KR20220159358A

KR20220159358A - 적층체

Info

Publication number: KR20220159358A
Application number: KR1020227027609A
Authority: KR
Inventors: 병훈 송; 주-열 장; 승백 홍
Original assignee: 수미토모 케미칼 컴퍼니 리미티드
Priority date: 2020-03-30
Filing date: 2021-03-23
Publication date: 2022-12-02
Also published as: TW202136875A; CN115349100A; WO2021200364A1

Abstract

본 발명은, 전면판, 제1 첩합층, 착색 부재, 제2 첩합층 및 원 편광판을 이 순으로 구비하는 적층체로서, 전면판 측을 내측으로 하여 반복적인 굴곡을 행했을 경우에 착색 부재에 크랙이 발생하기 어려우며, 또한 전면판 측으로부터 적층체의 외관을 육안으로 관찰했을 때에 무지개 얼룩이 시인되기 어려운 적층체를 제공하는 것을 목적으로 한다. 전면판, 제1 첩합층, 착색 부재, 제2 첩합층, 및 원 편광판을 이 순으로 포함하고, 조건 (A) 및 (B)를 충족시키는, 적층체. 조건 (A): 제2 첩합층의 온도 25℃에서의 저장 탄성률 G'b에 대한 제1 첩합층의 온도 25℃에서의 저장 탄성률 G'a의 비 G'a／G'b는 50 미만이다. 조건 (B): 제1 첩합층의 두께 Ta 및 제2 첩합층의 두께 Tb는 모두 1.0㎛ 초과이다.

Description

적층체

본 발명은, 적층체에 관한 것이며, 더욱이는 그것을 포함하는 화상 표시 장치에 관한 것이다.

액정 표시 장치나 유기 일렉트로 루미네선스(EL) 표시 장치 등의 표시 장치에는, 전극부 등이 시인되지 않도록 하기 위해, 외연부(外緣部)에 착색층을 마련하는 것이 알려져 있다(특허문헌 1).

일본 특허공개 2015-076095호 공보

전면판, 제1 첩합층, 착색 부재, 제2 첩합층 및 원 편광판을 이 순으로 구비하는 적층체에 있어서, 전면판 측을 내측으로 하여 반복적인 굴곡을 행했을 경우, 착색 부재에 크랙이 발생하는 경우가 있었다. 또한, 전면판 측으로부터 적층체의 외관을 육안으로 보았을 경우, 광이 간섭하여 무지개색의 얼룩(이하, 무지개 얼룩이라고도 함)이 시인되는 경우가 있었다.

본 발명의 목적은, 전면판, 제1 첩합층, 착색 부재, 제2 첩합층 및 원 편광판을 이 순으로 구비하는 적층체로서, 전면판 측을 내측으로 하여 반복적인 굴곡을 행했을 경우에 착색 부재에 크랙이 발생하기 어려우며, 또한 전면판 측으로부터 적층체의 외관을 육안으로 관찰했을 때에 무지개 얼룩이 시인되기 어려운 적층체를 제공하는 것이다.

본 발명은, 이하의 적층체 및 화상 표시 장치를 제공한다.

[1] 전면판, 제1 첩합층, 착색 부재, 제2 첩합층, 및 원 편광판을 이 순으로 포함하고,

조건 (A) 및 (B)를 충족시키는, 적층체.

조건 (A): 상기 제2 첩합층의 온도 25℃에서의 저장 탄성률 G'b에 대한 상기 제1 첩합층의 온도 25℃에서의 저장 탄성률 G'a의 비 G'a／G'b는 50 미만이다.

조건 (B): 상기 제1 첩합층의 두께 Ta 및 상기 제2 첩합층의 두께 Tb는 모두 1.0㎛ 초과이다.

[2] 조건 (C)를 더 충족시키는, [1]에 기재된 적층체.

조건 (C): 상기 제2 첩합층의 두께 Tb에 대한 상기 제1 첩합층의 두께 Ta의 비 Ta／Tb는 0.03 이상 50 미만이다.

[3] 상기 제1 첩합층의 온도 25℃에서의 저장 탄성률 G'a는, 0.01㎫ 이상 5㎫ 이하인, [1] 또는 [2]에 기재된 적층체.

[4] 상기 착색 부재는, 착색층과 분리층을 구비하는, [1] 내지 [3] 중 어느 것에 기재된 적층체.

[5] 상기 원 편광판 측에 터치 센서층을 더 구비하는, [1] 내지 [4] 중 어느 것에 기재된 적층체.

[6] [1] 내지 [5] 중 어느 것에 기재된 적층체를 구비하는, 화상 표시 장치.

본 발명에 의하면, 전면판, 제1 첩합층, 착색 부재, 제2 첩합층 및 원 편광판을 이 순으로 구비하는 적층체로서, 전면판 측을 내측으로 하여 반복적인 굴곡을 행했을 경우에 착색 부재에 크랙이 발생하기 어려우며, 또한 전면판 측으로부터 적층체의 외관을 육안으로 관찰했을 때에 무지개 얼룩이 관찰되기 어려운 적층체를 제공할 수 있다.

도 1은 본 발명의 적층체의 일례를 모식적으로 나타내는 개략 단면도이다.
도 2는 본 발명의 적층체의 일례를 모식적으로 나타내는 개략 단면도이다.
도 3은 본 발명의 적층체의 개략 상면도이다.
도 4는 본 발명의 적층체의 일례를 모식적으로 나타내는 개략 단면도이다.
도 5는 굴곡성 시험의 방법을 설명하는 개략도이다.

이하, 도면을 참조하면서 본 발명의 실시형태를 설명하지만, 본 발명은 이하의 실시형태에 한정되는 것은 아니다. 이하의 모든 도면에서는, 각 구성 요소를 이해하기 쉽게 하기 위해 축척을 적절히 조정해서 나타내고 있으며, 도면에 나타나는 각 구성 요소의 축척과 실제의 구성 요소의 축척은 반드시 일치하지 않는다.

<적층체>

도 1을 참조하면서, 본 발명의 적층체에 대해서 설명한다. 도 1에 나타내는 적층체(100)는, 전면판(110)과, 제1 첩합층(120)과, 착색 부재(130)와, 제2 첩합층(140)과, 원 편광판(150)을 이 순으로 구비한다. 제1 첩합층(120)과 착색 부재(130)는 서로 접하여 적층되어 있다. 또한, 제2 첩합층(140)과 착색 부재(130)는 서로 접하여 적층되어 있다. 적층체(100)는, 후술하는 접합층 및 터치 센서층을 더 갖고 있어도 된다.

적층체(100)는, 전면판(110) 측을 내측으로 하여 굴곡하는 것(이하, 인폴딩이라고도 함)이 가능하다. 굴곡하는 것이 가능하다는 것은, 착색 부재(130)에 크랙을 발생시키는 일 없이 적층체를 굴곡시킬 수 있는 것을 의미한다. 굴곡에는, 굽힘 부분에 곡면이 형성되는 절곡(折曲)의 형태가 포함된다. 절곡의 형태에 있어서, 절곡된 내면의 굴곡 반경은 특별히 한정되지 않는다. 또한, 굴곡에는, 내면의 굴절각이 0°보다 크고 180° 미만인 굴절의 형태, 및 내면의 굴곡 반경이 제로에 근사(近似), 또는 내면의 굴절각이 0°인 폴딩의 형태가 포함된다. 본 발명의 적층체는, 굴곡하는 것이 가능하므로 플렉서블 디스플레이에 바람직하다.

적층체(100)는, 전면판(110) 측을 내측으로 하여 굴곡 반경이 1㎜에서 반복적인 굴곡을 행했을 때, 착색 부재(130)에 크랙이 발생하기 어려운 경향이 있다. 적층체(100)는, 전면판(110) 측을 내측으로 하여 굴곡 반경이 1㎜에서 반복적인 굴곡을 행했을 때, 착색 부재(130)에 최초로 크랙이 발생하는 굴곡 횟수가 바람직하게는 20만회 이상이며, 보다 바람직하게는 30만회 이상이며, 더 바람직하게는 40만회 이상이며, 특히 바람직하게는 50만회 이상이다.

적층체(100)는, 조건 (A) 및 (B)를 충족시킨다.

조건 (A): 제2 첩합층(140)의 온도 25℃에서의 저장 탄성률 G'b에 대한 제1 첩합층(120)의 온도 25℃에서의 저장 탄성률 G'a의 비 G'a／G'b는 50 미만이다.

조건 (B): 제1 첩합층(120)의 두께 Ta 및 제2 첩합층(140)의 두께 Tb는 모두 1.0㎛ 초과이다.

적층체(100)는 조건 (A) 및 (B)를 모두 충족시킴으로써, 전면판(110) 측을 내측으로 하여 굴곡 반경이 1㎜에서 반복적인 굴곡을 행했을 때, 착색 부재(130)에 크랙이 발생하기 어려워짐과 함께, 전면판 측으로부터 적층체(100)의 외관을 육안으로 관찰했을 때에 무지개 얼룩이 시인되기 어려워진다.

[조건 (A)]

적층체(100)는, 조건 (A)를 충족시킴으로써, 전면판(110) 측을 내측으로 하여 굴곡 반경이 1㎜에서 반복적인 굴곡을 행했을 때, 착색 부재(130)에 크랙이 발생하기 어려워지는 경향이 있다. G'a／G'b는, 착색 부재(130)에 크랙이 발생하기 어려워지는 관점에서 바람직하게는 10 이하이며, 보다 바람직하게는 5 이하이며, 더 바람직하게는 2 이하이며, 특히 바람직하게는 1 이하이며, 1 미만이어도 된다. G'a／G'b는, 0.01 이상이어도 된다. 저장 탄성률 G'a 및 G'b는, 후술하는 실시예의 란에서 설명하는 방법에 따라서 측정된다. 저장 탄성률 G'a 및 G'b의 바람직한 범위에 대해서는 후술한다.

[조건 (B)]

적층체(100)는, 조건 (B)를 충족시킴으로써, 적층체(100)의 전면판 측에 무지개 얼룩이 관찰되기 어려워지는 경향이 있다. 무지개 얼룩은, 후술하는 실시예의 란에서 설명하는 방법에 의해 확인된다. Ta 및 Tb는, 무지개 얼룩이 관찰되기 어려워지는 관점, 및 굴곡성을 높이는 관점에서 바람직하게는 1.5㎛ 이상 100㎛ 이하, 보다 바람직하게는 5㎛ 이상 50㎛ 이하이다. Ta는, 예를 들면 10㎛ 이상이며, 20㎛ 이상인 것이 바람직하고, 예를 들면 100㎛ 이하이며, 80㎛ 이하인 것이 바람직하다. Tb는, 예를 들면 1.2㎛ 이상이며, 1.5㎛ 이상인 것이 바람직하고, 예를 들면 50㎛ 이하이며, 30㎛ 이하인 것이 바람직하다.

[조건 (C)]

적층체(100)는, 전면판(110) 측을 내측으로 하여 굴곡 반경이 1㎜에서 반복적인 굴곡을 행했을 때, 착색 부재(130)에 크랙이 발생하기 어려워지는 관점에서 바람직하게는 조건 (C)를 더 충족시킨다.

조건 (C): 제2 첩합층의 두께 Tb에 대한 제1 첩합층의 두께 Ta의 비 Ta／Tb는 0.03 이상 50 미만이다.

Ta／Tb는, 바람직하게는 0.05 이상 40 이하, 보다 바람직하게는 1 이상 30 이하이며, 더 바람직하게는 1 초과 30 이하이다.

적층체(100)는, 면 방향의 형상은 특별히 한정되지 않지만, 방형(方形) 형상인 것이 바람직하고, 장방형 형상인 것이 보다 바람직하다. 적층체(100)가 장방형 형상인 경우, 장변의 길이는, 예를 들면 50㎜ 이상 300㎜ 이하여도 좋고, 바람직하게는 100㎜ 이상 280㎜ 이하이며, 단변의 길이는, 예를 들면 30㎜ 이상 250㎜ 이하여도 좋고, 바람직하게는 60㎜ 이상 220㎜ 이하이다. 적층체(100)는, 방형 형상이 갖는 모서리 중 적어도 하나에 R 가공을 실시한 각환(角丸) 방형 형상이어도 좋고, 적어도 한 변에 노치부를 갖는 방형 형상이어도 좋다. 적층체(100)는, 적층 방향으로 관통하는 구멍부가 마련되어 있어도 된다. 적층체(100)의 두께는, 적층체(100)에 요구되는 기능 및 용도 등에 따라 다르지만, 예를 들면 20㎛ 이상 2000㎛ 이하로 할 수 있고, 바람직하게는 50㎛ 이상 500㎛ 이하로 할 수 있다.

적층체(100)는, 예를 들면 화상 표시 장치 등에 이용할 수 있다. 화상 표시 장치는 특별히 한정되지 않고, 예를 들면 유기 일렉트로 루미네선스(유기 EL) 표시 장치, 무기 일렉트로 루미네선스(무기 EL) 표시 장치, 액정 표시 장치, 전계 발광 표시 장치 등을 들 수 있다. 적층체(100)를 굴곡하는 것이 가능한 경우, 적층체(100)는, 플렉서블 디스플레이에 바람직하다.

적층체(100)는, 원 편광판(150)을 구비하고 있기 때문에, 화상 표시 장치에 적용했을 경우, 예를 들면 유기 일렉트로 루미네선스(EL) 표시 장치에 있어서의 반사 방지 필름으로서 이용할 수도 있다.

[전면판]

전면판(110)은, 광을 투과 가능한 판상체이면, 재료 및 두께는 한정되지 않고, 또한 단층 구조여도 다층 구조여도 좋고, 유리제의 판상체(예를 들면 유리판, 유리 필름 등), 수지제의 판상체(예를 들면 수지판, 수지 시트, 수지 필름 등), 및 수지제의 판상체와 유리제의 판상체와의 적층체가 예시된다. 전면판(110)은, 화상 표시 장치의 시인 측의 최표면을 구성하는 층일 수 있다.

유리판으로서는, 디스플레이용 강화 유리가 바람직하게 이용된다. 유리판의 두께는, 예를 들면 10㎛ 이상 1000㎛ 이하이며, 바람직하게는 20㎛ 이상 500㎛ 이하이다. 유리판을 이용함으로써, 전면판(110)은, 우수한 기계적 강도 및 표면 경도를 가질 수 있다.

수지 필름으로서는, 광을 투과 가능한 수지 필름이면 한정되지 않는다. 예를 들면, 트리아세틸셀룰로오스, 아세틸셀룰로오스부틸레이트, 에틸렌-아세트산비닐 공중합체, 프로피오닐셀룰로오스, 부티릴셀룰로오스, 아세틸프로피오닐셀룰로오스, 폴리에스테르, 폴리스티렌, 폴리아미드, 폴리에테르이미드, 폴리(메타)아크릴, 폴리이미드, 폴리에테르설폰, 폴리설폰, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 폴리메틸펜텐, 폴리염화비닐, 폴리염화비닐리덴, 폴리비닐알코올, 폴리비닐아세탈, 폴리에테르케톤, 폴리에테르에테르케톤, 폴리에테르설폰, 폴리메틸(메타)아크릴레이트, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리부틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌나프탈레이트, 폴리카보네이트, 폴리아미드이미드 등의 고분자로 형성된 필름을 들 수 있다. 이들 고분자는, 단독으로 또는 2종 이상 혼합하여 이용할 수 있다. 적층체(100)를 플렉서블 디스플레이에 이용할 경우에는, 우수한 가요성(可撓性)을 갖고, 높은 강도 및 높은 투명성을 갖도록 구성 가능한, 폴리이미드, 폴리아미드, 폴리아미드이미드 등의 고분자로 형성된 수지 필름이 바람직하게 이용된다. (메타)아크릴의 고분자란, 아크릴의 고분자 및 메타크릴의 고분자로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1종을 나타낸다. 그 외의 「(메타)」를 붙인 용어에 있어서도 마찬가지이다.

전면판(110)이 수지 필름인 경우, 수지 필름은, 기재 필름의 적어도 한쪽 면에 하드 코팅층을 마련하여 경도를 보다 향상시킨 필름이어도 된다. 하드 코팅층은, 기재 필름의 한쪽 면에 형성되어 있어도 좋고, 양쪽 면에 형성되어 있어도 좋다. 후술하는 화상 표시 장치가 터치 패널 방식의 화상 표시 장치인 경우에는, 전면판(110)의 표면이 터치면이 되기 때문에, 하드 코팅층을 갖는 수지 필름이 바람직하게 이용된다. 하드 코팅층을 마련함으로써, 경도 및 내스크래치성을 향상시킨 수지 필름으로 할 수 있다. 하드 코팅층은, 예를 들면, 자외선 경화형 수지의 경화층이다. 자외선 경화형 수지로서는, 예를 들면, (메타)아크릴계 수지, 실리콘계 수지, 폴리에스테르계 수지, 우레탄계 수지, 아미드계 수지, 에폭시계 수지 등을 들 수 있다. 하드 코팅층은, 경도를 향상시키기 위해, 첨가제를 포함하고 있어도 된다. 첨가제는 한정되지 않고, 무기계 미립자, 유기계 미립자, 또는 이들 혼합물을 들 수 있다. 수지 필름의 두께는, 예를 들면 30㎛ 이상 100㎛ 이하이다.

전면판(110)은, 화상 표시 장치의 전면을 보호하는 기능을 가질 뿐만 아니라, 터치 센서로서의 기능, 블루라이트 컷 기능, 시야각 조정 기능 등을 갖는 것이어도 된다.

[제1 첩합층]

제1 첩합층(120)은, 전면판(110)과 착색 부재(130)를 첩합하기 위한 층일 수 있다. 제1 첩합층(120)은, 점착제 또는 접착제로 형성되는 층이다. 본 명세서에서, 점착제란, 감압식 접착제라고도 불리는 것이다. 한편, 접착제란, 점착제(감압식 접착제) 이외의 접착제를 말하며, 점착제와는 명확하게 구별된다. 제1 첩합층(120)은, 1층이어도 좋고, 또는 2층 이상으로 이루어지는 것이어도 좋지만, 바람직하게는 1층이다. 제1 첩합층은, 바람직하게는 점착제층이다.

제1 첩합층(120)을 형성하는 점착제는, (메타)아크릴계, 고무계, 우레탄계, 에스테르계, 실리콘계, 폴리비닐에테르계와 같은 수지를 주성분으로 하는 점착제 조성물로 구성할 수 있다. 그 중에서도, 투명성, 내후성(耐候性), 내열성 등이 우수한 (메타)아크릴계 수지를 베이스 폴리머로 하는 점착제 조성물이 바람직하다. 점착제 조성물은, 활성 에너지선 경화형, 열경화형이어도 된다.

점착제 조성물에 이용되는 (메타)아크릴계 수지(베이스 폴리머)로서는, 예를 들면, (메타)아크릴산부틸, (메타)아크릴산에틸, (메타)아크릴산이소옥틸, (메타)아크릴산2-에틸헥실과 같은 (메타)아크릴산에스테르의 1종 또는 2종 이상을 모노머로 하는 중합체 또는 공중합체가 바람직하게 이용된다. 베이스 폴리머에는, 극성 모노머를 공중합시키는 것이 바람직하다. 극성 모노머로서는, 예를 들면, (메타)아크릴산, (메타)아크릴산2-히드록시프로필, (메타)아크릴산4-히드록시부틸, (메타)아크릴산히드록시에틸, (메타)아크릴아미드, N,N-디메틸아미노에틸(메타)아크릴레이트, 글리시딜(메타)아크릴레이트와 같은, 카르복시기, 수산기, 아미드기, 아미노기, 에폭시기 등을 갖는 모노머를 들 수 있다.

점착제 조성물은, 상기 베이스 폴리머만을 포함하는 것이어도 되지만, 통상은 가교제를 더 함유한다. 가교제로서는, 2가 이상의 금속 이온으로서, 카르복시기와의 사이에서 카르복시산 금속염을 형성하는 것; 폴리아민 화합물로서, 카르복시기와의 사이에서 아미드 결합을 형성하는 것; 폴리에폭시 화합물이나 폴리올로서, 카르복시기와의 사이에서 에스테르 결합을 형성하는 것; 폴리이소시아네이트 화합물로서, 카르복시기와의 사이에서 아미드 결합을 형성하는 것이 예시된다. 그 중에서도, 폴리이소시아네이트 화합물이 바람직하다.

활성 에너지선 경화형 점착제 조성물이란, 자외선이나 전자선과 같은 활성 에너지선의 조사를 받아 경화되는 성질을 갖고 있으며, 활성 에너지선 조사 전에 있어서도 점착성을 가져 필름 등의 피착체에 밀착시킬 수 있고, 활성 에너지선의 조사에 의해 경화되어 밀착력의 조정을 할 수 있는 성질을 갖는 점착제 조성물이다. 활성 에너지선 경화형 점착제 조성물은, 자외선 경화형인 것이 바람직하다. 활성 에너지선 경화형 점착제 조성물은, 베이스 폴리머, 가교제에 더하여, 활성 에너지선 중합성 화합물을 더 함유한다. 필요에 따라, 광중합개시제나 광증감제 등을 더 함유시킬 경우도 있다.

점착제 조성물은, 광산란성을 부여하기 위한 미립자, 비드(수지 비드, 유리 비드 등), 유리 섬유, 베이스 폴리머 이외의 수지, 점착성 부여제, 충전제(금속 분말이나 기타 무기 분말 등), 산화 방지제, 자외선 흡수제, 염료, 안료, 착색제, 소포제, 부식 방지제, 광중합개시제 등의 첨가제를 포함할 수 있다.

제1 첩합층은, 상기 점착제 조성물의 유기 용제 희석액을 기재 상에 도포하고, 그 도막을 건조시킴으로써 형성할 수 있다. 활성 에너지선 경화형 점착제 조성물을 이용했을 경우에는, 활성 에너지선을 조사함으로써 원하는 경화도를 갖는 경화물로 할 수 있다.

접착제로서는, 예를 들면 수계 접착제, 활성 에너지선 경화형 접착제 등 중 1종 또는 2종 이상을 조합하여 형성할 수 있다. 수계 접착제로서는, 예를 들면 폴리비닐알코올계 수지 수용액, 수계 이액형 우레탄계 에멀젼 접착제 등을 들 수 있다. 활성 에너지선 경화형 접착제는, 자외선 등의 활성 에너지선을 조사함으로써 경화되는 접착제이며, 예를 들면 중합성 화합물 및 광중합성 개시제를 포함하는 접착제, 광반응성 수지를 포함하는 접착제, 바인더 수지 및 광반응성 가교제를 포함하는 접착제 등을 들 수 있다. 상기 중합성 화합물로서는, 광경화성 에폭시계 모노머, 광경화성 아크릴계 모노머, 광경화성 우레탄계 모노머 등의 광중합성 모노머, 및 이들 모노머에 유래하는 올리고머 등을 들 수 있다. 상기 광중합개시제로서는, 자외선 등의 활성 에너지선을 조사하여 중성 라디칼, 음이온 라디칼, 양이온 라디칼과 같은 활성종을 발생하는 물질을 포함하는 화합물을 들 수 있다.

제1 첩합층(120)의 온도 25℃에서의 저장 탄성률 G'a는, 예를 들면 0.01㎫ 이상 5㎫ 이하여도 좋고, 바람직하게는 0.02㎫ 이상 1㎫ 이하, 보다 바람직하게는 0.03㎫ 이상 0.5㎫ 이하이며, 0.1㎫ 이하여도 좋다. 제1 첩합층(120)의 저장 탄성률 G'a는, 예를 들면 제1 첩합층(120)을 형성하는데 이용하는 재료의 선정에 의해 조절할 수 있다.

[착색 부재]

착색 부재(130)는, 전극이나 배선 등을 차폐하거나, 화상 표시 장치에 마련되는 표시 유닛으로부터의 광 누출을 억제하기 위해 착색층을 포함한다. 착색 부재(130)의 한쪽 면에는, 제1 첩합층(120)이 착색 부재(130)에 접하여 적층되고, 착색 부재(130)의 다른쪽 면에는, 제2 첩합층(140)이 착색 부재(130)에 접하여 적층되어 있다.

착색 부재(130)는 착색층에 더하여, 분리층 및 보호층 중 적어도 하나를 더 포함할 수 있다. 착색 부재(130)가 분리층 및 보호층을 포함할 경우, 착색 부재(130)는, 예를 들면 보호층과 착색층과 분리층을 이 순으로 포함해도 좋고, 착색층과 보호층과 분리층을 이 순으로 포함해도 좋다. 착색 부재(130)가 분리층 및 보호층을 포함할 경우, 착색 부재(130)는, 착색층이 분리층으로부터 전면판(110)에 가까워지도록 적층되어도 좋고, 분리층이 착색층으로부터 전면판(110)에 가까워지도록 적층되어도 좋고, 바람직하게는, 전면판(110)에 가까운 순으로 보호층, 착색층, 분리층이 되도록 적층되거나, 또는 전면판(110)에 가까운 순으로 착색층, 보호층, 분리층이 되도록 적층된다. 착색 부재는, 수지 필름 또는 유리를 구비하고 있어도 된다.

착색 부재(130)는, 예를 들면 유리판 상에 분리층을 개재하여 착색층을 형성하고, 착색층 상에 기재층(박리 필름)을 마련하고, 유리판을 분리층과의 사이에서 분리하여 분리층／착색층의 층 구성을 갖는 착색 부재(130)를 기재층 상에 전사(轉寫)함으로써 제조할 수 있다. 유리판을 분리하여 노출시킨 분리층 상에 다른 기재층(박리 필름)을 마련할 수도 있다. 기재층은 통상, 착색 부재(130)를 적층체(100)에 편성할 때에 제거된다.

착색 부재(130)의 두께는, 예를 들면 0.1㎛ 이상 15㎛ 이하여도 좋고, 바람직하게는 0.5㎛ 이상 10㎛ 이하이며, 보다 바람직하게는 1㎛ 이상 7㎛ 이하이다.

[착색층]

착색층은, 전극이나 배선 등을 차폐하거나, 화상 표시 장치에 마련되는 표시 유닛으로부터의 광 누출을 억제하기 위해 차폐성을 가질 수 있다.

착색층의 형상 및 색은 한정되지 않고, 예를 들면 적층체를 이용하는 표시 장치의 용도나 디자인에 따라 적절히 선택할 수 있다. 착색층은, 적층체의 평면시(平面視)에서 부분적으로 배치되도록 마련되어 있어도 좋고, 예를 들면 적층체의 평면시에서 주연부(周緣部)에 배치되도록 마련되어 있어도 좋다.

착색층은 단층 구조여도 좋고, 다층 구조여도 좋다. 착색층이 다층 구조인 경우, 2 이상의 층 중, 적어도 1층은 착색제를 포함하는 착색제 함유층이며, 나머지 층은 착색제를 포함하고 있어도, 착색제를 포함하고 있지 않아도 좋다. 착색제의 색으로서는, 흑색, 적색, 백색, 감색, 은색, 금색 등이 예시된다.

착색층의 색은 특별히 한정되지 않고, 용도나 디자인 등에 따라 적절히 선택하면 된다. 착색층(130)의 색으로서는, 흑색, 백색, 적색, 감색, 은색, 금색 등을 들 수 있다.

착색층의 두께는, 예를 들면 0.1㎛ 이상 5㎛ 이하여도 된다. 착색층의 두께가 너무 클 경우, 착색층을 적층체의 평면시에서 부분적으로 형성했을 경우, 적층체 표면에 단차(段差)가 생기기 쉬워지는 경향이 있다. 한편, 착색층의 두께가 너무 작을 경우, 충분한 차광성이 얻어지기 어려워지는 경향이 있다. 착색층의 두께는, 바람직하게는 0.5㎛ 이상 4㎛ 이하이며, 보다 바람직하게는 1㎛ 이상 3㎛ 이하이며, 더 바람직하게는 1㎛ 이상 2㎛ 이하이다. 상기 두께는, 착색층의 최대 두께를 말한다. 착색층의 두께는 후술하는 실시예의 란에 설명하는 측정 방법에 따라 측정된다.

착색층의 광학 밀도는, 예를 들면 2 이상이어도 좋고, 바람직하게는 3 이상이며, 보다 바람직하게는 4 이상이며, 더 바람직하게는 5 이상이다. 착색층의 광학 밀도의 상한은 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면 10 이하여도 좋고, 7 이하여도 좋다. 착색층은, 두께 1㎛당의 광학 밀도가 예를 들면 1.8 이상이어도 좋고, 바람직하게는 2 이상이며, 보다 바람직하게는 2.5 이상이며, 더 바람직하게는 2.7 이상이다.

광학 밀도는, 다음과 같이 하여 측정된다. 우선 유리 기재 상에 착색층을 형성한다. 이 샘플을 광학 밀도 측정기(예를 들면, X-rite사 제조의 제품명: 361T)에 세트하고, 샘플의 착색층 측에 위치하는 상부의 광원을 점등하여, 샘플의 착색층에 초점을 맞춘다. 상부의 광원을 소등한 후, 샘플의 기재 측에 위치하는 측정용의 광원을 점등하고, 착색층을 측정 영역으로 하여 광학 밀도를 측정한다.

평면시에서, 착색층이 부분적으로 형성될 경우, 착색층은, 적층체가 표시 영역과 비표시 영역으로 구별되도록 형성될 수 있다. 도 2에 나타내는 적층체(200)는, 전면판(110)과 제1 첩합층(120)과 착색 부재(130)와 제2 첩합층(140)과 원 편광판(150)을 구비하고, 착색 부재(130)는, 보호층(133)과 착색층(131)과 분리층(132)을 이 순으로 포함하고 있다. 평면시에서, 적층체(200)는, 표시 영역 A와 비표시 영역 B로 구별되고, 착색층(131)은 비표시 영역 B에 마련되어 있다. 적층체(200)는, 착색 부재(130)의 보호층(133)과 제1 첩합층(120)이 서로 접하여 적층되어 있지만, 다른 실시형태에 있어서는, 착색 부재의 착색층 및 분리층 중 어느 한쪽 또는 양쪽과 제1 첩합층(120)이 서로 접하여 적층되어 있어도 된다.

도 3은, 적층체(200)를, 평면시에서 착색층 측에서 본 개략 상면도이다. 적층체(200)는, 표시 영역 A(201)와 비표시 영역 B(202)로 구별된다. 적층체(200)가 화상 표시 장치를 구성할 경우, 적층체(200)의 표시 영역 A는 화상이 시인되는 영역이 되고, 비표시 영역 B는 화상이 시인되지 않는 영역이 된다. 그 때문에, 비표시 영역 B에는, 전극이나 배선 등이 배치되거나, 화상 표시 장치에 마련되는 표시 유닛으로부터의 광이 누출되는 광 누출을 억제하는 것이 요구될 경우가 있다. 이 경우, 비표시 영역 B에 마련되는 착색층(131)은, 전극이나 배선 등의 은폐성과 함께 광 누출의 억제를 실현할 수 있을 정도로 충분한 차폐성을 갖고 있는 것이 바람직하다. 본 명세서에서, 평면시란 층의 두께 방향에서 보는 것을 의미한다.

도 3에 나타내는 바와 같이, 평면시에서, 적층체의 주연부에 착색층(131)이 형성될 경우, 착색층(131)의 폭(W)은, 예를 들면 0.5㎜ 이상으로 할 수 있고, 3㎜ 이상이어도 좋고, 5㎜ 이상이어도 좋고, 또한, 통상 80㎜ 이하이며, 60㎜ 이하여도 좋고, 50㎜ 이하여도 좋고, 30㎜ 이하여도 좋고, 20㎜ 이하여도 좋다.

적층체(200)의 착색층(131)의 표시 영역 A 측의 단부(端部) 영역은, 표시 영역 A 측의 단부로부터 착색층(131)의 내측을 향하는 방향에서 두께가 커지도록 테이퍼부를 가질 수 있다. 착색층이 테이퍼부를 가짐으로써, 제1 첩합층(120)과 착색 부재(130)를 첩합할 때에 기포의 물림을 억제하기 쉬워지는 경향이 있다.

착색층(131)은, 활성 에너지선 경화성 수지 조성물을 이용하여, 포토리소그래피법 등에 의해 형성할 수 있다. 착색층 형성용 조성물은, 예를 들면 착색제, 바인더 수지, 용매, 임의의 첨가제를 포함할 수 있다. 착색층 형성용 조성물이 활성 에너지선 경화형인 경우, 착색층 형성용 조성물은, 활성 에너지선 중합성 화합물을 더 함유한다. 필요에 따라, 광중합개시제나 광증감제 등을 더 함유시킬 경우도 있다.

착색제로서는, 예를 들면, 아세틸렌 블랙 등의 카본 블랙, 철흑, 이산화티타늄, 아연화(亞鉛華), 벵갈라, 크롬 버밀리언, 군청, 코발트 블루, 황납, 티탄 옐로우 등의 무기 안료; 프탈로시아닌 블루, 인단트렌 블루, 이소인돌리논 옐로우, 벤지딘 옐로우, 퀴나크리돈 레드, 폴리아조 레드, 페릴렌 레드, 아닐린 블랙 등의 유기 안료 또는 염료; 알루미늄, 황동 등의 인편상(鱗片狀) 박편으로 이루어지는 금속 안료; 이산화티타늄 피복 운모, 염기성 탄산납 등의 인편상 박편으로 이루어지는 진주 광택 안료(펄 안료) 등을 들 수 있다.

바인더 수지로서는, 염소화폴리올레핀(예를 들면, 염소화폴리에틸렌, 염소화폴리프로필렌), 폴리에스테르계 수지, 우레탄계 수지, 아크릴계 수지, 아세트산비닐수지, 염화비닐-아세트산비닐 공중합체, 셀룰로오스계 수지를 들 수 있다. 바인더 수지는, 단독으로 이용해도 좋고 2종 이상을 병용해도 좋다. 바인더 수지는, 열중합성 수지여도, 광중합성 수지여도 좋다.

[분리층]

분리층(132)은, 착색층(131)의 제작 과정에서 이용하는 지지체로부터 착색 부재(130)를 분리하기 쉽게 하기 위한 기능을 갖는다. 분리층(132)은, 예를 들면 무기물층 또는 유기물층일 수 있다. 이들 층은, 스핀 코팅법, 스퍼터링법, 증착법 등에 의해 형성할 수 있다. 무기물층을 형성하는 재료로서는, 예를 들면 실리콘 산화물을 들 수 있다. 유기물층을 형성하는 재료로서는, 예를 들면 (메타)아크릴계 수지 조성물, 에폭시계 수지 조성물, 폴리이미드계 수지 조성물 등을 들 수 있다. 분리층(132)의 두께는, 예를 들면 0.01㎛ 이상 1㎛ 이하여도 좋고, 바람직하게는 0.05㎛ 이상 0.5㎛ 이하이다.

[보호층]

보호층(133)은, 착색층(131)을 보호하는 기능을 가질 수 있다. 도 2에 나타나는 바와 같이, 보호층이 착색층의 측면을 피복하도록 형성될 경우, 보호층(133)은, 착색층을 보호함과 함께 착색층(131)에 의해 생기는 단차를 평탄화하는 기능을 가질 수 있다. 보호층(133)은, 유기물층 또는 무기물층일 수 있다. 무기물층 및 유기물층의 재료로서는, 분리층(132)의 설명에서 나타낸 재료와 마찬가지의 것을 이용할 수 있다. 이들 층은, 스핀 코팅법, 스퍼터링법, 증착법 등에 의해 형성할 수 있다. 보호층(133)의 두께는, 예를 들면 0.1㎛ 이상 10㎛ 이하여도 좋고, 바람직하게는 0.5㎛ 이상 5㎛ 이하이다. 보호층은, 분리층과 착색층 사이에 형성되어도 된다.

[제2 첩합층]

제2 첩합층(140)은, 착색 부재(130)와 원 편광판(150)을 첩합하기 위한 층이다.

적층체(100)에 있어서, 착색 부재(130)와 원 편광판(150)은 제2 첩합층(140)을 개재하여 접합된다.

제2 첩합층(140)을 구성하는 접착제, 점착제 및 점착제 조성물의 예 및 바람직한 범위는, 제1 첩합층(120)의 설명에서의 예 및 바람직한 범위가 적용된다.

제2 첩합층(140)의 온도 25℃에서의 저장 탄성률 G'b는, 예를 들면 0.01㎫ 이상 5㎫ 이하여도 좋고, 바람직하게는 0.02㎫ 이상 3㎫ 이하, 보다 바람직하게는 0.03㎫ 이상 1.5㎫ 이하이며, 0.1㎫ 이상이어도 좋고, 0.2㎫ 이상이어도 좋다. 제2 첩합층(140)의 저장 탄성률 G'a는, 예를 들면 제2 첩합층(140)을 형성하는데 이용하는 재료의 선정에 의해 조절할 수 있다. 제2 첩합층은, 바람직하게는 점착제층이다.

[원 편광판]

원 편광판(150)은, 직선 편광판 및 위상차층을 구비할 수 있고, 직선 편광판을 제1 첩합층(120) 측에 배치하고, 위상차층을 제2 첩합층(140) 측에 배치할 수 있다. 원 편광판(150)은, 적층체(100)를 구비하는 화상 표시 장치의 시인 측으로부터 적층체(100)를 지나 입사(入射)하는 광(외광)을 원 편광으로 변환할 수 있다. 또한 원 편광판(150)은, 화상 표시 장치 중의 표시 소자에 의해 반사된 외광을 흡수할 수 있기 때문에, 적층체(100)에 반사 방지 필름으로서의 기능을 부여할 수 있다.

[직선 편광판]

직선 편광판은, 자연광 등의 비편광의 광선으로부터, 어느 일 방향의 직선 편광을 선택적으로 투과시키는 기능을 갖는다. 직선 편광판(130)은, 이색성 색소를 흡착시킨 연신 필름, 또는 이색성 색소 및 중합성 화합물을 포함하는 조성물을 도포하고 경화시킨 필름 등을 편광자로서 구비할 수 있다. 이색성 색소 및 중합성 화합물을 포함하는 조성물을 도포하고 경화시킨 필름으로서는, 액정성을 갖는 이색성 색소를 포함하는 조성물, 또는 이색성 색소와 중합성 액정을 포함하는 조성물을 도포하고 경화시켜 얻어지는 층을 갖는 필름 등을 이용할 수 있다. 이색성 색소로서 구체적으로는, 요오드 또는 이색성의 유기 염료를 이용할 수 있다. 이색성 유기 염료에는, C.I.DIRECT RED 39 등의 디스아조 화합물로 이루어지는 이색성 직접 염료, 트리스아조, 테트라키스아조 등의 화합물로 이루어지는 이색성 직접 염료가 포함된다. 이색성 색소 및 중합성 화합물을 포함하는 조성물을 도포하고 경화시킨 필름은, 이색성 색소를 흡착시킨 연신 필름에 비해, 굴곡 방향으로 제한이 없기 때문에 바람직하다.

이하, 이색성 색소를 흡착시킨 연신 필름이 편광자가 되는 직선 편광판에 대해서 설명한다. 이색성 색소를 흡착시킨 연신 필름은, 통상, 폴리비닐알코올계 수지 필름을 일축 연신하는 공정, 폴리비닐알코올계 수지 필름을 이색성 색소로 염색함으로써, 그 이색성 색소를 흡착시키는 공정, 이색성 색소가 흡착된 폴리비닐알코올계 수지 필름을 붕산 수용액으로 처리하는 공정, 및 붕산 수용액에 의한 처리 후에 상기 이색성 색소가 흡착된 폴리비닐알코올계 수지 필름을 수세하는 공정을 거침으로써 제조된다. 상기 공정에 의해 제조된 이색성 색소를 흡착시킨 연신 필름을, 그대로 직선 편광판으로서 이용해도 좋고, 그 편면 또는 양면에 투명 보호 필름을 첩합한 후에 직선 편광판으로서 이용해도 좋다. 이렇게 해서 얻어지는 편광자(이색성 색소를 흡착시킨 연신 필름)의 두께는, 바람직하게는 2㎛ 이상 40㎛ 이하이다.

상기 폴리비닐알코올계 수지는, 폴리아세트산비닐계 수지를 비누화함으로써 얻어진다. 폴리아세트산비닐계 수지로서는, 아세트산비닐의 단독 중합체인 폴리아세트산비닐 외, 아세트산비닐과 그것에 공중합 가능한 다른 단량체와의 공중합체 등이 이용된다.

아세트산비닐에 공중합 가능한 다른 단량체로서는, 예를 들면 불포화 카르복시산류, 올레핀류, 비닐에테르류, 불포화 설폰산류, 암모늄기를 갖는 (메타)아크릴아미드류 등을 들 수 있다.

폴리비닐알코올계 수지의 비누화도는, 통상 85 ∼ 100몰％ 정도이며, 바람직하게는 98몰％ 이상이다. 폴리비닐알코올계 수지는 변성되어 있어도 되고, 예를 들면 알데히드류에 의해 변성된 폴리비닐포르말, 폴리비닐아세탈 등을 사용할 수 있다. 폴리비닐알코올계 수지의 중합도는, 통상 1000 ∼ 10000 정도이며, 바람직하게는 1500 ∼ 5000의 범위이다.

이러한 폴리비닐알코올계 수지를 제막(製膜)함으로써, 편광자의 재료가 되는 원반(原反) 필름(즉 폴리비닐알코올계 수지 필름)을 얻을 수 있다. 폴리비닐알코올계 수지를 제막하는 방법은, 특별히 한정되는 것이 아니고, 공지된 방법으로 제막할 수 있다. 폴리비닐알코올계 수지 필름의 막두께는, 예를 들면 10㎛ ∼ 150㎛ 정도로 할 수 있다.

폴리비닐알코올계 수지 필름의 일축 연신은, 이색성 색소에 의한 염색 전, 염색과 동시, 또는 염색 후에 행할 수 있다. 일축 연신을 염색 후에 행할 경우, 이 일축 연신은, 붕산 처리 전에 행해도 좋고, 붕산 처리 중에 행해도 좋다. 또한, 이들 복수의 단계에서 일축 연신을 행하는 것도 가능하다. 일축 연신에 있어서는, 주속이 서로 다른 롤간에서 일축으로 연신해도 좋고, 열롤을 이용하여 일축으로 연신해도 좋다. 일축 연신은, 대기 중에서 연신을 행하는 건식 연신이어도 좋고, 용제를 이용하여, 폴리비닐알코올계 수지 필름을 팽윤시킨 상태에서 연신을 행하는 습식 연신이어도 좋다. 연신 배율은, 통상 3 ∼ 8배 정도이다.

상기 연신 필름을 편광자로서 구비하는 직선 편광판의 두께는, 예를 들면 1㎛ 이상이어도 좋고, 5㎛ 이상이어도 좋고, 7㎛ 이상이어도 좋다. 상기 연신 필름을 편광자로서 구비하는 직선 편광판의 두께는, 100㎛ 이하여도 좋고, 50㎛ 이하여도 좋고, 20㎛ 이하여도 좋고, 10㎛ 이하여도 좋다.

편광자의 편면 또는 양면에 첩합되는 투명 보호 필름의 재료는, 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면 환상 폴리올레핀계 수지 필름, 트리아세틸셀룰로오스, 디아세틸셀룰로오스와 같은 수지로 이루어지는 아세트산셀룰로오스계 수지 필름, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌나프탈레이트, 폴리부틸렌테레프탈레이트와 같은 수지로 이루어지는 폴리에스테르계 수지 필름, 폴리카보네이트계 수지 필름, (메타)아크릴계 수지 필름, 폴리프로필렌계 수지 필름 등의 본 기술분야에서 공지된 필름을 들 수 있다. 투명 보호 필름의 두께는, 박형화의 관점에서, 통상 300㎛ 이하이며, 200㎛ 이하인 것이 바람직하고, 100㎛ 이하인 것이 보다 바람직하다.

투명 보호 필름의 두께는, 통상 5㎛ 이상이며, 20㎛ 이상인 것이 바람직하다. 투명 보호 필름은, 위상차를 갖고 있어도, 갖고 있지 않아도 좋다.

투명 보호 필름 대신에, 오버코팅층을 편광자의 편면 또는 양면에 형성해도 된다. 오버코팅층은, 후술하는 첩합층으로서 이용되는 접착제를 도공함으로써 얻어진다. 오버코팅층의 두께는, 예를 들면 10㎛ 이하이며, 5㎛ 이하인 것이 바람직하다. 오버코팅층의 두께는, 예를 들면 0.01㎛ 이상이며, 0.1㎛ 이상인 것이 바람직하다.

다음으로, 이색성 색소 및 중합성 화합물을 포함하는 조성물을 도포하고 경화시킨 필름이 편광자가 되는 직선 편광판에 대해서 설명한다. 이색성 색소 및 중합성 화합물을 포함하는 조성물을 도포하고 경화시킨 필름으로서는, 상술한 바와 같이 액정성을 갖는 이색성 색소를 포함하는 조성물, 또는 이색성 색소와 중합성 액정을 포함하는 조성물을 기재 필름 상에 도포하고 경화시켜 얻어지는 층을 갖는 필름(이하, 이들을 「액정층으로 형성된 필름」이라고 총칭함) 등을 이용할 수 있다. 기재 필름과 도포층 사이에 배향층을 형성해도 된다.

액정층으로 형성된 필름은, 기재를 박리하거나 또는 기재와 함께 직선 편광판으로서 이용해도 좋고, 혹은 그 편면 또는 양면에 투명 보호 필름을 첩합한 후에 직선 편광판으로서 이용해도 좋다. 상기 투명 보호 필름으로서는, 상기한 연신 필름이 편광자가 되는 직선 편광판에 첩합되는 투명 보호 필름과 같은 재료를 이용할 수 있다.

상기 액정층으로 형성된 필름으로서는, 구체적으로는, 일본 특허공개 2013-37353호 공보 또는 일본 특허공개 2013-33249호 공보 등에 기재된 필름을 들 수 있다.

액정층으로 형성된 필름은 얇은 것이 바람직하지만, 너무 얇으면 강도가 저하되어, 가공성이 떨어지는 경향이 있다. 상기 필름의 두께는, 통상 20㎛ 이하이며, 바람직하게는 5㎛ 이하이며, 보다 바람직하게는 0.5㎛ 이상 3㎛ 이하이다. 액정층으로 형성된 필름이 편광자가 되는 직선 편광판의 두께는, 예를 들면 1㎛ 이상 50㎛ 이하여도 좋다.

[위상차층]

위상차층은, 1층이어도 좋고 2층 이상이어도 좋다. 위상차층은, 그 표면을 보호하는 오버코팅층, 및 위상차층을 지지하는 기재 필름 등을 갖고 있어도 된다.

위상차층은, λ／4층을 포함하고, 또한 λ／2층 또는 포지티브 C층 중 적어도 어느 것을 포함하고 있어도 된다. 위상차층이 λ／2층을 포함할 경우, 직선 편광판 측으로부터 순서대로 λ／2층 및 λ／4층을 적층한다. 위상차층이 포지티브 C층을 포함할 경우, 직선 편광판 측으로부터 순서대로 λ／4층 및 포지티브 C층을 적층해도 좋고, 직선 편광판 측으로부터 순서대로 포지티브 C층 및 λ／4층을 적층해도 좋다. 위상차층의 두께는, 예를 들면 0.1㎛ 이상 10㎛ 이하여도 좋고, 바람직하게는 0.5㎛ 이상 8㎛ 이하이며, 보다 바람직하게는 1㎛ 이상 6㎛ 이하이다.

위상차층은, 상술한 투명 보호 필름의 재료로서 예시한 수지 필름으로 형성해도 좋고, 중합성 액정 화합물이 경화된 층으로 형성해도 좋다. 위상차층은, 또한 배향층 및 기재 필름을 포함하고 있어도 좋고, λ／4층과, λ／2층 및 포지티브 C층을 첩합하기 위해 후술하는 접합층을 갖고 있어도 좋다.

위상차층은, 중합성 액정 화합물을 경화해서 이루어지는 층으로 형성할 경우, 중합성 액정 화합물을 포함하는 조성물을, 기재 필름에 도포하고 경화시킴으로써 형성할 수 있다. 기재 필름과 도포층 사이에 배향층을 형성해도 된다. 기재 필름의 재료 및 두께는, 상기 수지 필름(상기 투명 보호 필름)의 재료 및 두께와 같아도 된다. 위상차층은, 중합성 액정 화합물을 경화해서 이루어지는 층으로 형성할 경우, 배향층 및 기재 필름을 갖는 형태로 적층체(100)에 편성되어도 된다.

또한 위상차층은, 후술하는 접합층을 개재하여 직선 편광판과 첩합할 수 있다.

[접합층]

접합층은, 점착제 또는 접착제로 구성되는 층이다. 접합층은, 위상차층에 있어서 각 층을 첩합하거나, 후술하는 터치 센서 패널을 적층체의 원 편광판 측에첩합할 수 있다. 접합층의 재료가 되는 접착제나 점착제는, 제1 첩합층(120)의 설명에서 예시한 접착제나 점착제를 이용할 수 있다. 점착제로서, 다른 점착제, 예를 들면 제1 첩합층(120) 및 제2 첩합층(140)의 재료와는 다른 (메타)아크릴계 점착제, 스티렌계 점착제, 실리콘계 점착제, 고무계 점착제, 우레탄계 점착제, 폴리에스테르계 점착제, 에폭시계 공중합체 점착제 등을 이용할 수도 있다.

접합층의 두께는 특별히 한정되지 않지만, 접합층으로서 점착제층을 사용할 경우, 10㎛ 이상인 것이 바람직하고, 15㎛ 이상이어도 좋고, 20㎛ 이상이어도 좋고, 25㎛ 이상이어도 좋고, 통상 200㎛ 이하이며, 100㎛ 이하여도 좋고, 50㎛ 이하여도 좋다. 접합층으로서 접착제층을 사용할 경우, 접합층의 두께는, 0.1㎛ 이상인 것이 바람직하고, 0.5㎛ 이상이어도 좋고, 10㎛ 이하인 것이 바람직하고, 5㎛ 이하여도 좋다.

[터치 센서층]

도 4에 나타내는 바와 같이, 적층체(100)는, 원 편광판(150) 측에 터치 센서층(170)을 더 구비할 수 있다. 터치 센서층(170)은 접합층(160)을 개재하여 원 편광판(150) 측에 적층될 수 있다. 터치 센서층(170)으로서는, 후술하는 전면판에서 터치된 위치를 검출 가능한 방식이면 되고, 그 예로서 정전 용량 결합 방식을 들 수 있다. 저비용 및 높은 터치 감도이므로, 정전 용량 결합 방식의 터치 센서 패널은 바람직하게 이용된다.

정전 용량 결합 방식의 터치 센서 패널의 일례는, 기재층과, 기재층 상에 마련된 위치 검출용 투광성 전극층과, 터치 위치 검지 회로에 의해 구성되어 있다. 정전 용량 결합 방식의 터치 센서 패널을 마련한 화상 표시 장치에 있어서는, 예를 들면 후술하는 전면판의 표면이 터치되면, 터치된 점에서 인체의 정전 용량을 통해 투광성 전극이 접지된다. 터치 위치 검지 회로가, 투광성 전극의 접지를 검지하고, 터치된 위치가 검출된다.

터치 센서층(170)은, 예를 들면 유리판 상에 분리층을 개재하여 상기의 저항막 방식 또는 정전 용량 결합 방식의 터치 센서 패널을 형성하고, 터치 센서 패널 상에 기재층(박리 필름)을 마련한 후, 유리판을 분리층과의 사이에서 분리하여 터치 센서 패널／분리층의 층 구성을 갖는 터치 센서층을 제조할 수 있다. 이 기재층은 통상, 적층체(100)에 터치 센서층(170)을 편성할 때에 제거된다. 유리판을 분리하여 노출시킨 분리층 상에 다른 기재층을 마련할 수도 있다. 터치 센서 패널은, 투광성 전극층에 더하여, 기재층, 절연층, 보호층, 배선 및 접합층을 더 포함하고 있어도 된다.

(투광성 전극층)

투광성 전극층은, 표면 저항이 90Ω／□ 이하일 수 있다. 투광성 전극층은, ITO(산화인듐주석) 등의 금속 산화물로 이루어지는 투광성 전극층이어도 좋고, 알루미늄이나 구리, 은, 금, 팔라듐 또는 이들 합금[예를 들면 은 팔라듐 구리 합금(APC)] 등의 금속으로 이루어지는 금속층이어도 좋다. 투광성 전극층은, 포토리소그래피법에 의해 패턴화되어 있어도 된다. 터치 센서층(170)은, 1 또는 2 이상의 투광성 전극층을 갖고 있어도 된다. 투광성 전극층은, 단층 또는 다층이어도 좋고, 다층인 경우, 각 층을 형성하는 재료는 동종이어도 좋고 이종(異種)이어도 좋다. 투광성 전극층은, 투광성 및 표면 저항의 관점에서 바람직하게는 패턴화된 ITO막, APC막 및 이들을 조합한 막이 바람직하다.

(기재층)

기재층으로서는, 한쪽 표면에 투광성 전극층이 증착 형성되어 있는 기재 필름, 접착층을 개재하여 투광성 전극층이 전사된 기재 필름 등을 들 수 있다. 혹은, 후술하는 분리층을 기재층으로 하여 다른 기재 필름을 갖지 않는 구조로 해도 된다.

기재 필름으로서는, 광을 투과 가능한 수지 필름이면 한정되지 않는다.

예를 들면, 환상 폴리올레핀계 수지 필름, 트리아세틸셀룰로오스, 디아세틸셀룰로오스와 같은 수지로 이루어지는 아세트산셀룰로오스계 수지 필름, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌나프탈레이트, 폴리부틸렌테레프탈레이트와 같은 수지로 이루어지는 폴리에스테르계 수지 필름, 폴리카보네이트계 수지 필름, (메타)아크릴계 수지 필름, 폴리프로필렌계 수지 필름 등, 당분야에서 공지된 필름을 들 수 있다. 그 중에서도 환상 폴리올레핀계 수지 필름이 바람직하다. 기재 필름의 두께로서는, 통상 300㎛ 이하이며, 200㎛ 이하인 것이 바람직하고, 100㎛ 이하인 것이 보다 바람직하고, 또한, 통상 5㎛ 이상이며, 10㎛ 이상인 것이 바람직하다. 기재층은, 투광성 전극층을 터치 센서층(170)에 편성한 후, 터치 센서층(170)으로부터 제거되어도 된다.

(분리층)

분리층은, 유리판 등의 기판 상에 형성되어, 분리층 상에 형성된 투광성 전극층(14)을 분리층과 함께, 기판으로부터 분리하기 위한 층일 수 있다. 분리층은, 무기물층 또는 유기물층인 것이 바람직하다. 무기물층을 형성하는 재료로서는, 예를 들면 실리콘 산화물을 들 수 있다. 유기물층을 형성하는 재료로서는, 예를 들면 (메타)아크릴계 수지 조성물, 에폭시계 수지 조성물, 폴리이미드계 수지 조성물 등을 이용할 수 있다. 분리층은 터치 센서층(170) 중에 포함되지 않도록 기판과 함께 제거되어도 된다.

(절연층)

절연층은, 투광성 전극층(14)을 덮도록 형성할 수 있다. 절연층은, 경화성 프리폴리머, 경화성 폴리머 및 플라스틱 폴리머로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 하나의 재료로 형성할 수 있다. 절연층은, 필름 형성 가능한 바니시형 재료로 형성할 수도 있다. 바니시형 재료는, 폴리실리콘, 폴리이미드, 및 폴리우레탄 재료로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 하나를 포함할 수 있다. 절연층은 후술하는 접착제층으로 할 수도 있다. 절연층은, 포토리소그래피법에 의해 패턴화되어 있어도 된다. 절연층은 단층 또는 다층이어도 좋고, 다층인 경우, 각 층을 형성하는 재료는 동종이어도 좋고 이종이어도 좋다.

(접합층)

접합층은, 상술한 점착제 또는 접착제로 형성되는 층일 수 있다.

(배선)

배선은, 터치 센서 패널 내에 터치 위치 검지 회로와 투광성 전극층(14)을 전기적으로 접속하기 위해 배치될 수 있다. 배선은, 금속막을 패턴화한 것일 수 있다. 금속막은, 알루미늄이나 구리, 은, 금, 또는 이들 합금 등의 금속을 스퍼터링법이나 증착법에 의해 형성한 금속막을 포토리소그래피법 및 에칭법에 의해 패턴화하여 형성할 수 있다. 배선은, 투광성 전극층(14) 상에 설치될 수 있다.

[적층체의 제조 방법]

적층체(100)는, 점착제층 또는 접착제층 등으로 이루어지는 제1 첩합층 및 제2 첩합층, 그리고 접합층을 개재하여 적층체(100)를 구성하는 층끼리를 첩합하는 공정을 포함하는 방법에 따라 제조할 수 있다. 층끼리를 첩합할 때에는, 밀착성을 높이기 위해, 첩합면 중 어느 한쪽 또는 양쪽에 대해, 예를 들면 코로나 처리 등의 표면 활성화 처리를 실시하는 것이 바람직하다.

원 편광판(150)은, 이것을 이루는 직선 편광판 및 위상차층을, 상술한 바와 같이 수지 필름 또는 기재 필름 상에 직접 형성함으로써 제조하는 것도 가능하다. 이 수지 필름 또는 기재 필름은, 플렉서블 적층체(100)에 편성되어도 좋고, 원 편광판(150)으로부터 박리되어 플렉서블 적층체(100)의 구성 요소가 되지 않아도 좋다.

착색 부재(130)는, 예를 들면 이하와 같이 하여 제조할 수 있다. 우선 유리판 등의 지지체 상에 분리층을 형성한다. 그 다음에 이 분리층 상에 활성 에너지선 경화성 수지 조성물을 이용하여 포토리소그래피법에 의해 착색층을 형성한다. 유리판 측과는 반대 측의 최외면에 박리 가능한 수지 필름을 적층하고, 착색층으로부터 분리층까지를 박리 가능한 수지 필름에 전사하여, 유리판을 분리한다. 그 후, 유리판을 박리한 면에, 박리 가능한 수지 필름을 첩합한다. 포토리소그래피법에서는, 활성 에너지선 경화성 수지 조성물을 분리층에 도포하고, 감광성 수지 조성물의 도막을 노광하고, 그 다음에 현상하고, 그 후, 소성을 행할 수 있다. 노광 광원으로서는, 파장이 250㎚ 이상 450㎚ 이하인 광을 발산하는 수은 증기 아크, 탄소 아크, Xe 아크 등을 사용할 수 있다.

터치 센서층(170)은, 예를 들면 이하와 같이 하여 제조할 수 있다. 우선 유리판 상에 분리층을 형성한다. 분리층 상에, 투광성 전극층, 배선 및 절연층을 이 순으로 형성한다. 유리판 측과는 반대 측의 최외면에 박리 가능한 수지 필름을 적층하고, 절연층으로부터 분리층까지를 박리 가능한 수지 필름에 전사하여, 유리판을 분리한다. 다음으로 기재층을 준비하고, 기재층과 분리층을 접착제층을 개재하여 첩합한다. 박리 가능한 수지 필름을 박리함으로써, 절연층과 배선과 투광성 전극층과 분리층과 접착제층과 기재층을 이 순으로 갖는 터치 센서층(170)이 얻어진다. 절연층 상에 다른 투광성 전극층을 형성하고, 그 다른 투광성 전극층 상에 다른 절연층을 형성할 수도 있다.

<화상 표시 장치>

본 발명에 따른 화상 표시 장치는, 상기 적층체를 포함한다. 화상 표시 장치는 특별히 한정되지 않고, 예를 들면 유기 EL 표시 장치, 무기 EL 표시 장치, 액정 표시 장치, 전계 발광 표시 장치 등의 화상 표시 장치를 들 수 있다. 화상 표시 장치는 터치 패널 기능을 갖고 있어도 된다. 적층체는, 굴곡 또는 절곡 등이 가능한 가요성을 갖는 화상 표시 장치에 바람직하다. 화상 표시 장치에 있어서, 적층체는, 전면판을 외측(화상 표시 소자 측과는 반대 측, 즉 시인 측)을 향하여, 화상 표시 장치의 시인 측에 배치된다.

본 발명에 따른 화상 표시 장치는, 스마트폰, 태블릿 등의 모바일 기기, 텔레비전, 디지털 포토 프레임, 전자 간판, 측정기나 계기류, 사무용 기기, 의료 기기, 전산 기기 등으로서 이용할 수 있다. 본 발명에 따른 화상 표시 장치는, 우수한 플렉서블성을 갖기 때문에, 플렉서블 디스플레이 등에 바람직하다.

실시예

이하, 실시예에 의해 본 발명을 더 상세하게 설명한다. 예 중의 「％」 및 「부」는, 특기가 없는 한, 질량％ 및 질량부이다.

[굴곡성 시험]

각 실시예 및 비교예에서 얻어진 적층체에 대해서, 굴곡 평가 설비(Science Town사 제조, STS-VRT-500)를 이용하여, 25℃의 온도에서, 굽힘에 대한 내구성을 확인하는 평가 시험을 행했다. 도 5는, 본 평가 시험의 방법을 모식적으로 나타내는 도면이다. 도 5에 나타내는 바와 같이, 개별적으로 이동 가능한 두 개의 재치대(501, 502)를, 간극(間隙)(C1)으로 배치하고, 간극(C)의 중심에 폭 방향의 중심이 위치하도록 적층체(500)를 고정하여 배치했다(도 5의 (a)). 이때, 전면판 측이 상방이 되도록 적층체(500)를 배치했다. 그리고, 두 개의 재치대(501, 502)를 위치(P1) 및 위치(P2)를 회전축의 중심으로 하여 상방으로 90도 회전시켜, 재치대의 간극(C)에 대응하는 적층체(500)의 영역에 굽힘력을 부가하여, 대향하는 전면판끼리의 간격(C2)이 2.0㎜가 되도록 했다(도 5의 (b)). 그 후, 두 개의 재치대(501, 502)를 원래의 위치로 되돌렸다(도 5의 (a)). 이상의 일련의 조작을 완료하여, 굽힘력의 부가 횟수를 1회로 카운트했다. 굽힘력의 부가 횟수를 겹쳐쌓아, 재치대(501, 502)의 간극(C)에 대응하는 적층체(500)의 착색 부재의 영역에서의 크랙의 발생의 유무를 확인하고, 착색 부재에 크랙이 발생한 시점에서 굽힘력의 부가를 정지하여, 크랙이 발생했을 때의 굽힘력의 부가 횟수를 기록했다. 재치대(501, 502)의 이동 속도, 굽힘력의 부가의 페이스는, 어느 적층체에 대한 평가 시험에 있어서도 동일한 조건으로 했다. 굴곡성 시험의 평가 기준을 이하에 나타낸다. A, B 또는 C의 평가를 합격으로 한다.

A: 굴곡 횟수가 50만회에 달해도, 크랙이 발생하지 않았다.

B: 굴곡 횟수가 40만회 이상 50만회 미만에서, 크랙이 발생했다.

C: 굴곡 횟수가 30만회 이상 40만회 미만에서, 크랙이 발생했다.

D: 굴곡 횟수가 30만회 미만에서, 크랙이 발생했다.

로서 행했다

[무지개 얼룩의 평가]

적층체의 유기 EL 패널의 대용품 측에 흑판을 접합 후, 전면판 측으로부터, 3파장형 형광을 조사하여 무지개 얼룩을 육안으로 평가했다. 이하에 평가 기준을 나타낸다. A 또는 B의 평가를 합격으로 한다.

A: 무지개 얼룩이 보이지 않는다.

B: 무지개 얼룩이 거의 보이지 않는다.

C: 약한 무지개 얼룩이 보인다.

D: 강한 무지개 얼룩이 보인다.

[층의 두께]

접촉식 막두께 측정 장치(Nikon Corporation 제조 「MS-5C」)를 이용하여 측정했다. 단, 위상차층 및 배향층에 대해서는, 레이저 현미경(LEXT, Olympus Corporation 제조)을 이용하여 측정했다.

[저장 탄성률의 측정]

측정용 샘플을, 레오미터(Anton Parr, MCR-301)에 배치하고, 온도 25℃, 상대습도 50％, 응력 1％, 주파수 1㎐의 조건으로, 저장 탄성률의 측정을 행했다. 측정의 대상이 점착제층인 경우, 점착제층을 두께 150㎛가 되도록 겹쳐쌓아, 측정용의 샘플을 제작했다. 측정의 대상이 접착제층인 경우, 유리 상에 두께가 5㎛가 되도록 접착제를 도포하고, 접착제 상에 레오미터의 지그인 플레이트를 겹쳤다. 이 상태에서, 가열하거나 또는 유리 측으로부터 자외선을 조사하여, 접착제를 경화시켜, 측정용의 샘플을 제작했다.

[중량 평균 분자량(Mw)의 측정]

(메타)아크릴 수지의 중량 평균 분자량(Mw)은, 폴리스티렌 환산의 수평균 분자량(Mn)으로서, 이동상에 테트라히드로퓨란을 이용하고, 하기의 사이즈 익스클루전 크로마토그래피(SEC)에 의해 구했다.

측정하는 (메타)아크릴계 폴리머를 약 0.05질량％의 농도로 테트라히드로퓨란에 용해시키고, SEC에 10μL 주입했다. 이동상은, 1.0mL／분의 유량으로 흘렸다. 칼럼으로서, PLgel MIXED-B(Polymer Laboratories 제조)를 이용했다. 검출기에는 UV-VIS 검출기(상품명: Agilent GPC)를 이용했다.

[점착 시트 1의 제작]

냉각관, 질소 도입관, 온도계 및 교반기를 구비한 반응기에, 아세트산에틸 80부, 아크릴산부틸 70부, 아크릴산메틸 20부, 아크릴산 1.0부의 혼합 용액을 투입하고, 질소 가스로 장치 내의 공기를 치환하여 산소를 포함하지 않으면서, 내온을 55℃로 올렸다. 그 후, 라디칼 중합개시제(2,2'-아조비스이소부티로니트릴) 0.2부를 아세톤 10부에 녹인 용액을 전량 첨가했다. 개시제 첨가 1시간 후에, 단량체를 제외한 아크릴 수지의 농도가 35％가 되도록, 첨가 속도 17.3부／시(時)로 아세톤을 연속적으로 반응기에 첨가하면서, 내온 54 ∼ 56℃에서 12시간 보온하고, 마지막으로 아세트산에틸을 첨가하여, 아크릴 수지의 농도가 20％가 되도록 조절했다. 얻어진 아크릴 수지는, 중량 평균 분자량 Mw가 1,500,000, Mw／Mn이 5.0이었다. 얻어진 아크릴 수지에, 가교제(TOSOH CORPORATION 제조 「콜로네이트 L」) 0.3부, 실란커플링제(Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. 제조 「X-12-981」) 0.5부를 혼합하고, 전체 고형분 농도가 10％가 되도록 아세트산에틸을 첨가하여, 점착제 조성물을 얻었다.

얻어진 점착제 조성물의 도포 용액을 이형 처리된 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름(박리 필름 B)의 이형 처리면에, 어플리케이터를 이용하여 건조 후의 두께가 50㎛가 되도록 도포했다. 도포층을 100℃에서 1분간 건조하여, 점착제층을 구비하는 필름을 얻었다. 그 후, 점착제층의 노출면 상에, 다른 이형 처리된 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름(박리 필름 A)을 첩합했다. 그 후, 온도 23℃, 상대습도 50％RH의 조건으로 7일간 양생(養生)시켰다. 이와 같이 하여, 박리 필름 B／점착제층(두께 50㎛)／박리 필름 A의 구성으로 이루어지는 점착 시트 1을 제작했다. 점착 시트 1의 점착제층을 점착제층 1로 한다. 점착제층 1의 온도 25℃에서의 저장 탄성률은, 0.047㎫이었다.

[점착 시트 2의 제작]

냉각관, 질소 도입관, 온도계 및 교반기를 구비한 반응기에, 아세톤 81.8부, 아크릴산부틸 68부, 및 메타크릴산메틸 30부, 아크릴산 1.0부, 및 아크릴산2-히드록시에틸 1.0부의 혼합 용액을 투입하고, 질소 가스로 장치 내의 공기를 치환하여 산소를 포함하지 않으면서, 내온을 55℃로 올렸다. 그 후, 아조비스이소부티로니트릴(중합개시제) 0.14부를 아세톤 10부에 녹인 용액을 전량 첨가했다. 개시제 첨가 1시간 후에, 단량체를 제외한 아크릴 수지의 농도가 35％가 되도록, 첨가 속도 17.3부／시로 아세톤을 연속적으로 반응기에 첨가하면서, 내온 54 ∼ 56℃에서 12시간 보온하고, 마지막으로 아세트산에틸을 첨가하여, 아크릴 수지의 농도가 20％가 되도록 조절했다. 얻어진 아크릴 수지는, 중량 평균 분자량 Mw가 1,650,000, Mw／Mn이 4.1이었다. 얻어진 아크릴 수지 100부(불휘발분)와, 이소시아네이트계 화합물로서, 콜로네이트 L(TOSOH CORPORATION) 0.2부와, 실란계 화합물로서 KBM403(3-글리시독시프로필트리메톡시실란, Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.로부터 입수) 0.5부를 혼합했다. 전체 고형분 농도가 10％가 되도록 아세트산에틸을 첨가하여, 점착제 조성물을 얻었다.

상기 점착제 조성물을 이용한 것, 및 점착제 조성물의 도포 용액을 건조 후의 두께가 5㎛가 되도록 도포한 것 이외에는, 점착 시트 1의 제작과 마찬가지로 하여, 박리 필름 B／점착제층(두께: 5㎛)／박리 필름 A의 구성으로 이루어지는 점착 시트 2를 제작했다. 점착 시트 2의 점착제층을 점착제층 2로 한다. 점착제층 2의 온도 25℃에서의 저장 탄성률은, 0.6㎫이었다.

[점착 시트 3의 제작]

점착제 조성물의 도포 용액을 건조 후의 두께가 25㎛가 되도록 도포한 것 이외에는, 점착 시트 1의 제작과 마찬가지로 하여, 박리 필름 B／점착제층(두께: 25㎛)／박리 필름 A의 구성으로 이루어지는 점착 시트 3을 제작했다. 점착 시트 3의 점착제층을 점착제층 3으로 한다. 점착제층 3의 온도 25℃에서의 저장 탄성률은, 0.047㎫이었다.

[점착 시트 4의 제작]

아크릴산n-부틸 45질량부, 아크릴산2-에틸헥실 45질량부 및 아크릴산4-히드록시부틸 10질량부를 공중합시켜, 아크릴 수지를 조제했다. 이 아크릴 수지의 중량 평균 분자량(Mw)은 15만이었다. 상기 공정에서 얻어진 아크릴 수지 100질량부(고형분 환산치; 이하 같음)와, 열가교제로서의 트리메틸올프로판 변성 자일릴렌디이소시아네이트(Soken Chemical & Engineering Co., Ltd. 제조, 제품명 「TD-75」) 0.02질량부, 및 실란커플링제로서의 3-글리시독시프로필트리메톡시실란(Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. 제조, 제품명 「KBM403」) 0.2질량부를 혼합하고, 충분히 교반하여, 메틸에틸케톤으로 희석함으로써, 점착제 조성물의 도포 용액을 얻었다.

상기 점착제 조성물을 이용한 것, 점착제 조성물의 도포 용액을 건조 후의 두께가 1.7㎛가 되도록 도포한 것, 및 도포층을 90℃에서 1분간 건조한 것 이외에는, 점착 시트 1의 제작과 마찬가지로 하여, 박리 필름 B／점착제층(두께: 1.7㎛)／박리 필름 A의 구성으로 이루어지는 점착 시트 4를 제작했다. 점착 시트 4의 점착제층을 점착제층 4로 한다. 점착제층 4의 온도 25℃에서의 저장 탄성률은, 1.5㎫이었다.

[점착 시트 5의 제작]

냉각관, 질소 도입관, 온도계 및 교반기를 구비한 반응기에, 아세톤 81.8부, 아크릴산부틸 70.8부, 및 메타크릴산메틸 20부, 아크릴산2-(2-페닐에톡시)에틸) 8부 및 아크릴산4-히드록시부틸 1.0부, 아크릴산 0.2부의 혼합 용액을 투입하고, 질소 가스로 장치 내의 공기를 치환하여 산소를 포함하지 않으면서, 내온을 55℃로 올렸다. 그 후, 아조비스이소부티로니트릴(중합개시제 0.14부)를 아세톤 10부에 녹인 용액을 전량 첨가했다. 개시제 첨가 1시간 후에, 단량체를 제외한 아크릴 수지의 농도가 35％가 되도록 첨가 속도 17.3부／시로 아세톤을 연속적으로 반응기에 첨가하면서, 내온 54 ∼ 56℃에서 12시간 보온하고, 마지막으로 아세트산에틸을 첨가하여, 아크릴 수지의 농도가 20％가 되도록 조절했다. 얻어진 아크릴 수지는, 중량 평균 분자량 Mw가 1,500,000, Mw／Mn이 4.3이었다. 얻어진 아크릴 수지 100부(불휘발분)와, 이소시아네이트계 화합물로서, 콜로네이트 L(TOSOH CORPORATION) 0.2부와, 실란계 화합물로서 KBM403(3-글리시독시프로필트리메톡시실란, Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.로부터 입수) 0.5부를 혼합했다. 전체 고형분 농도가 10％가 되도록 아세트산에틸을 첨가하여, 점착제 조성물을 얻었다.

상기 점착제 조성물을 이용한 것, 및 점착제 조성물의 도포 용액을 건조 후의 두께가 50㎛가 되도록 도포한 것 이외에는, 점착 시트 1의 제작과 마찬가지로 하여, 박리 필름 B／점착제층(두께: 50㎛)／박리 필름 A의 구성으로 이루어지는 점착 시트 5를 제작했다. 점착 시트 5의 점착제층을 점착제층 5로 한다. 점착제층 5의 온도 25℃에서의 저장 탄성률은, 0.136㎫이었다.

[열경화형 접착제]

열경화형 접착제를 준비했다. 열경화형 접착제층의 온도 25℃에서의 저장 탄성률은, 6.8㎫이었다.

[UV 경화형 접착제]

이하의 성분을 혼합하고, 탈포하여 UV 경화형 접착제를 조정했다.

3',4'-에폭시시클로헥실메틸 3,4-에폭시시클로헥산카복실레이트(상품명: CEL2021P, Daicel Corporation 제조): 70질량부

네오펜틸글리콜디글리시딜에테르(상품명: EX-211, Nagase ChemteX Corporation 제조): 20질량부

2-에틸헥실글리시딜에테르(상품명: EX-121, Nagase ChemteX Corporation 제조): 10질량부

양이온 중합개시제(상품명: CPI-100, San-Apro Ltd. 제조): 고형분량 2.25질량부(50％ 프로필렌카보네이트 용액으로서 배합했다.)

1,4-디에톡시나프탈렌: 2질량부

[착색층 형성용 조성물 1]

카본 블랙을 함유하는 활성 에너지선 경화형 착색층 형성용 조성물(Samsung SDI사 제조 「CR-BK0951L」)을 준비했다.

〔실시예 1〕

(전면판의 준비)

일본 특허공개 2018-119141호 공보의 실시예 4에 따라서 제작한 투명 기재 필름(폴리아미드이미드 필름, 두께 40㎛)의 한쪽 표면에, 이하의 하드 코팅층용 조성물을 코팅한 후, 용제를 건조시켜 UV 경화함으로써, 기재 필름의 편면에 두께 10㎛의 하드 코팅층이 형성된 전면판(두께 50㎛)을 제작했다.

하드 코팅층 형성용 조성물: 다기능 아크릴레이트(Miwon Specialty Chemical Co., Ltd, MIRAMER M340) 30질량부, 프로필렌글리콜모노메틸에테르에 분산한 나노실리카 졸(입자경 12㎚, 고형분 40％) 50질량부, 에틸아세테이트 17질량부, 광중합개시제(BASF사, I184) 2.7질량부, 불소계 첨가제(Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., KY1203) 0.3질량부를 교반기를 이용하여 배합하고, 폴리프로필렌(PP) 재질의 필터를 이용하여 여과함으로써 제조했다.

(원 편광판의 준비)

평균 중합도 약 2,400, 비누화도 99.9몰％ 이상, 두께 20㎛의 폴리비닐알코올(PVA) 필름을 준비했다. PVA 필름을 30℃의 순수(純水)에 침지한 후, 요오드／요오드화칼륨／물의 질량비가 0.02／2／100인 수용액에 30℃에서 침지하여 요오드 염색을 행했다(요오드 염색 공정). 요오드 염색 공정를 거친 PVA 필름을, 요오드화칼륨／붕산／물의 질량비가 12／5／100인 수용액에, 56.5℃에서 침지하여 붕산 처리를 행했다(붕산 처리 공정). 붕산 처리 공정을 거친 PVA 필름을 8℃의 순수로 세정한 후, 65℃에서 건조하여, 폴리비닐알코올에 요오드가 흡착 배향되어 있는 편광자를 얻었다. PVA 필름의 연신은, 요오드 염색 공정과 붕산 처리 공정에서 행했다. PVA 필름의 총연신 배율은 5.3배였다. 얻어진 편광자의 두께는 7㎛였다.

상기에서 얻어진 편광자와, 두께 13㎛의 시클로올레핀폴리머(COP) 필름(ZF-14, Zeon Corporation 제조, 파장 550㎚에서의 면 내 위상차치가 1㎚)을 수계 접착제를 통해 니프 롤로 첩합했다. 얻어진 첩합물의 장력을 430N／m로 유지하면서, 60℃에서 2분간 건조하여, 편면에 COP 필름을 갖는 직선 편광판을 얻었다. 또, 수계 접착제는 물 100부에, 카르복시기 변성 폴리비닐알코올(「Kuraray Poval KL318」, KURARAY CO., LTD 제조) 3부와, 수용성 폴리아미드에폭시 수지(「스미레즈 레진 650」(고형분 농도 30％의 수용액), Taoka Chemical Company, Limited 제조) 1.5부를 첨가하여 조제했다.

직선 편광판의 편광자 측과, 위상차층을, 두께가 5㎛인 아크릴계 점착제층을 개재하여 첩합했다. 위상차층은, 두께가 5㎛이며, 층 구성이 액정 화합물이 경화된 층을 포함하는 λ／2층(두께 2㎛)／UV 경화형 접착제층(두께 2㎛)／액정 화합물이 경화된 층을 포함하는 λ／4층(두께 1㎛)이었다. 이와 같이 하여 원 편광판(두께 30㎛, 층 구성: COP 필름／편광자／위상차층)을 제작했다.

(착색 부재 적층체의 준비)

아크릴계 수지를 유리판(지지체)에 코팅하여 분리층(두께: 2㎛)을 형성했다. 분리층 상에, 착색층 형성용 조성물 1을 이용하여 건조 후의 두께가 1.5㎛가 되도록 착색층을 포토리소그래피법에 의해 패터닝하여, 착색층을 부분적으로(액자상으로) 형성했다. 그 다음에 형성한 착색층 측의 면에, 일본 특허공개 2016-014877호 공보에 있어서의 실시예 1의 조성물을 코팅하여 보호층(두께: 2㎛)을 형성했다. 이와 같이 하여, 보호층／착색층／분리층의 층 구성을 갖는 착색 부재를 지지체 상에 형성했다. 그 후, 보호층 상에 박리 필름 A를 첩합했다. 유리판을 박리한 면에 박리 필름 B를 첩합하고, 박리 필름 A／착색 부재(보호층／착색층／분리층)／박리 필름 B의 층 구성을 갖는 착색 부재 적층체를 얻었다. 또, 포토리소그래피법은 착색층 형성용 조성물 도포 공정, 노광 공정, 현상 공정 및 열경화 공정을 포함한다.

(터치 센서 적층체의 준비)

아크릴계 수지를 유리판에 코팅하여 분리층을 형성했다. 그 다음에 분리층 상에 투광성 전극층을 형성하고, 투광성 전극층과 분리층으로 이루어지는 터치 센서층(두께 7㎛)을 제작했다. 그 후, 투광성 전극층의 분리층 측과는 반대 측에 박리 필름 A를 적층했다. 유리판을 제거한 면에 박리 필름 B를 적층하고, 박리 필름 A／터치 센서층／박리 필름 B의 층 구성을 갖는 터치 센서 적층체를 제작했다.

(유기 EL 패널의 대용품의 준비)

유색 폴리이미드 필름(두께 35㎛)의 한쪽 면에 점착제층으로 이루어지는 접합층(두께 25㎛)을 개재하여 유색 폴리이미드 필름(두께 50㎛)을 적층하고, 유기 EL 패널의 대용품(두께 110㎛)을 제작했다.

(적층체의 제작)

상기 부재를 적층함으로써, 적층체를 제작했다. 이 화상 표시 장치는, 전면판(두께 50㎛), 점착제층 1(두께 50㎛), 착색 부재(두께 5.5㎛), 점착제층 2(두께 5.0㎛), 원 편광판(두께 30㎛), 점착제층으로 이루어지는 접합층(두께 25㎛), 터치 센서층(두께 7㎛), 점착제층으로 이루어지는 접합층(두께 25㎛), 유기 EL 패널의 대용품(두께 110㎛)을 이 순으로 포함하고, 그 합계 두께가 307.5㎛였다. 각 부재를 첩합할 때에는, 첩합면에 코로나 처리를 실시했다. 또, 점착제층 1은, 전면판의 투명 기재 필름 및 착색 부재의 보호층에 접하도록 적층했다. 점착제층 2는, 착색 부재의 분리층 및 원 편광판의 COP 필름에 접하도록 적층했다. 즉, 착색 부재는, 전면판 측으로부터, 보호층, 착색층, 및 분리층을 이 순으로 갖는다. 적층체에 대해서 굴곡성 시험 및 무지개 얼룩의 평가를 행했다. 결과를 표 1에 나타낸다.

〔실시예 2 및 3〕

제2 첩합층이 표 1에 기재된 점착제층이 되도록 점착 시트를 바꾼 것 이외에는, 실시예 1과 마찬가지의 절차로 적층체를 제작했다. 적층체에 대해서 굴곡성 시험 및 무지개 얼룩의 평가를 행했다. 결과를 표 1에 나타낸다.

〔비교예 1〕

제2 첩합층에 UV 경화형 접착제를 이용하고, 자외선을 조사하여 경화시킨 것 이외에는, 실시예 1과 마찬가지의 절차로 적층체를 제작했다. 적층체에 대해서 굴곡성 시험 및 무지개 얼룩의 평가를 행했다. 결과를 표 1에 나타낸다.

〔비교예 2〕

제1 첩합층에 열경화형 접착제를 이용하고, 90℃에서 1시간의 열처리를 행하여 첩합을 행한 것, 및 제2 첩합층이 표 1에 기재된 점착제층이 되도록 점착 시트를 바꾼 것 이외에는, 실시예 1과 마찬가지의 절차로 적층체를 제작했다. 적층체에 대해서 굴곡성 시험 및 무지개 얼룩의 평가를 행했다. 결과를 표 1에 나타낸다.

[표 1]

100, 200, 500: 적층체 110: 전면판
120: 제1 첩합층 130: 착색 부재
131: 착색층 132: 분리층
133: 보호층 140: 제2 첩합층
150: 원 편광판 160: 접합층
170: 터치 센서층 201: 표시 영역 A
202: 비표시 영역 B 501, 502: 재치대
W: 착색층의 폭

Claims

전면판, 제1 첩합층, 착색 부재, 제2 첩합층, 및 원 편광판을 이 순으로 포함하고,
조건 (A) 및 (B)를 충족시키는, 적층체.
조건 (A): 상기 제2 첩합층의 온도 25℃에서의 저장 탄성률 G'b에 대한 상기 제1 첩합층의 온도 25℃에서의 저장 탄성률 G'a의 비 G'a／G'b는 50 미만이다.
조건 (B): 상기 제1 첩합층의 두께 Ta 및 상기 제2 첩합층의 두께 Tb는 모두 1.0㎛ 초과이다.
제1항에 있어서,
조건 (C)를 더 충족시키는, 적층체.
조건 (C): 상기 제2 첩합층의 두께 Tb에 대한 상기 제1 첩합층의 두께 Ta의 비 Ta／Tb는 0.03 이상 50 미만이다.
제1항 또는 제2항에 있어서,
상기 제1 첩합층의 온도 25℃에서의 저장 탄성률 G'a는, 0.01㎫ 이상 5㎫ 이하인, 적층체.
제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 착색 부재는, 착색층과 분리층을 구비하는, 적층체.
제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 원 편광판 측에 터치 센서층을 더 구비하는, 적층체.
제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 기재된 적층체를 구비하는, 화상 표시 장치.