 것이 더욱 바람직하다.
상기 (메트)아크릴산 C4-18 알킬에스테르로서는, 아크릴산 C4-18 알킬에스테르가 바람직하고, 아크릴산부틸(호모폴리머의 Tg: -55℃), 아크릴산2-에틸헥실(호모폴리머의 Tg: -70℃), 아크릴산n-헥실(호모폴리머의 Tg: -57℃), 아크릴산n-옥틸(호모폴리머의 Tg: -65℃), 아크릴산이소노닐(호모폴리머의 Tg: -58℃)이 특히 바람직하다.
저 Tg 세그먼트가 구성하는 모노머 성분으로서 (메트)아크릴산 C4-18 알킬에스테르를 함유하는 경우, (메트)아크릴산 C4-18 알킬에스테르의 모노머 성분 전량(100중량％)에 대한 함유량은, 저 Tg 세그먼트의 Tg를 소정의 범위로 제어하기 쉽고, (메트)아크릴계 블록 코폴리머 A에 원하는 물성을 부여할 수 있다는 관점에서, 바람직하게는 10중량％ 이상(예를 들어, 10 내지 100중량％), 보다 바람직하게는 20중량％ 이상, 보다 바람직하게는 30중량％ 이상, 보다 바람직하게는 30중량％ 이상, 보다 바람직하게는 40중량％ 이상, 보다 바람직하게는 50중량％ 이상, 보다 바람직하게는 60중량％ 이상, 보다 바람직하게는 70중량％ 이상, 보다 바람직하게는 80중량％ 이상, 보다 바람직하게는 80중량％ 이상, 더욱 바람직하게는 90중량％ 이상, 특히 바람직하게는 95중량％ 이상이다.
상기 수산기 함유 모노머로서는, 수산기 함유 (메트)아크릴산알킬에스테르가 바람직하고, 아크릴산4-히드록시부틸(호모폴리머의 Tg: -65℃), 아크릴산2-히드록시에틸(호모폴리머의 Tg: -15℃)이 특히 바람직하다.
저 Tg 세그먼트가 구성하는 모노머 성분으로서 수산기 함유 모노머를 함유하는 경우, 수산기 함유 모노머의 모노머 성분 전량(100중량％)에 대한 함유량은, 저 Tg 세그먼트의 Tg를 소정의 범위로 제어하기 쉽고, (메트)아크릴계 블록 코폴리머 A에 원하는 물성을 부여할 수 있다는 관점에서, 바람직하게는 1중량％ 이상, 보다 바람직하게는 1.5중량％ 이상, 보다 바람직하게는 2중량％ 이상, 더욱 바람직하게는 2.5중량％ 이상, 특히 바람직하게는 3중량％ 이상이다. 한편, 수산기 함유 모노머의 모노머 성분 전량(100중량％)에 대한 함유량은, 바람직하게는 50중량％ 이하, 보다 바람직하게는 40중량％ 이하, 보다 바람직하게는 30중량％ 이하, 보다 바람직하게는 20중량％ 이하, 더욱 바람직하게는 10중량％ 이하, 특히 바람직하게는 5중량％ 이하이다.
(메트)아크릴계 블록 코폴리머 A의 저 Tg 세그먼트를 구성하는 모노머 성분으로서, (메트)아크릴산 C4-18 알킬에스테르와 수산기 함유 모노머의 양쪽을 함유하는 경우, 수산기 함유 모노머와(메트)아크릴산 C4-18 알킬에스테르의 비율(수산기 함유 모노머/(메트)아크릴산 C4-18 알킬에스테르)은 특별히 한정되지 않지만, 하한값은, 바람직하게는 1/99, 보다 바람직하게는 1.5/98.5, 보다 바람직하게는 2/98, 더욱 바람직하게는 2.5/97.5, 특히 바람직하게는 3/97이고, 한편, 상한값은 50/50, 보다 바람직하게는 40/60, 보다 바람직하게는 30/70, 더욱 바람직하게는 20/80이다.
(메트)아크릴계 블록 코폴리머 A는, 상술한 모노머 성분의 리빙 라디칼 중합법에 의해 제조할 수 있다. 리빙 라디칼 중합법은, 종래의 라디칼 중합법의 간편성과 범용성을 유지하면서, 정지 반응이나, 연쇄 이동이 일어나기 어렵고, 성장 말단이 실활하지 않고 성장하기 때문에, 분자량 분포의 정밀 제어, 균일한 조성의 폴리머 제조가 용이하다는 점에서 바람직하다.
리빙 라디칼 중합법에 있어서는, 고 Tg 세그먼트를 먼저 제조하고, 고 Tg 세그먼트에 저 Tg 세그먼트의 모노머를 중합해도 되고; 저 Tg 세그먼트를 먼저 제조하고, 저 Tg 세그먼트에 고 Tg 세그먼트의 모노머를 중합해도 된다.
(메트)아크릴계 블록 코폴리머 A가 ABA형 트리블록 코폴리머인 경우에는, 제조 용이성의 관점에서, A 세그먼트를 먼저 제조하고, A 세그먼트에 B 세그먼트의 모노머를 중합하는 것이 바람직하다.
상기 리빙 라디칼 중합법은, 공지의 방법을 특별히 한정되지 않게 사용할 수 있고, 중합 성장 말단을 안정화시키는 방법의 차이에 의해, 전이 금속 촉매를 사용하는 방법(ATRP법); 황계의 가역적 부가 개열 연쇄 이동제(RAFT제)를 사용하는 방법(RAFT법); 유기 텔루륨 화합물을 사용하는 방법(TERP법) 등의 방법이 있다. 이들 방법 중에서도, 사용할 수 있는 모노머의 다양성, 분자량 제어의 용이함, 금속이 광학용 점착제 조성물에 잔류하지 않는 등의 관점에서, RAFT법을 사용하는 것이 바람직하다.
상기 RAFT법은, 공지의 방법을 특별히 한정되지 않게 사용할 수 있고, 예를 들어, 예를 들어, RAFT제를 사용하여, 모노머 성분을 중합하여 제1 세그먼트를 조제하는 공정 1(제1 RAFT 중합)과, 공정 1에서 얻어진 제1 세그먼트에, 공정 1에서의 모노머 조성과는 다른 모노머 성분을 추가로 첨가·중합하여, 제2 세그먼트를 제1 세그먼트에 부가하는 공정 2(제2 RAFT 중합)를 갖는다. 제2 RAFT 중합 후에, 추가로 제3, 4··· RAFT 중합을 제2 RAFT 중합과 마찬가지로 행하여, 제3, 4··· 세그먼트를 추가로 부가해도 된다.
상기 공정 1, 공정 2는 공지 관용의 방법에 의해 행할 수 있고, 예를 들어, 용액 중합 방법, 유화 중합 방법, 괴상 중합 방법, 열이나 활성 에너지선 조사에 의한 중합 방법(열중합 방법, 활성 에너지선 중합 방법) 등을 들 수 있다. 그 중에서도, 투명성, 내수성, 비용 등의 점에서, 용액 중합 방법이 바람직하다. 또한, 중합은, 산소에 의한 중합 저해를 억제하는 점에서, 산소와의 접촉을 피하여 행해지는 것이 바람직하다. 예를 들어 질소 분위기 하에서 중합을 행하는 것이 바람직하다.
(메트)아크릴계 블록 코폴리머 A가 ABA형 트리블록 코폴리머인 경우에는, 상기 공정 1에서 A 세그먼트를 조제하고, 얻어진 A 세그먼트에 상기 공정 2에서 B 세그먼트를 부가하여 조제하는 것이 바람직하다. 이 경우, A 세그먼트로서는 고 Tg 세그먼트, B 세그먼트로서는 저 Tg 세그먼트인 것이 바람직하다.
상기 RAFT제로서는, 공지의 것을 특별히 한정 없이 사용할 수 있고, 예를 들어, 하기 식 (1), 식 (2), 또는 식 (3)으로 표현되는 화합물(트리티오카보네이트, 디티오에스테르, 디티오카보네이트)이 바람직하다.
Figure pct00001
Figure pct00002
Figure pct00003
식 (1), 식 (2), 또는 식 (3)[식 (1) 내지 (3)] 중, R1a 및 R1b는, 동일하거나 또는 상이하고, 수소 원자, 탄화수소기, 또는 시아노기를 나타낸다. R1c는, 시아노기를 갖고 있어도 되는 탄화수소기를 나타낸다. 상기 R1a, R1b, 및 R1c로서의 탄화수소기로서는, 예를 들어, 탄소수 1 내지 20의 탄화수소기(직쇄, 분지 쇄, 혹은 환상의 포화 또는 불포화의 탄화수소기 등)를 들 수 있고, 그 중에서도, 탄소수 1 내지 12의 탄화수소기가 바람직하다. 상기 탄화수소기로서는, 구체적으로는, 예를 들어, 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 이소프로필기, n-부틸기, 이소부틸기, tert-부틸기, 시클로헥실기, 도데실기, 옥타데실기 등의 탄소수 1 내지 12의 직쇄, 분지 쇄, 또는 환상의 알킬기; 페닐기 등의 탄소수 6 내지 12의 아릴기; 벤질기, 페네틸기 등의 총 탄소수 7 내지 10의 아릴알킬기 등을 들 수 있다. 상기 R1c로서의 시아노기를 갖는 탄화수소기로서는, 예를 들어, 상술한 탄화수소기가 갖는 수소 원자의 1 내지 3개가 시아노기로 치환된 기 등을 들 수 있다.
식 (1) 내지 (3) 중, R2는, 탄화수소기, 또는 그 탄화수소기가 갖는 수소 원자의 일부가 카르복실기로 치환된 기(예를 들어, 카로복시알킬기)를 나타낸다. 상기 탄화수소기로서는, 예를 들어, 탄소수 1 내지 20의 탄화수소기(직쇄, 분지 쇄, 혹은 환상의 포화 또는 불포화의 탄화수소기 등)를 들 수 있고, 그 중에서도, 탄소수 1 내지 12의 탄화수소기가 바람직하다. 탄화수소기로서는, 구체적으로는, 예를 들어, 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 이소프로필기, n-부틸기, 이소부틸기, tert-부틸기, 시클로헥실기, 도데실기, 옥타데실기 등의 탄소수 1 내지 12의 직쇄, 분지 쇄, 또는 환상의 알킬기; 벤질기, 페네틸기 등의 총 탄소수 7 내지 10의 아릴알킬기 등을 들 수 있다.
RAFT법에서는, 식 (1) 내지 (3)에 나타내는 RAFT제 중의 황 원자와 당해 황 원자에 인접하는 메틸렌기 사이에, 원료 모노머가 삽입되도록 반응하여, 중합이 진행된다.
상기 RAFT제의 대부분은, 상업적으로 입수 가능하다. 상업적으로 입수할 수 없는 것은, 공지 내지 관용의 방법에 의해 용이하게 합성할 수 있다. 또한, 본 발명에 있어서 RAFT제는, 1종을 단독으로 사용할 수도 있고, 2종 이상을 조합하여 사용할 수도 있다.
RAFT제로서는, 디벤질트리티오카보네이트, S-시아노 메틸-S-도데실트리티오카보네이트 등의 트리티오카보네이트류; 디티오프로피온산시아노에틸, 디티오프로피온산벤질, 디티오벤조산벤질, 디티오벤조산아세톡시에틸 등의 디티오에스테르류; O-에틸-S-(1-페닐에틸)디티오카보네이트, O-에틸-S-(2-프로폭시에틸)디티오카보네이트, O-에틸-S-(1-시아노-1-메틸에틸)디티오카보네이트 등의 디티오카보네이트류 등을 들 수 있고, 이 중, 트리티오카보네이트류가 바람직하고, 식 (1)에 있어서 좌우 대칭 구조를 갖는 트리티오카보네이트류가 보다 바람직하고, 특히 디벤질트리티오카보네이트, 비스{4-[에틸-(2-아세틸옥시에틸)카르바모일]벤질}트리티오카보네이트가 바람직하다.
상기 공정 1은 RAFT제의 존재 하에, 모노머 성분을 중합함으로써 행할 수 있다. 공정 1에 있어서 RAFT제의 사용량은, 모노머 성분의 총량 100중량부에 대하여, 통상은 0.05 내지 20중량부, 바람직하게는 0.05 내지 10중량부이다. 이러한 사용량이면, 반응 제어가 용이하고, 또한 얻어지는 세그먼트의 중량 평균 분자량을 제어하는 것이 용이하다.
상기 공정 2는 상기 공정 1에서 얻어진 중합 반응 혼합물에, 모노머 성분을 첨가하여 추가로 중합함으로써 행할 수 있다.
RAFT법은, 중합 개시제의 존재 하에 행하는 것이 바람직하다. 중합 개시제로서는, 예를 들어, 통상의 유기계 중합 개시제를 들 수 있고, 구체적으로는, 과산화물, 아조화합물을 들 수 있고, 이들 중에서도, 아조화합물이 바람직하다. 중합 개시제는 1종 단독으로 또는 2종 이상을 사용할 수 있다.
과산화물계 중합 개시제로서는, 예를 들어, 과산화벤조일 및 tert-부틸페르말레에이트를 들 수 있다.
아조화합물로서는, 예를 들어, 2,2'-아조비스이소부티로니트릴, 2,2'-아조비스(4-메톡시-2,4-디메틸발레로니트릴, 2,2'-아조비스(2-시클로프로필프로피오니트릴, 2,2'-아조비스(2,4-디메틸발레로니트릴, 2,2'-아조비스(2-메틸부티로니트릴, 1,1'-아조비스(시클로헥산-1-카르보니트릴, 2-(카르바모일아조)이소부티로니트릴, 2-페닐아조-4-메톡시-2,4-디메틸발레로니트릴, 2,2'-아조비스(2-아미디노프로판)디히드로클로라이드, 2,2'-아조비스(N,N'-디메틸렌이소부틸아미딘, 2,2'-아조비스(이소부틸아미드)디히드레이트, 4,4'-아조비스(4-시아노펜탄산, 2,2'-아조비스(2-시아노 프로판올), 디메틸-2,2'-아조비스(2-메틸프로피오네이트), 2,2'-아조비스[2-메틸-N-(2-히드록시에틸)프로피온아미드]를 들 수 있다.
중합 개시제의 사용량은, 모노머 성분의 총량 100중량부에 대하여, 통상은 0.001 내지 2중량부, 바람직하게는 0.002 내지 1중량부이다. 이러한 사용량이면, 얻어지는 세그먼트의 중량 평균 분자량을 제어하는 것이 용이하다.
RAFT법은, 중합 용매를 사용하지 않는 괴상 중합이어도 되지만, 중합 용매를 사용하는 것이 바람직하다. 중합 용매로서는, 예를 들어, 벤젠, 톨루엔, 크실렌 등의 방향족 탄화수소; n-펜탄, n-헥산, n-헵탄, n-옥탄 등의 지방족 탄화수소; 시클로펜탄, 시클로헥산, 시클로헵탄, 시클로옥탄 등의 지환식 탄화수소; 클로로포름, 사염화탄소, 1,2-디클로로에탄, 클로로벤젠 등의 할로겐화 탄화수소; 디에틸에테르, 디이소프로필에테르, 1,2-디메톡시에탄, 디부틸에테르, 테트라히드로푸란, 디옥산, 아니솔, 페닐에틸에테르, 디페닐에테르 등의 에테르; 아세트산에틸, 아세트산프로필, 아세트산부틸, 프로피온산메틸 등의 에스테르; 아세톤, 메틸에틸케톤, 디에틸케톤, 메틸이소부틸케톤, 시클로헥사논 등의 케톤; N,N-디메틸포름아미드, N,N-디메틸아세트아미드, N-메틸피롤리돈 등의 아미드; 아세토니트릴, 벤조니트릴 등의 니트릴; 디메틸술폭시드, 술포란 등의 술폭시드를 들 수 있다. 중합 용매는 1종 단독으로 또는 2종 이상을 사용할 수 있다.
중합 용매의 사용량으로서는, 특별히 한정되지 않고, 예를 들어, 모노머 성분 1g에 대하여, 0.01mL 이상이 바람직하고, 보다 바람직하게는 0.05mL 이상, 더욱 바람직하게는 0.1mL 이상이고, 50mL 이하가 바람직하고, 보다 바람직하게는 10mL 이하, 더욱 바람직하게는 1mL 이하이다.
RAFT법에서의 반응 온도는, 통상은 60 내지 120℃, 바람직하게는 70 내지 110℃이고, 통상은 질소 가스 등의 불활성 가스 분위기 하에서 행해진다. 이 반응은 상압, 가압 및 감압의 어느 조건에서도 행할 수 있고, 통상은 상압에서 행해진다. 또한, 반응 시간은 통상은 1 내지 20시간, 바람직하게는 2 내지 14시간다.
상술한 RAFT법의 중합 반응 조건은, 각각 공정 1 및 공정 2에 적용될 수 있다.
중합 반응의 종료 후, 얻어진 반응 혼합물로부터, 통상의 분리 정제 수단에 의해 사용 용매, 잔존 모노머의 제거 등을 행하고, 목적으로 하는 (메트)아크릴계 블록 코폴리머 A를 분리할 수 있다.
(메트)아크릴계 블록 코폴리머 A의 고 Tg 세그먼트 또는 저 Tg 세그먼트를 상기 공정 1에서 제조하는 경우, 당해 고 Tg 세그먼트 또는 저 Tg 세그먼트의 중량 평균 분자량(Mw)은, 특별히 한정되지 않지만, 바람직하게는 10,000 내지 1,000,000이고, 보다 바람직하게는 50,000 내지 500,000, 더욱 바람직하게는 100,000 내지 300,000이다. 고 Tg 세그먼트 또는 저 Tg 세그먼트의 Mw가 이 범위 내에 있는 것은, 상술한 본 발명의 효과에 적합하다.
상기한 Mw는, (메트)아크릴계 블록 코폴리머 A에 고 Tg 세그먼트 또는 저 Tg 세그먼트가 2개 이상 존재하는 경우, 그 합의 Mw이다.
(메트)아크릴계 블록 코폴리머 A의 중량 평균 분자량(Mw)은, 특별히 한정되지 않지만, 바람직하게는 20만(200,000) 이상이고, 보다 바람직하게는 300,000 내지 5,000,000, 더욱 바람직하게는 400,000 내지 2,500,000이다. (메트)아크릴계 블록 코폴리머 A의 Mw가 이 범위 내에 있는 것은, 상술한 본 발명의 효과에 적합하다.
(메트)아크릴계 블록 코폴리머 A의 분자량 분포(Mw/Mn)는, 특별히 한정되지 않지만, 바람직하게는 1보다 크고, 보다 바람직하게는 1.5 이상, 더욱 바람직하게는 2 이상이고, 특히 바람직하게는 2.5 이상이고, 바람직하게는 5 이하, 보다 바람직하게는 4.5 이하, 더욱 바람직하게는 4 이하, 특히 바람직하게는 3.5 이하이다.
또한, 상기 중량 평균 분자량(Mw), 분자량 분포(Mw/Mn)는 후술하는 실시예에 기재된 GPC법에 의해 측정되는 것이다.
(메트)아크릴계 블록 코폴리머 A 중의 고 Tg 세그먼트의 함유율은, (메트)아크릴계 블록 코폴리머 A 전체 100중량％ 중에 있어서 10중량％ 이상이 바람직하고, 보다 바람직하게는 20중량％ 이상, 더욱 바람직하게는 25중량％ 이상이고, 특히 바람직하게는 30중량％ 이상이고, 95중량％ 이하가 바람직하고, 보다 바람직하게는 90중량％ 이하, 더욱 바람직하게는 85중량％ 이하이다.
(메트)아크릴계 블록 코폴리머 A 중의 저 Tg 세그먼트의 함유율은, (메트)아크릴계 블록 코폴리머 A 전체 100중량％ 중에 있어서 5중량％ 이상이 바람직하고, 보다 바람직하게는 10중량％ 이상, 더욱 바람직하게는 15중량％ 이상이고, 60중량％ 이하가 바람직하고, 보다 바람직하게는 50중량％ 이하, 더욱 바람직하게는 40중량％ 이하, 특히 바람직하게는 30중량％ 이하이다.
상기 저 Tg 세그먼트 및 저 Tg 세그먼트의 함유율 또는 이들의 비율이 상기의 범위 내에 있는 것은, 상술한 본 발명의 효과에 적합하다.
상기 각 세그먼트의 함유율 및 이들의 비율은, 상기 RAFT법의 각 공정에서 얻어지는 각 세그먼트 또는 (메트)아크릴계 블록 코폴리머 A의 중량 평균 분자량(Mw)으로부터 산출할 수 있고, 각 세그먼트를 형성할 때의 모노머 투입비 및 각 모노머의 중합률 등으로 제어할 수 있다.
광학용 점착제 조성물 A에 있어서의 (메트)아크릴계 블록 코폴리머 A의 함유량은, 특별히 한정되지 않지만, 실온(25℃)에서의 우수한 가공성과 50℃를 초과하는 영역에서의 우수한 단차 흡수성을 얻는 관점에서, 광학용 점착제 조성물 A 전량(전체 중량, 100중량％)에 대하여, 50중량％ 이상(예를 들어, 50 내지 100중량％)인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 60중량％ 이상, 더욱 바람직하게는 80중량％ 이상, 특히 바람직하게는 90중량％ 이상이다.
<착색제>
본 발명의 제1 측면의 광학용 점착제 조성물은, 착색제를 함유한다. 상기 광학용 점착제 조성물 A가, 착색제를 함유함으로써, 가시광에 대한 투과성이 저하된다. 가시광에 대한 투과성이 저하된 상기 광학용 점착제 조성물로 형성된 점착제층이, 자발광형 표시 장치(미니/마이크로 LED 표시 장치)의 금속 배선층과 발광 소자(LED 칩) 간의 미세한 단차를 간극 없이 밀봉함으로써, 금속 배선 등에 의한 반사가 방지되어, 발광 소자(LED 칩)의 혼색이 방지되어, 화상의 콘트라스트가 향상된다.
상기 착색제는, 광학용 점착제 조성물에 용해 또는 분산 가능한 것이면, 염료여도 되고 안료여도 된다. 소량의 첨가로도 낮은 헤이즈를 달성할 수 있고, 안료와 같이 침강성이 없고 균일하게 분포시키기 쉽다는 점에서, 염료가 바람직하다. 또한, 소량의 첨가로도 색 발현성이 높다는 점에서, 안료도 바람직하다. 착색제로서 안료를 사용하는 경우에는, 도전성이 낮거나, 없는 것이 바람직하다. 또한, 염료를 사용하는 경우에는, 후술하는 산화 방지제 등과 병용하는 것이 바람직하다.
상기 착색제로서는, 가시광(파장 400 내지 700nm)을 흡수하는 한, 자외선(파장 330 내지 400nm)에 대하여 투과성을 나타내는 것, 혹은 자외선에 대하여 흡수성을 나타내는 것을 한정하지 않고 사용할 수 있다. 착색제의 투과율은, 파장 400nm에 있어서의 투과율이 50 내지 60％ 정도가 되도록, 테트라히드로푸란(THF) 등의 적절한 용매 또는 분산매(파장 330 내지 700nm의 범위의 흡수가 작은 유기 용매)에 의해 희석한 용액 또는 분산액을 사용하여 측정한다.
상기 착색제의 파장 400 내지 700nm(가시광 영역)의 투과율의 최댓값은, 예를 들어 80％ 이하이고, 70％ 이하, 60％ 이하, 50％ 이하, 40％ 이하, 30％ 이하, 20％ 이하, 10％ 이하 또는 5％ 이하여도 된다. 또한, 상기 착색제의 파장 400 내지 700nm(가시광 영역)의 평균 투과율은, 예를 들어 80％ 이하이고, 70％ 이하, 60％ 이하, 50％ 이하, 40％ 이하, 30％ 이하, 20％ 이하, 10％ 이하 또는 5％ 이하여도 된다.
자외선 투과성의 흑색 안료로서는, 도쿠시키제의 「9050BLACK」, 「UVBK-0001」 등을 들 수 있다. 자외선 흡수성의 흑색 염료로서는, 오리엔트 가가쿠 고교제의 「VALIFAST BLACK 3810」, 「NUBIAN Black PA-2802」 등을 들 수 있다. 자외선 흡수성의 흑색 안료로서는, 카본 블랙, 티타늄 블랙 등을 들 수 있다.
광학용 점착제 조성물에 있어서의 착색제의 함유량은, 예를 들어, (메트)아크릴계 블록 코폴리머 A의 조제에 사용된 모노머 전량 100중량부에 대하여, 0.01 내지 20중량부 정도이고, 착색제의 종류나, 점착제층의 색조 및 광투과율 등에 따라 적절히 설정하면 된다. 착색제는, 적당한 용매에 용해 또는 분산시킨 용액 또는 분산액으로 하여, 조성물에 첨가해도 된다.
광학용 점착제 조성물 A에는, (메트)아크릴계 블록 코폴리머 A, 착색제 이외에, 본 발명의 효과를 손상시키지 않는 범위에서, 첨가제가 포함되어 있어도 된다. 이러한 첨가제로서는, 예를 들어, 중합 개시제, 실란 커플링제, 용제, 가교 촉진제, 점착 부여 수지(로진 유도체, 폴리테르펜 수지, 석유 수지, 유용성 페놀 등), 노화 방지제, 충전제, 자외선 흡수제, 산화 방지제, 연쇄 이동제, 가소제, 연화제, 계면 활성제, 대전 방지제, 방청제 등을 들 수 있다. 또한, 첨가제는, 단독으로 또는 2종류 이상 조합하여 사용되어도 된다.
상기 중합 개시제로서는 광중합 개시제(광 개시제)나 열중합 개시제 등을 들 수 있다. 중합 개시제는, 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 사용되어도 된다. 또한, 광학용 점착제 조성물 A로 형성되는 점착제층은 충분한 형상 안정성을 갖기 때문에, 중합 개시제를 포함하지 않아도 된다.
상기 광중합 개시제로서는, 특별히 한정되지 않지만, 예를 들어, 벤조인에테르계 광중합 개시제, 아세토페논계 광중합 개시제, α-케톨계 광중합 개시제, 방향족 술포닐클로라이드계 광중합 개시제, 광활성 옥심계 광중합 개시제, 벤조인계 광중합 개시제, 벤질계 광중합 개시제, 벤조페논계 광중합 개시제, 케탈계 광중합 개시제, 티옥산톤계 광중합 개시제를 들 수 있다.
상기 벤조인에테르계 광중합 개시제로서는, 예를 들어, 벤조인메틸에테르, 벤조인에틸에테르, 벤조인프로필에테르, 벤조인이소프로필에테르, 벤조인이소부틸에테르, 2,2-디메톡시-1,2-디페닐에탄-1-온, 아니솔메틸에테르등을 들 수 있다. 상기 아세토페논계 광중합 개시제로서는, 예를 들어, 2,2-디에톡시아세토페논, 2,2-디메톡시-2-페닐아세토페논, 1-히드록시시클로헥실페닐케톤, 4-페녹시디클로로아세토페논, 4-(t-부틸)디클로로아세토페논 등을 들 수 있다. 상기 α-케톨계 광중합 개시제로서는, 예를 들어, 2-메틸-2-히드록시프로피오페논, 1-[4-(2-히드록시에틸)페닐]-2-메틸프로판-1-온 등을 들 수 있다. 상기 방향족 술포닐클로라이드계 광중합 개시제로서는, 예를 들어, 2-나프탈렌술포닐클로라이드 등을 들 수 있다. 상기 광활성 옥심계 광중합 개시제로서는, 예를 들어, 1-페닐-1,1-프로판디온-2-(o-에톡시카르보닐)-옥심 등을 들 수 있다. 상기 벤조인계 광중합 개시제로서는, 예를 들어, 벤조인 등을 들 수 있다. 상기 벤질계 광중합 개시제로서는, 예를 들어, 벤질 등을 들 수 있다. 상기 벤조페논계 광중합 개시제로서는, 예를 들어, 벤조페논, 벤조일벤조산, 3,3'-디메틸-4-메톡시벤조페논, 폴리비닐벤조페논, α-히드록시시클로헥실페닐케톤 등을 들 수 있다. 상기 케탈계 광중합 개시제로서는, 예를 들어, 벤질디메틸케탈 등을 들 수 있다. 상기 티옥산톤계 광중합 개시제로서는, 예를 들어, 티옥산톤, 2-클로로티옥산톤, 2-메틸티옥산톤, 2,4-디메틸티옥산톤, 이소프로필티옥산톤, 2,4-디이소프로필티옥산톤, 도데실티옥산톤 등을 들 수 있다.
상기 광중합 개시제를 사용하는 경우의 사용량은, 특별히 한정되지 않지만, (메트)아크릴계 블록 코폴리머 A를 구성하는 모노머 성분 100중량부에 대하여, 0.01 내지 1중량부가 바람직하고, 보다 바람직하게는 0.05 내지 0.5중량부이다.
상기 열중합 개시제로서는, 예를 들어 아조계 중합 개시제, 과산화물계 중합 개시제(예를 들어, 디벤조일퍼옥사이드, tert-부틸페르말레에이트 등), 산화 환원계 중합 개시제 등을 들 수 있다. 그 중에서도, 아조계 중합 개시제가 바람직하다. 상기 아조계 중합 개시제로서는, 2,2'-아조비스이소부티로니트릴, 2,2'-아조비스-2-메틸부티로니트릴, 2,2'-아조비스(2-메틸프로피온산)디메틸, 4,4'-아조비스-4-시아노 발레르산 등을 들 수 있다.
상기 아조계 중합 개시제를 사용하는 경우의 사용량은, 특별히 한정되지 않지만, (메트)아크릴계 블록 코폴리머 A를 구성하는 모노머 성분 100중량부에 대하여, 0.05 내지 0.5중량부가 바람직하고, 보다 바람직하게는 0.1 내지 0.3중량부이다.
광학용 점착제 조성물 A에는, 본 발명의 효과를 손상시키지 않는 범위에서, 실란 커플링제가 포함되어 있어도 된다. 광학용 점착제 조성물 A에 실란 커플링제가 포함되어 있으면, 유리에 대한 접착 신뢰성(특히, 고온 고습 환경 하에서의 유리에 대한 접착 신뢰성)이 향상되어, 바람직하다.
상기 실란 커플링제로서는, 특별히 한정되지 않지만, γ-글리시독시프로필트리메톡시실란, γ-글리시독시프로필트리에톡시실란, γ-아미노프로필트리메톡시실란, N-페닐-아미노프로필트리메톡시실란 등을 바람직하게 들 수 있다. 그 중에서도, γ-글리시독시프로필트리메톡시실란이 바람직하다. 또한, 시판품으로서, 예를 들어, 상품명 「KBM-403」(신에츠 가가쿠 고교 가부시키가이샤제)을 들 수 있다. 또한, 실란 커플링제는, 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 사용되어도 된다.
광학용 점착제 조성물 A에 있어서의 실란 커플링제의 함유량은, 특별히 한정되지 않지만, (메트)아크릴계 블록 코폴리머 A 100중량부에 대하여, 0.01 내지 1중량부가 바람직하고, 보다 바람직하게는 0.03 내지 0.5중량부이다.
또한, 광학용 점착제 조성물 A에는, 용제가 포함되어 있어도 된다. 해당 용제로서는, 특별히 한정되지 않지만, 아세트산에틸, 아세트산n-부틸 등의 에스테르류; 톨루엔, 벤젠 등의 방향족 탄화수소류; n-헥산, n-헵탄 등의 지방족 탄화수소류; 시클로헥산, 메틸시클로헥산 등의 지환식 탄화수소류; 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤 등의 케톤류 등의 유기 용제를 들 수 있다. 또한, 용제는, 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 사용되어도 된다.
광학용 점착제 조성물 A는, 어느 형태를 갖고 있는 점착제 조성물이어도 되고, 예를 들어, 에멀션형, 용제형(용액형) 열용융형(핫 멜트형) 등을 들 수 있다. 그 중에서도, 광학용 점착제 조성물 A로서는, 용제형의 점착제 조성물을 바람직하게 들 수 있다.
광학용 점착제 조성물 A의 조제 방법으로서는, 특별히 한정되지 않지만, 예를 들어 공지의 방법을 들 수 있다. 예를 들어, 용제형의 광학용 점착제 조성물 A는, (메트)아크릴계 블록 코폴리머 A, 용제, 필요에 따라 더해지는 성분(예를 들어, 상기한 실란 커플링제, 용제, 첨가제 등)을 혼합함으로써 제작된다.
광학용 점착제 조성물 A의 25℃에서의 저장 탄성률(Ｇ'25)은, 특별히 한정되지 않지만, 실온에서의 가공성을 향상시키는 관점에서, 1MPa 이상이 바람직하고, 보다 바람직하게는 1.5MPa 이상, 보다 바람직하게는 2MPa 이상, 보다 바람직하게는 2.5MPa 이상, 보다 바람직하게는 3MPa 이상이고, 실온에서의 점착 신뢰성을 향상시키는 관점에서, 50MPa 이하가 바람직하고, 보다 바람직하게는 45MPa 이하, 보다 바람직하게는 40MPa 이하, 보다 바람직하게는 35MPa 이하, 보다 바람직하게는 30MPa 이하이다.
광학용 점착제 조성물 A의 50℃에서의 저장 탄성률(Ｇ'50)은, 특별히 한정되지 않지만, 50℃를 초과하는 영역의 단차 흡수성을 향상시키는 관점에서, 0.5MPa 이하가 바람직하고, 보다 바람직하게는 0.45MPa 이하, 보다 바람직하게는 0.4MPa 이하, 보다 바람직하게는 0.35MPa 이하, 보다 바람직하게는 0.3MPa 이하이고, 50℃를 초과하는 영역의 취급성을 향상시키는 관점에서, 0.0001MPa 이상이 바람직하고, 보다 바람직하게는 0.0005MPa 이상, 보다 바람직하게는 0.001MPa 이상, 보다 바람직하게는 0.005MPa 이상, 보다 바람직하게는 0.01MPa 이상이다.
광학용 점착제 조성물 A의 25℃에서의 저장 탄성률과 50℃에서의 저장 탄성률의 비(Ｇ'25/Ｇ'50)는, 특별히 한정되지 않지만, 실온에서의 가공성을 향상시키고, 또한 50℃를 초과하는 영역의 단차 흡수성을 향상시키는 관점에서, 3 이상이 바람직하고, 보다 바람직하게는 5 이상, 보다 바람직하게는 10 이상, 더욱 바람직하게는 15 이상, 특히 바람직하게는 20 이상이고, 접착 신뢰성, 취급성 등의 관점에서, 100 이하가 바람직하고, 보다 바람직하게는 95 이하, 보다 바람직하게는 90 이하, 더욱 바람직하게는 85 이하, 특히 바람직하게는 80 이하이다.
또한, 상기한 25℃에서의 저장 탄성률(Ｇ'25)과 50℃에서의 저장 탄성률(Ｇ'25), 및 이들의 비(Ｇ'25/Ｇ'50)는 후술하는 실시예에 기재된 동적 점탄성 측정에 의해 측정되는 것이다.
이하, 본 발명의 실시 형태를 도면에 관련하여 설명하지만, 본 발명은 이에 한정되는 것은 아니며, 예시에 지나지 않는다.
[점착제층]
본 발명의 제2 측면의 점착제층은, 광학용 점착제 조성물 A로 형성되는 것이다. 본 명세서에 있어서, 광학용 점착제 조성물 A로 형성되는 점착제층을 「점착제층 A」라고 칭하는 경우가 있다. 도 1은 본 발명의 제2 측면의 점착제층 A의 일 실시 형태를 도시하는 모식도(단면도)이다. 도 1에 있어서, 2는, 점착제층 A, S1, S2는, 박리 필름이다.
점착제층(2)(점착제층 A)은 사용시까지는 점착면에 박리 필름(세퍼레이터)(S1, S2)가 마련되어 있어도 된다. 점착제층(2)의 점착면이 박리 필름(S1, S2)에 의해 보호되는 형태는, 특별히 한정되지 않지만, 2매의 박리 필름(S1, S2)에 의해 각각의 점착면이 보호되는 형태여도 되고, 롤 형상으로 권회됨으로써, 양면이 박리면인 1매의 박리 필름으로, 각각의 점착면이 보호되는 형태여도 된다. 박리 필름(S1, S2)은, 점착제층(2)의 보호재로서 사용되고, 피착체에 첩부할 때 박리된다. 또한, 점착제층(2)에 있어서, 박리 필름(S1, S2)은, 점착제층(2)의 지지체로서의 역할도 담당한다. 또한, 박리 필름(S1, S2)은 반드시 마련되지는 않아도 된다.
점착제층 A는, 특별히 한정되지 않지만, 광학용 점착제 조성물 A를, 기재나 박리 필름 등의 적당한 지지체 상에 도포(도공)하고, 필요에 따라, 가열 건조 및/또는 경화시킴으로써 형성된다. 예를 들어, 용제형의 광학용 점착제 조성물 A에 의해 광학용 점착제층 A를 형성하는 경우, 광학용 점착제 조성물 A를 지지체 상에 도포(도공)하고, 가열 건조시킴으로써 형성된다. 가열 건조 후에 형성되는 점착면은 박리 필름 등으로 보호되어도 된다.
상기 박리 필름으로서는, 특별히 한정되지 않지만, 예를 들어, 박리 처리층을 갖는 기재, 불소 폴리머로 이루어지는 저접착성 기재나 무극성 폴리머로 이루어지는 저접착성 기재 등을 들 수 있다. 상기 박리 처리층을 갖는 기재로서는, 예를 들어, 실리콘계, 장쇄 알킬계, 불소계, 황화몰리브덴 등의 박리 처리제에 의해 표면 처리된 플라스틱 필름이나 종이 등을 들 수 있다. 상기 불소 폴리머로 이루어지는 저접착성 기재에 있어서의 불소계 폴리머로서는, 예를 들어, 폴리테트라플루오로에틸렌, 폴리클로로트리플루오로에틸렌, 폴리불화비닐, 폴리불화비닐리덴, 테트라플루오로에틸렌-헥사플루오로프로필렌 공중합체, 클로로플루오로에틸렌-불화비닐리덴 공중합체 등을 들 수 있다. 또한, 상기 무극성 폴리머로서는, 예를 들어, 올레핀계 수지(예를 들어, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌 등) 등을 들 수 있다. 또한, 상기 세퍼레이터는 공지 내지 관용의 방법으로 형성된다. 또한, 세퍼레이터의 두께 등도, 특별히 한정되지 않는다.
또한, 상기의 도포(도공) 시에는, 공지의 코팅법이 사용되어도 된다. 예를 들어, 관용의 코터, 구체적으로는, 그라비아 롤 코터, 리버스 롤 코터, 키스 롤 코터, 딥 롤 코터, 바 코터, 나이프 코터, 스프레이 코터, 콤마 코터, 다이렉트 코터 등이 사용되어도 된다.
점착제층 A의 겔 분율은, 50 내지 90중량％이고, 바람직하게는 50 내지 80중량％, 더욱 바람직하게는 50 내지 70중량％이다. 상기 겔 분율을 90중량％ 이하로 함으로써, 점착제층 A의 응집력이 어느 정도 작아져, 점착제층 A가 유연해지기 때문에, 단차 부분에 점착제층이 추종하기 쉬워져, 우수한 단차 흡수성이 얻어진다. 한편, 상기 겔 분율을 50중량％ 이상으로 함으로써, 점착제층이 너무 유연해져, 점착 시트의 가공성이 저하된다는 문제의 발생을 억제할 수 있고, 또한 고온 환경 하나 고온 고습 환경 하에서, 기포나 들뜸의 발생을 억제하여, 접착 신뢰성을 향상시킬 수 있다. 상기 겔 분율은, 예를 들어, 상기의 가교제의 종류나 함유량(사용량) 등에 의해 제어할 수 있다.
상기 겔 분율(용제 불용분의 비율)은 아세트산에틸 불용분으로서 구할 수 있다. 구체적으로는, 점착제층을, 아세트산에틸 중에 실온(23℃)에서 7일간 침지시킨 후의 불용분의 침지 전의 시료에 대한 중량 분율(단위: 중량％)로서 구해진다. 보다 구체적으로는, 상기 겔 분율이란, 이하의 「겔 분율의 측정 방법」에 의해 산출되는 값이다.
(겔 분율의 측정 방법)
점착제층을 약 1g 채취하고, 그 중량을 측정하고, 해당 중량을 「침지 전의 점착제층의 중량」이라 하자. 다음으로, 채취한 점착제층을 아세트산에틸 40g에 7일간 침지시킨 후, 아세트산에틸에 불용해된 성분(불용해 부분)을 모두 회수하고, 회수한 전체 불용해 부분을 130℃에서 2시간 건조시켜 아세트산에틸을 제거한 후, 그 중량을 측정하여 「불용해 부분의 건조 중량」(침지 후의 점착제층의 중량)이라 하자. 그리고, 얻어진 수치를 이하의 식에 대입하여 산출한다.
겔 분율(중량％)=[(불용해 부분의 건조 중량)/(침지 전의 점착제층의 중량)]×100
또한, 점착제층 A의 융점은, 특별히 한정되지 않지만, -60 내지 20℃인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는, -40 내지 10℃이고, 더욱 바람직하게는, -30 내지 0℃이다. 상기 융점이, 20℃보다 높으면 실온에서 점착력을 발현할 수 없다.
상기 융점은, 특별히 한정되지 않지만, 예를 들어, 점착제층을 측정용 샘플로서, 시차 주사 열량 측정(DSC)에 의해, JIS K 7121에 준거하여 측정할 수 있다. 구체적으로는, 예를 들어, 측정 장치로서, TA instruments사제, 장치명 「Q-2000」을 사용하여, -80℃에서 80℃까지 승온 속도 10℃/분의 조건으로 측정할 수 있다.
착색제를 함유하는 점착제층 A의 두께는 특별히 한정되지 않고 후술하는 표시 패널 상에 배열된 발광 소자를 충분히 밀봉할 수 있도록, 해당 발광 소자의 높이 이상이 되도록 적절히 설정하면 된다. 예를 들어, 착색제를 함유하는 점착제층 A의 두께는, 해당 발광 소자의 높이 1.0 내지 4.0배, 바람직하게는 1.1 내지 3.0배, 보다 바람직하게는 1.2 내지 2.5배, 더욱 바람직하게는 1.3 내지 2.0배가 되도록 조정된다. 상기 두께를 1.0배 이상으로 함으로써, 단차에 점착제층 A가 추종하기 쉬워져, 단차 흡수성이 향상된다. 또한, 상기 두께를 4.0 이하로 함으로써, 점착제층 A의 변형이 일어나기 어려워져, 가공성이 향상된다.
착색제를 함유하는 점착제층 A의 두께는, 예를 들어 10 내지 500㎛ 정도이고, 20㎛ 이상, 30㎛ 이상, 40㎛ 이상 또는 50㎛ 이상이어도 된다. 착색제를 함유하는 점착제층 A의 두께는, 400㎛ 이하, 300㎛ 이하, 250㎛ 이하 또는 200㎛ 이하여도 된다. 상기 두께를 10㎛ 이상으로 함으로써, 단차 부분에 점착제층 A가 추종하기 쉬워져, 단차 흡수성이 향상된다. 또한, 상기 두께를 500㎛ 이하로 함으로써, 점착제층 A의 변형이 일어나기 어려워져, 가공성이 향상된다.
착색제를 함유하는 점착제층 A의 파장 400 내지 700nm(가시광 영역)의 평균 투과율은, 예를 들어 80％ 이하이고, 70％ 이하, 60％ 이하, 50％ 이하, 40％ 이하, 30％ 이하, 20％ 이하 또는 10％ 이하여도 된다.
착색제를 함유하는 점착제층 A의 파장 400 내지 700nm(가시광 영역)의 투과율의 최댓값은, 예를 들어 80％ 이하이고, 70％ 이하, 60％ 이하, 50％ 이하, 40％ 이하, 30％ 이하, 20％ 이하 또는 10％ 이하여도 된다.
점착제층 A의 25℃에서의 저장 탄성률(Ｇ'25)은, 특별히 한정되지 않지만, 실온에서의 가공성을 향상시키는 관점에서, 1MPa 이상이 바람직하고, 보다 바람직하게는 1.5MPa 이상, 보다 바람직하게는 2MPa 이상, 보다 바람직하게는 2.5MPa 이상, 보다 바람직하게는 3MPa 이상이고, 실온에서의 점착 신뢰성을 향상시키는 관점에서, 50MPa 이하가 바람직하고, 보다 바람직하게는 45MPa 이하, 보다 바람직하게는 40MPa 이하, 보다 바람직하게는 35MPa 이하, 보다 바람직하게는 30MPa 이하이다.
점착제층 A의 50℃에서의 저장 탄성률(Ｇ'50)은, 특별히 한정되지 않지만, 50℃를 초과하는 영역의 단차 흡수성을 향상시키는 관점에서, 0.5MPa 이하가 바람직하고, 보다 바람직하게는 0.45MPa 이하, 보다 바람직하게는 0.4MPa 이하, 보다 바람직하게는 0.35MPa 이하, 보다 바람직하게는 0.3MPa 이하이고, 50℃를 초과하는 영역의 취급성을 향상시키는 관점에서, 0.0001MPa 이상이 바람직하고, 보다 바람직하게는 0.0005MPa 이상, 보다 바람직하게는 0.001MPa 이상, 보다 바람직하게는 0.005MPa 이상, 보다 바람직하게는 0.01MPa 이상이다.
점착제층 A의 25℃에서의 저장 탄성률과 50℃에서의 저장 탄성률의 비(Ｇ'25/Ｇ'50)는, 특별히 한정되지 않지만, 실온에서의 가공성을 향상시키고, 또한 50℃를 초과하는 영역의 단차 흡수성을 향상시키는 관점에서, 3 이상이 바람직하고, 보다 바람직하게는 5 이상, 보다 바람직하게는 10 이상, 더욱 바람직하게는 15 이상, 특히 바람직하게는 20 이상이고, 접착 신뢰성, 취급성 등의 관점에서, 100 이하가 바람직하고, 보다 바람직하게는 95 이하, 보다 바람직하게는 90 이하, 더욱 바람직하게는 85 이하, 특히 바람직하게는 80 이하이다.
또한, 상기한 25℃에서의 저장 탄성률(Ｇ'25)과 50℃에서의 저장 탄성률(Ｇ'25), 및 이들의 비(Ｇ'25/Ｇ'50)는 동적 점탄성 측정에 의해 측정되는 것이다.
본 발명의 점착제층 A는, 점착 시트(본 명세서에 있어서, 「점착 시트 A」라고 칭하는 경우가 있음)의 구성 부재여도 된다. 즉, 점착 시트 A는, 점착제층 A를 적어도 1층 갖는 점착 시트이다. 또한, 「점착 시트」에는, 「점착 테이프」의 의미를 포함하는 것으로 한다. 즉, 점착 시트 A는, 테이프 상의 형태를 갖는 점착 테이프여도 된다
점착 시트 A는, 해당 시트의 편면만이 점착제층 표면(점착면)인(즉, 점착제층 A 표면인) 편면 점착 시트여도 되고, 해당 시트의 양면이 점착제층 표면인 양면 점착 시트여도 된다. 점착 시트 A는, 특별히 한정되지 않지만, 피착체끼리의 접합에 사용하는 등의 관점에서, 양면 점착 시트인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 해당 시트의 양면이 점착제층 A의 표면인 양면 점착 시트이다.
점착 시트 A는, 기재(기재층)를 갖지 않는 점착 시트, 소위 「무기재 타입」의 점착 시트(「무기재 점착 시트」라고 칭하는 경우가 있음)여도 되고, 기재를 갖는 점착 시트(「기재를 구비한 점착 시트」라고 칭하는 경우가 있음)여도 된다. 상기 무기재 점착 시트로서는, 예를 들어, 점착제층 A만으로 이루어지는 양면 점착 시트나, 점착제층 A와 점착제층 A 이외의 점착제층(「기타의 점착제층」이라고 칭하는 경우가 있음)으로 이루어지는 양면 점착 시트 등을 들 수 있다. 상기 기재를 갖는 점착 시트로서는, 예를 들어, 기재의 편면 측에 점착제층 A를 갖는 편면 점착 시트나, 기재의 양면 측에 점착제층 A를 갖는 양면 점착 시트나, 기재의 한쪽 편면 측에 점착제층 A를 갖고, 다른 쪽 편면 측에 다른 점착제층을 갖는 양면 점착 시트 등을 들 수 있다.
상기한 것 중에서도, 투명성 등의 광학 물성 향상의 관점에서, 무기재 점착 시트가 바람직하고, 보다 바람직하게는, 점착제층 A만으로 이루어지는, 기재를 갖지 않는 양면 점착 시트(무기재 양면 점착 시트)이다. 또한, 점착 시트 A가 기재를 갖는 점착 시트인 경우에는, 특별히 한정되지 않지만, 가공성의 관점에서, 기재의 양면 측에 점착제층 A를 갖는 양면 점착 시트(기재를 구비한 양면 점착 시트)인 것이 바람직하다.
또한, 상기의 「기재(기재층)」란, 점착 시트 A를 피착체(광학 부재 등)에 사용(첩부)할 때에는, 점착제층과 함께 피착체에 첩부되는 부분이고, 점착 시트의 사용(첩부)시에 박리되는 박리 필름(세퍼레이터)은 포함되지 않는다.
점착 시트 A는, 상기로부터, 기재를 구비한 점착 시트여도 된다. 이러한 기재로서는, 예를 들어, 플라스틱 필름, 반사 방지(AR) 필름, 편광판, 위상차판 등의 각종 광학 필름을 들 수 있다. 상기 플라스틱 필름 등의 소재로서는, 예를 들어, 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET) 등의 폴리에스테르계 수지, 폴리메틸메타크릴레이트(PMMA) 등의 아크릴계 수지, 폴리카보네이트, 트리아세틸셀룰로오스(TAC), 폴리술폰, 폴리아릴레이트, 폴리이미드, 폴리염화비닐, 폴리아세트산비닐, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 에틸렌-프로필렌 공중합체, 상품명 「아톤」(환상 올레핀계 폴리머, JSR 가부시키가이샤제), 상품명 「제오노아」(환상 올레핀계 폴리머, 닛폰 제온 가부시키가이샤제)」 등의 환상 올레핀계 폴리머 등의 플라스틱 재료를 들 수 있다. 또한, 이들 플라스틱 재료는, 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 사용되어도 된다. 또한, 상기의 「기재」란, 점착 시트를 피착체(광학 부재 등)에 첩부할 때에는, 점착제층과 함께 피착체에 첩부되는 부분이다. 점착 시트의 사용시(첩부시)에 박리되는 박리 필름(세퍼레이터)은 「기재」에는 포함되지 않는다.
상기 기재는, 투명한 것이 바람직하다. 상기 기재의 가시광 파장 영역에 있어서의 전광선 투과율(JIS K7361-1에 준함)은, 특별히 한정되지 않지만, 85％ 이상이 바람직하고, 보다 바람직하게는 88％ 이상이다. 또한, 상기 기재의 헤이즈(JIS K7136에 준함)는, 특별히 한정되지 않지만, 1.5％ 이하가 바람직하고, 보다 바람직하게는 1.0％ 이하이다. 이러한 투명한 기재로서는, 예를 들어, PET 필름이나, 상품명 「아톤」, 상품명 「제오노아」 등의 무배향 필름 등을 들 수 있다.
상기 기재의 두께는, 특별히 한정되지 않지만, 12 내지 75㎛가 바람직하다. 또한, 상기 기재는 단층 및 복층의 어느 형태를 갖고 있어도 된다. 또한, 상기 기재의 표면에는, 예를 들어, 코로나 방전 처리, 플라스마 처리 등의 물리적 처리, 하도 처리 등의 화학적 처리 등의 공지 관용의 표면 처리가 적절히 실시되어 있어도 된다.
점착 시트 A는, 다른 점착제층(점착제층 A 이외의 점착제층)을 갖고 있어도 된다. 상기 다른 점착제층으로서는, 특별히 한정되지 않지만, 예를 들어, 우레탄계 점착제, 아크릴계 점착제, 고무계 점착제, 실리콘계 점착제, 폴리에스테르계 점착제, 폴리아미드계 점착제, 에폭시계 점착제, 비닐알킬에테르계 점착제, 불소계 점착제 등의 공지 내지 관용의 점착제로 형성된 점착제층을 들 수 있다. 또한, 상기 점착제는, 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 사용되어도 된다.
점착 시트 A는, 점착제층 A, 다른 점착제층, 기재 이외에도, 본 발명의 효과를 손상시키지 않는 범위에서, 다른 층(예를 들어, 중간층, 하도층 등)을 갖고 있어도 된다.
점착 시트 A는, 사용시까지는 점착면에 박리 필름(세퍼레이터)이 마련되어 있어도 된다. 광학용 점착 시트 A의 점착면이 박리 필름에 의해 보호되는 형태는, 특별히 한정되지 않지만, 2매의 박리 필름에 의해 각각의 점착면이 보호되는 형태여도 되고, 롤 형상으로 권회됨으로써, 양면이 박리면인 1매의 박리 필름으로, 각각의 점착면이 보호되는 형태여도 된다. 박리 필름은, 점착제층의 보호재로서 사용되고, 피착체에 첩부할 때 박리된다. 또한, 점착 시트 A에 있어서, 박리 필름은, 점착제층의 지지체로서의 역할도 담당한다. 또한, 박리 필름은 반드시 마련되지는 않아도 된다.
점착 시트 A의 제조 방법으로서는, 공지 내지 관용의 제조 방법을 들 수 있다. 점착 시트 A의 제조 방법은, 점착제층 A의 조성 등에 따라 다르고, 특별히 한정되지 않지만, 예를 들어, 이하의 (1) 내지 (3) 등의 방법을 들 수 있다.
(1) (메트)아크릴계 블록 코폴리머 A, 착색제, 필요에 따라, 실란 커플링제, 기타의 첨가제 등을 포함하는 광학용 점착제 조성물 A를, 기재 또는 세퍼레이터 상에 도포(도공)하고, 경화(예를 들어, 열 경화)하여, 점착 시트 A를 제조한다.
(2) (메트)아크릴계 블록 코폴리머 A, 착색제, 필요에 따라, 첨가제 등을 용제에 녹인 광학용 점착제 조성물 A(용액)를 기재 또는 세퍼레이터 상에 도포(도공)하고, 건조 및/또는 경화시켜 점착 시트를 제조한다
(3) 상기 (1)에서 제조한 점착 시트 A를 추가로 건조시킨다.
점착 시트 A는, 특별히 한정되지 않지만, 생산성의 관점에서, (메트)아크릴계 블록 코폴리머 A 및 중합 개시제(열중합 개시제 등의 중합 개시제)를 포함하는 광학용 점착제 조성물 A에 의해, 열에 의한 경화 반응을 이용하여, 제조된 점착 시트인 것이 바람직하다.
점착 시트 A의 두께(총 두께)는, 특별히 한정되지 않지만, 10㎛ 내지 1mm가 바람직하고, 보다 바람직하게는 100 내지 500㎛, 더욱 바람직하게는 150 내지 350㎛이다. 상기 두께를 10㎛ 이상으로 함으로써, 단차 부분에 점착제층이 추종하기 쉬워져, 단차 흡수성의 향상을 도모할 수 있다. 또한, 점착 시트 A의 두께에는, 박리 필름의 두께는 포함되지 않는다.
점착 시트 A는, 점착제층 A를 가지므로, 실온에서의 가공성이 우수하다.
또한, 점착 시트 A는, 점착제층 A를 가지므로, 50℃를 초과하는 영역에서의 단차 흡수성이 우수하다. 예를 들어, 5 내지 10㎛의 단차에 더하여, 40㎛를 초과하는 높은 단차에 대해서도, 단차 흡수성이 우수하다. 나아가, 80㎛를 초과하는 높은 단차에 대해서도 단차 흡수성을 갖는다.
또한, 점착 시트 A는, 점착제층 A를 가지므로, 접착 신뢰성이 우수하다.
[광학 적층체]
본 발명의 제3 측면의 광학 적층체는, 기재와, 점착제층 A를 포함하는 것이다. 도 2 내지 도 4는, 본 발명의 제3 측면의 광학 적층체의 일 실시 형태를 도시하는 모식도(단면도)이다. 도 2에 있어서, 광학 적층체(20)는 기재(1)와, 점착제층(2)(점착제층 A)이 적층된 적층 구조를 갖는다. 도 3에 있어서, 광학 적층체(21)는 기재(1)의 점착제층(2)이 적층되어 있지 않은 면(1a)은 반사 방지 처리 및/또는 안티글래어 처리(3)가 실시되어 있다. 도 4에 있어서, 광학 적층체(22)는 기재(1)의 점착제층(2)이 적층되어 있지 않은 면(1a)은 반사 방지 처리 및/또는 안티글래어 처리로서 안티글레어층(3a)이 형성되어 있다.
본 실시 형태의 광학 적층체에 의해, 상기 점착제층(2)은 표시 패널 상에 배열된 발광 소자를 밀봉하는 밀봉재가 되고, 상기 기재(1)는 최표층의 커버 부재가 되기 때문에, 밀봉 후에 별도 커버 부재를 적층시킬 필요가 없어, 공정수나 필요 부재를 삭감할 수 있어, 제조 효율이 향상된다.
<기재>
본 실시 형태에 있어서, 기재(1)는, 특별히 제한되지 않지만, 예를 들어, 유리나 투명 플라스틱 필름 기재 등을 들 수 있다. 상기 투명 플라스틱 필름 기재는, 특별히 제한되지 않지만, 가시광의 광선 투과율이 우수하고, 투명성이 우수한 것(바람직하게는 헤이즈값 5％ 이하의 것)이 바람직하고, 예를 들어, 일본 특허 공개 제2008-90263호 공보에 기재된 투명 플라스틱 필름 기재를 들 수 있다. 상기 투명 플라스틱 필름 기재로서는, 광학적으로 복굴절이 적은 것이 적합하게 사용된다. 본 실시 형태에 있어서 기재(1)는, 예를 들어, 자발광형 표시 장치의 커버 부재로서 사용할 수도 있고, 이 경우에는, 상기 투명 플라스틱 필름 기재로서는, 트리아세틸셀룰로오스(TAC), 폴리카보네이트, 아크릴계 폴리머, 환상 내지 노르보르넨 구조를 갖는 폴리올레핀 등으로 형성된 필름이 바람직하다. 또한, 본 실시 형태에 있어서 기재(1)는 상기 커버 부재 자체여도 된다. 이러한 구성이면, 자발광형 표시 장치의 제조에 있어서 커버 부재를 별도로 적층하는 공정을 삭감할 수 있으므로, 공정수나 필요 부재를 감소시켜, 생산 효율의 향상이 도모된다. 또한, 이러한 구성이면, 상기 커버 부재를, 보다 박층화할 수 있다. 또한, 기재(1)가 커버 부재인 경우에는, 반사 방지 처리 및/또는 안티글래어 처리된 면(1a)이 자발광형 표시 장치의 최표면이 되고, 외광의 반사나 상의 투영 등에 의한 시인성의 저하를 방지하는, 광택도 등의 미관을 조정하는 역할을 하게 된다.
본 실시 형태에 있어서, 기재(1)의 두께는, 특별히 제한되지 않지만, 예를 들어, 강도, 취급성 등의 작업성 및 박층성 등의 점을 고려하면, 10 내지 500㎛의 범위가 바람직하고, 보다 바람직하게는 20 내지 300㎛의 범위이고, 최적으로는, 30 내지 200㎛의 범위이다. 상기 기재(1)의 굴절률은, 특별히 제한되지 않지만, 예를 들어, 1.30 내지 1.80의 범위이고, 바람직하게는 1.40 내지 1.70의 범위이다. 기재(1)의 가시광 투과율은, 특별히 한정되지 않지만, 예를 들어 85 내지 100％이고, 88％ 이상, 90％ 이상, 또는 92％ 이상이어도 된다.
본 실시 형태에 있어서, 기재(1)의 면(1a)은 반사 표면 처리 및/또는 안티글래어 처리(3)가 실시되어 있는 것이 바람직하다. 기재(1)의 면(1a)이 반사 표면 처리 및/또는 안티글래어 처리(3)가 실시되어 있는 경우, 당해 면(1a)이 자발광형 표시 장치의 최표면이 되고, 외광의 반사나 상의 투영 등에 의한 시인성의 저하를 방지하거나, 또는 광택도 등의 미관을 조정할 수 있다. 제조가 용이하고, 비용이 낮은 안티글래어 처리가 바람직하다.
상기 안티리플렉션(AR) 처리로서는, 공지의 AR 처리를 특별히 제한 없이 적용할 수 있고, 구체적으로는, 기재(1)의 편면(1a) 상에 두께 및 굴절률을 엄밀하게 제어한 광학 박막 또는 상기 광학 박막을 2층 이상 적층한 반사 방지층(AR층)을 형성함으로써 실시할 수 있다. 상기 AR층은, 광의 간섭 효과를 이용하여 입사광과 반사광의 역전된 위상을 서로 상쇄함으로써 반사 방지 기능을 발현한다. 반사 방지 기능을 발현시키는 가시광선의 파장 영역은, 예를 들어, 380 내지 780nm이고, 특히 시감도가 높은 파장 영역은 450 내지 650nm의 범위이고, 그 중심 파장인 550nm의 반사율을 최소로 하도록 AR층을 설계하는 것이 바람직하다.
상기 AR층으로서는, 일반적으로, 2 내지 5층의 광학 박층(두께 및 굴절률을 엄밀하게 제어한 박막)을 적층한 구조의 다층 반사 방지층을 들 수 있고, 굴절률이 다른 성분을 소정의 두께만큼 복수층 형성함으로써, AR층의 광학 설계의 자유도가 높아지고, 보다 반사 방지 효과를 향상시킬 수 있고, 분광 반사 특성도 가시광 영역에서 균일(플랫)하게 하는 것이 가능하게 된다. 상기 광학 박막에 있어서, 높은 두께 정밀도가 요구되기 때문에, 일반적으로, 각 층의 형성은, 드라이 방식인 진공 증착, 스퍼터링, CVD 등으로 실시된다.
상기 안티글레어(AG) 처리로서는, 공지의 AG 처리를 특별히 제한 없이 적용할 수 있고, 예를 들어, 기재(1)의 편면(1a) 상에 안티글레어층을 형성함으로써 실시할 수 있다. 도 2는 본 발명의 제1 측면의 광학 적층체의 다른 일 실시 형태를 도시하는 모식도(단면도)이다. 본 실시 형태의 광학 적층체(22)에 있어서, 기재(1)의 편면(1a) 상에 안티글레어층(3a)이 형성되어 있다. 상기 안티글레어층(3a)으로서는, 공지의 것을 제한 없이 채용할 수 있고, 일반적으로, 수지 중에 안티글레어제로서 무기 또는 유기의 입자를 분산시킨 층으로서 형성된다.
본 실시 형태에 있어서, 안티글레어층(3a)은 수지, 입자 및 틱소트로피 부여제를 포함하는 안티글레어층 형성 재료를 사용하여 형성되어 있고, 상기 입자 및 상기 틱소트로피 부여제가 응집함으로써, 상기 안티글레어층(3a)의 표면에 볼록형부가 형성된다. 당해 구성에 의해, 안티글레어층(3a)은 안티글레어성과, 백색 흐림의 방지를 양립시킨 우수한 표시 특성을 가짐과 함께, 입자의 응집을 이용하여 안티글레어층을 형성하고 있음에도 불구하고, 외관 결점이 되는 안티글레어층 표면의 돌기상물의 발생을 방지하여 제품의 수율을 향상시킬 수 있다.
상기 수지는, 예를 들어, 열경화성 수지, 자외선이나 광으로 경화되는 전리 방사선 경화성 수지를 들 수 있다. 상기 수지로서, 시판중인 열경화형 수지나 자외선 경화형 수지 등을 사용하는 것도 가능하다.
상기 열경화형 수지나 자외선 경화형 수지로서는, 예를 들어, 열, 광(자외선 등) 또는 전자선 등에 의해 경화되는 아크릴레이트기 및 메타크릴레이트기 중 적어도 한쪽의 기를 갖는 경화형 화합물을 사용할 수 있고, 예를 들어, 실리콘 수지, 폴리에스테르 수지, 폴리에테르 수지, 에폭시 수지, 우레탄 수지, 알키드 수지, 스피로아세탈 수지, 폴리부타디엔 수지, 폴리티올폴리엔 수지, 다가 알코올 등의 다관능 화합물의 아크릴레이트나 메타크릴레이트 등의 올리고머 또는 프리폴리머 등을 들 수 있다. 이들은, 1종류를 단독으로 사용해도 되고, 2종류 이상을 병용해도 된다.
상기 수지에는, 예를 들어, 아크릴레이트기 및 메타크릴레이트기 중 적어도 한쪽의 기를 갖는 반응성 희석제를 사용할 수도 있다. 상기 반응성 희석제는, 예를 들어, 일본 특허 공개 제2008-88309호 공보에 기재된 반응성 희석제를 사용할 수 있고, 예를 들어, 단관능 아크릴레이트, 단관능 메타크릴레이트, 다관능 아크릴레이트, 다관능 메타크릴레이트 등을 포함한다. 상기 반응성 희석제로서는, 3관능 이상의 아크릴레이트, 3관능 이상의 메타크릴레이트가 바람직하다. 이것은, 안티글레어층(3a)의 경도를, 우수한 것으로 할 수 있기 때문이다. 상기 반응성 희석제로서는, 예를 들어, 부탄디올글리세린에테르디아크릴레이트, 이소시아누르산의 아크릴레이트, 이소시아누르산의 메타크릴레이트 등도 들 수 있다. 이들은, 1종류를 단독으로 사용해도 되고, 2종류 이상을 병용해도 된다.
안티글레어층(3a)을 형성하기 위한 입자는, 형성되는 안티글레어층(3a)의 표면을 요철 형상으로 하여 안티글레어성을 부여하고, 또한 안티글레어층(3a)의 헤이즈값을 제어하는 것을 주된 기능으로 한다. 안티글레어층(3a)의 헤이즈값은, 상기 입자와 상기 수지의 굴절률차를 제어함으로써, 설계할 수 있다. 상기 입자로서는, 예를 들어, 무기 입자와 유기 입자가 있다. 상기 무기 입자는, 특별히 제한되지 않고, 예를 들어, 산화규소 입자, 산화티타늄 입자, 산화알루미늄 입자, 산화아연 입자, 산화주석 입자, 탄산칼슘 입자, 황산바륨 입자, 탈크 입자, 카올린 입자, 황산칼슘 입자 등을 들 수 있다. 또한, 상기 유기 입자는, 특별히 제한되지 않고, 예를 들어, 폴리메틸메타크릴레이트 수지 분말(PMMA 미립자), 실리콘 수지 분말, 폴리스티렌 수지 분말, 폴리카보네이트 수지 분말, 아크릴스티렌 수지 분말, 벤조구아나민 수지 분말, 멜라민 수지 분말, 폴리올레핀 수지 분말, 폴리에스테르 수지 분말, 폴리아미드 수지 분말, 폴리이미드 수지 분말, 폴리불화에틸렌 수지 분말 등을 들 수 있다. 이들 무기 입자 및 유기 입자는, 1종류를 단독으로 사용해도 되고, 2종류 이상을 병용해도 된다.
상기 입자의 중량 평균 입경(D)은 2.5 내지 10㎛의 범위 내에 있는 것이 바람직하다. 상기 입자의 중량 평균 입경을, 상기 범위로 함으로써, 예를 들어, 보다 안티글레어성이 우수하고, 또한 백색 흐림을 방지할 수 있다. 상기 입자의 중량 평균 입경은, 보다 바람직하게는, 3 내지 7㎛의 범위 내이다. 또한, 상기 입자의 중량 평균 입경은, 예를 들어, 콜터 카운트법에 의해 측정할 수 있다. 예를 들어, 세공 전기 저항법을 이용한 입도 분포 측정 장치(상품명: 콜터 멀티사이저, 베크만·콜터사제)를 사용하여, 입자가 상기 세공을 통과할 때의 입자의 체적에 상당하는 전해액의 전기 저항을 측정함으로써, 상기 입자의 수와 체적을 측정하여, 중량 평균 입경을 산출한다.
상기 입자의 형상은, 특별히 제한되지 않고, 예를 들어, 비즈상의 대략 구형이어도 되고, 분말 등의 부정형의 것이어도 되지만, 대략 구형의 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는, 애스펙트비가 1.5 이하인 대략 구형의 입자이고, 가장 바람직하게는 구형의 입자이다.
안티글레어층(3a)에 있어서의 상기 입자의 비율은, 상기 수지 100중량부에 대하여, 0.2 내지 12중량부의 범위가 바람직하고, 보다 바람직하게는, 0.5 내지 12중량부의 범위이고, 더욱 바람직하게는 1 내지 7중량부의 범위이다. 상기 범위로 함으로써, 예를 들어, 보다 안티글레어성이 우수하고, 또한 백색 흐림을 방지할 수 있다.
안티글레어층(3a)을 형성하기 위한 틱소트로피 부여제로서는, 예를 들어, 유기 점토, 산화 폴리올레핀, 변성 우레아 등을 들 수 있다.
상기 유기 점토는, 상기 수지와의 친화성을 개선하기 위해, 유기화 처리한 점토인 것이 바람직하다. 유기 점토로서는, 예를 들어, 층상 유기 점토를 들 수 있다. 상기 유기 점토는, 자가 조제해도 되고, 시판품을 사용해도 된다. 상기 시판품으로서는, 예를 들어, 루센타이트 SAN, 루센타이트 STN, 루센타이트 SEN, 루센타이트 SPN, 소마시프 ME-100, 소마시프 MAE, 소마시프 MTE, 소마시프 MEE, 소마시프 MPE(상품명, 모두 코프 케미컬(주)제); 에스벤, 에스벤 C, 에스벤 E, 에스벤 W, 에스벤 P, 에스벤 WX, 에스벤 N-400, 에스벤 NX, 에스벤 NX80, 에스벤 NO12S, 에스벤 NEZ, 에스벤 NO12, 에스벤 NE, 에스벤 NZ, 에스벤 NZ70, 오르가나이트, 오르가나이트 D, 오르가나이트 T(상품명, 모두 (주)호준제); 쿠니피아 F, 쿠니피아 G, 쿠니피아 G4(상품명, 모두 쿠니미네 고교(주)제); 틱소겔 VZ, 크레이톤 HT, 크레이톤 40(상품명, 모두 록우드 애디티브즈사제) 등을 들 수 있다.
상기 산화 폴리올레핀은, 자가 조제해도 되고, 시판품을 사용해도 된다. 상기 시판품으로서는, 예를 들어, 디스팔론 4200-20(상품명, 구스모토 가세이(주)제), 플로논 SA300(상품명, 교에이샤 가가쿠(주)제) 등을 들 수 있다.
상기 변성 우레아는, 이소시아네이트 단량체 혹은 그 어덕트체와 유기 아민의 반응물이다. 상기 변성 우레아는, 자가 조제해도 되고, 시판품을 사용해도 된다. 상기 시판품으로서는, 예를 들어, BYK410(빅케미사제) 등을 들 수 있다.
상기 틱소트로피 부여제는, 1종류를 단독으로 사용해도 되고, 2종류 이상을 병용해도 된다.
본 실시 형태의 광학 적층체(22)에 있어서, 상기 볼록형부의 상기 안티글레어층(3a)의 조도 평균선으로부터의 높이가, 안티글레어층(3a)의 두께의 0.4배 미만인 것이 바람직하다. 보다 바람직하게는, 0.01배 이상 0.4배 미만의 범위이고, 더욱 바람직하게는, 0.01배 이상 0.3배 미만의 범위이다. 이 범위이면, 상기 볼록형부에 외관 결점이 되는 돌기물이 형성되는 것을 적합하게 방지할 수 있다. 본 실시 형태의 안티글레어층(3a)은 이러한 높이의 볼록형부를 가짐으로써, 외관 결점을 발생시키기 어렵게 할 수 있다. 여기서, 상기 평균선으로부터의 높이는, 예를 들어, 일본 특허 공개 제2017-138620호 공보에 기재된 방법에 의해 측정할 수 있다.
안티글레어층(3a)에 있어서의 상기 틱소트로피 부여제의 비율은, 상기 수지 100중량부에 대하여, 0.1 내지 5중량부의 범위가 바람직하고, 보다 바람직하게는, 0.2 내지 4중량부의 범위이다.
안티글레어층(3a)의 두께(d)는, 특별히 제한되지 않지만, 3 내지 12㎛의 범위 내에 있는 것이 바람직하다. 안티글레어층(3a)의 두께(d)를 상기 범위로 함으로써, 예를 들어, 광학 적층체(22)의 컬의 발생을 방지할 수 있어, 반송성 불량 등의 생산성의 저하 문제를 회피할 수 있다. 또한, 상기 두께(d)가 상기 범위에 있는 경우, 상기 입자의 중량 평균 입경(D)은, 전술한 바와 같이, 2.5 내지 10㎛의 범위 내에 있는 것이 바람직하다. 안티글레어층(3a)의 두께(d)와, 상기 입자의 중량 평균 입경(D)이 전술한 조합임으로써, 더욱 안티글레어성이 우수한 것으로 할 수 있다. 안티글레어층(3a)의 두께(d)는, 보다 바람직하게는, 3 내지 8㎛의 범위 내이다.
안티글레어층(3a)의 두께(d)와 상기 입자의 중량 평균 입경(D)의 관계는, 0.3≤D/d≤0.9의 범위 내에 있는 것이 바람직하다. 이러한 관계에 있음으로써, 보다 안티글레어성이 우수하고, 또한 백색 흐림을 방지할 수 있고, 또한 외관 결점이 없는 안티글레어층으로 할 수 있다.
본 실시 형태의 광학 적층체(22)에서는, 전술한 바와 같이, 안티글레어층(3a)은 상기 입자 및 상기 틱소트로피 부여제가 응집함으로써, 안티글레어층(3a)의 표면에 볼록형부를 형성한다. 상기 볼록형부를 형성하는 응집부에 있어서는, 상기 입자가, 안티글레어층(3a)의 면 방향으로, 복수 모인 상태로 존재한다. 이에 의해, 상기 볼록형부가, 완만한 형상으로 되어 있다. 본 실시 형태의 안티글레어층(3a)은 이러한 형상의 볼록형부를 가짐으로써, 안티글레어성을 유지하면서, 또한 백색 흐림을 방지할 수 있고, 또한 외관 결점을 발생시키기 어렵게 할 수 있다.
안티글레어층(3a)의 표면 형상은, 안티글레어층 형성 재료에 포함되는 입자의 응집 상태를 제어함으로써, 임의로 설계할 수 있다. 상기 입자의 응집 상태는, 예를 들어, 상기 입자의 재질(예를 들어, 입자 표면의 화학적 수식 상태, 용매나 수지에 대한 친화성 등), 수지(바인더) 또는 용매의 종류, 조합 등에 의해 제어할 수 있다. 여기서, 본 실시 형태에서는, 상기 안티글레어층 형성 재료에 포함되는 틱소트로피 부여제에 의해, 상기 입자의 응집 상태를 컨트롤할 수 있다. 이 결과, 본 실시 형태에서는, 상기 입자의 응집 상태를 전술한 바와 같이 할 수 있어, 상기 볼록형부를, 완만한 형상으로 할 수 있다.
본 실시 형태의 광학 적층체(22)에 있어서, 기재(1)가 수지 등으로 형성되어 있는 경우, 기재(1)와 안티글레어층(3a)의 계면에 있어서, 침투층을 갖고 있는 것이 바람직하다. 상기 침투층은, 안티글레어층(3a)의 형성 재료에 포함되는 수지 성분이, 기재(1)에 침투하여 형성된다. 침투층이 형성되면, 기재(1)와 안티글레어층(3a)의 밀착성을 향상시킬 수 있어, 바람직하다. 상기 침투층은, 두께가 0.2 내지 3㎛의 범위인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 0.5 내지 2㎛의 범위이다. 예를 들어, 기재(1)가 트리아세틸셀룰로오스이고, 안티글레어층(3a)에 포함되는 수지가 아크릴 수지인 경우에는, 상기 침투층을 형성시킬 수 있다. 상기 침투층은, 예를 들어, 광학 적층체(22)의 단면을, 투과형 전자 현미경(TEM)으로 관찰함으로써, 확인할 수 있고, 두께를 측정할 수 있다.
본 실시 형태에서는, 이러한 침투층을 갖는 광학 적층체(22)에 적용한 경우에도, 안티글레어성과, 백색 흐림의 방지를 양립시킨 원하는 완만한 표면 요철 형상을 용이하게 형성할 수 있다. 상기 침투층은, 안티글레어층(3a)과의 밀착성이 부족한 기재(1)일수록, 밀착성의 향상을 위해, 두껍게 형성하는 것이 바람직하다.
본 실시 형태에서는, 안티글레어층(3a)에 있어서, 최대 직경이 200㎛ 이상인 외관 결점이 안티글레어층(3a)의 1m2당 1개 이하인 것이 바람직하다. 보다 바람직하게는, 상기 외관 결점이 없는 것이다.
본 실시 형태에 있어서, 안티글레어층(3a)이 형성된 기재(1)는 헤이즈값이 0 내지 10％의 범위 내인 것이 바람직하다. 상기 헤이즈값이란, JIS K 7136(2000년판)에 준한 헤이즈값(흐림도)이다. 상기 헤이즈값은, 0 내지 5％의 범위가 보다 바람직하고, 더욱 바람직하게는, 0 내지 3％의 범위이다. 헤이즈값을 상기 범위로 하기 위해서는, 상기 입자와 상기 수지의 굴절률차가 0.001 내지 0.02의 범위가 되도록, 상기 입자와 상기 수지를 선택하는 것이 바람직하다. 헤이즈값이 상기 범위인 것에 의해, 선명한 화상이 얻어지고, 또한 암소에서의 콘트라스트를 향상시킬 수 있다.
본 실시 형태는, 안티글레어층(3a) 표면의 요철 형상에 있어서, 평균 경사각 θa(°)가 0.1 내지 5.0의 범위인 것이 바람직하고, 0.3 내지 4.5의 범위인 것이 보다 바람직하고, 1.0 내지 4.0의 범위인 것이 더욱 바람직하고, 1.6 내지 4.0인 것이 특히 바람직하다. 여기서, 상기 평균 경사각 θa는, 하기 수식 (1)로 정의되는 값이다. 상기 평균 경사각 θa는, 예를 들어, 일본 특허 공개 제2017-138620에 기재된 방법에 의해 측정되는 값이다.
평균 경사각 θa=tan-1Δa (1)
상기 수식 (1)에 있어서, Δa는, 하기 수식 (2)에 나타내는 바와 같이, JIS B 0601(1994년도판)에 규정되는 조도 곡선의 기준 길이 L에 있어서, 인접하는 산의 정점과 골의 최하점의 차(높이 h)의 합계(h1+h2+h3···+hn)를 상기 기준 길이 L로 나눈 값이다. 상기 조도 곡선은, 단면 곡선으로부터, 소정의 파장보다 긴 표면 굴곡 성분을 위상차 보상형 고역 필터로 제거한 곡선이다. 또한, 상기 단면 곡선이란, 대상면에 직각인 평면으로 대상면을 절단했을 때, 그 절취부에 나타나는 윤곽이다.
Δa=(h1+h2+h3···+hn)/L (2)
θa가, 상기 범위에 있으면, 보다 안티글레어성이 우수하고, 또한 백색 흐림을 방지할 수 있다.
안티글레어층(3a)을 형성함에 있어서, 조제한 안티글레어층 형성 재료(도공액)가 틱소트로픽성을 나타내고 있는 것이 바람직하고, 하기에서 규정되는 Ti값이, 1.3 내지 3.5의 범위에 있는 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 1.3 내지 2.8의 범위이다.
Ti값=β1/β2
여기서, β1은 HAAKE사제 레오스트레스 6000을 사용하여 전단 속도 20(1/s)의 조건으로 측정되는 점도, β2는 HAAKE사제 레오스트레스 6000을 사용하여 전단 속도 200(1/s)의 조건으로 측정되는 점도이다.
Ti값이, 1.3 미만이면, 외관 결점이 발생하기 쉬워져, 안티글레어성, 백색 흐림에 대한 특성이 악화된다. 또한, Ti값이, 3.5를 초과하면, 상기 입자가 응집하기 어려워 분산 상태가 되기 쉬워진다.
본 실시 형태의 안티글레어층(3a)의 제조 방법은, 특별히 제한되지 않고, 어떠한 방법으로 제조되어도 되지만, 예를 들어, 상기 수지, 상기 입자, 상기 틱소트로피 부여제 및 용매를 포함하는 안티글레어층 형성 재료(도공액)를 준비하고, 상기 안티글레어층 형성 재료(도공액)를 상기 기재(1)의 편면(1a)에 도공하여 도막을 형성하고, 상기 도막을 경화시켜 안티글레어층(3a)을 형성함으로써, 제조할 수 있다. 본 실시 형태에 있어서는, 금형에 의한 전사 방식이나, 샌드블라스트, 엠보스 롤 등의 적당한 방식으로 요철 형상을 부여하는 방법 등을, 함께 사용할 수도 있다.
상기 용매는, 특별히 제한되지 않고, 다양한 용매를 사용 가능하고, 1종류를 단독으로 사용해도 되고, 2종류 이상을 병용해도 된다. 상기 수지의 조성, 상기 입자 및 상기 틱소트로피 부여제의 종류, 함유량 등에 따라 최적의 용매 종류나 용매 비율이 존재한다. 용매로서는, 특별히 한정되지 않지만, 예를 들어, 메탄올, 에탄올, 이소프로필알코올, 부탄올, 2-메톡시에탄올 등의 알코올류; 아세톤, 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤, 시클로펜타논 등의 케톤류; 아세트산메틸, 아세트산에틸, 아세트산부틸 등의 에스테르류; 디이소프로필에테르, 프로필렌글리콜모노메틸에테르 등의 에테르류; 에틸렌글리콜, 프로필렌글리콜 등의 글리콜류; 에틸셀로솔브, 부틸셀로솔브 등의 셀로솔브류; 헥산, 헵탄, 옥탄 등의 지방족 탄화수소류; 벤젠, 톨루엔, 크실렌 등의 방향족 탄화수소류 등을 들 수 있다.
기재(1)로서, 예를 들어, 트리아세틸셀룰로오스(TAC)를 채용하여 침투층을 형성하는 경우에는, TAC에 대한 양용매가 적합하게 사용할 수 있다. 그 용매로서는, 예를 들어, 아세트산에틸, 메틸에틸케톤, 시클로펜타논 등을 들 수 있다.
또한, 용매를 적절히 선택함으로써, 틱소트로피 부여제에 의한 안티글레어층 형성 재료(도공액)에 대한 틱소트로픽성을 양호하게 발현시킬 수 있다. 예를 들어, 유기 점토를 사용하는 경우에는, 톨루엔 및 크실렌을 적합하게, 단독 사용 또는 병용할 수 있고, 예를 들어, 산화 폴리올레핀을 사용하는 경우에는, 메틸에틸케톤, 아세트산에틸, 프로필렌글리콜모노메틸에테르를 적합하게, 단독 사용 또는 병용할 수 있고, 예를 들어, 변성 우레아를 사용하는 경우에는, 아세트산부틸 및 메틸이소부틸케톤을 적합하게, 단독 사용 또는 병용할 수 있다.
상기 안티글레어층 형성 재료에는, 각종 레벨링제를 첨가할 수 있다. 상기 레벨링제로서는, 도공 불균일 방지(도공면의 균일화)를 목적으로, 예를 들어, 불소계 또는 실리콘계의 레벨링제를 사용할 수 있다. 본 실시 형태에서는, 안티글레어층(3a)의 표면에 방오성이 요구되는 경우, 또는 반사 방지층(저굴절률층)이나 층간 충전제를 포함하는 층이 안티글레어층(3a) 상에 형성되는 경우 등에 따라, 적절히 레벨링제를 선정할 수 있다. 본 실시 형태에서는, 예를 들어, 상기 틱소트로피 부여제를 포함시킴으로써 도공액에 틱소트로픽성을 발현시킬 수 있기 때문에, 도공 불균일이 발생하기 어렵다. 이 때문에, 본 실시 형태는, 예를 들어, 상기 레벨링제의 선택지를 넓힐 수 있다는 우위점을 갖고 있다.
상기 레벨링제의 배합량은, 상기 수지 100중량부에 대하여, 예를 들어, 5중량부 이하, 바람직하게는 0.01 내지 5중량부의 범위이다.
상기 안티글레어층 형성 재료에는, 필요에 따라, 성능을 손상시키지 않는 범위에서, 안료, 충전제, 분산제, 가소제, 자외선 흡수제, 계면 활성제, 방오제, 산화 방지제 등이 첨가되어도 된다. 이들 첨가제는 1종류를 단독으로 사용해도 되고, 또한 2종류 이상 병용해도 된다.
상기 안티글레어층 형성 재료에는, 예를 들어, 일본 특허 공개 제2008-88309호 공보에 기재되는, 종래 공지의 광중합 개시제를 사용할 수 있다.
상기 안티글레어층 형성 재료를 기재(1)의 편면(1a) 상에 도공하는 방법으로서는, 예를 들어, 파운틴 코팅법, 다이 코팅법, 스핀 코팅법, 스프레이 코팅법, 그라비아 코팅법, 롤 코팅법, 바 코팅법 등의 도공법을 사용할 수 있다.
상기 안티글레어층 형성 재료를 도공하여 기재(1) 상에 도막을 형성하고, 상기 도막을 경화시킨다. 상기 경화에 앞서, 상기 도막을 건조시키는 것이 바람직하다. 상기 건조는, 예를 들어, 자연 건조여도 되고, 바람을 분사하는 것에 의한 풍건이어도 되고, 가열 건조여도 되고, 이들을 조합한 방법이어도 된다.
상기 안티글레어층 형성 재료의 도막의 경화 수단은, 특별히 제한되지 않지만, 자외선 경화가 바람직하다. 에너지선원의 조사량은, 자외선 파장 365nm에서의 적산 노광량으로서, 50 내지 500mJ/cm2가 바람직하다. 조사량이, 50mJ/cm2 이상이면, 경화가 보다 충분해져, 형성되는 안티글레어층의 경도도 보다 충분한 것이 된다. 또한, 500mJ/cm2 이하이면 형성되는 안티글레어층의 착색을 방지할 수 있다.
이상과 같이 하여, 기재(1)의 편면(1a)에, 안티글레어층(3a)을 형성할 수 있다. 또한, 전술한 방법 이외의 제조 방법으로 안티글레어층(3a)을 형성해도 된다. 본 실시 형태의 안티글레어층(3a)의 경도는, 연필 경도에 있어서, 층의 두께에도 영향 받지만, 2H 이상의 경도를 갖는 것이 바람직하다.
본 실시 형태는, 안티글레어층(3a)은 2층 이상이 적층된 복수층 구조여도 된다.
본 실시 형태에 있어서, 안티글레어층(3a) 상에 상술한 AR층(저굴절률층)을 배치해도 된다. 예를 들어, 자발광형 표시 장치에 본 실시 형태에 관한 광학 적층체(22)를 장착한 경우, 화상의 시인성을 저하시키는 요인의 하나로 공기와 안티글레어층 계면에서의 광의 반사를 들 수 있다. AR층은, 그 표면 반사를 저감시키는 것이다. 또한, 안티글레어층(3a) 및 AR층은, 각각, 2층 이상이 적층된 복수층 구조여도 된다.
또한, 오염물의 부착 방지 및 부착된 오염물의 제거 용이성의 향상을 위해, 불소기 함유의 실란계 화합물 혹은 불소기 함유의 유기 화합물 등으로 형성되는 오염 방지층을 안티글레어층(3a) 상에 적층하는 것이 바람직하다.
본 실시 형태에 있어서, 기재(1) 및 안티글레어층(3a) 중 적어도 한쪽에 대하여 표면 처리를 행하는 것이 바람직하다. 기재(1)의 표면을 표면 처리하면, 안티글레어층(3a)과의 밀착성이 더욱 향상된다. 또한, 안티글레어층(3a)의 표면을 표면 처리하면, 상기 AR층과의 밀착성이 더욱 향상된다.
기재(1)의 컬 발생을 방지하기 위해, 안티글레어층(3a)의 다른 쪽 면에 대하여 용제 처리를 행해도 된다. 또한, 컬 발생을 방지하기 위해, 안티글레어층(3a)의 다른 쪽 면에 투명 수지층을 형성해도 된다.
본 실시 형태에 있어서, 광학 적층체(20)는 기재(1)의 면(1b) 상에 점착제층(2)을 적층시킴으로써 조제할 수 있다. 광학 적층체(21)는 기재(1)의 반사 방지 처리 및/또는 안티글래어 처리되어 있지 않은 면(1b) 상에 점착제층(2)을 적층시킴으로써 조제할 수 있다. 광학 적층체(22)는 기재(1)의 안티글레어층(3a)이 형성되어 있지 않은 면(1b) 상에 점착제층(2)을 적층시킴으로써 조제할 수 있다.
기재(1)의 면(1b) 상에 점착제층(2)을 적층시키는 방법은, 특별히 한정되지 않고, 예를 들어, 도 1에 도시되는 점착제층(2)의 박리 필름(S1, S2)의 한쪽을 박리한 후에 기재(1)의 면(1b) 상에 접합함으로써 행할 수 있다.
박리 필름 S1의 두께와 다른 쪽의 박리 필름의 두께 S2는, 동일해도 되고, 상이해도 된다. 박리 필름 S1을 박리할 때의 박리력과, 박리 필름 S1을 박리할 때의 박리력은, 동일해도 되고 상이해도 된다. 양자의 박리력이 다른 경우에는, 상대적으로 박리력이 작은 박리 필름(경박리 필름)을 점착제층(2)으로부터 먼저 박리하여 기재(1)의 면(1b)에 접합을 행함으로써, 본 실시 형태의 점착제층(2)을 갖는 광학 적층체를 제작할 수 있다.
또한, 기재(1)의 면(1b)에 상기 광학용 점착제 조성물 A를 도포하고, 시트 상에 성형하고, 가열, 건조시킨 후에, 필요에 따라 도막의 표면에 박리 필름을 부설하는 것 이외에는 상기와 마찬가지로 하여, 본 실시 형태의 광학 적층체를 제작할 수도 있다.
착색제가 포함되어 있는 점착제층(2)은, 상기한 바와 같이, 가시광에 광 흡수를 갖는다. 본 실시 형태의 광학 적층체의 전광선 투과율은, 예를 들어 80％ 이하이고, 70％ 이하, 60％ 이하, 50％ 이하, 40％ 이하, 30％ 이하, 20％ 이하, 10％ 이하 또는 5％ 이하여도 된다.
본 실시 형태의 광학 적층체는, 사용시까지는 점착제층에 박리 필름이 마련되어 있어도 된다. 또한, 본 실시 형태의 광학 적층체는, 기재(1)의 점착제층(2)이 적층되어 있지 않은 면(1a)(면(1a)이 반사 방지 처리 및/또는 안티글래어 처리되어 있는 경우에는, 당해 처리면)에 표면 보호 필름이 적층되어 있어도 된다. 표면 보호 필름 형성은, 상기 광학 적층체나 이것을 포함하는 광학 제품의 제조, 반송, 출하 시에, 흠집이나 오염의 부착을 방지함에 있어서 적합하다.
본 실시 형태의 광학 적층체는, 기재(1), 점착제층(2)(점착제층 A), 박리 필름, 표면 보호 필름 이외에도, 본 발명의 효과를 손상시키지 않는 범위에서, 다른 층, 예를 들어, 기재(1) 이외의 기재, 점착제층(2) 이외의 점착제층, 중간층, 하도층 등을, 표면 또는 임의의 층간에 갖고 있어도 된다.
<자발광형 표시 장치>
본 발명의 제4 측면에 관한 자발광형 표시 장치는, 미소한 또한 다수의 발광 소자를 배선 기판 상에 배열하고, 각 발광 소자를 이것에 접속된 발광 제어 수단에 의해 선택적으로 발광시킴으로써, 문자·화상·동화상 등의 시각 정보를, 각 발광 소자의 점멸에 의해 직접적으로 표시 화면 상에 표시할 수 있는 표시 장치이다. 자발광형 표시 장치로서는, 미니/마이크로 LED 표시 장치, 유기 EL(일렉트로루미네센스) 표시 장치를 들 수 있다. 본 발명의 제3 측면에 관한 광학 적층체는, 특히 미니/마이크로 LED 표시 장치의 제조에 적합하게 사용된다.
도 5 내지 도 7은, 본 발명의 제4 측면의 자발광형 표시 장치(미니/마이크로 LED 표시 장치)의 일 실시 형태를 도시하는 모식도(단면도)이다.
도 5에 있어서, 자발광형 표시 장치(미니/마이크로 LED 표시 장치)(30)는, 기판(4)의 편면에 복수의 LED 칩(6)이 배열된 표시 패널과, 본 발명의 제3 측면에 관한 광학 적층체(20)를 포함한다. 상기 표시 패널 상의 LED 칩(6)이 배열된 면과, 광학 적층체(20)의 점착제층(2)이 적층되어 있다. 도 6에 있어서, 자발광형 표시 장치(미니/마이크로 LED 표시 장치)(31)는, 자발광형 표시 장치(미니/마이크로 LED 표시 장치)(30)에 있어서의 면(1a)은 반사 방지 처리 및/또는 안티글래어 처리(3)가 실시되어 있다. 도 7에 있어서, 자발광형 표시 장치(미니/마이크로 LED 표시 장치)(32)는, 자발광형 표시 장치(미니/마이크로 LED 표시 장치)(30)에 있어서의 면(1a)은 반사 방지 처리 및/또는 안티글래어 처리로서 안티글레어층(3a)이 형성되어 있다.
본 실시 형태에 있어서, 표시 패널의 기판(4) 상에는, 각 LED 칩(6)에 발광 제어 신호를 보내기 위한 금속 배선층(5)이 적층되어 있다. 적색(R), 녹색(G), 청색(B)의 각 색의 광을 발하는 각 LED 칩(6)은 표시 패널의 기판(4) 상에 금속 배선층(5)을 개재하여 교호로 배열되어 있다. 금속 배선층(5)은 구리 등의 금속으로 형성되어 있어, 각 LED 칩(6)의 발광을 반사시켜, 화상의 시인성을 저하시킨다. 또한, RGB의 각 색의 각 LED 칩(6)이 발하는 광이 혼색되어, 콘트라스트가 저하된다.
본 실시 형태의 미니/마이크로 LED 표시 장치에 있어서, 표시 패널 상에 배열된 각 LED 칩(6)은 점착제층(2)에 의해 밀봉되어 있다. 점착제층(2)은 (메트)아크릴계 블록 코폴리머 A를 포함하는 광학용 점착제 조성물 A로 형성되어 있기 때문에, 50℃를 초과하는 영역에서 저장 탄성률이 저하되어 고유동성이 되어, LED 칩(6) 사이의 미세한 단차에 충분히 추종하여 간극 없이 밀봉할 수 있다. 또한, 실온(예를 들어, 25℃) 부근에서는, 높은 저장 탄성률을 나타내어, 단단하고 가공성이 양호해진다.
또한, 점착제층(2)은 착색제를 포함하기 때문에, 가시광 영역에서 충분한 차광성을 갖는다. 차광성이 높은 점착제층(2)에 의해 각 LED 칩(6) 사이의 미세한 단차가 간극 없이 밀봉되어 있기 때문에, 금속 배선층(5)에 의한 반사를 방지할 수 있어, 각 LED 칩(6)끼리의 혼색을 방지하여, 콘트라스트를 향상시킬 수 있다.
상술한 바와 같이, 본 실시 형태에 관한 광학 적층체는, 점착제층이 착색제를 포함하기 때문에, 점착제층에 금속 피착체를 적층시킨 경우에도, 금속 표면의 반사나 광택을 방지할 수 있다. 본 실시 형태의 광학 적층체의 점착제층에 금속 피착체를 적층시켰을 때의 기재 표면(1a)의 5° 정반사의 가시광 영역의 반사율은, 50％ 이하인 것이 바람직하고, 30％ 이하인 것이 보다 바람직하고, 15％ 이하인 것이 더욱 바람직하고, 10％ 이하인 것이 특히 바람직하다. 본 실시 형태의 광학 적층체의 점착제층에 금속 피착체를 적층시켰을 때의 기재 표면(1a)의 광택도(JIS Z 8741-1997에 기초함)는 100％ 이하인 것이 바람직하고, 80％ 이하인 것이 보다 바람직하고, 60％ 이하인 것이 더욱 바람직하고, 50％ 이하인 것이 특히 바람직하다.
또한, 상기 금속 피착체로서는, 구리, 알루미늄, 스테인리스 등을 사용할 수 있다.
본 실시 형태의 미니/마이크로 LED 표시 장치(31)에 있어서, 기재(1)의 면(1a)에는 반사 방지 처리 및/또는 안티글래어 처리(3)가 실시되어 있고, 기재 표면(1a)에 있어서의 외광의 반사나 상의 투영 등에 의한 시인성의 저하가 방지되거나, 또는 광택도 등의 미관이 조정되어 있다. 또한, 본 실시 형태의 미니/마이크로 LED 표시 장치(32)에 있어서, 기재(1)의 면(1a)에는 안티글래어 처리(3a)가 형성되어 있어, 기재 표면(1a)에 있어서의 외광의 반사나 상의 투영 등에 의한 시인성의 저하가 방지되거나, 또는 광택도 등의 미관이 조정되어 있다. 본 실시 형태에 관한 미니/마이크로 LED 표시 장치(32)의 안티글레어층(3a)의 평균 경사각 θa(°)는 상기와 마찬가지이다.
본 실시 형태의 자발광형 표시 장치는, 표시 패널 및 광학 적층체 이외의 광학 부재를 구비하고 있어도 된다. 상기 광학 부재로서는, 특별히 한정되지 않지만, 편광판, 위상차판, 반사 방지 필름, 시야각 조정 필름, 광학 보상 필름 등을 들 수 있다. 또한, 광학 부재에는, 표시 장치나 입력 장치의 시인성을 유지하면서 장식이나 보호의 역할을 담당하는 부재(의장 필름, 장식 필름이나 표면 보호판 등)도 포함하는 것으로 한다.
본 실시 형태의 미니/마이크로 LED 표시 장치는, 기판의 편면에 복수의 LED 칩이 배열된 표시 패널과, 본 발명의 제3 측면에 관한 광학 적층체의 점착제층(2)을 접합함으로써 제조할 수 있다.
표시 패널과 점착제층을 갖는 광학 적층체의 첩부는, 가열 및/또는 가압 하에서 적층시킴으로써 실시하는 것이 바람직하다. 구체적으로는, 상기 접합은, 50℃ 이상에서 가열 가압하는 것이 바람직하다. 50℃ 이상에서 가열 가압함으로써, 점착제층이 고유동성이 되어, 기판 상에 배열된 LED 칩의 단차에 충분히 추종하여, 간극 없이 밀착할 수 있다. 가열은, 50℃ 이상에서 행하고, 바람직하게는 60℃ 이상, 보다 바람직하게는 70℃ 이상에서 행한다. 가압은, 특별히 한정되지 않지만, 예를 들어 1.5atm 이상, 바람직하게는 2atm 이상, 보다 바람직하게는 3atm 이상에서 행한다. 가열 가압은, 예를 들어, 오토클레이브 등을 사용하여 행할 수 있다. 이에 의해 제조된 미니/마이크로 LED 표시 장치는, 실온(25℃)으로 되돌린 후에, 점착제층의 저장 탄성률이 높아져, 가공성, 접착 신뢰성이 향상된다.
실시예
이하에, 실시예에 기초하여 본 발명을 보다 상세하게 설명하지만, 본 발명은 이들 실시예에 의해 한정되는 것은 아니다. 또한, 하기 제조예에 있어서의 각종 특성은, 하기의 방법에 의해 평가 또는 측정을 행하였다.
(표면 형상 측정)
안티글레어성 필름의 안티글레어층이 형성되어 있지 않은 면에, 마쯔나미 유리 고교(주)제의 유리판(두께 1.3mm)을 점착제로 접합하고, 고정밀도 미세 형상 측정기(상품명; 서프코더 ET4000, (주)고사카 겐큐조제)를 사용하여, 컷오프값 0.8mm의 조건에서 상기 안티글레어층의 표면 형상을 측정하여, 평균 경사각 θa를 구하였다. 또한, 상기 고정밀도 미세 형상 측정기는, 상기 평균 경사각 θa를 자동 산출한다. 상기 평균 경사각 θa는, JIS B 0601(1994년판)에 기초한 것이다.
(헤이즈)
JIS 7136에서 정하는 방법에 의해, 헤이즈미터(무라카미 시키사이 가가쿠 겐큐조사제, 상품명 「HN-150」)에, 안티글레어성 필름의 안티글레어층 면으로부터 광이 입사되도록 설치하고, 헤이즈값을 측정하였다.
(점착 시트의 가시광 투과율)
점착 시트로부터 한쪽 면의 박리 필름을 박리하고, 노출면에 무알칼리 유리를 접합하였다. 그 후, 점착 시트로부터 다른 쪽 면의 박리 필름을 박리하여, 무알칼리 유리판 상에 점착 시트가 접합된 시료를 얻었다. 이 시료를 사용하여, 가시 자외 분광 광도계(히타치 하이테크놀러지즈제, 상품명 「U-4100」)에 의해, 평가용 샘플의 투과 스펙트럼을 측정하였다. 무알칼리 유리(단체)를 베이스 라인으로 하여, 무알칼리 유리의 투과율(투과 광량)에 대한 평가용 샘플의 투과율(투과 광량)의 비를, 점착 시트의 투과율이라 하였다. 점착 시트의 투과 스펙트럼으로부터, 파장 550nm의 투과율 TVIS를 산출하였다.
(안티글레어성 필름의 가시광 투과율)
분광 광도계 U4100(히타치 하이테크놀로지사제)에, 안티글레어성 필름을, 안티글레어층 측으로부터 광이 입사되도록 설치하고, 가시광 영역의 투과율(％)을 측정하였다. 이 투과율은, JIS Z8701의 2도 시야(C 광원)에 의해 측정하여 시감도 보정을 행한 Y값이다.
제조예 1
(안티글레어성 필름의 조제)
안티글레어층에 포함되는 수지로서, 자외선 경화형 우레탄 아크릴레이트 수지(DIC(주)제, 상품명 「유니딕 17-806」, 고형분 80％) 100중량부를 준비하였다. 상기 수지의 수지 고형분 100중량부당, 광확산성 미립자로서 스티렌 가교 입자(소켄 가가쿠(주)제, 상품명 「MX-350H」, 중량 평균 입경: 3.5㎛, 굴절률 1.59)를 14중량부, 틱소트로피 부여제로서 유기 점토인 합성 스멕타이트(쿠니미네 고교(주)제, 상품명 「스멕톤 SAN」)를 2.5중량부, 광중합 개시제(BASF사제, 상품명 「OMNIRAD907」)를 5중량부, 레벨링제(DIC(주)제, 상품명 「메가팍 F-556」, 고형분 100％)를 0.5중량부 혼합하였다. 이 혼합물을 고형분 농도가 30중량％가 되도록, 톨루엔/아세트산에틸 혼합 용매(중량비 90/10)로 희석하여, 광확산 소자 형성 재료(도공액)를 조제하였다.
보호층으로서 기능할 수 있는 트리아세틸셀룰로오스(TAC) 필름(후지 필름사제, 제품명 「TG60UL」, 두께: 60㎛)의 편면에, 바 코터를 사용하여 안티글레어층 형성 재료(도공액)를 도포하여, 도막을 형성하였다. 그리고, 이 도막이 형성된 투명 TAC 필름 기재를, 건조 공정으로 반송하였다. 건조 공정에 있어서, 110℃에서 1분간 가열함으로써 상기 도막을 건조시켰다. 그 후, 고압 수은 램프로 적산 광량 300mJ/cm2의 자외선을 조사하여, 상기 도막을 경화 처리하여 두께 5.0㎛의 광확산 소자를 TAC 필름의 편면에 형성하여 안티글레어성 필름 1을 얻었다. 안티글레어성 필름 1의 헤이즈값은, 42％였다. 안티글레어성 필름 1의 안티글레어층의 θa(°)는 1.22였다. 안티글레어성 필름 1의 가시광 투과율은, 90％였다.
제조예 2
(안티글레어성 필름의 조제)
광확산성 미립자로서 부정형 실리카(후지 실리시아 가가쿠(주)제, 상품명 「사일로포빅 100」, 중량 평균 입경: 2.6㎛)를 14중량부 첨가하여, 경화 처리 후의 두께를 7.0㎛로 한 것 이외는, 제조예 1과 마찬가지의 방법으로 TAC 필름의 편면에 광확산 소자를 형성하여 안티글레어성 필름 2를 얻었다. 안티글레어성 필름 2의 헤이즈값은, 11％였다. 안티글레어성 필름 2의 안티글레어층의 θa(°)는 1.43이었다. 안티글레어성 필름 2의 가시광 투과율은, 91％였다.
제조예 3
(안티글레어성 필름의 조제)
안티글레어층 형성 재료에 포함되는 수지로서, 자외선 경화형 우레탄 아크릴레이트 수지(DIC(주)제, 상품명 「유니딕 17-806」, 고형분 80％) 100중량부를 준비하였다. 상기 수지의 수지 고형분 100중량부당, 안티글레어층 형성 입자로서, 부정형 실리카(후지 실리시아(주)제, 상품명 「사일로포빅 702」)를 7중량부, 부정형 실리카(후지 실리시아(주)제, 상품명 「사일로포빅 100」)를 6.5중량부, 광중합 개시제(BASF사제, 상품명 「OMNIRAD184」)를 5중량부, 레벨링제(DIC(주)제, 상품명 「메가팍 F-556」)를 0.5중량부 혼합하였다. 이 혼합물을 고형분 농도가 30％가 되도록 톨루엔으로 희석하여, 안티글레어층 형성 재료(도공액)를 조제하였다.
투광성 기재로서, 투명 플라스틱 필름 기재(TAC 필름, 후지 필름(주)제, 상품명 「TD80UL」, 두께: 80㎛)를 준비하였다. 상기 투명 플라스틱 필름 기재의 편면에, 상기 안티글레어층 형성 재료(도공액)를 바 코터를 사용하여 도막을 형성하였다. 그리고, 이 도막이 형성된 투명 플라스틱 필름 기재를, 건조 공정으로 반송하였다. 건조 공정에 있어서, 110℃에서 1분간 가열함으로써 상기 도막을 건조시켰다. 그 후, 고압 수은 램프로 적산 광량 300mJ/cm2의 자외선을 조사하여, 상기 도막을 경화 처리하여 두께 5.0㎛의 안티글레어층을 형성하여, 안티글레어성 필름 3을 얻었다. 안티글레어성 필름 3의 안티글레어층의 θa(°)는 3.5였다. 안티글레어성 필름 3의 가시광 투과율은, 91％였다.
제조예 4
(안티글레어성 필름의 조제)
안티글레어층 형성 입자로서, 부정형 실리카(후지 실리시아(주)제, 상품명 「사일로포빅 702」)를 6.5중량부, 부정형 실리카(후지 실리시아(주)제, 상품명 「사일로포빅 200」)를 6.5중량부를 첨가하고, 증점제(코프 케미컬제, 상품명 「루센타이트 SAN」)를 2.5중량부 첨가하여, 경화 처리 후의 두께를 8.0㎛로 한 것 이외는, 제조예 3과 마찬가지의 방법으로 안티글레어성 필름 4를 얻었다. 안티글레어성 필름 4의 안티글레어층의 θa(°)는 2.3이었다. 안티글레어성 필름 4의 가시광 투과율은, 91％였다.
제조예 5
(고분자 RAFT 용액 A1의 조제)
냉각관, 질소 도입관, 온도계 및 교반 장치를 구비한 반응 용기에, 모노머 성분으로서 시클로헥실아크릴레이트(CHA) 50중량부, 3,3,5-트리메틸시클로헥실아크릴레이트(TMCHA) 50질량부, RAFT제로서 디벤질트리티오카보네이트(DBTC) 0.5중량부, 중합 용매로서 아세트산에틸 100중량부를 투입하고, 열중합 개시제로서 2,2'-아조비스이소부티로니트릴(AIBN) 0.2중량부를 투입하여 질소 분위기 하에서 용액 중합을 행함으로써, Mw가 18만인 고분자 RAFT 용액 A1을 얻었다.
(아크릴계 트리블록 코폴리머 함유 점착제 용액 B1의 조제)
냉각관, 질소 도입관, 온도계 및 교반 장치를 구비한 반응 용기에, 모노머 성분으로서 2-에틸헥실아크릴레이트(2EHA) 97중량부, 4-히드록시부틸아크릴레이트(4HBA) 3중량부, 상기에서 얻어진 고분자 RAFT 용액 A1 100중량부, 중합 용매로서 아세트산에틸 100중량부를 투입하고, 열중합 개시제로서 2,2'-아조비스이소부티로니트릴(AIBN) 0.2중량부를 투입하여 질소 분위기 하에서 용액 중합을 행함으로써,
Mw가 40만, Mw/Mn이 4.3인 ABA형 아크릴계 트리블록 코폴리머를 함유하는 점착제 용액 B1을 얻었다.
FOX의 식에 의한 계산 유리 전이 온도(Tg)에 있어서, ABA형 아크릴계 트리블록 코폴리머의 세그먼트 A의 Tg는 32℃, 세그먼트 B의 Tg는 -70℃이다.
상기의 생성물의 중량 평균 분자량(Mw), 분자량 분포(Mw/Mn)의 측정은, 이하의 측정 조건의 겔 투과 크로마토그래피(GCP법)에 의한 표준 폴리스티렌 환산으로서 측정하였다.
· 측정 장치: HLC-8320GPC(도소사제)
· 칼럼: TSKgelGMH-H(S), (도소사제)
· 이동상 용매: 테트라히드로푸란
· 유량: 1.0cm3/min
· 칼럼 온도: 40℃
제조예 6
(프리폴리머의 중합)
온도계, 교반기, 환류 냉각관 및 질소 가스 도입관을 구비한 세퍼러블 플라스크에, 2-에틸헥실아크릴레이트(2EHA)를 22중량부, 라우릴아크릴레이트(LA)를 60중량부, N-비닐피롤리돈(NVP)을 10중량부, 4-히드록시부틸아크릴레이트를 8중량부, 중합 개시제로서 이르가큐어 651을 0.1중량부 투입한 후, 질소 가스를 흘리고, 교반하면서 약 1시간 질소 치환을 행하였다. 그 후, 5mW/cm2로 UVA를 조사하여 중합을 행하고, 반응률이 5 내지 15％가 되도록 조정하여, 아크릴계 프리폴리머 용액을 얻었다.
(점착제 조성물의 조제)
상기에서 얻어진 아크릴계 프리폴리머 용액(프리폴리머 전량을 100중량부라 함)에, 2-에틸헥실아크릴레이트(2EHA) 37중량부, 다관능 모노머로서 1,6-헥산디올디아크릴레이트(신나카무라공업 가가쿠제, 상품명 「NK에스테르 A-HD-N」) 0.1중량부, 실란 커플링제로서 3-글리시독시프로필트리메톡시실란(신에츠 실리콘제, 상품명 「KBM-403」) 0.3중량부 및 광중합 개시제로서 2,2-디메톡시-1,2-디페닐에탄-1-온(BASF제, 상품명 「이르가큐어 651」) 0.1양부를 첨가하여, 광중합성의 점착제 조성물 용액을 조제하였다.
실시예 1
(흑색 점착제 조성물의 조제)
제조예 5에서 얻어진 아크릴계 트리블록 코폴리머를 함유하는 점착제 용액 B1에, 제조예 5에서 사용한 모노머 전량 100중량부에 대하여 0.5중량부의 흑색 염료(오리엔트 가가쿠 고교제 「VALIFAST BLACK 3810」)를 첨가하여, 흑색 용매형 점착제 조성물 용액 1을 조제하였다.
(점착 시트의 조제)
표면에 실리콘계 이형층이 마련된 두께 75㎛의 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET) 필름(미쓰비시 케미컬제 「다이어포일 MRF75」)을 기재로 하여, 기재 상에 상기에서 조제한 흑색 용매형 점착제 조성물 용액 1을 도포하고, 130℃에서 3분간 건조시켜, 두께 150㎛의 점착제층을 형성하였다. 이 점착제층 상에, 편면이 실리콘 박리 처리된 두께 75㎛의 PET 필름(미쓰비시 케미컬제 「다이어포일 MRE75」)을 접합하여, 양면에 박리 필름이 부설된 점착 시트 1을 무기재 점착 시트의 형태로 얻었다.
점착 시트 1의 가시광 투과율은, 1％ 미만이었다.
(광학 적층체의 조제)
20mm×20mm로 커트한 상기에서 얻어진 점착 시트 1로부터 한쪽의 박리 필름을 박리하여 노출시킨 점착면을, 45mm×50mm의 유리판(가시광 투과율: 93％)의 중앙부 첩부함으로써, 유리판/점착 시트 1/박리 필름으로 이루어지는 광학 적층체 1을 얻었다.
실시예 2
(흑색 점착제 조성물의 조제)
흑색 염료(오리엔트 가가쿠 고교제 「VALIFAST BLACK 3810」) 1.0중량부를 첨가한 것 이외는, 실시예 1과 마찬가지로 하여 흑색 용매형 점착제 조성물 용액 2을 조제하였다.
(점착 시트의 조제)
기재 상에 상기에서 조제한 흑색 용매형 점착제 조성물 용액 2을 도포한 것 이외는, 실시예 1과 마찬가지로 하여, 양면에 박리 필름이 부설된 점착 시트 2를 무기재 점착 시트의 형태로 얻었다. 점착 시트 2의 가시광 투과율은, 1％ 미만이었다.
(광학 적층체의 조제)
상기에서 얻어진 점착 시트 2를 사용한 것 이외는, 실시예 1과 마찬가지로 하여, 유리판/점착 시트 2/박리 필름으로 이루어지는 광학 적층체 2를 얻었다.
실시예 3
(흑색 점착제 조성물의 조제)
흑색 염료(오리엔트 가가쿠 고교제 「VALIFAST BLACK 3810」) 2.0중량부를 첨가한 것 이외는, 실시예 1과 마찬가지로 하여 흑색 용매형 점착제 조성물 용액 3을 조제하였다.
(점착 시트의 조제)
기재 상에 상기에서 조제한 흑색 용매형 점착제 조성물 용액 3을 도포한 것 이외는, 실시예 1과 마찬가지로 하여, 양면에 박리 필름이 부설된 점착 시트 3을 무기재 점착 시트의 형태로 얻었다.
점착 시트 3의 가시광 투과율은, 1％ 미만이었다.
(광학 적층체의 조제)
상기에서 얻어진 점착 시트 3을 사용한 것 이외는, 실시예 1과 마찬가지로 하여, 유리판/점착 시트 3/박리 필름으로 이루어지는 광학 적층체 3을 얻었다.
비교예 1
(점착 시트의 조제)
흑색 용매형 점착제 조성물 용액 1을 대신하여, 기재 상에 제조예 5에서 조제한 점착제 용액 B1을 도포한 것 이외는, 실시예 1과 마찬가지로 하여, 양면에 박리 필름이 부설된 점착 시트 4를 무기재 점착 시트의 형태로 얻었다.
점착 시트 4의 가시광 투과율은, 90％였다.
(광학 적층체의 조제)
상기에서 얻어진 점착 시트 4를 사용한 것 이외는, 실시예 1과 마찬가지로 하여, 유리판/점착 시트 4/박리 필름으로 이루어지는 광학 적층체 4를 얻었다.
비교예 2
(점착 시트의 조제)
이형 처리된 PET 필름(경박리 세퍼레이터) 상에, 건조 후 두께가 150㎛가 되도록 제조예 6에서 얻어진 광중합성의 점착제 조성물 용액을 도포하고, 가열 건조하여, 점착제층을 얻었다. 이 점착제층 상에 다른 PET 필름(중박리 세퍼레이터)을 적층 접착하여, 양면에 세퍼레이터가 부설된 광경화성의 점착 시트를 얻었다. 이 점착 시트의 한쪽으로부터, 블랙 라이트(도시바사제, 상품명 「FL15BL」)를 사용하여 조도 5mW/cm2, 적산 광량 1300mJ/cm2의 조건으로 자외선을 조사하였다. 이에 의해, 상기 점착제 조성물의 경화물인 광가교성 점착제가 상기 PET 필름(경박리 세퍼레이터, 중박리 세퍼레이터) 사이에 끼인 두께 150㎛의 점착 시트 5를 무기재 점착 시트의 형태로 얻었다.
또한, 상기 블랙 라이트의 조도의 값은, 피크 감도 파장 약 350nm의 공업용 UV 체커(탑콘사제, 상품명: UVR-T1, 수광부 형식 UD-T36)에 의한 측정값이다.
점착 시트 5의 가시광 투과율은, 90％였다.
(광학 적층체의 조제)
상기에서 얻어진 점착 시트 5를 사용한 것 이외는, 실시예 1과 마찬가지로 하여, 유리판/점착 시트 5/박리 필름으로 이루어지는 광학 적층체 5를 얻었다.
(평가)
상기의 실시예 및 비교예에서 얻어진 광학 적층체를 사용하여, 이하의 평가를 행하였다. 평가 방법을 이하에 나타낸다.
(1) 단차 추종성의 평가
(요철 피착체의 제작)
TAC 필름(두께 60㎛)과 점착제(두께 20㎛)의 적층체를 45mm×50mm의 유리판에 접합한 후, CO2 레이저(파장 10.6㎛·레이저 직경 0㎛)를 사용하여 중앙의 10mm×10mm의 범위 내를 세로 방향 150㎛ 피치·가로 방향 225㎛ 피치로 직선 에칭 가공을 행함으로써 TAC 필름과 점착제층이 격자상의 요철 형상으로 가공된 피착체 A를 얻었다.
본 피착체 A는, 기판 상에 복수의 LED 칩이 배열된 LED 패널을 모방한 것이다.
(진공 접합)
실시예 1 내지 3 및 비교예 1, 2에서 조제한 광학 적층체 1 내지 5의 박리 필름을 박리하여 노출된 점착면과, 피착체 A의 가공면을, 진공 접합 장치(CRIMB Products사제, SE340aaH)를 사용하여, 피착체 A의 가공 범위 내를 점착 시트가 완전히 피복할 수 있는 정밀도로 접합, 각각 유리판/점착 시트 1 내지 5/피착체 A로 이루어지는 평가용 샘플 1 내지 5를 얻었다.
(단차 추종성의 평가)
평가용 샘플 1 내지 5에 있어서, 점착 시트가 요철 형상의 패턴 부분에 추종되어 있는 경우, 피착체 A의 가공부가 투명하게 시인되고, 추종되어 있지 않은 부분은 백색으로 시인되는 성질을 이용하여, 정점 카메라 촬영에 의해 백색부의 면적을 연산하여 단차 추종성을 평가하였다.
단차 추종성(％)=100-{[평가 시의 백색부의 면적]/[접합 전의 백색부의 면적=1cm2]×100}
단차 추종성은, 오토클레이브(50℃·0.5MPa 조건 하에서 60분) 후단계에서 측정을 실시하였다. 결과를 표 1에 나타낸다.
(2) 가시광 투과율
상기의 실시예 및 비교예에서 얻어진 광학 적층체를, 분광 광도계 U4100(히타치 하이테크놀로지사제)에, 유리판 측으로부터 광이 입사되도록 설치하고, 가시광 영역의 투과율(％)을 측정하였다. 이 투과율은, JIS Z8701의 2도 시야(C 광원)에 의해 측정하여 시감도 보정을 행한 Y값이다. 결과를 표 1에 나타낸다.
(3) 반사율
흑색의 아크릴판에 알루미늄박을 첩부하여 적층한 플레이트를 제작하였다. 상기의 실시예 및 비교예에서 얻어진 광학 적층체의 박리 필름을 박리하여 노출시킨 점착면을 상기 플레이트의 알루미늄박 측에 적층하여, 샘플로 하였다. 얻어진 샘플을, 분광 광도계 U4100(히타치 하이테크놀로지사제)에 안티글레어성 필름/TAC 필름을 광원 측에 설치하고, 5° 정반사의 가시광 영역의 반사율(％)을 측정하였다. 결과를 표 1에 나타낸다.
Figure pct00004
(1) 저장 탄성률[Ｇ'25, Ｇ'50, Ｇ'25/Ｇ'50] 그리고 tanδ의 피크 온도 및 극댓값
상기의 실시예 1 및 비교예 1, 2에서 얻어진 점착 시트 1, 4 및 5에 대하여, 25℃에서의 단 저장 탄성률(Ｇ'25), 50℃에서의 단 저장 탄성률(Ｇ'50) 및 이들의 비(Ｇ'25/Ｇ'50), tanδ의 피크 온도 및 극댓값을 측정 또는 평가하였다. 측정 또는 평가의 방법을 이하에 나타낸다. 측정 또는 평가의 결과는 표 2에 나타내었다.
25℃, 50℃에서의 저장 탄성률 그리고 tanδ의 피크 온도 및 극댓값은, 동적 점탄성 측정에 의해 구하였다.
복수의 점착 시트를 적층하여 두께 약 1.5mm로 한 것을 측정용 시료로 하였다. Rheometric Scientific사제 「Advanced Rheometric Expansion System(ARES)」을 사용하여, 이하의 조건에 의해, 동적 점탄성 측정을 행하고, 측정 결과로부터, 25℃, 50℃에 있어서의 저장 탄성률(Ｇ'25, Ｇ'50) 및 tanδ의 피크 온도 및 극댓값을 판독하였다.
(측정 조건)
변형 모드: 비틀림
측정 주파수: 1Hz
승온 속도: 5℃/분
측정 온도: -100 내지 150℃의 범위
형상: 패럴렐 플레이트 8.0mmφ
Figure pct00005
실시예 4
(광학 적층체의 조제)
20mm×20mm로 커트한 실시예 1에서 얻어진 점착 시트 1로부터 한쪽의 박리 필름을 박리하여 노출시킨 점착면을, 45mm×50mm로 커트한 제조예 1에서 얻어진 안티글레어성 필름 1의 안티글레어층이 형성되어 있지 않은 면의 중앙부 첩부함으로써, 안티글레어성 필름 1/점착 시트 1/박리 필름으로 이루어지는 광학 적층체 6을 얻는다.
실시예 5 내지 7
(광학 적층체의 조제)
안티글레어성 필름 1 대신에, 제조예 2 내지 4에서 얻어진 안티글레어성 필름 2 내지 4를 사용한 것 이외는, 실시예 4와 마찬가지로 하여, 각각 안티글레어성 필름 2 내지 4/점착제 시트 1/박리 필름으로 이루어지는 광학 적층체 7 내지 9를 얻는다.
본 발명의 베리에이션을 이하에 부기한다.
〔부기 1〕 (메트)아크릴계 블록 코폴리머와, 착색제를 함유하는 광학용 점착제 조성물로서,
상기 (메트)아크릴계 블록 코폴리머가,
0℃ 이상 100℃ 이하의 유리 전이 온도를 갖는 고 Tg 세그먼트와,
-100℃ 이상 0℃ 미만의 유리 전이 온도를 갖는 저 Tg 세그먼트를 갖고,
0℃ 이상의 영역과 0℃ 미만의 영역에 각각 tanδ의 피크를 갖는 것을 특징으로 하는, 광학용 점착제 조성물.
여기서, 상기 유리 전이 온도는, 각 세그먼트를 구성하는 모노머 성분 조성으로부터 FOX의 식에 의해 산출되는 것이다.
〔부기 2〕 상기 0℃ 이상의 영역에 있어서의 tanδ의 극댓값이 0.5 내지 3.0인, 부기 1에 기재된 광학용 점착제 조성물.
〔부기 3〕 상기 (메트)아크릴계 블록 코폴리머가, ABA형 트리블록 코폴리머인, 부기 1 또는 2에 기재된 광학용 점착제 조성물.
〔부기 4〕 상기 ABA형 트리블록 코폴리머에 있어서, A 세그먼트가 상기 고 Tg 세그먼트이고, B 세그먼트가 상기 저 Tg 세그먼트인, 부기 3에 기재된 광학용 점착제 조성물.
〔부기 5〕 상기 (메트)아크릴계 블록 코폴리머에 있어서의 상기 고 Tg 세그먼트를 구성하는 모노머 성분으로서, 탄소수가 1 내지 3인 직쇄상의 알킬기를 갖는 (메트)아크릴산알킬에스테르, 탄소수가 3 또는 4인 분지 쇄상의 알킬기를 갖는 (메트)아크릴산알킬에스테르 및 지환식 모노머로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1종을 함유하는, 부기 1 내지 4 중 어느 하나에 기재된 광학용 점착제 조성물.
〔부기 6〕 상기 (메트)아크릴계 블록 코폴리머에 있어서의 상기 고 Tg 세그먼트를 구성하는 모노머 성분으로서, 탄소수가 3 또는 4인 분지 쇄상의 알킬기를 갖는 (메트)아크릴산알킬에스테르를 함유하는, 부기 5에 기재된 광학용 점착제 조성물.
〔부기 7〕 상기 지환식 모노머가, 치환기를 갖고 있어도 되는 탄소수가 4 내지 10인 시클로알킬기를 갖는 (메트)아크릴산시클로알킬에스테르를 함유하는, 부기 5에 기재된 광학용 점착제 조성물.
〔부기 8〕 상기 (메트)아크릴계 블록 코폴리머에 있어서의 상기 저 Tg 세그먼트를 구성하는 모노머 성분으로서, 탄소수가 4 내지 18인 직쇄 또는 분지 쇄상의 알킬기를 갖는 (메트)아크릴산알킬에스테르 및 수산기 함유 모노머로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1종을 함유하는, 부기 1 내지 7 중 어느 하나에 기재된 광학용 점착제 조성물.
〔부기 9〕 상기 (메트)아크릴계 블록 코폴리머에 있어서의 상기 저 Tg 세그먼트를 구성하는 모노머 성분 전량(100중량％)에 대하여, 수산기 함유 모노머를 1중량％ 이상 함유하는, 부기 1 내지 8 중 어느 하나에 기재된 광학용 점착제 조성물.
〔부기 10〕 상기 (메트)아크릴계 블록 코폴리머의 중량 평균 분자량이 20만 이상인, 부기 1 내지 9 중 어느 하나에 기재된 광학용 점착제 조성물.
〔부기 11〕 상기 (메트)아크릴계 블록 코폴리머의 분자량 분포가, 1보다 크고 5 이하인, 부기 1 내지 10 중 어느 하나에 기재된 광학용 점착제 조성물.
〔부기 12〕 25℃에서의 저장 탄성률과 50℃에서의 저장 탄성률의 비(25℃에서의 저장 탄성률/50℃에서의 저장 탄성률)가 3 이상인, 부기 1 내지 11 중 어느 하나에 기재된 광학용 점착제 조성물.
〔부기 13〕 25℃에서의 저장 탄성률이 1MPa 이상이고, 50℃에서의 저장 탄성률이 0.5MPa 이하인, 부기 1 내지 12 중 어느 하나에 기재된 광학용 점착제 조성물.
〔부기 14〕 상기 착색제는, 파장 400 내지 700nm의 투과율의 최댓값이 80％ 이하인, 부기 1 내지 13 중 어느 하나에 기재된 광학용 점착제 조성물.
〔부기 15〕 부기 1 내지 14 중 어느 하나에 기재된 광학용 점착제 조성물로 형성되는 점착제층.
〔부기 16〕 기재와, 부기 15에 기재된 점착제층을 포함하는 광학 적층체.
〔부기 17〕 상기 기재의 상기 착제층이 적층되어 있지 않은 면은, 반사 방지 처리 및/또는 안티글래어 처리되어 있는, 부기 16에 기재된 광학 적층체.
〔부기 18〕 상기 안티글레어 방지 처리가, 상기 기재의 편면에 마련된 안티글레어층인, 부기 17에 기재된 광학 적층체.
〔부기 19〕 상기 안티글레어층이, 수지, 입자 및 틱소트로피 부여제를 포함하는 안티글레어층 형성 재료를 사용하여 형성되어 있고,
상기 안티글레어층이, 상기 입자 및 상기 틱소트로피 부여제가 응집함으로써, 상기 안티글레어층의 표면에 볼록형부를 형성하는 응집부를 갖는, 부기 18에 기재된 광학 적층체.
〔부기 20〕 상기 안티글레어층 표면의 볼록형부에 있어서, 평균 경사각 θa(°)가 0.1 내지 1.5의 범위인, 부기 19에 기재된 광학 적층체.
〔부기 21〕 추가로, 상기 기재의 상기 점착제층이 적층되어 있지 않은 면에, 표면 보호 필름이 적층된, 부기 16 내지 20 중 어느 하나에 기재된 광학 적층체.
〔부기 22〕 기판의 편면에 복수의 발광 소자가 배열된 표시 패널과, 부기 16 내지 21 중 어느 하나에 기재된 광학 적층체를 포함하는 자발광형 표시 장치로서,
상기 표시 패널의 발광 소자가 배열된 면과, 상기 광학 적층체의 상기 점착제층이 적층된, 자발광형 표시 장치.
〔부기 23〕 상기 표시 패널이, 기판의 편면에 복수의 LED 칩이 배열된 LED 패널인, 부기 22에 기재된 자발광형 표시 장치.
본 발명의 광학용 점착제 조성물 및 광학 적층체는, 미니/마이크로 LED 등의 자발광형 표시 장치의 발광 소자의 밀봉에 적합하다.
10: 점착제층(점착 시트)
20, 21, 22: 광학 적층체
1: 기재
2: 점착제층
S1, S2: 박리 필름
3: 반사 방지 처리 및/또는 안티글래어 처리
3a: 안티글레어층
30, 31, 32: 자발광형 표시 장치(미니/마이크로 LED 표시 장치)
4: 기판
5: 금속 배선층
6: 발광 소자(LED 칩)

Claims (23)

  1. (메트)아크릴계 블록 코폴리머와, 착색제를 함유하는 광학용 점착제 조성물로서,
    상기 (메트)아크릴계 블록 코폴리머가,
    0℃ 이상 100℃ 이하의 유리 전이 온도를 갖는 고 Tg 세그먼트와,
    -100℃ 이상 0℃ 미만의 유리 전이 온도를 갖는 저 Tg 세그먼트를 갖고,
    0℃ 이상의 영역과 0℃ 미만의 영역에 각각 tanδ의 피크를 갖는 것을 특징으로 하는, 광학용 점착제 조성물.
    여기서, 상기 유리 전이 온도는, 각 세그먼트를 구성하는 모노머 성분 조성으로부터 FOX의 식에 의해 산출되는 것이다.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 0℃ 이상의 영역에 있어서의 tanδ의 극댓값이 0.5 내지 3.0인, 광학용 점착제 조성물.
  3. 제1항 또는 제2항에 있어서,
    상기 (메트)아크릴계 블록 코폴리머가, ABA형 트리블록 코폴리머인, 광학용 점착제 조성물.
  4. 제3항에 있어서,
    상기 ABA형 트리블록 코폴리머에 있어서, A 세그먼트가 상기 고 Tg 세그먼트이고, B 세그먼트가 상기 저 Tg 세그먼트인, 광학용 점착제 조성물.
  5. 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 (메트)아크릴계 블록 코폴리머에 있어서의 상기 고 Tg 세그먼트를 구성하는 모노머 성분으로서, 탄소수가 1 내지 3인 직쇄상의 알킬기를 갖는 (메트)아크릴산알킬에스테르, 탄소수가 3 또는 4인 분지 쇄상의 알킬기를 갖는 (메트)아크릴산알킬에스테르 및 지환식 모노머로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1종을 함유하는, 광학용 점착제 조성물.
  6. 제5항에 있어서,
    상기 (메트)아크릴계 블록 코폴리머에 있어서의 상기 고 Tg 세그먼트를 구성하는 모노머 성분으로서, 탄소수가 3 또는 4인 분지 쇄상의 알킬기를 갖는 (메트)아크릴산알킬에스테르를 함유하는, 광학용 점착제 조성물.
  7. 제5항에 있어서,
    상기 지환식 모노머가, 치환기를 갖고 있어도 되는 탄소수가 4 내지 10인 시클로알킬기를 갖는 (메트)아크릴산시클로알킬에스테르를 함유하는, 광학용 점착제 조성물.
  8. 제1항 내지 제7항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 (메트)아크릴계 블록 코폴리머에 있어서의 상기 저 Tg 세그먼트를 구성하는 모노머 성분으로서, 탄소수가 4 내지 18인 직쇄 또는 분지 쇄상의 알킬기를 갖는 (메트)아크릴산알킬에스테르 및 수산기 함유 모노머로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1종을 함유하는, 광학용 점착제 조성물.
  9. 제1항 내지 제8항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 (메트)아크릴계 블록 코폴리머에 있어서의 상기 저 Tg 세그먼트를 구성하는 모노머 성분 전량(100중량％)에 대하여, 수산기 함유 모노머를 1중량％ 이상 함유하는, 광학용 점착제 조성물.
  10. 제1항 내지 제9항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 (메트)아크릴계 블록 코폴리머의 중량 평균 분자량이 20만 이상인, 광학용 점착제 조성물.
  11. 제1항 내지 제10항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 (메트)아크릴계 블록 코폴리머의 분자량 분포가, 1보다 크고 5 이하인, 광학용 점착제 조성물.
  12. 제1항 내지 제11항 중 어느 한 항에 있어서,
    25℃에서의 저장 탄성률과 50℃에서의 저장 탄성률의 비(25℃에서의 저장 탄성률/50℃에서의 저장 탄성률)가 3 이상인, 광학용 점착제 조성물.
  13. 제1항 내지 제12항 중 어느 한 항에 있어서,
    25℃에서의 저장 탄성률이 1MPa 이상이고, 50℃에서의 저장 탄성률이 0.5MPa 이하인, 광학용 점착제 조성물.
  14. 제1항 내지 제13항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 착색제는, 파장 400 내지 700nm의 투과율의 최댓값이 80％ 이하인, 광학용 점착제 조성물.
  15. 제1항 내지 제14항 중 어느 한 항에 기재된 광학용 점착제 조성물로 형성되는 점착제층.
  16. 기재와, 제15항에 기재된 점착제층을 포함하는 광학 적층체.
  17. 제16항에 있어서,
    상기 기재의 상기 착제층이 적층되어 있지 않은 면은, 반사 방지 처리 및/또는 안티글래어 처리되어 있는, 광학 적층체.
  18. 제17항에 있어서,
    상기 안티글레어 방지 처리가, 상기 기재의 편면에 마련된 안티글레어층인, 광학 적층체.
  19. 제18항에 있어서,
    상기 안티글레어층이, 수지, 입자 및 틱소트로피 부여제를 포함하는 안티글레어층 형성 재료를 사용하여 형성되어 있고,
    상기 안티글레어층이, 상기 입자 및 상기 틱소트로피 부여제가 응집함으로써, 상기 안티글레어층의 표면에 볼록형부를 형성하는 응집부를 갖는, 광학 적층체.
  20. 제19항에 있어서,
    상기 안티글레어층 표면의 볼록형부에 있어서, 평균 경사각 θa(°)가 0.1 내지 1.5의 범위인, 광학 적층체.
  21. 제16항 내지 제20항 중 어느 한 항에 있어서,
    추가로, 상기 기재의 상기 점착제층이 적층되어 있지 않은 면에, 표면 보호 필름이 적층된, 광학 적층체.
  22. 기판의 편면에 복수의 발광 소자가 배열된 표시 패널과,
    제16항 내지 제21항 중 어느 한 항에 기재된 광학 적층체를 포함하는 자발광형 표시 장치로서,
    상기 표시 패널의 발광 소자가 배열된 면과, 상기 광학 적층체의 상기 점착제층이 적층된, 자발광형 표시 장치.
  23. 제22항에 있어서,
    상기 표시 패널이, 기판의 편면에 복수의 LED 칩이 배열된 LED 패널인, 자발광형 표시 장치.
KR1020227037146A 2020-03-31 2021-03-26 광학용 점착제 조성물 및 광학 적층체 KR20220159429A (ko)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2020064489A JP7469109B2 (ja) 2020-03-31 2020-03-31 光学用粘着剤組成物及び光学積層体
JPJP-P-2020-064489 2020-03-31
PCT/JP2021/013063 WO2021200730A1 (ja) 2020-03-31 2021-03-26 光学用粘着剤組成物及び光学積層体

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR20220159429A true KR20220159429A (ko) 2022-12-02

Family

ID=77929994

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020227037146A KR20220159429A (ko) 2020-03-31 2021-03-26 광학용 점착제 조성물 및 광학 적층체

Country Status (5)

Country Link
JP (1) JP7469109B2 (ko)
KR (1) KR20220159429A (ko)
CN (1) CN115349000A (ko)
TW (1) TW202144476A (ko)
WO (1) WO2021200730A1 (ko)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP7369760B2 (ja) * 2021-12-24 2023-10-26 日東電工株式会社 光半導体素子封止用シート
JP7369761B2 (ja) * 2021-12-24 2023-10-26 日東電工株式会社 光半導体素子封止用シート

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2016170875A1 (ja) 2015-04-22 2016-10-27 Dic株式会社 紫外線硬化型粘着シート、及び、粘着シート
JP2017203810A (ja) 2016-05-09 2017-11-16 日本化薬株式会社 有機エレクトロルミネッセンスディスプレイ用カラーフィルタに含有される光吸収層、及びそれを用いたシート
JP2018523854A (ja) 2016-03-08 2018-08-23 エルジー・ケム・リミテッド ディスプレイ装置
JP2019204905A (ja) 2018-05-24 2019-11-28 大日本印刷株式会社 自発光型表示体

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5445751B2 (ja) * 2009-08-07 2014-03-19 大日本印刷株式会社 積層シート
JP4893840B2 (ja) * 2010-03-31 2012-03-07 大日本印刷株式会社 防眩性フィルム、防眩性フィルムの製造方法、偏光板及び画像表示装置
JP2012237965A (ja) * 2011-04-27 2012-12-06 Nitto Denko Corp 粘着剤層、光学フィルムおよび画像表示装置
US10239981B2 (en) * 2013-06-19 2019-03-26 Lg Chem, Ltd. Pressure-sensitive adhesive composition
JP6676325B2 (ja) * 2015-10-01 2020-04-08 リンテック株式会社 粘着シート
WO2018016407A1 (ja) * 2016-07-21 2018-01-25 大塚化学株式会社 ブロック共重合体、組成物およびフィルム
JP6743855B2 (ja) * 2018-09-05 2020-08-19 王子ホールディングス株式会社 光学部材貼合用粘着シート及び積層体の製造方法

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2016170875A1 (ja) 2015-04-22 2016-10-27 Dic株式会社 紫外線硬化型粘着シート、及び、粘着シート
JP2018523854A (ja) 2016-03-08 2018-08-23 エルジー・ケム・リミテッド ディスプレイ装置
JP2017203810A (ja) 2016-05-09 2017-11-16 日本化薬株式会社 有機エレクトロルミネッセンスディスプレイ用カラーフィルタに含有される光吸収層、及びそれを用いたシート
JP2019204905A (ja) 2018-05-24 2019-11-28 大日本印刷株式会社 自発光型表示体

Also Published As

Publication number Publication date
CN115349000A (zh) 2022-11-15
WO2021200730A1 (ja) 2021-10-07
JP2021161262A (ja) 2021-10-11
TW202144476A (zh) 2021-12-01
JP7469109B2 (ja) 2024-04-16

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP7478574B2 (ja) 光学積層体
WO2021200732A1 (ja) 光学積層体
JP7387522B2 (ja) 光学積層体
KR20220159429A (ko) 광학용 점착제 조성물 및 광학 적층체
CN116096828A (zh) 光固化性粘合片
JP7338085B2 (ja) 光学積層体
WO2021085473A1 (ja) 光学用粘着剤組成物
WO2022163707A1 (ja) 光学用粘着テープ
WO2022163703A1 (ja) 光学用粘着テープ
KR20230136745A (ko) 광학용 점착 테이프
KR20230136743A (ko) 광학용 점착 테이프
JP2022117423A (ja) 光学用粘着テープ
JP2022117421A (ja) 光学用粘着テープ
JP2022117424A (ja) 光学用粘着テープ
JP2022117422A (ja) 光学用粘着テープ
KR20240034868A (ko) 광 반도체 소자 밀봉용 시트
CN116761864A (zh) 光学用粘合带
CN116806246A (zh) 光学用粘合带
CN116761863A (zh) 光学用粘合带
CN116802247A (zh) 光学用粘合带

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination