KR20220152274A - 원료 공급 시스템 - Google Patents

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에이이치 고모리
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도쿄엘렉트론가부시키가이샤
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Abstract

본 개시의 일 양태에 의한 원료 공급 시스템은, 제1 고체 원료를 용매에 용해시킨 용액 또는 제1 고체 원료를 용매에 분산시킨 분산계를 저류하는 제1 저류부와, 상기 제1 저류부로부터 수송되는 상기 용액 또는 상기 분산계를 저류하는 제2 저류부와, 상기 제1 저류부에 저류된 상기 용액 또는 상기 분산계의 양을 검지하는 검지부와, 상기 제2 저류부에 저류된 상기 용액 또는 상기 분산계로부터 상기 용매를 제거함으로써 형성된 제2 고체 원료를 가열하는 가열부를 갖는다.

Description

원료 공급 시스템
본 개시는 원료 공급 시스템에 관한 것이다.
고체 원료를 용매에 용해시켜 처리실 내에 스프레이 분사한 후, 처리실 내를 가열하여 용매를 제거하여 고체 원료를 잔류시키고, 계속하여 처리실 내를 가열하여 고체 원료를 승화시켜, 대응의 가스를 생성하는 기술이 알려져 있다(예를 들어, 특허문헌 1 참조).
일본 특허 공개 제2004-115831호 공보
본 개시는 저류부에 저류된 용액 또는 분산계의 양을 관리할 수 있는 기술을 제공한다.
본 개시의 일 양태에 의한 원료 공급 시스템은, 제1 고체 원료를 용매에 용해시킨 용액 또는 제1 고체 원료를 용매에 분산시킨 분산계를 저류하는 제1 저류부와, 상기 제1 저류부로부터 수송되는 상기 용액 또는 상기 분산계를 저류하는 제2 저류부와, 상기 제1 저류부에 저류된 상기 용액 또는 상기 분산계의 양을 검지하는 검지부와, 상기 제2 저류부에 저류된 상기 용액 또는 상기 분산계로부터 상기 용매를 제거함으로써 형성된 제2 고체 원료를 가열하는 가열부를 갖는다.
본 개시에 따르면, 저류부에 저류된 용액 또는 분산계의 양을 관리할 수 있다.
도 1은 제1 실시 형태의 원료 공급 시스템을 도시하는 도면.
도 2는 제1 실시 형태의 원료 공급 시스템의 동작을 설명하기 위한 도면 (1).
도 3은 제1 실시 형태의 원료 공급 시스템의 동작을 설명하기 위한 도면 (2).
도 4는 제1 실시 형태의 원료 공급 시스템의 동작을 설명하기 위한 도면 (3).
도 5는 제1 실시 형태의 원료 공급 시스템의 동작을 설명하기 위한 도면 (4).
도 6은 제2 실시 형태의 원료 공급 시스템을 도시하는 도면.
도 7은 제3 실시 형태의 원료 공급 시스템을 도시하는 도면.
이하, 첨부의 도면을 참조하면서, 본 개시의 한정적이지 않은 예시의 실시 형태에 대해서 설명한다. 첨부의 전체 도면 중, 동일하거나 또는 대응하는 부재 또는 부품에 대해서는 동일하거나 또는 대응하는 참조 부호를 부여하고, 중복되는 설명을 생략한다.
〔제1 실시 형태〕
(원료 공급 시스템)
도 1을 참조하여, 제1 실시 형태의 원료 공급 시스템에 대해서 설명한다. 도 1은, 제1 실시 형태의 원료 공급 시스템을 도시하는 도면이다.
원료 공급 시스템(1)은, 제1 고체 원료를 용매에 용해시킨 용액(이하 단순히 「용액」이라고도 함)으로부터 용매를 제거함으로써 형성되는 제2 고체 원료를 승화시켜서 반응성 가스를 생성하고, 생성된 반응성 가스를 사용하여 처리 장치에서 성막을 행하는 시스템이다.
제1 고체 원료는 특별히 한정되지 않지만, 예를 들어 스트론튬(Sr), 몰리브덴(Mo), 루테늄(Ru), 지르코늄(Zr), 하프늄(Hf), 텅스텐(W), 알루미늄(Al) 등의 금속 원소를 함유하는 유기 금속 착체, 텅스텐(W), 알루미늄(Al) 등의 금속 원소를 함유하는 염화물이어도 된다. 용매는 제1 고체 원료를 용해 또는 분산하여 용액을 생성할 수 있으면 되고, 예를 들어 헥산이어도 된다.
원료 공급 시스템(1)은 원료 공급원(10), 버퍼 장치(20), 원료 공급 장치(30, 40), 처리 장치(50) 및 제어 장치(90)를 구비한다.
원료 공급원(10)은 용액(M1)을 버퍼 장치(20)에 공급한다. 본 실시 형태에 있어서, 원료 공급원(10)은 탱크(11) 및 플로트 센서(12)를 포함한다. 탱크(11)에는 용액(M1)이 충전되어 있다. 플로트 센서(12)는 탱크(11) 내에 충전된 용액(M1)의 양을 검지한다.
원료 공급원(10)에는, 탱크(11)의 상방으로부터 배관(L1)의 일단이 삽입되어 있다. 배관(L1)의 타단은 캐리어 가스의 공급원(G1)과 접속되어 있고, 공급원(G1)으로부터 배관(L1)을 통해 탱크(11) 내에 캐리어 가스가 공급된다. 캐리어 가스는 특별히 한정되지 않지만, 예를 들어 질소(N2), 아르곤(Ar) 등의 불활성 가스여도 된다. 배관(L1)에는 밸브(V1)가 개재 설치되어 있다. 밸브(V1)를 개방하면 공급원(G1)으로부터 원료 공급원(10)으로 캐리어 가스가 공급되고, 밸브(V1)를 폐쇄하면 공급원(G1)으로부터 원료 공급원(10)으로의 캐리어 가스의 공급이 차단된다. 또한, 배관(L1)에는, 배관(L1)을 흐르는 캐리어 가스의 유량을 제어하는 유량 제어기(도시하지 않음)나 추가의 밸브 등이 개재 설치되어 있어도 된다.
또한, 원료 공급원(10)에는 탱크(11)의 상방으로부터 배관(L2)의 일단이 삽입되어 있다. 배관(L2)의 타단은 버퍼 장치(20)와 접속되어 있다. 공급원(G1)으로부터 탱크(11) 내에 캐리어 가스가 공급되면, 탱크(11) 내가 가압되고, 탱크(11) 내의 용액(M1)이 배관(L2)을 통해 버퍼 장치(20)에 공급된다. 배관(L2)에는, 원료 공급원(10)의 측으로부터 차례로 밸브(V2a, V2b)가 개재 설치되어 있다. 밸브(V2a, V2b)를 개방하면 원료 공급원(10)으로부터 버퍼 장치(20)로 용액(M1)이 공급되고, 밸브(V2a, V2b)를 폐쇄하면 원료 공급원(10)으로부터 버퍼 장치(20)로의 용액(M1)의 공급이 차단된다. 또한, 배관(L2)에는, 배관(L2)을 흐르는 용액(M1)의 유량을 제어하는 유량 제어기(도시하지 않음)나 추가의 밸브 등이 개재 설치되어 있어도 된다.
또한, 배관(L2)의 밸브(V2b)보다도 버퍼 장치(20)의 측에는, 배관(L3)의 일단이 접속되어 있다. 배관(L3)의 타단은 캐리어 가스의 공급원(G3)과 접속되어 있고, 공급원(G3)으로부터 배관(L3, L2)을 통해 버퍼 장치(20)에 캐리어 가스가 공급된다. 캐리어 가스는 특별히 한정되지 않지만, 예를 들어 N2, Ar 등의 불활성 가스여도 된다. 배관(L3)에는 밸브(V3)가 개재 설치되어 있다. 밸브(V3)를 개방하면 공급원(G3)으로부터 버퍼 장치(20)로 캐리어 가스가 공급되고, 밸브(V3)를 폐쇄하면 공급원(G3)으로부터 버퍼 장치(20)로의 캐리어 가스의 공급이 차단된다. 또한, 배관(L3)에는, 배관(L3)을 흐르는 캐리어 가스의 유량을 제어하는 유량 제어기(도시하지 않음)나 추가의 밸브 등이 개재 설치되어 있어도 된다.
버퍼 장치(20)는, 원료 공급원(10)으로부터 수송되는 용액(M1)을 저류한다. 본 실시 형태에 있어서, 버퍼 장치(20)는 용기(21) 및 플로트 센서(22)를 포함한다. 단, 버퍼 장치(20)는 용기(21)를 가열하는 히터 등의 가열부(도시하지 않음)를 더 포함하고 있어도 된다. 용기(21)는 원료 공급원(10)으로부터 수송되는 용액(M1)을 일시적으로 저류한다. 플로트 센서(22)는 용기(21) 내에 저류된 용액(M1)의 양을 검지한다. 단, 플로트 센서(22) 대신에 로드셀식이나 온도 검지식 등의 별도의 레벨 센서를 마련함으로써 용기(21) 내에 저류된 용액(M1)의 양을 검지하도록 해도 된다.
버퍼 장치(20)는 배관(L4, L5)을 통해 원료 공급 장치(30)와 접속되어 있고, 배관(L4, L5)을 통해 원료 공급 장치(30)에 용액(M1)을 공급한다. 배관(L4, L5)에는 각각 밸브(V4, V5)가 개재 설치되어 있다. 밸브(V4, V5)를 개방하면 버퍼 장치(20)로부터 원료 공급 장치(30)로 용액(M1)이 공급되고, 밸브(V4, V5)를 폐쇄하면 버퍼 장치(20)로부터 원료 공급 장치(30)로의 용액(M1)의 공급이 차단된다. 또한, 배관(L5)에는, 배관(L5)을 흐르는 용액(M1)의 유량을 제어하는 유량 제어기(도시하지 않음)나 추가의 밸브 등이 개재 설치되어 있어도 된다.
또한, 버퍼 장치(20)는, 배관(L4, L6)을 통해 원료 공급 장치(40)와 접속되어 있고, 배관(L4, L6)을 통해 원료 공급 장치(40)에 용액(M1)을 공급한다. 배관(L6)에는 밸브(V6)가 개재 설치되어 있다. 밸브(V4, V6)를 개방하면 버퍼 장치(20)로부터 원료 공급 장치(40)로 용액(M1)이 공급되고, 밸브(V4, V6)를 폐쇄하면 버퍼 장치(20)로부터 원료 공급 장치(40)로의 용액(M1)의 공급이 차단된다. 또한, 배관(L6)에는, 배관(L6)을 흐르는 용액(M1)의 유량을 제어하는 유량 제어기(도시하지 않음)나 추가의 밸브 등이 개재 설치되어 있어도 된다.
원료 공급 장치(30)는 버퍼 장치(20)로부터 수송되는 용액(M1)을 저류한다. 본 실시 형태에 있어서, 원료 공급 장치(30)는 용기(31), 가열부(32) 및 압력계(33)를 포함한다. 용기(31)는 버퍼 장치(20)로부터 수송되는 용액(M1)을 저류한다. 가열부(32)는, 용액(M1)으로부터 용매를 제거함으로써 형성된 고체 원료(이하 「제2 고체 원료(M2)」라고 함)를 가열함으로써, 제2 고체 원료(M2)를 승화시켜서 반응성 가스를 생성한다. 가열부(32)는, 예를 들어 용기(31)의 저부 및 외주를 덮도록 배치된 히터여도 된다. 가열부(32)는 제2 고체 원료를 승화시켜서 반응성 가스를 생성할 수 있는 온도로 용기(31) 내를 가열할 수 있도록 구성된다. 압력계(33)는 용기(31)의 내압을 검출한다. 검출된 용기(31)의 내압은 제어 장치(90)에 송신되고, 제어 장치(90)는 해당 내압에 기초하여 각종 밸브의 개폐를 제어한다. 예를 들어, 제어 장치(90)는 해당 내압이 소정의 압력보다도 높아진 경우에, 밸브(V5)를 폐쇄함으로써 용기(31)에 과잉의 용액(M1)이 공급되지 않도록 한다.
원료 공급 장치(30)에는, 용기(31)의 상방으로부터 배관(L8)의 일단이 삽입되어 있다. 배관(L8)의 타단은 배관(L7)을 통해 캐리어 가스의 공급원(G7)과 접속되어 있고, 공급원(G7)으로부터 배관(L7, L8)을 통해 용기(31) 내에 캐리어 가스가 공급된다. 캐리어 가스는 특별히 한정되지 않지만, 예를 들어 N2, Ar 등의 불활성 가스여도 된다. 배관(L8)에는, 공급원(G7)의 측으로부터 차례로 밸브(V8a, V8b)가 개재 설치되어 있다. 밸브(V8a, V8b)를 개방하면 공급원(G7)으로부터 원료 공급 장치(30)에 캐리어 가스가 공급되고, 밸브(V8a, V8b)를 폐쇄하면 공급원(G7)으로부터 원료 공급 장치(30)로의 캐리어 가스의 공급이 차단된다. 배관(L7)에는, 배관(L7)을 흐르는 캐리어 가스의 유량을 제어하는 유량 제어기(F7)가 개재 설치되어 있다. 본 실시 형태에 있어서, 유량 제어기(F7)는 매스 플로 컨트롤러(MFC)이다.
원료 공급 장치(30)는, 배관(L10, L12)을 통해 처리 장치(50)와 접속되어 있고, 배관(L10, L12)을 통해 처리 장치(50)에 반응성 가스를 공급한다. 배관(L10)에는, 원료 공급 장치(30)의 측으로부터 차례로 밸브(V10a 내지 V10c)가 개재 설치되어 있다. 밸브(V10a 내지 V10c)를 개방하면 원료 공급 장치(30)로부터 처리 장치(50)로 반응성 가스가 공급되고, 밸브(V10a 내지 V10c)를 폐쇄하면 원료 공급 장치(30)로부터 처리 장치(50)로의 반응성 가스의 공급이 차단된다.
배관(L10)의 밸브(V10a)와 밸브(V10b) 사이에는 배관(L13)의 일단이 접속되어 있다. 배관(L13)의 타단은, 배관(L8)의 밸브(V8a)와 밸브(V8b) 사이에 접속되어 있다. 배관(L13)은, 배관(L8)과 배관(L10)을 원료 공급 장치(30)를 통하지 않고 접속하는 바이패스 배관으로서 기능한다. 배관(L13)에는, 밸브(V13)가 개재 설치되어 있다. 밸브(V13)를 개방하면 배관(L8)과 배관(L10)이 연통하고, 밸브(V13)를 폐쇄하면 배관(L8)과 배관(L10)의 연통이 차단된다.
배관(L10)의 밸브(V10b)와 밸브(V10c) 사이에는 배관(L14)의 일단이 접속되어 있다. 배관(L14)의 타단은, 예를 들어 진공 펌프 등의 배기 장치(도시하지 않음)에 접속되어 있다. 배관(L14)에는 밸브(V14)가 개재 설치되어 있다. 밸브(V10a, V10b)가 개방된 상태에서 밸브(V14)를 개방하면, 용기(31) 내가 배기되고, 용기(31) 내에 저류된 용액(M1)으로부터 용매를 제거할 수 있다. 밸브(V14)를 폐쇄하면, 용기(31) 내에 저류된 용액(M1)으로부터의 용매의 제거를 정지할 수 있다.
원료 공급 장치(40)는 버퍼 장치(20)로부터 수송되는 용액(M1)을 저류한다. 원료 공급 장치(40)는 원료 공급 장치(30)와 병렬로 마련되어 있다. 본 실시 형태에 있어서, 원료 공급 장치(40)는 용기(41), 가열부(42) 및 압력계(43)를 포함한다. 용기(41)는 버퍼 장치(20)로부터 수송되는 용액(M1)을 저류한다. 가열부(42)는 용액(M1)으로부터 용매를 제거함으로써 형성된 제2 고체 원료(M2)를 가열함으로써, 제2 고체 원료(M2)를 승화시켜서 반응성 가스를 생성한다. 가열부(42)는, 예를 들어 용기(41)의 저부 및 외주를 덮도록 배치된 히터여도 된다. 가열부(42)는 제2 고체 원료(M2)를 승화시켜서 반응성 가스를 생성할 수 있는 온도로 용기(41) 내를 가열할 수 있도록 구성된다. 압력계(43)는 용기(41)의 내압을 검출한다. 검출된 용기(41)의 내압은 제어 장치(90)에 송신되고, 제어 장치(90)는 해당 내압에 기초하여 각종 밸브의 개폐를 제어한다. 예를 들어, 제어 장치(90)는 해당 내압이 소정의 압력보다도 높아진 경우에, 밸브(V6)를 폐쇄함으로써 용기(41)에 과잉의 용액(M1)이 공급되지 않도록 한다.
원료 공급 장치(40)에는, 용기(41)의 상방으로부터 배관(L9)의 일단이 삽입되어 있다. 배관(L9)의 타단은 배관(L7)을 통해 캐리어 가스의 공급원(G7)과 접속되어 있고, 공급원(G7)으로부터 배관(L7, L9)을 통해 용기(41) 내에 캐리어 가스가 공급된다. 캐리어 가스는 특별히 한정되지 않지만, 예를 들어 N2, Ar 등의 불활성 가스여도 된다. 배관(L9)에는, 공급원(G7)의 측으로부터 차례로 밸브(V9a, V9b)가 개재 설치되어 있다. 밸브(V9a, V9b)를 개방하면 공급원(G7)으로부터 원료 공급 장치(40)로 캐리어 가스가 공급되고, 밸브(V9a, V9b)를 폐쇄하면 공급원(G7)으로부터 원료 공급 장치(40)로의 캐리어 가스의 공급이 차단된다.
원료 공급 장치(40)는, 배관(L11, L12)을 통해 처리 장치(50)와 접속되어 있고, 배관(L11, L12)을 통해 처리 장치(50)에 반응성 가스를 공급한다. 배관(L11)에는 밸브(V11a 내지 V11c)가 개재 설치되어 있다. 밸브(V11a 내지 V11c)를 개방하면 원료 공급 장치(40)로부터 처리 장치(50)로 반응성 가스가 공급되고, 밸브(V11a 내지 V11c)를 폐쇄하면 원료 공급 장치(40)로부터 처리 장치(50)로의 반응성 가스의 공급이 차단된다.
배관(L11)의 밸브(V11a)와 밸브(V11b) 사이에는, 배관(L15)의 일단이 접속되어 있다. 배관(L15)의 타단은, 배관(L9)의 밸브(V9a)와 밸브(V9b) 사이에 접속되어 있다. 배관(L15)은, 배관(L9)과 배관(L11)을 원료 공급 장치(40)를 통하지 않고 접속하는 바이패스 배관으로서 기능한다. 배관(L15)에는, 밸브(V15)가 개재 설치되어 있다. 밸브(V15)를 개방하면 배관(L9)과 배관(L11)이 연통하고, 밸브(V15)를 폐쇄하면 배관(L9)과 배관(L11)의 연통이 차단된다.
배관(L11)의 밸브(V11b)와 밸브(V11c) 사이에는, 배관(L16)의 일단이 접속되어 있다. 배관(L16)의 타단은, 예를 들어 진공 펌프 등의 배기 장치(도시하지 않음)에 접속되어 있다. 배관(L16)에는 밸브(V16)가 개재 설치되어 있다. 밸브(V11a, V11b)가 개방된 상태에서 밸브(V16)를 개방하면, 용기(41) 내가 배기되고, 용기(41) 내에 저류된 용액(M1)으로부터 용매를 제거할 수 있다. 밸브(V16)를 폐쇄하면, 용기(41) 내에 저류된 용액(M1)으로부터의 용매의 제거를 정지할 수 있다.
처리 장치(50)는 배관(L10, L12)을 통해 원료 공급 장치(30)와 접속되어 있고, 처리 장치(50)에는 원료 공급 장치(30)에 있어서 제2 고체 원료(M2)를 가열하여 승화시킴으로써 생성되는 반응성 가스가 공급된다. 또한, 처리 장치(50)는 배관(L11, L12)을 통해 원료 공급 장치(40)와 접속되어 있고, 처리 장치(50)에는 원료 공급 장치(40)에 있어서 제2 고체 원료(M2)를 가열하여 승화시킴으로써 생성되는 반응성 가스가 공급된다.
처리 장치(50)는 원료 공급 장치(30, 40)로부터 공급되는 반응성 가스를 사용하여 반도체 웨이퍼 등의 기판에 대해서, 성막 처리 등의 각종 처리를 실행한다. 본 실시 형태에 있어서, 처리 장치(50)는 처리 용기(51), 유량계(52) 및 밸브(V12)를 포함한다. 처리 용기(51)는 하나 또는 복수의 기판을 수용한다. 본 실시 형태에 있어서, 유량계(52)는 매스 플로 미터(MFM)이다. 유량계(52)는 배관(L12)에 개재 설치되어 있고, 배관(L12)을 흐르는 반응성 가스의 유량을 측정한다. 밸브(V12)는 배관(L12)에 개재 설치되어 있다. 밸브(V13)를 개방하면 원료 공급 장치(30, 40)로부터 처리 용기(51)로 반응성 가스가 공급되고, 밸브(V13)를 폐쇄하면 원료 공급 장치(30, 40)로부터 처리 용기(51)로의 반응성 가스의 공급이 차단된다.
제어 장치(90)는 원료 공급 시스템(1)의 각 부를 제어한다. 예를 들어, 제어 장치(90)는 원료 공급원(10), 버퍼 장치(20), 원료 공급 장치(30, 40), 처리 장치(50) 등의 동작을 제어한다. 또한, 제어 장치(90)는 각종 밸브의 개폐를 제어한다. 제어 장치(90)는, 예를 들어 컴퓨터여도 된다.
(원료 공급 시스템의 동작)
도 2 내지 5를 참조하여, 원료 공급 시스템(1)의 동작(원료 공급 방법)의 일례에 대해서 설명한다. 원료 공급 시스템(1)에서는, 제어 장치(90)가 각종 밸브의 개폐를 제어함으로써, 병렬로 마련된 2개의 원료 공급 장치(30, 40) 중 한쪽에서 처리 장치(50)로의 반응성 가스의 공급을 행하고, 다른 쪽에서 고체 원료의 충전을 행한다. 이하, 원료 공급 시스템(1)의 동작의 일례에 대해서 구체적으로 설명한다.
먼저, 도 2 및 도 3을 참조하여, 원료 공급 장치(30)에서 처리 장치(50)로의 반응성 가스의 공급을 행하고, 원료 공급 장치(40)에서 고체 원료의 충전을 행하는 경우에 대해서 설명한다. 도 2 및 도 3은 원료 공급 시스템(1)의 동작을 설명하기 위한 도면이다. 도 2 및 도 3에서는 캐리어 가스, 용액(M1) 및 반응성 가스가 흐르고 있는 배관을 굵은 실선으로 나타내고, 캐리어 가스, 용액(M1) 및 반응성 가스가 흐르고 있지 않은 배관을 가는 실선으로 나타낸다. 또한, 도 2 및 도 3에서는, 밸브가 개방된 상태를 흰색 기호로 나타내고, 밸브가 폐쇄된 상태를 검게 칠해진 기호로 나타낸다. 또한, 원료 공급 시스템(1)은, 초기 상태에 있어서, 도 1에 도시하는 바와 같이, 모든 밸브가 폐쇄되어 있는 것으로 하고, 원료 공급 장치(30)에는 제2 고체 원료(M2)가 저류되어 있는 것으로 하여 설명한다.
제어 장치(90)는, 원료 공급 장치(30)의 가열부(32)를 제어하여, 용기(31) 내의 제2 고체 원료(M2)를 가열하여 승화시킴으로써 반응성 가스를 생성한다. 또한, 제어 장치(90)는 밸브(V8a, V8b, V10a 내지 V10c, V12)를 개방한다. 이에 의해, 공급원(G7)으로부터 배관(L7, L8)을 통해 원료 공급 장치(30)의 용기(31) 내에 캐리어 가스가 주입되고, 캐리어 가스와 함께 용기(31) 내에서 생성된 반응성 가스가 배관(L10, L12)을 통해 처리 장치(50)에 공급된다.
또한, 제어 장치(90)는, 도 2에 도시하는 바와 같이, 밸브(V1, V2a, V2b)를 개방한다. 이에 의해, 공급원(G1)으로부터 원료 공급원(10)에 캐리어 가스가 공급되고, 원료 공급원(10)으로부터 배관(L2)을 통해 버퍼 장치(20)에 용액(M1)이 수송되고, 버퍼 장치(20)의 용기(21) 내에 용액(M1)이 저류된다. 이때, 밸브(V4)가 폐쇄되어 있으므로, 용기(21) 내에 저류되는 용액(M1)이 원료 공급 장치(30, 40)에 수송되는 일은 없다.
계속하여, 제어 장치(90)는 플로트 센서(22)의 검출값에 기초하여, 용기(21) 내에 소정량의 용액(M1)이 저류되었는지 여부를 판정한다. 소정량은, 예를 들어 원료 공급 장치(40)의 용기(41) 내에 저류 가능한 양으로 설정된다. 용기(21) 내에 소정량의 용액(M1)이 저류되었다고 판정하면, 제어 장치(90)는, 도 3에 도시된 바와 같이 밸브(V1, V2a, V2b)를 폐쇄하고, 밸브(V3, V4, V6)를 개방한다. 이에 의해, 공급원(G3)으로부터 배관(L3)을 통해 버퍼 장치(20)에 캐리어 가스가 공급되고, 버퍼 장치(20)로부터 배관(L4, L6)을 통해 원료 공급 장치(40)에 용액(M1)이 수송된다. 이에 의해, 원료 공급 장치(40)의 용기(41) 내에 소정량의 용액(M1)이 저류된다. 또한, 제어 장치(90)는, 도 3에 도시된 바와 같이 밸브(V11a, V11b, V16)를 개방한다. 이에 의해, 원료 공급 장치(40)의 용기(41) 내가 배기 장치에 의해 배기되므로, 용기(41) 내의 용액(M1)으로부터 용매가 제거되고, 용기(41) 내에 제2 고체 원료(M2)가 형성된다. 또한, 용기(41) 내의 용액(M1)으로부터 용매를 제거할 때에는, 제어 장치(90)는 가열부(42)를 제어하여, 용기(41) 내의 용액(M1)을 소정의 온도로 가열하는 것이 바람직하다. 이에 의해, 용매의 제거가 촉진된다. 소정의 온도는, 예를 들어 제2 고체 원료(M2)를 승화시켜서 반응성 가스를 생성할 때의 온도보다도 낮게 설정된다. 또한, 도 3에는, 용기(41) 내의 용액(M1)으로부터 용매가 제거되기 전의 상태를 나타내고 있다.
다음으로, 도 4 및 도 5를 참조하여, 원료 공급 장치(40)에서 처리 장치(50)로의 반응성 가스의 공급을 행하고, 원료 공급 장치(30)에서 고체 원료의 충전을 행하는 경우에 대해서 설명한다. 도 4 및 도 5는 원료 공급 시스템(1)의 동작을 설명하기 위한 도면이다. 도 4 및 도 5에서는 캐리어 가스, 용액(M1) 및 반응성 가스가 흐르고 있는 배관을 굵은 실선으로 나타내고, 캐리어 가스, 용액(M1) 및 반응성 가스가 흐르고 있지 않은 배관을 가는 실선으로 나타낸다. 또한, 도 4 및 도 5에서는, 밸브가 개방된 상태를 흰색 기호로 나타내고, 밸브가 폐쇄된 상태를 검게 칠해진 기호로 나타낸다. 또한, 원료 공급 시스템(1)은, 초기 상태에 있어서, 도 1에 도시하는 바와 같이, 모든 밸브가 폐쇄되어 있는 것으로 한다. 또한, 도 4에 도시하는 바와 같이, 원료 공급 장치(40)에는 제2 고체 원료(M2)가 저류되어 있는 것으로 하여 설명한다.
제어 장치(90)는 원료 공급 장치(40)의 가열부(42)를 제어하여, 용기(41) 내의 제2 고체 원료(M2)를 가열하여 승화시킴으로써 반응성 가스를 생성한다. 또한, 제어 장치(90)는 밸브(V9a, V9b, V11a 내지 V11c, V12)를 개방한다. 이에 의해, 공급원(G7)으로부터 배관(L7, L9)을 통해 원료 공급 장치(40)의 용기(41) 내에 캐리어 가스가 주입되고, 캐리어 가스와 함께 용기(41) 내에서 생성된 반응성 가스가 배관(L11, L12)을 통해 처리 장치(50)에 공급된다.
또한, 제어 장치(90)는, 도 4에 도시되는 바와 같이, 밸브(V1, V2a, V2b)를 개방한다. 이에 의해, 공급원(G1)으로부터 원료 공급원(10)에 캐리어 가스가 공급되고, 원료 공급원(10)으로부터 배관(L2)을 통해 버퍼 장치(20)에 용액(M1)이 수송되고, 버퍼 장치(20)의 용기(21) 내에 용액(M1)이 저류된다. 이때, 밸브(V4)가 폐쇄되어 있으므로, 용기(21) 내에 저류되는 용액(M1)이 원료 공급 장치(30, 40)에 수송되는 일은 없다.
계속하여, 제어 장치(90)는 플로트 센서(22)의 검출값에 기초하여, 용기(21) 내에 소정량의 용액(M1)이 저류되었는지 여부를 판정한다. 소정량은, 예를 들어 원료 공급 장치(30)의 용기(31) 내에 저류 가능한 양으로 설정된다. 용기(21) 내에 소정량의 용액(M1)이 저류되었다고 판정하면, 제어 장치(90)는, 도 5에 도시하는 바와 같이 밸브(V1, V2a, V2b)를 폐쇄하고, 밸브(V3, V4, V5)를 개방한다. 이에 의해, 공급원(G3)으로부터 배관(L3)을 통해 버퍼 장치(20)에 캐리어 가스가 공급되고, 버퍼 장치(20)로부터 배관(L4, L5)을 통해 원료 공급 장치(30)에 용액(M1)이 수송된다. 이에 의해, 원료 공급 장치(30)의 용기(31) 내에 소정량의 용액(M1)이 저류된다. 또한, 제어 장치(90)는, 도 5에 도시되는 바와 같이 밸브(V10a, V10b, V14)를 개방한다. 이에 의해, 원료 공급 장치(30)의 용기(31) 내가 배기 장치에 의해 배기되므로, 용기(31) 내의 용액(M1)으로부터 용매가 제거되고, 용기(31) 내에 제2 고체 원료(M2)가 형성된다. 또한, 용기(31) 내의 용액(M1)으로부터 용매를 제거할 때에는, 제어 장치(90)는 가열부(32)를 제어하여, 용기(31) 내의 용액(M1)을 소정의 온도로 가열하는 것이 바람직하다. 이에 의해, 용매의 제거가 촉진된다. 소정의 온도는, 예를 들어 제2 고체 원료를 승화시켜서 반응성 가스를 생성할 때의 온도보다도 낮게 설정된다. 또한, 도 5에는, 용기(41) 내의 용액(M1)으로부터 용매가 제거되기 전의 상태를 나타내고 있다.
이상에 설명한 바와 같이 원료 공급 시스템(1)에 의하면, 제어 장치(90)가 밸브의 개폐를 제어함으로써, 2개의 원료 공급 장치(30, 40) 중 한쪽에서 처리 장치(50)로의 반응성 가스의 공급을 행하고, 다른 쪽에서 고체 원료의 충전을 행한다. 이에 의해, 원료 공급 장치(30, 40)로의 원료의 자동 보충이 가능해져, 처리 장치(50)의 연속 운전 능력을 향상시키고, 처리 장치(50)의 가동률을 향상시킬 수 있다.
또한, 원료 공급 시스템(1)에 의하면, 원료 공급원(10)과 원료 공급 장치(30, 40) 사이에 플로트 센서(22)를 포함하는 버퍼 장치(20)가 마련되어 있다. 이에 의해, 원료 공급원(10)으로부터 수송되는 용액(M1)을 버퍼 장치(20) 내에서 액량을 관리하고, 관리된 액량의 용액(M1)을 원료 공급 장치(30, 40)에 수송할 수 있다. 그 때문에, 원료 공급 장치(30, 40)에 플로트 센서를 마련하지 않아도 원료 공급 장치(30, 40)에 저류되는 용액(M1)의 액량을 관리할 수 있다. 그 결과, 플로트 센서의 내열 온도, 히트 사이클 내구성, 작동 신뢰성 등, 레벨 센서에 의한 사용 제한을 받지 않고, 원료 공급 장치(30, 40)에 있어서 용액(M1)을 가열하여 승화시킬 수 있다. 즉, 원료 공급 장치(30, 40)에 있어서, 용액(M1)을 가열하는 온도 등에 대한 사용 가능 범위를 확대할 수 있다.
〔제2 실시 형태〕
도 6을 참조하여, 제2 실시 형태의 원료 공급 시스템에 대해서 설명한다. 도 6은, 제2 실시 형태의 원료 공급 시스템을 도시하는 도면이다.
원료 공급 시스템(1A)은 원료 공급 장치(30A, 40A)의 각각이, 버퍼 장치(20)로부터 수송되는 용액(M1)을 분무하여 용기(31, 41) 내에 주입하는 원료 주입부(34, 44)를 포함하는 점에서, 제1 실시 형태의 원료 공급 시스템(1)과 상이하다. 또한, 그 밖의 구성에 대해서는, 제1 실시 형태의 원료 공급 시스템(1)과 마찬가지이므로, 이하 상이한 구성을 중심으로 설명한다.
원료 공급 장치(30A)는, 버퍼 장치(20)로부터 수송되는 용액(M1)을 저류한다. 본 실시 형태에 있어서, 원료 공급 장치(30A)는 용기(31), 가열부(32), 압력계(33) 및 원료 주입부(34)를 포함한다. 용기(31)는 버퍼 장치(20)로부터 수송되는 용액(M1)을 저류한다. 가열부(32)는 용액(M1)으로부터 용매를 제거함으로써 형성된 제2 고체 원료(M2)를 가열함으로써, 제2 고체 원료(M2)를 승화시켜서 반응성 가스를 생성한다. 가열부(32)는, 예를 들어 용기(31)의 저부 및 외주를 덮도록 배치된 히터여도 된다. 가열부(32)는 제2 고체 원료(M2)를 승화시켜서 반응성 가스를 생성할 수 있는 온도로 용기(31) 내를 가열할 수 있도록 구성된다. 압력계(33)는 용기(31)의 내압을 검출한다. 검출된 용기(31)의 내압은 제어 장치(90)로 송신되고, 제어 장치(90)는 해당 내압에 기초하여 각종 밸브의 개폐를 제어한다. 예를 들어, 제어 장치(90)는, 해당 내압이 소정의 압력보다도 높아진 경우에, 밸브(V5)를 폐쇄함으로써 용기(31)에 과잉의 용액(M1)이 공급되지 않도록 한다.
원료 주입부(34)는, 버퍼 장치(20)로부터 배관(L4, L5)을 통해 수송되는 용액(M1)을 분무하여 용기(31) 내에 주입한다. 원료 주입부(34)는 용액(M1)을 분무함으로써, 용액(M1)이 용기(31)의 저부 등에 도달하기 전에 용매를 기화시키고, 제2 고체 원료(M2)로서 퇴적시킨다. 원료 주입부(34)는, 예를 들어 분무 노즐이어도 된다.
원료 공급 장치(40A)는, 버퍼 장치(20)로부터 수송되는 용액(M1)을 저류한다. 본 실시 형태에 있어서, 원료 공급 장치(40A)는 용기(41), 가열부(42), 압력계(43) 및 원료 주입부(44)를 포함한다.
용기(41), 가열부(42), 압력계(43) 및 원료 주입부(44)는, 원료 공급 장치(30A)에 있어서의 용기(31), 가열부(32), 압력계(33) 및 원료 주입부(34)와 마찬가지의 구성이어도 된다.
이상에 설명한 바와 같이 원료 공급 시스템(1A)에 의하면, 원료 공급 시스템(1)과 마찬가지로, 제어 장치(90)가 밸브의 개폐를 제어함으로써, 2개의 원료 공급 장치(30A, 40A) 중 한쪽에서 처리 장치(50)로의 반응성 가스의 공급을 행하고, 다른 쪽에서 고체 원료의 충전을 행한다. 이에 의해, 원료 공급 장치(30A, 40A)로의 원료의 자동 보충이 가능해져, 처리 장치(50)의 연속 운전 능력을 향상시키고, 처리 장치(50)의 가동률을 향상시킬 수 있다.
또한, 원료 공급 시스템(1A)에 의하면, 원료 주입부(34, 44)로부터 용기(31, 41) 내에 용액(M1)을 분무하여 주입함으로써, 용액(M1)이 용기(31, 41)의 저부 등에 도달하기 전에 용매를 기화시키고, 제2 고체 원료(M2)로서 퇴적시킨다. 이와 같이 원료 공급 시스템(1A)에서는, 용기(31, 41) 내에 주입된 용액(M1)을 용기(31, 41)의 저부 등에 고체로서 퇴적시켜서 저류하므로, 일정 체적당 저류 가능한 고체 원료의 양을 증가시킬 수 있다.
또한, 원료 공급 시스템(1A)에서는, 고체 원료를 용매에 용해시킨 용액(M1)을 분무하여 용매를 기화시키고, 제2 고체 원료(M2)로서 용기(31, 41)의 저부 등에 한 번 퇴적시킨 후, 제2 고체 원료(M2)를 승화시켜서 처리 장치(50)에 공급한다. 이에 의해, 유량 제어의 간이화나, 대유량화 등의 제어가 용이해진다.
또한, 원료 공급 시스템(1A)에 의하면, 원료 공급 시스템(1)과 마찬가지로, 원료 공급원(10)과 원료 공급 장치(30A, 40A) 사이에 플로트 센서(22)를 포함하는 버퍼 장치(20)가 마련되어 있다. 이에 의해, 원료 공급원(10)으로부터 수송되는 용액(M1)을 버퍼 장치(20) 내에서 액량을 관리하고, 관리된 액량의 용액(M1)을 원료 공급 장치(30A, 40A)에 수송하고, 원료 주입부(34, 44)로부터 용기(31, 41) 내에 분무할 수 있다. 그 때문에, 용기(31, 41) 내에 분무됨으로써 용매가 기화되어 퇴적하는 제2 고체 원료(M2)의 저장량을 관리할 수 있다.
〔제3 실시 형태〕
도 7을 참조하여, 제3 실시 형태의 원료 공급 시스템에 대해서 설명한다. 도 7은 제3 실시 형태의 원료 공급 시스템을 도시하는 도면이다.
원료 공급 시스템(1B)은 용기(31, 41) 내의 각각이 다단으로 형성되어 있다는 점에서, 제1 실시 형태의 원료 공급 시스템(1)과 상이하다. 또한, 그 밖의 구성에 대해서는, 제1 실시 형태의 원료 공급 시스템(1)과 마찬가지이므로, 이하 상이한 구성을 중심으로 설명한다.
원료 공급 장치(30B)는, 버퍼 장치(20)로부터 수송되는 용액(M1)을 저류한다. 본 실시 형태에 있어서, 원료 공급 장치(30B)는 용기(31), 가열부(32), 압력계(33), 구획판(35, 36) 및 관통관(37, 38)을 포함한다.
용기(31), 가열부(32) 및 압력계(33)는, 제1 실시 형태의 원료 공급 장치(30)와 동일해도 된다.
구획판(35)은 용기(31) 내에 마련되고, 용기(31) 내를 상하로 2개의 영역으로 구획한다. 구획판(35)은 용액, 고체 원료 및 반응성 가스를 투과하지 않는 재료, 예를 들어 스테인리스나 니켈 합금에 의해 형성되어 있다.
구획판(36)은 용기(31) 내에 있어서의 구획판(35)의 하방에 마련되고, 용기(31) 내의 구획판(35)의 하방의 영역을 상하로 2개의 영역으로 구획한다. 구획판(36)은, 예를 들어 구획판(35)과 동일한 재료에 의해 형성되어 있다.
관통관(37)은, 구획판(35)을 두께 방향(상하 방향)으로 관통하여 마련되어 있고, 관통관(37)을 통해 용액 및 반응성 가스가 구획판(35)을 통과한다. 관통관(37)의 구획판(35)의 상면으로부터 상방으로 연장되는 높이는, 필요한 원료의 양을 확보할 수 있을 정도의 높이이다. 관통관(37)은, 구획판(35)의 면 내에 있어서 1개 이상(도시된 예에서는 2개) 마련되어 있다.
관통관(38)은, 구획판(36)을 두께 방향(상하 방향)으로 관통하여 마련되어 있고, 관통관(38)을 통해 용액 및 반응성 가스가 구획판(36)을 통과한다. 관통관(38)의 구획판(36)의 상면으로부터 상방으로 연장되는 높이는, 필요한 원료의 양을 확보할 수 있을 정도의 높이이다. 관통관(38)은, 구획판(36)의 면 내에 있어서 1개 이상(도시된 예에서는 1개) 마련되어 있다.
이와 같이 용기(31) 내에 구획판(35, 36)이 마련되어 있음으로써, 버퍼 장치(20)로부터 용기(31) 내에 수송되는 용액은 구획판(35) 위, 구획판(36) 위 및 용기(31)의 저면 위에 저류된다. 그 때문에, 용기(31) 내에서 저류되는 용액의 단위 체적당 표면적인 비표면적이 커지기 때문에, 용액으로부터 용매를 제거하는 시간을 단축할 수 있다. 또한, 용액으로부터 용매를 제거함으로써 형성된 고체 원료를 승화시켜서 생성되는 반응성 가스의 양을 증가시킬 수 있다.
원료 공급 장치(40B)는 버퍼 장치(20)로부터 수송되는 용액(M1)을 저류한다. 본 실시 형태에 있어서, 원료 공급 장치(40B)는 용기(41), 가열부(42), 압력계(43), 구획판(45, 46) 및 관통관(47, 48)을 포함한다.
용기(41), 가열부(42), 압력계(43), 구획판(45, 46) 및 관통관(47, 48)은, 원료 공급 장치(30B)에 있어서의 용기(31), 가열부(32), 압력계(33), 구획판(35, 36) 및 관통관(37, 38)과 마찬가지의 구성이어도 된다.
이와 같이 용기(41) 내에 구획판(45, 46)이 마련되어 있음으로써, 버퍼 장치(20)로부터 용기(41) 내에 수송되는 용액은 구획판(45) 위, 구획판(46) 위 및 용기(41)의 저면 위에 저류된다. 그 때문에, 용기(41) 내에서 저류되는 용액의 단위 체적당 표면적인 비표면적이 커지기 때문에, 용액으로부터 용매를 제거하는 시간을 단축할 수 있다. 또한, 용액으로부터 용매를 제거함으로써 형성된 고체 원료를 승화시켜서 생성되는 반응성 가스의 양을 증가시킬 수 있다.
이상에 설명한 바와 같이 원료 공급 시스템(1B)에 의하면, 원료 공급 시스템(1)과 마찬가지로, 제어 장치(90)가 밸브의 개폐를 제어함으로써, 2개의 원료 공급 장치(30B, 40B) 중 한쪽에서 처리 장치(50)로의 반응성 가스의 공급을 행하고, 다른 쪽에서 고체 원료의 충전을 행한다. 이에 의해, 원료 공급 장치(30B, 40B)로의 원료의 자동 보충이 가능해져, 처리 장치(50)의 연속 운전 능력을 향상시키고, 처리 장치(50)의 가동률을 향상시킬 수 있다.
또한, 원료 공급 시스템(1B)에 의하면, 원료 공급 시스템(1)과 마찬가지로, 원료 공급원(10)과 원료 공급 장치(30B, 40B) 사이에 플로트 센서(22)를 포함하는 버퍼 장치(20)가 마련되어 있다. 이에 의해, 원료 공급원(10)으로부터 수송되는 용액(M1)을 버퍼 장치(20) 내에서 액량을 관리하고, 관리된 액량의 용액(M1)을 원료 공급 장치(30B, 40B)에 수송할 수 있다. 그 때문에, 원료 공급 장치(30B, 40B)에 플로트 센서를 마련하지 않아도 원료 공급 장치(30B, 40B)에 저류되는 용액(M1)의 액량을 관리할 수 있다. 그 결과, 플로트 센서의 내열 온도, 히트 사이클 내구성, 작동 신뢰성 등, 레벨 센서에 의한 사용 제한을 받지 않고, 원료 공급 장치(30B, 40B)에 있어서 용액(M1)을 가열하여 승화시킬 수 있다. 즉, 원료 공급 장치(30B, 40B)에 있어서, 용액(M1)을 가열하는 온도 등에 대한 사용 가능 범위를 확대할 수 있다.
또한, 원료 공급 시스템(1B)에 의하면, 용기(31, 41) 내의 각각이 다단으로 형성되어 있다. 이에 의해, 버퍼 장치(20)로부터 용기(31, 41) 내에 수송되는 용액은 구획판(35, 45) 위, 구획판(36, 46) 위 및 용기(31, 41)의 저면 위에 저류된다. 그 때문에, 용기(31, 41) 내에서 저류되는 용액의 단위 체적당 표면적인 비표면적이 커지기 때문에, 용액으로부터 용매를 제거하는 시간을 단축할 수 있다. 또한, 용액으로부터 용매를 제거함으로써 형성된 고체 원료를 승화시켜서 생성되는 반응성 가스의 양을 증가시킬 수 있다.
또한, 제3 실시 형태에서는, 제1 실시 형태의 원료 공급 시스템(1)의 용기(31, 41) 내의 각각이 다단으로 형성되어 있는 경우를 설명했지만, 본 개시는 이것에 한정되지 않는다. 예를 들어, 제2 실시 형태의 원료 공급 시스템(1A)의 용기(31, 41) 내의 각각이 다단으로 형성되어 있어도 된다.
또한, 상기한 실시 형태에 있어서, 버퍼 장치(20)는 제1 저류부의 일례이고, 원료 공급 장치(30, 30A, 30B, 40, 40A, 40B)는 제2 저류부의 일례이고, 플로트 센서(22)는 검지부의 일례이다. 또한, 배관(L10, L11)은 배기 포트의 일례이고, 원료 주입부(34, 44)는 주입부의 일례이다. 제어 장치(90)는 제어부의 일례이다.
금회 개시된 실시 형태는 모든 점에서 예시이며 제한적인 것은 아니라고 생각되어야 한다. 상기한 실시 형태는 첨부한 청구범위 및 그 취지를 일탈하지 않고, 다양한 형태로 생략, 치환, 변경되어도 된다.
상기한 실시 형태에 있어서, 용액(M1)으로부터 용매를 제거함으로써 형성되는 제2 고체 원료(M2)를 승화시켜서 반응성 가스를 생성하고, 생성된 반응성 가스를 사용하여 처리 장치(50)에서 성막을 행하는 시스템을 설명했지만, 본 개시는 이것에 한정되지 않는다. 예를 들어, 용액(M1) 대신에, 제1 고체 원료를 용매에 분산시킨 슬러리(slurry), 제1 고체 원료를 용매에 분산시킨 졸(sol) 등의 분산계(dispersion)를 사용할 수도 있다. 예를 들어, 졸을 사용함으로써, 용액(M1)이나 슬러리를 사용하는 것보다도 고농도의 전구체를 충전할 수 있다. 또한, 슬러리는 현탁액(suspension)이라고도 칭해진다. 또한, 졸은 콜로이드 용액(colloidal solution)이라고도 칭해진다.
본 국제 출원은 2020년 3월 17일에 출원한 일본 특허 출원 제2020-046446호, 및 2020년 7월 8일에 출원한 일본 특허 출원 제2020-118056호에 기초하는 우선권을 주장하는 것이고, 당해 출원의 전체 내용을 본 국제 출원에 원용한다.
1, 1A, 1B: 원료 공급 시스템
20: 버퍼 장치
22: 플로트 센서
30, 30A, 30B, 40, 40A, 40B: 원료 공급 장치
32, 42: 가열부

Claims (15)

  1. 제1 고체 원료를 용매에 용해시킨 용액 또는 제1 고체 원료를 용매에 분산시킨 분산계를 저류하는 제1 저류부와,
    상기 제1 저류부로부터 수송되는 상기 용액 또는 상기 분산계를 저류하는 제2 저류부와,
    상기 제1 저류부에 저류된 상기 용액 또는 상기 분산계의 양을 검지하는 검지부와,
    상기 제2 저류부에 저류된 상기 용액 또는 상기 분산계로부터 상기 용매를 제거함으로써 형성된 제2 고체 원료를 가열하는 가열부
    를 갖는, 원료 공급 시스템.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 제2 저류부는,
    상기 용액 또는 상기 분산계를 저류하는 용기와,
    상기 용기 내를 배기하는 배기 포트
    를 포함하는
    원료 공급 시스템.
  3. 제2항에 있어서,
    상기 배기 포트는, 상기 제2 고체 원료가 가열되어서 승화한 반응성 가스를 사용한 처리를 행하는 처리 장치에 접속되는,
    원료 공급 시스템.
  4. 제2항 또는 제3항에 있어서,
    상기 배기 포트는, 상기 용기 내를 배기하는 배기 장치에 접속되는,
    원료 공급 시스템.
  5. 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 제2 저류부는,
    상기 용액 또는 상기 분산계를 저류하는 용기와,
    상기 용액 또는 상기 분산계를 분무하여 상기 용기 내에 주입하는 주입부
    를 포함하는,
    원료 공급 시스템.
  6. 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 제2 저류부는 병렬로 복수 마련되는,
    원료 공급 시스템.
  7. 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 검지부는 플로트 센서를 포함하는,
    원료 공급 시스템.
  8. 제1항 내지 제7항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 제2 고체 원료가 가열되어서 승화한 반응성 가스의 유량을 측정하는 유량계를 갖는,
    원료 공급 시스템.
  9. 제1항 내지 제8항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 제2 저류부의 내압을 검출하는 압력계를 갖는,
    원료 공급 시스템.
  10. 제1항 내지 제9항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 제1 저류부는, 상기 용액 또는 상기 분산계가 충전된 원료 공급원에 접속되는,
    원료 공급 시스템.
  11. 제10항에 있어서,
    상기 원료 공급원으로부터 상기 제1 저류부에 상기 용액 또는 상기 분산계를 수송하는 스텝과,
    상기 원료 공급원으로부터 상기 제1 저류부에 상기 용액 또는 상기 분산계를 수송하지 않고, 상기 제1 저류부로부터 상기 제2 저류부에 상기 용액 또는 상기 분산계를 수송하는 스텝과,
    상기 제2 저류부에 있어서 상기 용액 또는 상기 분산계로부터 상기 용매를 제거하는 스텝
    을 실행하도록 구성되는 제어부를 갖는,
    원료 공급 시스템.
  12. 제11항에 있어서,
    상기 제어부는, 상기 용액 또는 상기 분산계로부터 상기 용매를 제거함으로써 형성된 상기 제2 고체 원료를 가열함으로써, 상기 제2 고체 원료를 승화시켜서 반응성 가스를 생성하는 스텝을 실행하도록 구성되는,
    원료 공급 시스템.
  13. 제1항에 있어서,
    상기 분산계는 슬러리인,
    원료 공급 시스템.
  14. 제2항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 제2 저류부는, 상기 용기 내가 다단으로 형성되어 있는,
    원료 공급 시스템.
  15. 제14항에 있어서,
    상기 제2 저류부는,
    상기 용기 내에 마련되고, 상기 용기 내를 복수의 영역으로 구획하는 구획판과,
    상기 구획판을 두께 방향으로 관통하여 마련되는 관통관
    을 포함하는,
    원료 공급 시스템.
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