KR20220149614A - 차광 부재 - Google Patents
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Abstract
[과제] 우수한 흑색도를 가지는 차광 부재를 제공한다.
[해결 수단] 차광 부재(1)의 광학 다층막(4)은, 가시광을 흡수하는 광흡수층(6)과 유전체제의 층인 유전체층(8)이, 4층 이상으로 배치된 것이다. 기재(2)로부터 가장 먼 최표층(10)의 물리막 두께는, 62㎚ 이상 91㎚ 이하이다. 물리막 두께가 26㎚ 이상 85㎚ 이하인 유전체층(8) 중 최표층(10)에 가장 가까운 차최표층(12)과, 최표층(10)과의 사이에 배치된 광흡수층(6)의 물리막 두께의 합계인 표층측 광흡수 두께(C)는, 6㎚ 이상 17㎚ 이하이다. 차최표층(12)과 기재(2)와의 사이에 배치된 광흡수층(6)의 물리막 두께의 합계인 기재측 광흡수 두께(D)는, 60㎚ 이상이다. 차최표층(12)과 기재(2)와의 사이에 배치된 광흡수층(6) 중 가장 물리막 두께가 큰 층인 기재측 최대 두께 광흡수층(18)에서부터, 최표층(10)까지의 물리막 두께의 합계인 특정 표층 두께(E)와 관련된 특정 비율(F=(C+D)/E)은, 0.34 이상이다.
[해결 수단] 차광 부재(1)의 광학 다층막(4)은, 가시광을 흡수하는 광흡수층(6)과 유전체제의 층인 유전체층(8)이, 4층 이상으로 배치된 것이다. 기재(2)로부터 가장 먼 최표층(10)의 물리막 두께는, 62㎚ 이상 91㎚ 이하이다. 물리막 두께가 26㎚ 이상 85㎚ 이하인 유전체층(8) 중 최표층(10)에 가장 가까운 차최표층(12)과, 최표층(10)과의 사이에 배치된 광흡수층(6)의 물리막 두께의 합계인 표층측 광흡수 두께(C)는, 6㎚ 이상 17㎚ 이하이다. 차최표층(12)과 기재(2)와의 사이에 배치된 광흡수층(6)의 물리막 두께의 합계인 기재측 광흡수 두께(D)는, 60㎚ 이상이다. 차최표층(12)과 기재(2)와의 사이에 배치된 광흡수층(6) 중 가장 물리막 두께가 큰 층인 기재측 최대 두께 광흡수층(18)에서부터, 최표층(10)까지의 물리막 두께의 합계인 특정 표층 두께(E)와 관련된 특정 비율(F=(C+D)/E)은, 0.34 이상이다.
Description
본 발명은, 차광성을 가지는 부재인 차광 부재에 관한 것이다.
차광 부재로서, 일본국 특허 제6541244호 공보(특허 문헌 1)에 기재된 것이 알려져 있다.
이 차광 부재에서는, 매트 처리를 실시한 미세한 요철을 가지는 기재 부재의 표면이, 카본 블랙 등의 착색제로 착색되어 있다.
그러나, 이 차광 부재에서는, 착색제의 입자 표면에 있어서의 빛의 반사에 의해, 반사율이 충분히 내려가지 않아, 흑색을 가지면서도 흰색을 띤(검은 표면에 흰 아지랭이가 낀 것 같은) 외관이 되고, 합쳐서 보면 그레이의 외관이 되어, 흑색도(blackness)의 점에서 향상의 여지가 있다.
따라서, 일본국 특허 제6036363호 공보(특허 문헌 2)의 것과 같이, 필름 기재의 표면에, Ni계 금속막(니켈막) 및 Ni계 금속 산화물막이 순차 스퍼터되어 다층막이 형성된 차광 필름이 제안되고 있다.
이 차광 필름에서는, 필름 기재 표면에 착색제가 배치되지 않기 때문에, 착색제에 의한 빛의 반사가 없는 것이 된다.
그러나, Ni계 금속막 등이 스퍼터된 차광 필름에서는, 가장 필름 기재로부터 떨어진 층인 최표층(最表層)의 Ni계 금속 산화물막의 굴절률이 2 이상으로 높기 때문에, 그 계면에 있어서의 반사율이 커져, 결국 어느 정도의 빛이 반사되어버린다. 또한, 이 차광 필름에서는, 다층막 전체적으로, 충분히 반사율을 저감하는 구조로 되어 있지 않다. 이 때문에, 반사율이 충분히 떨어지지 않아, 흑색을 가지면서도 흰색을 띤 외관이 되고, 합쳐서 보면 그레이의 외관이 되어, 역시 흑색도의 점에서 향상의 여지가 있다.
따라서, 본 발명의 주된 목적은, 우수한 흑색도를 가지는 차광 부재를 제공하는 것이다.
청구항 1에 기재된 발명은, 기재와, 상기 기재의 1 이상의 면인 성막면에 배치되는 광학 다층막을 구비하고 있으며, 상기 광학 다층막은, 가시광을 흡수하는 광흡수층과 유전체제의 층인 유전체층이, 4층 이상으로 배치된 것이며, 상기 기재로부터 가장 먼 층인 최표층은, 상기 유전체층이며, 상기 최표층의 물리막 두께는, 62㎚ 이상 91㎚ 이하이며, 물리막 두께가 26㎚ 이상 85㎚ 이하인 상기 유전체층으로서 상기 최표층에 가장 가까운 것인 차최표층(次最表層)과, 상기 최표층과의 사이에 배치된, 1 이상의 상기 광흡수층의 물리막 두께의 합계인 표층측 광흡수 두께는, 6㎚ 이상 17㎚ 이하이며, 상기 차최표층과 상기 기재와의 사이에 배치된, 1 이상의 상기 광흡수층의 물리막 두께의 합계인 기재측 광흡수 두께는, 60㎚ 이상이며, 상기 차최표층과 상기 기재와의 사이에 배치된 상기 광흡수층 중 가장 물리막 두께가 큰 층인 기재측 최대 두께 광흡수층에서부터, 상기 최표층까지의 물리막 두께의 합계인 특정 표층 두께를 나누는 수로 하고, 상기 표층측 광흡수 두께와 상기 기재측 광흡수 두께와의 합을 나뉘는 수로 한 경우의 몫인 특정 비율은, 0.34 이상인 것을 특징으로 하는 것이다.
청구항 2에 기재된 발명은, 상기 발명에 있어서, 상기 광학 다층막의 총 물리막 두께는, 400㎚ 이하인 것을 특징으로 하는 것이다.
청구항 3에 기재된 발명은, 상기 발명에 있어서, 상기 성막면은, 요철을 가지고 있으며, 상기 성막면의 표면 거칠기는, 1.0㎛ 이하인 것을 특징으로 하는 것이다.
청구항 4에 기재된 발명은, 상기 발명에 있어서, 상기 기재는, 흑색으로 착색되는 것을 특징으로 하는 것이다.
청구항 5에 기재된 발명은, 상기 발명에 있어서, 상기 광흡수층은, 금속 혹은 금속의 불포화 산화물을 포함하고 있는 것을 특징으로 하는 것이다.
청구항 6에 기재된 발명은, 상기 발명에 있어서, 상기 광흡수층의 주성분은, Nb, Ti, Ni, Ge, Al, Si 및 Cr, 및 이들의 각 불포화 산화물 중 적어도 어느 것인 것을 특징으로 하는 것이다.
청구항 7에 기재된 발명은, 상기 발명에 있어서, 상기 유전체층은, 금속 화합물을 포함하고 있는 것을 특징으로 하는 것이다.
청구항 8에 기재된 발명은, 상기 발명에 있어서, 상기 유전체층의 주성분은, SiO2, MgF2, Nb2O5, TiO2, Al2O3, ZrO2, Ta2O5, Si3N4, SiNyOz 중 적어도 어느 것인 것을 특징으로 하는 것이다.
청구항 9에 기재된 발명은, 상기 발명에 있어서, 상기 최표층의 주성분은, SiO2 및 MgF2의 적어도 일방인 것을 특징으로 하는 것이다.
청구항 10에 기재된 발명은, 기재와, 상기 기재의 1 이상의 면인 성막면에 배치되는 광학 다층막을 구비하고 있으며, 상기 성막면은, 요철을 가지고 있으며, 입사각이 0° 이상 8° 이하의 광에 대한 380㎚ 이상 780㎚ 이하의 파장 영역에 있어서의 평균 광학 농도가, 4.0 이상이며, 입사각이 0° 이상 8° 이하의 광에 대한 380㎚ 이상 780㎚ 이하의 파장 영역에 있어서의 평균 정반사율이, 0.02% 이하이며, L*a*b* 표색계 측정(JISZ8729)에 있어서의 명도 L*이, 4.5 이하인 것을 특징으로 하는 것이다.
청구항 11에 기재된 발명은, 투명한 기재와, 상기 기재의 1 이상의 면인 성막면에 배치되는 광학 다층막을 구비하고 있으며, 상기 성막면은, 경면(鏡面)이며, 입사각이 0° 이상 8° 이하의 광에 대한 400㎚ 이상 700㎚ 이하의 파장 영역에 있어서의 평균 정반사율이, 0.450% 이하이며, 입사각이 0° 이상 8° 이하의 광에 대한 380㎚ 이상 780㎚ 이하의 파장 영역에 있어서의 평균 정반사율이, 0.660% 이하이며, 입사각이 0° 이상 8° 이하의 광에 대한 380㎚ 이상 780㎚ 이하의 파장 영역에 있어서의 평균 광학 농도가, 2.1 이상인 것을 특징으로 하는 것이다.
본 발명의 주된 효과는, 우수한 흑색도를 가지는 차광 부재가 제공되는 것이다.
도 1은 본 발명과 관련된 차광 부재의 모식적인 횡단면도이다.
도 2는 차광 부재의 휨에 관한 모식도이다.
도 2는 차광 부재의 휨에 관한 모식도이다.
이하, 본 발명과 관련된 실시 형태의 예가, 적절히 도면을 이용하여 설명된다.
또한, 본 발명은, 이하의 예에 한정되지 않는다.
도 1에 예시되는 바와 같이, 본 발명과 관련된 차광 부재(1)는, 기재(2)와, 광학 다층막(4)을 가진다.
기재(2)는, 투광성을 가지고 있어도(투명 또는 반투명이어도) 되고, 투광성을 가지고 있지 않아도 된다. 흑색도의 확보의 관점에서는, 기재(2)의 투광성은 낮은 쪽이 바람직하고, 흑색으로 착색되어 있는 것이 바람직하다.
기재(2)의 형상은, 어떠한 것이어도 되는 바, 용도의 넓이의 관점에서, 바람직하게는 판상(板狀), 시트상 혹은 부재상이다.
기재(2)의 소재는, 예를 들면 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 에틸렌-프로필렌 공중합체, 폴리올레핀, 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET) 등의 폴리에스테르, 폴리아미드, 에틸렌-아세트산비닐 공중합체, 폴리염화비닐, 폴리아세트산비닐, 아크릴 수지, 폴리카보네이트, 폴리이미드, 유기 유리, 무기 유리, 또는 이들의 조합이다.
기재(2)의 두께는, 예를 들면 10㎛(마이크로미터) 이상 200㎛ 이하이다. 기재(2)의 두께는, 흑색 착색 시에는 흑색도의 확보의 관점에서 두꺼운 쪽이 좋고, 조리개 날개 또는 셔터 날개 등의 대표적인 용도에 적합시켜, 기재(2)의 용도를 넓게 하는 관점에서는 얇은 쪽이 좋다.
기재(2)의 표면(편면 혹은 양면)은, 평탄한 경면이어도 되고(경면 기재), 매트 처리 등에 의한 요철을 가지고 있어도 된다(요철 기재). 매트 처리는, 매트 가공 및 매트제의 도포 중 적어도 일방에 의해 행해진다. 매트 가공은, 공지의 것을 이용할 수 있고, 예를 들면 샌드 블라스트를 비롯하는 블라스트, 화학적 에칭, 엠보스, 플라즈마 방전 등의 방전, 나노 임프린팅 등을 이용할 수 있다. 매트제의 도포는, 예를 들면 평균 입경이 1㎛ 이상 35㎛ 이하인 아크릴계 입자, 우레탄계 입자, 및 실리카계 입자 중 적어도 어느 것 등의 매트제를 바인더와 함께 도포하고, 매트제를 부착시켜 매트제에 의한 요철을 형성하는 것이다. 또한, 캐스팅 등의 그 밖의 방법에 의해, 미세한 요철이, 기재(2)의 표면에 부여되어도 된다.
표면에 있어서 요철에 의해 난반사시켜, 겉보기의 반사율을 줄여 흑색도를 확보하는 관점에서는, 기재(2)의 표면이 요철을 가지는 것(요철 기재)은 바람직하다. 또한, 기재(2)의 표면이 요철을 가지는 경우, 우수한 흑색도를 확보하는 관점에서, 표면 거칠기(산술 평균 거칠기)가 1㎛ 이하인 것이, 바람직하다.
기재(2)가 흑색으로 착색되는 경우, 예를 들면 착색제에 의해 매트제가 흑색으로 착색된다. 구체적인 착색제로서, 예를 들면, 카본 블랙, 카본 그라파이트, 카본 나노 튜브, 및 티탄 블랙 중 적어도 어느 것을 들 수 있다. 기재(2)는, 그 표면에 착색된 매트제가 도포됨으로써, 흑색으로 착색된다.
또한, 기재(2)는, 권취(롤화) 가능하여도 되고, 소성 변형을 발생시키지 않는 한 권취되지 않을 정도로 권취 불가능해도 된다.
광학 다층막(4)은, 기재(2)의 표면(편면 혹은 양면, 성막면(M))에 형성된다. 광학 다층막(4)이 기재(2)의 양면에 형성되는 경우, 각 면의 광학 다층막(4)의 구성은 상이하게 되어 있어도 되는 바, 바람직하게는 이들의 구성은, 서로 동일하게 된다. 또한, 일방의 면에 본 발명과 관련된 광학 다층막(4)이 형성되고, 타방의 면에 본 발명에 속하지 않는 광학 다층막 혹은 광학 단층막이 형성되어도 된다.
기재(2)의 성막면(M)은, 경면을 포함하고 있어도 되고, 요철을 가지는 요철면을 포함하고 있어도 된다.
광학 다층막(4)은, 복수의 광흡수층(6)과, 복수의 유전체층(8)을 가진다.
광학 다층막(4)의 층수는, 성능의 확보와 형성의 비용과의 균형으로부터, 4 이상이 바람직하다. 즉, 성능 확보의 관점에서는 광학 다층막(4)의 층수가 4 이상인 것이 필요함과 함께, 층수가 많을수록, 설계의 자유도가 늘어나 성능이 확보되기 쉽다. 또한, 광학 다층막(4)의 총 물리막 두께는, 형성의 비용이 늘어나거나, 층의 재료에 따라서는 소정 정도 이상의 응력이 발생하거나 하는 점에서, 400㎚ 이하인 것이 바람직하다.
또한, 광학 다층막(4)과 기재(2)와의 사이에, 밀착성을 높이는 바인더막, 및 차광 부재(1)의 경도를 늘리기 위한 하드 코팅막 중 적어도 일방 등의 다른 1 이상의 막이 삽입되어도 된다. 광학 다층막(4)의 표면측(공기측)에, 방오막 및 도전막 중 적어도 일방 등의 다른 1 이상의 막이 부여되어도 된다. 또한, 이들 막은, 광학 다층막(4)에 포함되는 것으로서 취급되어도 된다.
광흡수층(6)은, 가시광을 흡수한다. 가시광은, 파장 영역이 가시 영역의 광이다. 가시 영역은, 예를 들면 400㎚(나노미터) 이상 780㎚ 이하이며, 그 하한은, 380㎚, 390㎚, 410㎚, 420㎚, 430㎚ 혹은 440㎚ 등이 되어도 되고, 그 상한은, 800㎚, 790㎚, 770㎚, 760㎚, 750㎚, 730㎚, 700㎚, 680㎚, 650㎚, 혹은 640㎚ 등이 되어도 된다.
광흡수층(6)은, 가시광의 흡수에 의해, 가시광을 차광하고, 차광 부재(1)의 흑색도 외관을 실현하는 기능을 구비한다.
광흡수층(6)은, 바람직하게는 금속(그 불포화 산화물을 포함함)제의 층이다. 광흡수층(6)의 주성분은, 예를 들면, Nb(니오브), Ti(티탄), Ni(니켈), Ge(게르마늄), Al(알루미늄), Si(실리콘), Cr(크롬), 혹은 이들의 불포화 산화물, 또는 이 들 중 적어도 어느 2개이다. 여기서, 주성분이란, 전체 성분에 대한 중량비 또는 체적비에서 과반이 되는 것이다. 이하, Nb를 주성분으로 하는 층은 Nb층이라고 불리고, 다른 주성분의 층에 대해서도 마찬가지로 불리는 경우가 있다. 각 층의 특성은, 주성분에 따른 것이 되고, 주성분 이외의 성분이 비교적 많은 것이라도, 주성분 이외의 성분이 적은 것과 마찬가지의 특성을 가진다.
불포화 금속 산화물은, 예를 들면, NiOx(x는 0를 초과하고 1 미만, 불포화 산화니켈)이다. NiOx층은, Ni와 산소와의 화합물을 주성분으로 한다.
복수의 광흡수층(6)은, 성막의 용이성의 관점에서, 바람직하게는 서로 동일한 주성분을 가지고, 보다 바람직하게는 서로 동일한 성분을 가진다.
또한, 차광 부재(1) 전체적으로 원하는 차광성을 실현하기 위해, 복수의 광흡수층(6)에 있어서의 일부의 가시광의 흡수는, 다른 광흡수층(6)에 있어서의 가시광의 흡수를 고려한 것이 되어도 된다. 또한, 광흡수층(6)에 의한 가시광의 흡수는, 광학 다층막(4)의 다른 층 혹은 다른 막 또는 기재(2)에 있어서의 흡수, 투과율, 반사율의 분포에 따른 것이 되어도 된다.
광흡수층(6)은, 증착 혹은 스퍼터링 등에 의해 형성되고, 바람직하게는 스퍼터링에 의해 형성된다.
광흡수층(6)이 NiOx층이며 증착에 의해 형성되는 경우, 바람직하게는 이온 어시스트 증착(Ion Assist Depotition; IAD)에 의해 형성된다. NiOx층을 비롯한 막의 구조, 혹은 이온 어시스트의 유무에 의한 구조의 상이는, 당업자에게 있어서도 직접의 특정이 매우 곤란하다. 또한, 증착 시에 있어서의 이온 어시스트의 실시에 의해 막의 구조를 특정하는 것은, 당업자에게 있어서 이해하기 쉬어 유용하다.
NiOx층의 증착에 있어서, 기판을 향해 이온화된 가스인 이온빔이 조사된다. 이온빔은, 적어도 산소(O2) 가스를 포함한다. 이온빔과 관련된 가스는, 아르곤 가스를 비롯한 희가스와의 혼합 가스가 되어도 된다. 즉, 이온빔은, 이온화한 산소 가스, 혹은 이온화한 산소 가스와 희가스의 혼합 가스이다.
가열에 의해 증발원으로부터 증발한 Ni는, 이온빔과 관련된 산소 가스의 작용 등에 의해, 기판의 표면에 있어서 NiO막이 된다(x=1). NiO막의 표면에서는, Ni-O간의 화학 결합의 일부가 이온빔에 의해 절단되어, 산소 결손이 형성된다. 이러한 산소 결손의 양에 따라 x가 변화되고, NiOx층(x는 0을 초과하고 1 미만)이 형성된다. Ni-O간의 화학 결합이 이온빔에 의해 모두 절단될 가능성은 현실적으로는 제로이며, x는 0을 초과한다. 한편, 이온빔을 조사하고 있음에도 불구하고, Ni-O간의 화학 결합이 전혀 절단되지 않을 가능성도 실제적으로는 없다고 봐도 되고, 따라서 x는 1 미만이 된다.
산소 결손의 양 즉 x의 값은, 증착원의 가열 및 이온빔의 조사를 동일한 조건으로 연속하여 행함으로써, 하나의 층에 있어서 일정하게 할 수 있고, 이와 같이 증착된 NiOx층은, 막 두께 방향에 있어서 균일한 조성이 된다. 여기서의 동일한 조건은, 예를 들면 이온건에 있어서의 일정한 전압(일정한 가스의 이온화 전압)이며, 또한 산소 가스 혹은 산소 가스와 희가스의 일정한 유량이다. 산소 가스와 희가스의 혼합 가스의 경우에는, 하나의 NiOx층의 증착 중에 유량이 일정하면 유량의 크기는 서로 동일해도 되고 상이하게 되어 있어도 되며, 이러한 취지를 나타내기 위해, 산소 가스의 유량이 「일정 유량」이 되고, 희가스의 유량이 「소정 유량」이 되어도 된다. 이러한 동일한 조건에 있어서의 이온빔의 조사는, 일정한 이온빔의 조사라고 간주될 수 있다.
그리고, x의 값은, 이온빔의 각종의 특성(이온건의 각종의 설정)에 의해 제어된다. 예를 들면, 이온빔의 가속 전압의 크기 및 이온빔의 전류의 크기 중 적어도 일방에 의해, x의 대소를 변화시킬 수 있다. 또한, 희가스와의 혼합 가스가 이용되는 경우에는, 산소 가스와 희가스의 각 도입량 혹은 혼합비를 변경함으로써, x의 대소를 변화시킬 수 있다.
이와 같이 x의 값은 제어 가능하지만, 직접 동정(同定)하는 것은 층 전체를 원자가 보이는 전자 현미경 등으로 관찰할 필요가 있어 현실적이지 않고, 당업자에게 있어서도 직접의 측정이 매우 곤란하다. 따라서, NiOx층(x는 0을 초과하고 1 미만)이라고 특정되는 것은 유용하며, 또한 적절히 증착 시의 이온빔의 특성 등에 의해 NiOx층이 특정되는 것은, 당업자에게 있어서 이해하기 쉬워 유용하다.
또한, 스퍼터링에 의해 NiOx층이 형성되는 경우에도, 증착의 경우와 마찬가지로, 스퍼터 가스의 종류 혹은 유량, 라디칼 가스의 도입의 유무, 라디칼 가스 도입 시의 라디칼 가스의 종류, 유량 혹은 투입 전력, 진공실 내의 진공도 혹은 온도, 스퍼터원의 온도, 타깃 온도, 또는 기판 온도 등의 성막 조건의 설정에 의해, x의 값이 0을 초과하고 1 미만의 범위로 조정 가능하다.
유전체층(8)은, 유전체제의 층이다.
유전체층(8)은, 광흡수층(6)과의 조합에 의해, 반사 방지 기능을 실현한다. 즉, 광학 다층막(4)은, 광흡수층(6)과 유전체층(8)이 번갈아 배치됨으로써, 반사 방지막이 된다. 광흡수층(6)은, 고굴절률층으로서 볼 수 있다. 유전체층(8)은, 고굴절률층에 대한 저굴절률층 혹은 중굴절률층이 된다.
유전체층(8)의 주성분은, 바람직하게는 투광성을 가지는 금속 화합물이다. 유전체층(8)의 주성분은, 예를 들면, SiO2(이산화 실리콘, 실리카), MgF2(2불화 마그네슘), Nb2O5(5산화 2니오브), TiO2(2산화티탄, 티타니아), Al2O3(3산화 2알루미늄, 알루미나), ZrO2(2산화 지르콘, 지르코니아), Ta2O5(5산화 2탄탈), Si3N4(4질화 3실리콘, 질화 규소), SiNyOz(산질화 실리콘) 중 적어도 어느 것이다.
복수의 유전체층(8)은, 성막의 용이성의 관점에서, 바람직하게는 서로 동일한 주성분을 가지고, 보다 바람직하게는 서로 동일한 성분을 가진다.
SiNyOz층은, NiOx층과 마찬가지로, Si를 증착원 혹은 스퍼터원으로서, 이온화 산소 가스와 이온화 질소 가스를 조사한 증착 혹은 스퍼터링에 의해 형성 가능하다. SiNyOz는, 1개 이상의 N원자 혹은 O원자가 Si원자와 결합하는 한편, Si3N4 혹은 SiO2까지는 이르지 않는 점에서, 0<y<4/3, 0<z<2가 된다.
y, z의 값은, NiOx의 x의 값과 마찬가지로 제어할 수 있다. 또한, y, z의 값은, x의 값과 마찬가지로, 직접 동정하는 것은 현실적이지 않고, 당업자에게 있어서도 직접의 측정이 매우 곤란하다. 따라서, SiNyOz(0<y<4/3, 0<z<2)라고 특정되는 것은 유용하며, 또한 적절히 증착 시의 이온빔의 특성 등에 의해 SiNyOz층이 특정되는 것은, 당업자에게 있어서 이해하기 쉽고 유용하다.
광학 다층막(4)에 있어서의 가장 기재(2)로부터 떨어진 층(가장 차광 부재(1) 표면측(공기측)의 층)인 최표층(10)은, 반사 방지 성능을 확보하고, 광흡수층(6)을 보호하는 관점에서, 유전체층(8)인 것이 바람직하고, 또한, 최표층(10)의 주성분이, SiO2 및 MgF2의 적어도 일방인 것이 보다 바람직하다. 최표층(10)의 물리막 두께는, 반사 방지 성능을 확보하는 관점에서, 62㎚ 이상 91㎚ 이하인 것이 바람직하다.
최표층(10)을 제외한 유전체층(8) 중 적어도 하나의 물리막 두께는, 반사 방지 성능을 확보하는 관점에서, 26㎚ 이상 85㎚ 이하인 것이 바람직하다. 이하, 이 범위 내의 물리막 두께를 가지는 유전체층(8)이며, 가장 기재(2)로부터 떨어진 층(가장 최표층(10)에 가까운 층)은, 차최표층(12)이 된다. 즉, 차최표층(12)은, 가장 최표층(10)에 가까운 26㎚ 이상 85㎚ 이하의 물리막 두께를 가지는 유전체층(8)이다.
광학 다층막(4)에 있어서, 반사 방지 성능을 확보하는 관점에서, 최표층(10)과 차최표층(12)과의 사이에 배치된 1 이상의 광흡수층(6)(표층측 광흡수층(14))의 물리막 두께의 합계(표층측 광흡수 두께(C))는, 6㎚ 이상 17㎚ 이하인 것이 바람직하다.
또한, 광학 다층막(4)에 있어서, 반사 방지 성능 및 고광학 농도를 확보하는 관점에서, 차최표층(12)과 기재(2)와의 사이에 배치된 1 이상의 광흡수층(6)(기재측 광흡수층(16))의 물리막 두께의 합계(기재측 광흡수 두께(D))는, 60㎚ 이상인 것이 바람직하다.
또한, 광학 다층막(4)에 있어서, 반사 방지 성능 및 고광학 농도를 확보하는 관점에서, 1 이상의 기재측 광흡수층(16) 중 가장 물리막 두께가 두꺼운 것(기재측 최대 두께 광흡수층(18))에서부터 최표층(10)까지의 물리막 두께의 합계(특정 표층 두께(E))와, 표층측 광흡수 두께(C)와, 기재측 광흡수 두께(D)에 관한 다음 식 (1)로 나타나는 특정 비율(F)이, 0.34(34%) 이상인 것이 바람직하다. 또한, 특정 표층 두께(E)에는, 기재측 최대 두께 광흡수층(18)의 물리막 두께, 및 최표층(10)의 물리막 두께가 포함된다.
차광 부재(1)는, 이러한 기재(2) 및 광학 다층막(4)을 가짐으로써, 다음의 각종의 특성을 가지는 것이, 우수한 흑색도를 확보하는 관점에서 바람직하다.
우선, 차광 부재(1)에 있어서, 입사각이 0° 이상 8° 이하의 광에 대한 380㎚ 이상 780㎚ 이하의 파장 영역에 있어서의 평균 광학 농도는, 4.0 이상이면 바람직하다.
또한, 차광 부재(1)(특히 기재(2)의 성막면(M)이 요철면인 것)에 있어서, 입사각이 0° 이상 8° 이하의 광에 대한 380㎚ 이상 780㎚ 이하의 평균 정반사율(380~780㎚ 평균 정반사율)은, 0.02% 이하이면 바람직하다. 또한, 380~780㎚ 평균 정반사율은, 광학 다층막(4)에 입사하는 입사각이 0° 이상 8° 이하의 광에 대한 반사율이며, 다른 정반사율에 대해서도, 마찬가지이다.
또한, 차광 부재(1)(특에 기재(2)의 성막면(M)이 요철면인 것)에 있어서, L*a*b* 표색계 측정(JISZ8729)에 있어서의 명도 L*이 4.5 이하이면 바람직하다.
게다가 또한, 기재(2)의 성막면(M)이 경면인 차광 부재(1)에 있어서, 입사각이 0° 이상 8° 이하의 광에 대한 400㎚ 이상 700㎚ 이하의 파장 영역에 있어서의 평균 정반사율(400~700㎚ 평균 정반사율)이, 0.450% 이하인 것이 바람직하다.
더해, 기재(2)의 성막면(M)이 경면인 차광 부재(1)에 있어서, 380~780㎚ 평균 정반사율이, 0.660% 이하인 것이 바람직하다.
또한, 기재(2)의 성막면(M)이 경면인 차광 부재(1)에 있어서, 입사각이 0° 이상 8° 이하의 광에 대한 380㎚ 이상 780㎚ 이하의 파장 영역에 있어서의 평균 광학 농도(380~780㎚ 평균 광학 농도)가, 2.1 이상인 것이 바람직하다.
이러한 광학 다층막(4)이 배치된 기재(2)를 포함하는 차광 부재(1)는, 예를 들면 카메라에 있어서의 셔터 날개, 조리개 날개에 사용된다. 혹은, 차광 부재(1)는, 새까만 외관을 부여하기 위해, 기기의 케이스 혹은 자동차의 내장품 등의 물품에 붙여진다.
이와 같이, 본 발명의 차광 부재(1)는, 기재(2)와, 기재(2)의 1 이상의 면인 성막면(M)에 배치되는 광학 다층막(4)을 구비하고 있으며, 광학 다층막(4)은, 가시광을 흡수하는 광흡수층(6)과 유전체제의 층인 유전체층(8)이, 4층 이상 8층 이하로 배치된 것이며, 기재(2)로부터 가장 먼 층인 최표층(10)은, 유전체층(8)이며, 최표층(10)의 물리막 두께는, 62㎚ 이상 91㎚ 이하이며, 물리막 두께가 26㎚ 이상 85㎚ 이하인 유전체층(8)이며 최표층(10)에 가장 가까운 것인 차최표층(12)과, 최표층(10)과의 사이에 배치된, 1 이상의 광흡수층(6)의 물리막 두께의 합계인 표층측 광흡수 두께(C)는, 6㎚ 이상 17㎚ 이하이며, 차최표층(12)과 기재(2)와의 사이에 배치 된, 1 이상의 광흡수층(6)의 물리막 두께의 합계인 기재측 광흡수 두께(D)는, 60㎚ 이상이며, 차최표층(12)과 기재(2)와의 사이에 배치된 광흡수층(6) 중 가장 물리막 두께가 큰 층인 기재측 최대 두께 광흡수층(18)에서부터, 최표층(10)까지의 물리막 두께의 합계인 특정 표층 두께(E)를 나누는 수로 하고, 표층측 광흡수 두께(C)와 기재측 광흡수 두께(D)와의 합을 나뉘는 수로 한 경우의 몫인 특정 비율(F=(C+D)/E)은, 0.34 이상이다.
따라서, 우수한 흑색도를 가지는 차광 부재(1)가 제공된다.
또한, 성막면(M)은, 요철을 가지고 있으며, 성막면(M)의 표면 거칠기는, 1.0㎛ 이하이다. 따라서, 차광 부재(1)는, 보다 우수한 흑색도를 나타낸다.
또한, 기재(2)는, 흑색으로 착색되어 있다. 따라서, 차광 부재(1)는, 보다 우수한 흑색도를 나타낸다.
게다가 또한, 광흡수층(6)은, 바람직하게는 금속 혹은 금속의 불포화 산화물을 포함하고 있으며, 더 바람직하게는, 광흡수층(6)의 주성분은, Nb, Ti, Ni, Ge, Al 및 Cr, 및 이들의 각 불포화 산화물 중 적어도 어느 것이다. 따라서, 우수한 흑색도를 가지는 차광 부재(1)가, 보다 저비용으로 간단하게 형성된다.
또한, 유전체층(8)은, 바람직하게는 금속 화합물을 포함하고 있으며, 더 바람직하게는, 유전체층(8)의 주성분은, SiO2, MgF2, Nb2O5, TiO2, Al2O3, ZrO2, Ta2O5, Si3N4, SiNyOz 중 적어도 어느 것이다. 따라서, 우수한 흑색도를 가지는 차광 부재(1)가, 보다 저비용으로 간단하게 형성된다.
더해, 최표층(10)의 주성분은, SiO2 및 MgF2 중 적어도 일방이다. 따라서, 차광 부재(1)가, 보다 우수한 흑색도를 가지는 것이 된다.
또한, 기재(2)와, 기재(2)의 1 이상의 면인 성막면(M)에 배치되는 광학 다층막(4)을 구비하고 있으며, 성막면(M)은, 요철을 가지고 있으며, 380~780㎚ 평균 광학 농도가, 4.0 이상이며, 380~780㎚ 평균 정반사율이, 0.02% 이하이며, L*a*b* 표색계 측정(JISZ8729)에 있어서의 명도 L*이, 4.5 이하이다.
따라서, 종래 보이지 않는 흑색도를 가지는 차광 부재(1)가 제공된다.
또한, 투명한 기재(2)와, 기재(2)의 1 이상의 면인 성막면(M)에 배치되는 광학 다층막(4)을 구비하고 있으며, 성막면(M)은, 경면이며, 400~700㎚ 평균 정반사율이, 0.450% 이하이며, 380~780㎚ 평균 정반사율이, 0.660% 이하이며, 380~780㎚ 평균 광학 농도가, 2.1 이상이다.
따라서, 경면의 성막면(M)을 가지는 투명한 기재(2) 상에 형성된 광학 다층막형의 차광 부재(1)에 있어서, 종래 보이지 않는 흑색도가 구비된다.
실시예
이어서, 본 발명의 바람직한 실시예, 및 본 발명에 속하지 않는 비교예가 설명된다.
또한, 본 발명은, 이하의 실시예에 한정되지 않는다. 또한, 본 발명의 파악 방법에 의해, 하기의 실시예가 실질적으로는 비교예가 되거나, 하기의 비교예가 실질적으로는 실시예가 되거나 하는 경우가 있다.
[실시예 1, 비교예 1]
우수한 흑색도의 확보라고 하는 관점에서는, 기재(2)는, 요철을 가지는 요철 기재인 것이, 기재(2)의 표면에 있어서 난반사가 얻어지는 점에서 바람직하다.
실시예 1(실시예 1-1~1-4) 및 비교예 1(비교예1-1~1-2)에서는, 기재(2)가, 무색 투명의 PET제의 시트상의 요철 기재(표면에 매트 처리가 실시되어 표면 거칠기 0.6㎛의 요철을 가지는 성막면(M), 두께 20㎛)가 되고, 광학 다층막(4)이 기재(2)의 편면에 성막되었다. 또한, 기재의 소재(PET) 자체는 무색 투명인 바, 요철의 부여에 의해, 요철 기재는, 불투명 유리와 같이 반투명으로 되어 있다.
실시예 1, 비교예 1의 각 광학 다층막(4)은, 서로 상이한 층 구조를 가지는 것으로 되었다. 이들 층 구조는, 다음의 [표 1], [표 2]의 상부에 나타난다. 각각의 층 구조는, [표 1], [표 2]의 상부에서 나타나는 재료 및 물리막 두께(㎚)와 관련된 각 층을 가지는 4층 구조(층수 4)로 되어 있다. [표 1], [표 2]에 있어서의 층 번호에 대하여, 제 1 층(L1)이 기재(2)에 접하고 있으며, 제 2 층(L2)이 L1의 공기측에 배치되어 L1과 접하고 있으며, 이하 마찬가지이다. 실시예 1, 비교예 1의 차광 부재(1)는, 광학 다층막(4) 외에, 막을 가지고 있지 않다.
그리고, 실시예 1, 비교예 1의 명도 L*, 380~780㎚ 평균 정반사율 및 380~780㎚ 평균 광학 농도가 각각 측정되었다. 각종의 평균 정반사율 및 평균 광학 농도는, 분광 광도계(Perkin Elmer, Inc사제 LAMBDA1050)에 의해 측정되었다. 명도 L*은, 색채계(BYK-Gardner GmbH사제 spectro2guide)에 의해 측정되었다.
또한, 실시예 1, 비교예 1을 포함하며, 이하의 각 실시예 및 각 비교예에 있어서의 각 층은, 특별히 명기되지 않는 한, 주성분 이외의 성분을 거의 포함하지 않는 것이며, 또한 스퍼터에 의해 형성되어 있다.
상기 [표 1], [표 2]의 하부에는, 각각에 있어서의 최표층(10), 차최표층(12), 표층측 광흡수 두께(C), 기재측 광흡수 두께(D), 특정 표층 두께(E), 특정 비율(F), 400~700㎚ 평균 정반사율, 380~780㎚ 평균 정반사율, 및 380~780㎚ 평균 광학 농도가 나타난다.
비교예 1-1의 광학 다층막(4)의 층수는, 4이며, 4 이상의 범위에 들어 있다.
비교예 1-1의 광학 다층막(4)의 총 물리막 두께는, 272㎚로서, 400㎚ 이하의 범위에 들어 있다.
비교예 1-1의 가장 기재(2)로부터 떨어진 유전체층(8)인 최표층(10)은, L4(SiO2층)이며, 그 물리막 두께는, 59㎚로서, 62㎚ 이상 91㎚ 이하의 범위에 들어 있지 「않다」.
비교예 1-1의 유전체층(8)인 L2는, SiO2층이며, 그 물리막 두께는, 55㎚로서, 26㎚ 이상 85㎚ 이하의 범위에 들어 있기 때문에, 비교예 1-1의 L2는, 차최표층(12)이다.
비교예 1-1의 표층측 광흡수층(14)은, 최표층(10)의 L4와 차최표층(12)의 L2와의 사이의 광흡수층(6)인 L3(Nb층)이며, 그 물리막 두께(표층측 광흡수 두께(C))는, 8㎚로서, 6㎚ 이상 17㎚ 이하의 범위에 들어 있다.
비교예 1-1의 기재측 광흡수층(16)은, 차최표층(12)의 L2와 기재(2)와의 사이에 배치된 광흡수층(6)인 L1(Nb층)이며, 그 물리막 두께(기재측 광흡수 두께(D))는, 150㎚로서, 60㎚ 이상의 범위에 들어 있다. 380~780㎚ 평균 광학 농도가 4 이상이 되는 차광 부재(1)를 무착색의 반투명한 기재(2)에 있어서 얻기 위해서는, 기재(2)의 편면에만 광학 다층막(4)(광흡수층(6))이 배치되는 경우, 광흡수층(6)의 물리막 두께의 합계가 100㎚ 정도 이상 필요해진다.
또한, 기재측 광흡수층(16)의 L1로부터 최표층(10)의 L4까지의 물리막 두께의 합계(특정 표층 두께(E))는, 전체 물리막 두께와 동일한 272㎚이며, 비교예 1-1의 특정 비율(F)은, F=(C+D)/E=(8+150)/272≒0.58(58%)이 되고, 34% 이상으로 되어 있다.
비교예 1-1의 명도 L*은, 4.63이며, 4.5 이하의 범위에 들어 있지 「않다」.
비교예 1-1의 380~780㎚ 평균 정반사율은, 0.020%이며, 0.02% 이하의 범위에 들어 있다.
비교예 1-1의 380~780㎚평균 광학 농도는, 4 이상이며, 4 이상의 범위에 들어 있다.
비교예 1-2의 광학 다층막(4)의 층수는, 4이며, 4 이상의 범위에 들어 있다.
비교예 1-2의 광학 다층막(4)의 총 물리막 두께는, 277㎚로서, 400㎚ 이하의 범위에 들어 있다.
비교예 1-2의 최표층(10)은, L4(SiO2층)이며, 그 물리막 두께는, 59㎚로서, 62㎚ 이상 91㎚ 이하의 범위에 들어 있지 「않다」.
비교예 1-2의 L2는, SiO2층이며, 그 물리막 두께는, 59㎚로서, 26㎚ 이상 85㎚ 이하의 범위에 들어 있기 때문에, 비교예 1-2의 L2는, 차최표층(12)이다.
비교예 1-2의 표층측 광흡수층(14)은, L3(Nb층)이며, 표층측 광흡수 두께(C)는, 9㎚로서, 6㎚ 이상 17㎚ 이하의 범위에 들어 있다.
비교예 1-2의 기재측 광흡수층(16)은, L1(Nb층)이며, 기재측 광흡수 두께(D)는, 150㎚로서, 60㎚ 이상의 범위에 들어 있다.
또한, 비교예 1-2의 특정 표층 두께(E)는, 전체 물리막 두께와 동일한 277㎚이며, 비교예 1-2의 특정 비율(F)은, (9+150)/277≒0.57(57%)이 되어, 34% 이상으로 되어 있다.
비교예 1-2의 명도 L*은, 6.72이며, 4.5 이하의 범위에 들어 있지 「않다」.
비교예 1-2의 380~780㎚ 평균 정반사율은, 0.021%이며, 0.02% 이하의 범위에 들어 있지 「않다」.
비교예 1-2의 380~780㎚ 평균 광학 농도는, 4 이상이며, 4 이상의 범위에 들어 있다.
비교예 1-3의 광학 다층막(4)의 층수는, 4이며, 4 이상의 범위에 들어 있다.
비교예 1-3의 광학 다층막(4)의 총 물리막 두께는, 285㎚로서, 400㎚ 이하의 범위에 들어 있다.
비교예 1-3의 최표층(10)은, L4(SiO2층)이며, 그 물리막 두께는, 58㎚로서, 62㎚ 이상 91㎚ 이하의 범위에 들어 있지 「않다」.
비교예 1-3의 L2는, SiO2층이며, 그 물리막 두께는, 67㎚로서, 26㎚ 이상 85㎚ 이하의 범위에 들어 있기 때문에, 비교예 1-2의 L2는, 차최표층(12)이다.
비교예 1-3의 표층측 광흡수층(14)은, L3(Nb층)이며, 표층측 광흡수 두께(C)는, 9㎚로서, 6㎚ 이상 17㎚ 이하의 범위에 들어 있다.
비교예 1-3의 기재측 광흡수층(16)은, L1(Nb층)이며, 기재측 광흡수 두께(D)는, 150㎚로서, 60㎚ 이상의 범위에 들어 있다.
또한, 비교예 1-3의 특정 표층 두께(E)는, 전체 물리막 두께와 동일한 285㎚이며, 비교예 1-3의 특정 비율(F)은, (9+150)/285≒0.56(56%)이 되어, 34% 이상으로 되어 있다.
비교예 1-3의 명도 L*은, 14.85이며, 4.5 이하의 범위에 들어 있지 「않다」.
비교예 1-3의 380~780㎚ 평균 정반사율은, 0.031%이며, 0.02% 이하의 범위에 들어 있지 「않다」.
비교예 1-3의 380~780㎚ 평균 광학 농도는, 4 이상이며, 4 이상의 범위에 들어 있다.
비교예 1-4의 광학 다층막(4)의 층수는, 4이며, 4 이상의 범위에 들어 있다.
비교예 1-4의 광학 다층막(4)의 총 물리막 두께는, 285㎚로서, 400㎚ 이하의 범위에 들어 있다.
비교예 1-4의 최표층(10)은, L4(SiO2층)이며, 그 물리막 두께는, 75㎚로서, 62㎚ 이상 91㎚ 이하의 범위에 들어 있다.
비교예 1-4의 L2는, SiO2층이며, 그 물리막 두께는, 59㎚로서, 26㎚ 이상 85㎚ 이하의 범위에 들어 있기 때문에, 비교예 1-4의 L2는, 차최표층(12)이다.
비교예 1-4의 표층측 광흡수층(14)은, L3(Nb층)이며, 표층측 광흡수 두께(C)는, 4㎚로서, 6㎚ 이상 17㎚ 이하의 범위에 들어 있지 「않다」.
비교예 1-4의 기재측 광흡수층(16)은, L1(Nb층)이며, 기재측 광흡수 두께(D)는, 150㎚로서, 60㎚ 이상의 범위에 들어 있다.
또한, 비교예 1-4의 특정 표층 두께(E)는, 전체 물리막 두께와 동일한 288㎚이며, 비교예 1-4의 특정 비율(F)은, (4+150)/288≒0.53(53%)이 되어, 34% 이상으로 되어 있다.
비교예 1-4의 명도 L*은, 28.801이며, 4.5 이하의 범위에 들어 있지 「않다」.
비교예 1-4의 380~780㎚ 평균 정반사율은, 0.160%이며, 0.02% 이하의 범위에 들어 있지「않다」.
비교예 1-4의 380~780㎚ 평균 광학 농도는, 4 이상이며, 4 이상의 범위에 들어 있다.
실시예 1-1의 광학 다층막(4)의 층수는, 4이며, 4 이상의 범위에 들어 있다.
실시예 1-1의 광학 다층막(4)의 총 물리막 두께는, 293㎚로서, 400㎚ 이하의 범위에 들어 있다.
실시예 1-1의 최표층(10)은, L4(SiO2층)이며, 그 물리막 두께는, 75㎚로서, 62㎚ 이상 91㎚ 이하의 범위에 들어 있다.
실시예 1-1의 L2는, SiO2층이며, 그 물리막 두께는, 59㎚로서, 26㎚ 이상 85㎚ 이하의 범위에 들어 있기 때문에, 실시예 1-1의 L2는, 차최표층(12)이다.
실시예 1-1의 표층측 광흡수층(14)은, L3(Nb층)이며, 표층측 광흡수 두께(C)는, 9㎚로서, 6㎚ 이상 17㎚ 이하의 범위에 들어 있다.
실시예 1-1의 기재측 광흡수층(16)은, L1(Nb층)이며, 기재측 광흡수 두께(D)는, 150㎚이며, 60㎚ 이상의 범위에 들어 있다.
또한, 실시예 1-1의 특정 표층 두께(E)는, 전체 물리막 두께와 동일한 293㎚이며, 실시예 1-1의 특정 비율(F)은, (9+150)/293≒0.54(54%)가 되어, 34% 이상으로 되어 있다.
실시예 1-1의 명도 L*은, 3.00이며, 4.5 이하의 범위에 들어 있다.
실시예 1-1의 380~780㎚ 평균 정반사율은, 0.010%이며, 0.02% 이하의 범위에 들어 있다.
실시예 1-1의 380~780㎚ 평균 광학 농도는, 4 이상이며, 4 이상의 범위에 들어 있다.
실시예 1-2의 광학 다층막(4)의 층수는, 4로서, 4 이상의 범위에 들어 있다.
실시예 1-2의 광학 다층막(4)의 총 물리막 두께는, 283㎚로서, 400㎚ 이하의 범위에 들어 있다.
실시예 1-2의 최표층(10)은, L4(SiO2층)이며, 그 물리막 두께는, 74㎚로서, 62㎚ 이상 91㎚ 이하의 범위에 들어 있다.
실시예 1-2의 L2는, SiNyOz층이며, 그 물리막 두께는, 51㎚로서, 26㎚ 이상 85㎚ 이하의 범위에 들어 있기 때문에, 실시예 1-2의 L2는, 차최표층(12)이다. SiNyOz층인 실시예 1-2의 L2는, Si의 성막 레이트 0.2㎚/s(나노미터 매초)에 있어서의 스퍼터링에 의해 형성되고, 스퍼터링 시에, 이온화된 질소 가스 및 산소 가스가, 차례로 70sccm(Standard Cubic Centimetre per Minute), 10sccm 도입되었다. 이하, SiNyOz층은, 마찬가지로 작성된 것이다. 또한, 산소 가스 및 질소 가스 중 적어도 일방의 유량의 변경에 의해, SiNyOz의 조성(SiNyOz에 있어서의 y, z)은 변경 가능하다.
실시예 1-2의 표층측 광흡수층(14)은, L3(Nb층)이며, 표층측 광흡수 두께(C)는, 8㎚로서, 6㎚ 이상 17㎚ 이하의 범위에 들어 있다.
실시예 1-2의 기재측 광흡수층(16)은, L1(Nb층)이며, 기재측 광흡수 두께(D)는, 150㎚로서, 60㎚ 이상의 범위에 들어 있다.
또한, 실시예 1-2의 특정 표층 두께(E)는, 전체 물리막 두께와 동일한 283㎚이며, 실시예 1-2의 특정 비율(F)은, (8+150)/283≒0.56(56%)이 되어, 34% 이상으로 되어 있다.
실시예 1-2의 명도 L*은, 3.03이며, 4.5 이하의 범위에 들어 있다.
실시예 1-2의 380~780㎚ 평균 정반사율은, 0.013%이며, 0.02% 이하의 범위에 들어 있다.
실시예 1-2의 380~780㎚ 평균 광학 농도는, 4 이상이며, 4 이상의 범위에 들어 있다.
실시예 1-3의 광학 다층막(4)의 층수는, 4로서, 4 이상의 범위에 들어 있다.
실시예 1-3의 광학 다층막(4)의 총 물리막 두께는, 284㎚로서, 400㎚ 이하의 범위에 들어 있다.
실시예 1-3의 최표층(10)은, L4(SiO2층)이며, 그 물리막 두께는, 74㎚로서, 62㎚ 이상 91㎚ 이하의 범위에 들어 있다.
실시예 1-3의 L2는, SiNyOz층이며, 그 물리막 두께는, 52㎚로서, 26㎚ 이상 85㎚ 이하의 범위에 들어 있기 때문에, 실시예 1-3의 L2는, 차최표층(12)이다.
실시예 1-3의 표층측 광흡수층(14)은, L3(Nb층)이며, 표층측 광흡수 두께(C)는, 8㎚로서, 6㎚ 이상 17㎚ 이하의 범위에 들어 있다.
실시예 1-3의 기재측 광흡수층(16)은, L1(Nb층)이며, 기재측 광흡수 두께(D)는, 150㎚이며, 60㎚ 이상의 범위에 들어 있다.
또한, 실시예 1-3의 특정 표층 두께(E)는, 전체 물리막 두께와 동일한 284㎚이며, 실시예 1-3의 특정 비율(F)은, (8+150)/284≒0.56(56%)이 되어, 34% 이상으로 되어 있다.
실시예 1-3의 명도 L*은, 3.84이며, 4.5 이하의 범위에 들어 있다.
실시예 1-3의 380~780㎚ 평균 정반사율은, 0.012%이며, 0.02% 이하의 범위에 들어 있다.
실시예 1-3의 380~780㎚ 평균 광학 농도는, 4 이상이며, 4 이상의 범위에 들어 있다.
실시예 1-4의 광학 다층막(4)의 층수는, 4로서, 4 이상의 범위에 들어 있다.
실시예 1-4의 광학 다층막(4)의 총 물리막 두께는, 305㎚로서, 400㎚ 이하의 범위에 들어 있다.
실시예 1-4의 최표층(10)은, L4(SiO2층)이며, 그 물리막 두께는, 77㎚로서, 62㎚ 이상 91㎚ 이하의 범위에 들어 있다.
실시예 1-4의 L2는, SiO2층이며, 그 물리막 두께는, 64㎚로서, 26㎚ 이상 85㎚ 이하의 범위에 들어 있기 때문에, 실시예 1-4의 L2는, 차최표층(12)이다.
실시예 1-4의 표층측 광흡수층(14)은, L3(Nb+Si층)이며, 표층측 광흡수 두께(C)는, 14㎚로서, 6㎚ 이상 17㎚ 이하의 범위에 들어 있다.
실시예 1-4의 기재측 광흡수층(16)은, L1(Nb+Si층)이며, 기재측 광흡수 두께(D)는, 150㎚로서, 60㎚ 이상의 범위에 들어 있다.
또한, 실시예 1-4의 특정 표층 두께(E)는, 전체 물리막 두께와 동일한 305㎚이며, 실시예 1-4의 특정 비율(F)은, (14+150)/305≒0.54(54%)가 되어, 34% 이상으로 되어 있다.
실시예 1-4의 명도 L*은, 3.97이며, 4.5 이하의 범위에 들어 있다.
실시예 1-4의 380~780㎚ 평균 정반사율은, 0.010%이며, 0.02% 이하의 범위에 들어 있다.
실시예 1-4의 380~780㎚ 평균 광학 농도는, 4 이상이며, 4 이상의 범위에 들어 있다.
이와 같이, 비교예 1-1은, 최표층(10)의 물리막 두께가 바람직한 범위 외이며, 명도 L*이 4.63이 되어, 요철 기재에 있어서의 바람직한 범위의 상한인 4.5을 초과하고 있으며, 이 점에서 요철 기재의 차광 부재(1)로서의 흑색도가 뒤떨어진다.
또한, 비교예 1-2에서는, 최표층(10)의 물리막 두께가 바람직한 범위외이며, 명도 L*이 6.72이 되어, 요철 기재에 있어서의 바람직한 범위의 상한인 4.5를 초과하고 있고, 또한 380~780㎚ 평균 정반사율이 0.021%가 되어, 요철 기재에 있어서의 바람직한 범위의 상한인 0.02%를 초과하고 있으며, 이 점에서 요철 기재의 차광 부재(1)로서의 흑색도가 뒤떨어진다.
또한, 비교예 1-3에서는, 최표층(10)의 물리막 두께가 바람직한 범위 외이며, 명도 L*이 14.85가 되어, 요철 기재에 있어서의 바람직한 범위의 상한인 4.5를 초과하고 있으며, 또한 380~780㎚ 평균 정반사율이 0.021%가 되어, 요철 기재에 있어서의 바람직한 범위의 상한인 0.02%를 초과하고 있으며, 이 점에서 요철 기재의 차광 부재(1)로서의 흑색도가 뒤떨어진다.
더해, 비교예 1-4에서는, 표층측 광흡수 두께(C)가 바람직한 범위 외이며, 명도 L*이 28.801이 되어, 요철 기재에 있어서의 바람직한 범위의 상한인 4.5를 초과하고 있으며, 또한 380~780㎚ 평균 정반사율이 0.160%가 되어, 요철 기재에 있어서의 바람직한 범위의 상한인 0.02%을 초과하고 있으며, 이 점에서 요철 기재의 차광 부재(1)로서의 흑색도가 뒤떨어진다.
이에 대하여, 실시예 1-1~1-4는, 광학 다층막(4)의 층수 및 총 물리막 두께, 최표층(10)의 물리막 두께, 표층측 광흡수 두께(C), 기재측 광흡수 두께(D), 특정 표층 두께(E) 및 특정 비율(F)이, 모두 각각의 바람직한 범위 내에 들어 있으며, 모두 명도 L*이 4.5 이하로 되어 있으며, 또한 380~780㎚ 평균 정반사율이 0.02% 이하가 되고, 380~780㎚ 평균 광학 농도가 4 이상으로 되어 있어, 아지랭이가 보이지 않는 새까만 요철 기재의 차광 부재(1)로 되어 있다.
투명한 요철 기재의 차광 부재(1)에 있어서, 우수한 흑색도의 확보의 관점에서, 명도 L*이 4.5 이하이며, 380~780㎚ 평균 정반사율이 0.02% 이하이며, 380~780㎚ 평균 광학 농도가 4 이상인 것이 바람직하고, 실시예 1에서는, 모두 바람직한 범위가 충족된다.
[실시예 2, 비교예 2]
기재(2)가 흑색으로 착색되면, 그 만큼 광흡수층(6)에 의한 광의 흡수를 약화시켜도, 차광 부재(1)의 차광 성능(흑색도)이 유지될 가능성이 있다. 특히, 흑색 요철 기재에서는, 기재(2)만으로 380~780㎚ 평균 광학 농도가 4 정도 이상이 된다.
따라서, 실시예 2-1의 차광 부재(1)로서, 흑색 요철 기재에, 실시예 1-1의 광학 다층막(4)이 성막된 것이 작성되고, 실시예 2-2의 차광 부재(1)로서, 흑색 요철 기재에, 실시예 1-1의 기재측 광흡수층(16)의 물리막 두께를 100㎚로 줄인 광학 다층막(4)이 성막된 것이 작성되었다.
또한, 기재측 광흡수층(16)의 물리막 두께가 더 단계적으로 줄어들어, 실시예 2-3, 비교예 2-1, 비교예 2-2, 비교예 2-3이 작성되었다. 실시예 2-3에 있어서의 기재측 광흡수층(16)의 물리막 두께는, 60㎚이며, 비교예 2-1, 비교예 2-2에 있어서의 기재측 광흡수층(16)의 물리막 두께는, 40㎚이며, 비교예 2-3에 있어서의 기재측 광흡수층(16)의 물리막 두께는, 20㎚이다. 비교예 2-2, 비교예 2-3에 있어서, 반사율이 최대한 작아지도록, L2, L4의 물리막 두께가 약간 조절되고 있다.
또한, 실시예 2-1~2-3(실시예 2), 비교예 2-1~2-3에 있어서의 기재(2)는, 흑색으로 착색된 PET제의 시트상의 요철 기재(표면에 매트 처리가 실시되고 추가로 흑색의 착색제가 도포되며 표면 거칠기 0.6㎛의 요철을 가지는 성막면(M), 두께 20㎛)이다. 성막 전의 필름의 명도 L*은, 26.0이며, 380~780㎚ 평균 정반사율은, 0.12%이며, 평균 광학 농도는, 4 이상이다. 광학 다층막(4)의 층수는, 모두 4이다.
그리고, 실시예 2, 비교예 2의 명도 L*, 380~780㎚ 평균 정반사율 및 380~780㎚ 평균 광학 농도가, 실시예 1과 마찬가지로 측정되었다.
이들의 층 구조 등이, 상기의 [표 1]과 마찬가지로, 다음의 [표 3]에 있어서 나타난다.
비교예 2-1의 광학 다층막(4)의 층수는, 4로서, 4 이상의 범위에 들어 있다.
비교예 2-1의 광학 다층막(4)의 총 물리막 두께는, 183㎚로서, 400㎚ 이하의 범위에 들어 있다.
비교예 2-1의 최표층(10)은, L4(SiO2층)이며, 그 물리막 두께는, 75㎚로서, 62㎚ 이상 91㎚ 이하의 범위에 들어 있다.
비교예 2-1의 L2는, SiO2층이며, 그 물리막 두께는, 59㎚로서, 26㎚ 이상 85㎚ 이하의 범위에 들어 있기 때문에, 비교예 2-1의 L2는, 차최표층(12)이다.
비교예 2-1의 표층측 광흡수층(14)은, L3(Nb층)이며, 표층측 광흡수 두께(C)는, 9㎚이며, 6㎚ 이상 17㎚ 이하의 범위에 들어 있다.
비교예 2-1의 기재측 광흡수층(16)은, L1(Nb층)이며, 기재측 광흡수 두께(D)는, 40㎚로서, 60㎚ 이상의 범위에 들어 있지 「않다」.
또한, 비교예 2-1의 특정 표층 두께(E)는, 전체 물리막 두께와 동일한 183㎚이며, 비교예 2-1의 특정 비율(F)은, (9+40)/183≒0.27(27%)이 되어, 34% 이상으로 되어 있지 「않다」.
비교예 2-1의 명도 L*은, 4.58이며, 4.5 이하의 범위에 들어 있지 「않다」.
비교예 2-1의 380~780㎚ 평균 정반사율은, 0.010%이며, 0.02% 이하의 범위에 들어 있다.
비교예 2-1의 380~780㎚ 평균 광학 농도는, 4 이상이며, 4 이상의 범위에 들어 있다.
비교예 2-2의 광학 다층막(4)의 층수는, 4로서, 4 이상의 범위에 들어 있다.
비교예 2-2의 광학 다층막(4)의 총 물리막 두께는, 188㎚로서, 400㎚ 이하의 범위에 들어 있다.
비교예 2-2의 최표층(10)은, L4(SiO2층)이며, 그 물리막 두께는, 77㎚로서, 62㎚ 이상 91㎚ 이하의 범위에 들어 있다.
비교예 2-2의 L2는, SiO2층이며, 그 물리막 두께는, 62㎚로서, 26㎚ 이상 85㎚ 이하의 범위에 들어 있기 때문에, 비교예 2-2의 L2는, 차최표층(12)이다.
비교예 2-2의 표층측 광흡수층(14)은, L3(Nb층)이며, 표층측 광흡수 두께(C)는, 9㎚로서, 6㎚ 이상 17㎚ 이하의 범위에 들어 있다.
비교예 2-2의 기재측 광흡수층(16)은, L1(Nb층)이며, 기재측 광흡수 두께(D)는, 40㎚로서, 60㎚ 이상의 범위에 들어 있지 「않다」.
또한, 비교예 2-2의 특정 표층 두께(E)는, 전체 물리막 두께와 동일한 188㎚이며, 비교예 2-2의 특정 비율(F)은, (9+40)/188≒0.26(26%)이 되어, 34% 이상으로 되어 있지 「않다」.
비교예 2-2의 명도 L*은, 4.70이며, 4.5 이하의 범위에 들어 있지 「않다」.
비교예 2-2의 380~780㎚ 평균 정반사율은, 0.011%이며, 0.02% 이하의 범위에 들어 있다.
비교예 2-2의 380~780㎚ 평균 광학 농도는, 4 이상으로서, 4 이상의 범위에 들어 있다.
비교예 2-3의 광학 다층막(4)의 층수는, 4로서, 4 이상의 범위에 들어 있다.
비교예 2-3의 광학 다층막(4)의 총 물리막 두께는, 177㎚로서, 400㎚ 이하의 범위에 들어 있다.
비교예 2-3의 최표층(10)은, L4(SiO2층)이며, 그 물리막 두께는, 79㎚로서, 62㎚ 이상 91㎚ 이하의 범위에 들어 있다.
비교예 2-3의 L2는, SiO2층이며, 그 물리막 두께는, 69㎚로서, 26㎚ 이상 85㎚ 이하의 범위에 들어 있기 때문에, 비교예 2-3의 L2는, 차최표층(12)이다.
비교예 2-3의 표층측 광흡수층(14)은, L3(Nb층)이며, 표층측 광흡수 두께(C)는 9㎚로서 6㎚ 이상 17㎚ 이하의 범위에 들어 있다
비교예 2-3의 기재측 광흡수층(16)은, L1(Nb층)이며, 기재측 광흡수 두께(D)는, 20㎚로서, 60㎚ 이상의 범위에 들어 있지 「않다」.
또한, 비교예 2-3의 특정 표층 두께(E)는, 전체 물리막 두께와 동일한 177㎚이며, 비교예 2-3의 특정 비율(F)은, (9+20)/177≒0.17(17%)이 되어, 34% 이상으로 되어 있지 「않다」.
비교예 2-3의 명도 L*은, 5.79이며, 4.5 이하의 범위에 들어 있지 「않다」.
비교예 2-3의 380~780㎚ 평균 정반사율은, 0.012%이며, 0.02% 이하의 범위에 들어 있다.
비교예 2-3의 380~780㎚ 평균 광학 농도는, 4 이상이며, 4 이상의 범위에 들어 있다.
실시예 2-1의 광학 다층막(4)의 층수는, 4로서, 4 이상의 범위에 들어 있다.
실시예 2-1의 광학 다층막(4)의 총 물리막 두께는, 243㎚로서, 400㎚ 이하의 범위에 들어 있다.
실시예 2-1의 최표층(10)은, L4(SiO2층)이며, 그 물리막 두께는, 75㎚로서, 62㎚ 이상 91㎚ 이하의 범위에 들어 있다.
실시예 2-1의 L2는, SiO2층이며, 그 물리막 두께는, 59㎚로서, 26㎚ 이상 85㎚ 이하의 범위에 들어 있기 때문에, 실시예 2-1의 L2는, 차최표층(12)이다.
실시예 2-1의 표층측 광흡수층(14)은, L3(Nb층)이며, 표층측 광흡수 두께(C)는, 9㎚로서, 6㎚ 이상 17㎚ 이하의 범위에 들어 있다.
실시예 2-1의 기재측 광흡수층(16)은, L1(Nb층)이며, 기재측 광흡수 두께(D)는, 100㎚로서, 60㎚ 이상의 범위에 들어 있다.
또한, 실시예 2-1의 특정 표층 두께(E)는, 전체 물리막 두께와 동일한 243㎚이며, 실시예 2-1의 특정 비율(F)은, (9+100)/243≒0.45(45%)가 되어, 34% 이상으로 되어 있다.
실시예 2-1의 명도 L*은, 4.1이며, 4.5 이하의 범위에 들어 있다.
실시예 2-1의 380~780㎚ 평균 정반사율은, 0.010%이며, 0.02% 이하의 범위에 들어 있다.
실시예 2-1의 380~780㎚ 평균 광학 농도는, 4 이상이며, 4 이상의 범위에 들어 있다.
실시예 2-2의 광학 다층막(4)의 층수는, 4로서, 4 이상의 범위에 들어 있다.
실시예 2-2의 광학 다층막(4)의 총 물리막 두께는, 203㎚로서, 400㎚ 이하의 범위에 들어 있다.
실시예 2-2의 최표층(10)은, L4(SiO2층)이며, 그 물리막 두께는, 75㎚로서, 62㎚ 이상 91㎚ 이하의 범위에 들어 있다.
실시예 2-2의 L2는, SiO2층이며, 그 물리막 두께는, 59㎚로서, 26㎚ 이상 85㎚ 이하의 범위에 들어 있기 때문에, 실시예 2-2의 L2는, 차최표층(12)이다.
실시예 2-2의 표층측 광흡수층(14)은, L3(Nb층)이며, 표층측 광흡수 두께(C)는, 9㎚로서, 6㎚ 이상 17㎚ 이하의 범위에 들어 있다.
실시예 2-2의 기재측 광흡수층(16)은, L1(Nb층)이며, 기재측 광흡수 두께(D)는, 60㎚로서, 60㎚ 이상의 범위에 들어 있다.
또한, 실시예 2-2의 특정 표층 두께(E)는, 전체 물리막 두께와 동일한 203㎚이며, 실시예 2-2의 특정 비율(F)은, (9+60)/203≒0.34(34%)가 되어, 34% 이상으로 되어 있다.
실시예 2-2의 명도 L*은, 4.5이며, 4.5 이하의 범위에 들어 있다.
실시예 2-2의 380~780㎚ 평균 정반사율은, 0.009%이며, 0.02% 이하의 범위에 들어 있다.
실시예 2-2의 380~780㎚ 평균 광학 농도는, 4 이상이며, 4 이상의 범위에 들어 있다.
실시예 2, 비교예 2 모두, 380~780㎚ 평균 광학 농도가 4 이상으로 되어 있다.
그러나, 비교예 2-1, 2-2, 비교예 2-3은, 명도 L*이 4.58, 4.70, 5.79가 되어 4.5를 초과하고 있으며, 이 점에서 요철 기재의 차광 부재(1)로서의 흑색도가 뒤떨어진다.
이에 대하여, 실시예 2는, 모두 명도 L*이 4.5 이하가 되고, 380~780㎚ 평균 정반사율이 0.02% 이하가 되고, 380~780㎚ 평균 광학 농도가 4 이상으로 되어 있어, 아지랭이가 보이지 않는 새까만 요철 기재의 차광 부재(1)로 되어 있다.
게다가, 실시예 2는, 흑색도의 질을 확보하면서, 광흡수층(6)의 물리막 두께를, 실시예 1-1(L1에서 150㎚)보다 줄일 수 있게 되어 있다(L1에서 차례로 100, 60㎚).
[실시예 3, 비교예 3]
실시예 1, 2에 있어서 반투명의, 흑색으로 착색된 각 요철 기재에서의 바람직한 광학 다층막(4)이 얻어진 바, 무색 투명의 경면을 가지는 기재(2)(경면 기재)에 있어서도, 흑색도의 확보가 요구되는 경우가 있다. 또한, 광학 다층막(4)이 경면에 형성된 경면 기재의 차광 부재(1)의 쪽이, 요철 기재의 경우에 비해, 각종의 측정, 및 시뮬레이션을 행하기 쉬워, 차광 부재(1)의 성질을 파악하기 쉽다.
따라서, 먼저, 실시예 1, 비교예 1에 있어서의 광학 다층막(4)의 층 구조를 유지하면서, 기재(2)를, 무색 투명의 요철 기재로부터, 양면이 경면인 평탄한 판상이며 무색 투명인 기재(2)(백판 유리, 판 두께 2㎜(밀리미터), 편면이 경면인 성막면(M)이 됨)로 대신한 것이, 차례로 실시예 3(실시예 3-1~3-4), 비교예 3(비교예 3-1~3-4)으로서 형성되고, 이들의 성질을 조사할 수 있었다. 당해 성질로서, 400~700㎚ 평균 정반사율, 380~780㎚ 평균 정반사율 및 380~780㎚ 평균 광학 농도가 측정되었다.
이어서, 실시예 2, 비교예 2에 있어서의 광학 다층막(4)의 층 구조를 유지하면서, 기재(2)를, 흑색으로 착색된 요철 기재로부터, 실시예 3과 마찬가지로 무색 투명의 경면을 가지는 기재(2)로 대신한 것이, 차례로 실시예 4(실시예 4-1~4-2), 비교예 4(비교예 4-1~4-3)로서 형성되고, 이들의 성질을 마찬가지로 조사할 수 있었다.
또한, 실시예 3, 4, 비교예 3, 4는, 기재(2)의 성막면(M)이 경면이며, 광학 다층막(4)으로 직진하는 입사광에 대한 확산 반사 성분이 없기 때문에, 이들의 명도 L*은, 상기의 색채계에서는 모두 0이라고 측정된다.
우선, 다음 [표 4]에, 실시예 3, 비교예 3의 측정 결과가 나타난다.
비교예 3-1의 400~700㎚ 평균 정반사율은, 0.684%이며, 0.450% 이하의 범위에 들어 있지 「않다」.
비교예 3-1의 380~780㎚ 평균 정반사율은, 1.018%이며, 0.660% 이하의 범위에 들어 있지 「않다」.
비교예 3-1의 380~780㎚ 평균 광학 농도는, 4 이상이며, 기재가 무색 투명이며 성막면(M)이 경면인 경우의 바람직한 범위인 2.1 이상의 범위에 들어 있다.
비교예 3-2의 400~700㎚ 평균 정반사율은, 1.288%이며, 0.450% 이하의 범위에 들어 있지 「않다」.
비교예 3-2의 380~780㎚ 평균 정반사율은, 1.552%이며, 0.660% 이하의 범위에 들어 있지 「않다」.
비교예 3-2의 380~780㎚ 평균 광학 농도는, 4 이상이며, 2.1 이상의 범위에 들어 있다.
비교예 3-3의 400~700㎚ 평균 정반사율은, 2.710%이며, 0.450% 이하의 범위에 들어 있지 「않다」.
비교예 3-3의 380~780㎚ 평균 정반사율은, 2.774%이며, 0.660% 이하의 범위에 들어 있지 「않다」.
비교예 3-3의 380~780㎚ 평균 광학 농도는, 4 이상이며, 2.1 이상의 범위에 들어 있다.
비교예 3-4의 400~700㎚ 평균 정반사율은, 6.615%이며, 0.450% 이하의 범위에 들어 있지 「않다」.
비교예 3-4의 380~780㎚ 평균 정반사율은, 7.516%이며, 0.660% 이하의 범위에 들어 있지 「않다」.
비교예 3-4의 380~780㎚ 평균 광학 농도는, 4 이상이며, 2.1 이상의 범위에 들어 있다.
실시예 3-1의 400~700㎚ 평균 정반사율은, 0.137%이며, 0.450% 이하의 범위에 들어 있다.
실시예 3-1의 380~780㎚ 평균 정반사율은, 0.337%이며, 0.660% 이하의 범위에 들어 있다.
실시예 3-1의 380~780㎚ 평균 광학 농도는, 4 이상이며, 2.1 이상의 범위에 들어 있다.
실시예 3-2의 400~700㎚ 평균 정반사율은, 0.280%이며, 0.450% 이하의 범위에 들어 있다.
실시예 3-2의 380~780㎚ 평균 정반사율은, 0.514%이며, 0.660% 이하의 범위에 들어 있다.
실시예 3-2의 380~780㎚ 평균 광학 농도는, 4 이상이며, 2.1 이상의 범위에 들어 있다.
실시예 3-3의 400~700㎚ 평균 정반사율은, 0.450%이며, 0.450% 이하의 범위에 들어 있다.
실시예 3-3의 380~780㎚ 평균 정반사율은, 0.660%이며, 0.660% 이하의 범위에 들어 있다.
실시예 3-3의 380~780㎚ 평균 광학 농도는, 4 이상이며, 2.1 이상의 범위에 들어 있다.
실시예 3-4의 400~700㎚ 평균 정반사율은, 0.107%이며, 0.450% 이하의 범위에 들어 있다.
실시예 3-4의 380~780㎚ 평균 정반사율은, 0.311%이며, 0.660% 이하의 범위에 들어 있다.
실시예 3-4의 380~780㎚ 평균 광학 농도는, 4 이상이며, 2.1 이상의 범위에 들어 있다.
이와 같이, 비교예 3-1~3-3에서는, 최표층(10)의 물리막 두께가 바람직한 범위 외이며, 400~700㎚ 평균 정반사율 및 380~780㎚ 평균 정반사율이, 투명한 경면 기재에 있어서의 각각의 바람직한 범위 외이다. 또한, 비교예 3-4에서는, 표층측 광흡수 두께(C)가 바람직한 범위 외이며, 400~700㎚ 평균 정반사율 및 380~780㎚ 평균 정반사율이, 투명한 경면 기재에 있어서의 각각의 바람직한 범위 외이다.
이에 대하여, 실시예 3은, 최표층(10)의 물리막 두께, 표층측 광흡수 두께(C), 기재측 광흡수 두께(D), 특정 표층 두께(E) 및 특정 비율(F)이, 모두 각각의 바람직한 범위 내에 들어 있으며, 400~700㎚ 평균 정반사율, 380~780㎚ 평균 정반사율 및 380~780㎚ 평균 광학 농도가, 모두 각각의 바람직한 범위 내에 들어 있다.
[실시예 4, 비교예 4]
이어서, 다음의 [표 5]에, 실시예 4,비교예 4의 측정 결과가 나타난다. 또한, 실시예 1-1의 광학 다층막(4)의 구조와 실시예 2-1의 광학 다층막(4)의 구조는 동일하기 때문에, 실시예 2-1의 광학 다층막(4)의 층 구조를 유지하면서, 기재를 무색 투명의 경면을 가지는 것으로 변경한 실시예는, 실시예 3-1과 동일해진다. 이 때문에, [표 5]에 있어서는, 실시예 3-1이 재게(再揭)된다.
비교예 4-1의 400~700㎚ 평균 정반사율은, 0.150%이며, 0.450% 이하의 범위에 들어 있다.
비교예 4-1의 380~780㎚ 평균 정반사율은, 0.419%이며, 0.660% 이하의 범위에 들어 있다.
비교예 4-1의 380~780㎚ 평균 광학 농도는, 1.6이며, 2.1 이상의 범위에 들어 있지 「않다」.
비교예 4-2의 400~700㎚ 평균 정반사율은, 0.155%이며, 0.450% 이하의 범위에 들어 있다.
비교예 4-2의 380~780㎚ 평균 정반사율은, 0.340%이며, 0.660% 이하의 범위에 들어 있다.
비교예 4-2의 380~780㎚ 평균 광학 농도는, 1.6이며, 2.1 이상의 범위에 들어 있지 「않다」.
비교예 4-3의 400~700㎚ 평균 정반사율은, 0.237%이며, 0.450% 이하의 범위에 들어 있다.
비교예 4-3의 380~780㎚ 평균 정반사율은, 0.381%이며, 0.660% 이하의 범위에 들어 있다.
비교예 4-3의 380~780㎚ 평균 광학 농도는, 1.1이며, 2.1 이상의 범위에 들어 있지 「않다」.
실시예 4-1의 400~700㎚ 평균 정반사율은, 0.129%이며, 0.450% 이하의 범위에 들어 있다.
실시예 4-1의 380~780㎚ 평균 정반사율은, 0.305%이며, 0.660% 이하의 범위에 들어 있다.
실시예 4-1의 380~780㎚ 평균 광학 농도는, 3.4이며, 2.1 이상의 범위에 들어 있다.
실시예 4-2의 400~700㎚ 평균 정반사율은, 0.135%이며, 0.450% 이하의 범위에 들어 있다.
실시예 4-2의 380~780㎚ 평균 정반사율은, 0.277%이며, 0.660% 이하의 범위에 들어 있다.
실시예 4-2의 380~780㎚ 평균 광학 농도는, 2.1이며, 2.1 이상의 범위에 들어 있다.
이와 같이, 비교예 4-1~4-3은, 기재측 광흡수 두께(D) 및 특정 비율(F)이 바람직한 범위 외이며, 380~780㎚ 평균 광학 농도가, 바람직한 범위 외이다.
이에 대하여, 실시예 4-1~4-2는, 최표층(10)의 물리막 두께, 표층측 광흡수 두께(C), 기재측 광흡수 두께(D), 특정 표층 두께(E) 및 특정 비율(F)이, 모두 각각의 바람직한 범위 내에 들어 있으며, 400~700㎚ 평균 정반사율, 380~780㎚ 평균 정반사율 및 380~780㎚ 평균 광학 농도가, 모두 각각의 바람직한 범위 내에 들어 있다.
그리고, 요철 기재의 경우에 양호한 결과가 얻어진 층 구조와 관련된 광학 다층막(4)(실시예 1, 2)을, 투명한 경면 기재에 성막하면(실시예 3, 4), 모두 400~700㎚ 평균 정반사율이 0.450% 이하가 되고, 380~780㎚ 평균 정반사율이 0.660% 이하가 되고, 380~780㎚ 평균 광학 농도가 2.1 이상이 되는 점에서, 투명한 경면 기재에 있어서의 각각의 바람직한 범위 내가 정해졌다고 할 수 있다.
[실시예 5, 비교예 5]
또한, 투명한 경면 기재에 있어서의 각종의 광학 다층막(4)의 광학 특성이 검토되었다.
즉, 실시예 5(실시예 5-1~5-20) 및 비교예 5(비교예 5-1~5-8)로서, 무색 투명의 경면 기재 상의 다양한 광학 다층막(4)의 층 구조에 대하여, 실시예 3, 4와 마찬가지의 특성이, 시뮬레이션에 의해 파악되었다.
실시예 5, 비교예 5의 층 구조 및 특성이, 다음의 [표 6]~[표 12]로 나타난다.
비교예 5-1의 광학 다층막(4)의 층수는, 3으로서, 4 이상의 범위에 들어 있지 「않다」.
비교예 5-1의 광학 다층막(4)의 총 물리막 두께는, 147㎚로서, 400㎚ 이하의 범위에 들어 있다.
비교예 5-1의 최표층(10)은, L3(SiO2층)이며, 그 물리막 두께는, 84㎚로서, 62㎚ 이상 91㎚ 이하의 범위에 들어 있다.
비교예 5-1의 L1은, SiO2층이며, 그 물리막 두께는, 57㎚로서, 26㎚ 이상 85㎚ 이하의 범위에 들어 있기 때문에, 비교예 5-1의 L1은, 차최표층(12)이다.
비교예 5-1의 표층측 광흡수층(14)은, L2(Nb층)이며, 표층측 광흡수 두께(C)는, 6㎚로서, 6㎚ 이상 17㎚ 이하의 범위에 들어 있다.
비교예 5-1의 기재측 광흡수층(16), 및 특정 표층 두께(E)는, 존재하지 「않으」므로, 비교예 5-1의 특정 비율(F)은, 계산할 수 「없다」.
비교예 5-1의 400~700㎚ 평균 정반사율은, 1.988%이며, 0.450% 이하의 범위에 들어 있지 「않다」.
비교예 5-1의 380~780㎚ 평균 정반사율은, 2.870%이며, 0.660% 이하의 범위에 들어 있지 「않다」.
비교예 5-1의 380~780㎚ 평균 광학 농도는, 0.2이며, 2.1 이상의 범위에 들어 있지 「않다」.
비교예 5-1은, 흑색도에 향상의 여지가 있다.
비교예 5-2의 광학 다층막(4)의 층수는, 3으로서, 4 이상의 범위에 들어 있지 「않다」.
비교예 5-2의 광학 다층막(4)의 총 물리막 두께는, 219㎚로서, 400㎚ 이하의 범위에 들어 있다.
비교예 5-2의 최표층(10)은, L3(SiO2층)이며, 그 물리막 두께는, 70㎚로서, 62㎚ 이상 91㎚ 이하의 범위에 들어 있다.
비교예 5-2의 L2는, Si3N4층이며, 그 물리막 두께는, 25㎚로서, 26㎚ 이상 85㎚ 이하의 범위에 들어 있기 때문에, 비교예 5-2의 L2는, 차최표층(12)이다.
비교예 5-2의 표층측 광흡수층(14)은, 존재하지 「않으」므로, 비교예 5-2의 특정 비율(F)은, 계산할 수 「없다」.
비교예 5-2의 기재측 광흡수층(16)은, L1(Nb층)이며, 기재측 광흡수 두께(D)는, 124㎚로서, 60㎚ 이상의 범위에 들어 있다.
비교예 5-2의 특정 표층 두께(E)는, 전체 물리막 두께와 동일한 219㎚이다.
비교예 5-2의 400~700㎚ 평균 정반사율은, 15.081%이며, 0.450% 이하의 범위에 들어 있지 「않다」.
비교예 5-2의 380~780㎚ 평균 정반사율은, 15.673%이며, 0.660% 이하의 범위에 들어 있지 「않다」.
비교예 5-2의 380~780㎚ 평균 광학 농도는, 2.9이며, 2.1 이상의 범위에 들어 있다.
비교예 5-2는, 특히 반사율의 저감이 충분하지 않아, 흑색도에 향상의 여지가 있다.
비교예 5-3의 광학 다층막(4)의 층수는, 4로서, 4 이상의 범위에 들어 있다.
비교예 5-3의 광학 다층막(4)의 총 물리막 두께는, 223㎚로서, 400㎚ 이하의 범위에 들어 있다.
비교예 5-3의 최표층(10)은, L4(SiO2층)이며, 그 물리막 두께는, 70㎚로서, 62㎚ 이상 91㎚ 이하의 범위에 들어 있다.
비교예 5-3의 L3은, Si3N4층이며, 그 물리막 두께는, 35㎚로서, 26㎚ 이상 85㎚ 이하의 범위에 들어 있기 때문에, 비교예 5-3의 L3은, 차최표층(12)이다.
비교예 5-3의 표층측 광흡수층(14)은, 존재하지 「않기」 때문에, 비교예 5-3의 특정 비율(F)은, 계산할 수 「없다」.
비교예 5-3의 기재측 광흡수층(16)은, L1(Nb층)이며, 기재측 광흡수 두께(D)는, 88㎚로서, 60㎚ 이상의 범위에 들어 있다.
비교예 5-3의 특정 표층 두께(E)는, 전체 물리막 두께와 동일한 223㎚이다.
비교예 5-3의 400~700㎚ 평균 정반사율은, 34.933%이며, 0.450% 이하의 범위에 들어 있지 「않다」.
비교예 5-3의 380~780㎚ 평균 정반사율은, 32.241%이며, 0.660% 이하의 범위에 들어 있지 「않다」.
비교예 5-3의 380~780㎚ 평균 광학 농도는, 2.1이며, 2.1 이상의 범위에 들어 있다.
비교예 5-3은, 특히 반사율의 저감이 충분하지 않아, 흑색도에 향상의 여지가 있다.
비교예 5-4의 광학 다층막(4)의 층수는, 4로서, 4 이상의 범위에 들어 있다.
비교예 5-4의 광학 다층막(4)의 총 물리막 두께는, 318㎚로서, 400㎚ 이하의 범위에 들어 있다.
비교예 5-4의 최표층(10)은, L4(SiO2층)이며, 그 물리막 두께는, 100㎚로서, 62㎚ 이상 91㎚ 이하의 범위에 들어 있지 「않다」.
비교예 5-4의 L2는, SiO2층이며, 그 물리막 두께는, 59㎚로서, 26㎚ 이상 85㎚ 이하의 범위에 들어 있기 때문에, 비교예 5-4의 L2는, 차최표층(12)이다.
비교예 5-4의 표층측 광흡수층(14)은, L3(Nb층)이며, 표층측 광흡수 두께(C)는, 9㎚로서, 6㎚ 이상 17㎚ 이하의 범위에 들어 있다.
비교예 5-4의 기재측 광흡수층(16)은, L1(Nb층)이며, 기재측 광흡수 두께(D)는, 150㎚로서, 60㎚ 이상의 범위에 들어 있다.
비교예 5-4의 특정 표층 두께(E)는, 전체 물리막 두께와 동일한 318㎚이며, 비교예 5-4의 특정 비율(F)은, (9+150)/318=0.50(50%)이 되어, 34% 이상으로 되어 있다.
비교예 5-4의 400~700㎚ 평균 정반사율은, 2.383%이며, 0.450% 이하의 범위에 들어 있지 「않다」.
비교예 5-4의 380~780㎚ 평균 정반사율은, 2.367%이며, 0.660% 이하의 범위에 들어 있지 「않다」.
비교예 5-4의 380~780㎚ 평균 광학 농도는, 4.0이며, 2.1 이상의 범위에 들어 있다.
비교예 5-4는, 특히 반사율의 저감이 충분하지 않아, 흑색도에 향상의 여지가 있다.
비교예 5-5의 광학 다층막(4)의 층수는, 4이며, 4 이상의 범위에 들어 있다.
비교예 5-5의 광학 다층막(4)의 총 물리막 두께는, 324㎚로서, 400㎚ 이하의 범위에 들어 있다.
비교예 5-5의 최표층(10)은, L4(SiO2층)이며, 그 물리막 두께는, 75㎚로서, 62㎚ 이상 91㎚ 이하의 범위에 들어 있다.
비교예 5-5의 L2는, SiO2층이며, 그 물리막 두께는, 90㎚로서, 26㎚ 이상 85㎚ 이하의 범위에 들어 있지 「않기」 때문에, 비교예 5-5의 L2는, 차최표층(12)은 「아니다」.
비교예 5-5의 표층측 광흡수층(14) 및 기재측 광흡수층(16)은, 차최표층(12)의 부존재에 의해, 존재하지 「않는다」.
비교예 5-5의 특정 표층 두께(E)는, 표층측 광흡수층(14) 및 기재측 광흡수층(16)의 부존재에 의해, 존재하지 「않는다」. 비교예 5-5의 특정 비율(F)은, 표층측 광흡수층(14) 및 기재측 광흡수층(16) 및 특정 표층 두께(E)의 부존재에 의해, 계산할 수 「없다」.
비교예 5-5의 400~700㎚ 평균 정반사율은, 4.348%이며, 0.450% 이하의 범위에 들어 있지 「않다」.
비교예 5-5의 380~780㎚ 평균 정반사율은, 4.319%이며, 0.660% 이하의 범위에 들어 있지 「않다」.
비교예 5-5의 380~780㎚ 평균 광학 농도는, 4.0이며, 2.1 이상의 범위에 들어 있다.
비교예 5-5는, 특히 반사율의 저감이 충분하지 않아, 흑색도에 향상의 여지가 있다.
비교예 5-6의 광학 다층막(4)의 층수는, 4로서, 4 이상의 범위에 들어 있다.
비교예 5-6의 광학 다층막(4)의 총 물리막 두께는, 304㎚로서, 400㎚ 이하의 범위에 들어 있다.
비교예 5-6의 최표층(10)은, L4(SiO2층)이며, 그 물리막 두께는, 75㎚로서, 62㎚ 이상 91㎚ 이하의 범위에 들어 있다.
비교예 5-6의 L2는, SiO2층이며, 그 물리막 두께는, 59㎚로서, 26㎚ 이상 85㎚ 이하의 범위에 들어 있기 때문에, 비교예 5-6의 L2는, 차최표층(12)이다.
비교예 5-6의 표층측 광흡수층(14)은, L3(Nb층)이며, 표층측 광흡수 두께(C)는, 20㎚로서, 6㎚ 이상 17㎚ 이하의 범위에 들어 있지 「않다」.
비교예 5-6의 기재측 광흡수층(16)은, L1(Nb층)이며, 기재측 광흡수 두께(D)는, 150㎚이며, 60㎚ 이상의 범위에 들어 있다.
비교예 5-6의 특정 표층 두께(E)는, 전체 물리막 두께와 동일한 304㎚이며, 비교예 5-6의 특정 비율(F)은, (20+150)/304≒0.56(56%)이 되어, 34% 이상으로 되어 있다.
비교예 5-6의 400~700㎚ 평균 정반사율은, 9.104%이며, 0.450% 이하의 범위에 들어 있지 「않다」.
비교예 5-6의 380~780㎚ 평균 정반사율은, 10.242%이며, 0.660% 이하의 범위에 들어 있지 「않다」.
비교예 5-6의 380~780㎚ 평균 광학 농도는, 4.3이며, 2.1 이상의 범위에 들어 있다.
비교예 5-6은, 특히 반사율의 저감이 충분하지 않아, 흑색도에 향상의 여지가 있다.
비교예 5-7의 광학 다층막(4)의 층수는, 6으로서, 4 이상의 범위에 들어 있다.
비교예 5-7의 광학 다층막(4)의 총 물리막 두께는, 406㎚로서, 400㎚ 이하의 범위에 들어 있지 「않다」.
비교예 5-7의 최표층(10)은, L6(SiO2층)이며, 그 물리막 두께는, 75㎚로서, 62㎚ 이상 91㎚ 이하의 범위에 들어 있다.
비교예 5-7의 L4는, SiO2층이며, 그 물리막 두께는, 75㎚로서, 26㎚ 이상 85㎚ 이하의 범위에 들어 있기 때문에, 비교예 5-7의 L4는, 차최표층(12)이다.
비교예 5-7의 표층측 광흡수층(14)은, L5(Nb층)이며, 표층측 광흡수 두께(C)는, 9㎚로서, 6㎚ 이상 17㎚ 이하의 범위에 들어 있다.
비교예 5-7의 기재측 광흡수층(16)은, L1, L3(Nb층)이며, 기재측 광흡수 두께(D)는, 32+15=47㎚로서, 60㎚ 이상의 범위에 들어 있지 「않다」. 비교예 5-7의 기재측 최대 두께 광흡수층(18)은, L1(Nb층)이다.
비교예 5-7의 특정 표층 두께(E)는, 전체 물리막 두께와 동일한 406㎚이며, 비교예 5-7의 특정 비율(F)은, (9+47)/406≒0.14(14%)가 되어, 34% 이상으로 되어 있지 「않다」.
비교예 5-7의 400~700㎚ 평균 정반사율은, 0.892%이며, 0.450% 이하의 범위에 들어 있지 「않다」.
비교예 5-7의 380~780㎚ 평균 정반사율은, 1.155%이며, 0.660% 이하의 범위에 들어 있지 「않다」.
비교예 5-7의 380~780㎚ 평균 광학 농도는, 1.8이며, 2.1 이상의 범위에 들어 있지 「않다」.
비교예 5-7은, 특히 반사율의 저감이 충분하지 않아, 흑색도에 향상의 여지가 있다.
비교예 5-8의 광학 다층막(4)의 층수는, 8로서, 4 이상의 범위에 들어 있다.
비교예 5-8의 광학 다층막(4)의 총 물리막 두께는, 391㎚로서, 400㎚ 이하의 범위에 들어 있다.
비교예 5-8의 최표층(10)은, L8(SiO2층)이며, 그 물리막 두께는, 75㎚로서, 62㎚ 이상 91㎚ 이하의 범위에 들어 있다.
비교예 5-8의 L6은, SiO2층이며, 그 물리막 두께는, 61㎚로서, 26㎚ 이상 85㎚ 이하의 범위에 들어 있기 때문에, 비교예 5-8의 L6은, 차최표층(12)이다.
비교예 5-8의 표층측 광흡수층(14)은, L7(Nb층)이며, 표층측 광흡수 두께(C)는, 10㎚로서, 6㎚ 이상 17㎚ 이하의 범위에 들어 있다.
비교예 5-8의 기재측 광흡수층(16)은, L1, L3, L5(Nb층)이며, 기재측 광흡수 두께(D)는, 35+5+5=45㎚로서, 60㎚ 이상의 범위에 들어 있지 「않다」. 비교예 5-8의 기재측 최대 두께 광흡수층(18)은, L5(Nb층)이다.
비교예 5-8의 특정 표층 두께(E)는, L5~L8의 물리막 두께의 합계인 181㎚이며, 비교예 5-8의 특정 비율(F)은, (10+45)/181≒0.30(30%)이 되어, 34% 이상으로 되어 있지 「않다」.
비교예 5-8의 400~700㎚ 평균 정반사율은, 0.198%이며, 0.450% 이하의 범위에 들어 있다.
비교예 5-8의 380~780㎚ 평균 정반사율은, 0.522%이며, 0.660% 이하의 범위에 들어 있다.
비교예 5-8의 380~780㎚ 평균 광학 농도는, 2.0이며, 2.1 이상의 범위에 들어 있지 「않다」.
비교예 5-8은, 특히 평균 광학 농도가 충분하지 않아, 흑색도에 향상의 여지가 있다.
이들에 대하여, 실시예 5-1의 광학 다층막(4)의 층수는, 4로서, 4 이상의 범위에 들어 있다.
실시예 5-1의 광학 다층막(4)의 총 물리막 두께는, 321㎚로서, 400㎚ 이하의 범위에 들어 있다.
실시예 5-1의 최표층(10)은, L4(MgF2층)이며, 그 물리막 두께는, 85㎚로서, 62㎚ 이상 91㎚ 이하의 범위에 들어 있다.
실시예 5-1의 L2는, SiO2층이며, 그 물리막 두께는, 65㎚로서, 26㎚ 이상 85㎚ 이하의 범위에 들어 있기 때문에, 실시예 5-1의 L2는, 차최표층(12)이다.
실시예 5-1의 표층측 광흡수층(14)은, L3(Nb층)이며, 표층측 광흡수 두께(C)는, 8㎚로서, 6㎚ 이상 17㎚ 이하의 범위에 들어 있다.
실시예 5-1의 기재측 광흡수층(16)은, L1(Nb층)이며, 기재측 광흡수 두께(D)는, 163㎚로서, 60㎚ 이상의 범위에 들어 있다.
실시예 5-1의 특정 표층 두께(E)는, 전체 물리막 두께와 동일한 321㎚이며, 실시예 5-1의 특정 비율(F)은, (8+163)/321≒0.53(53%)이 되어, 34% 이상으로 되어 있다.
실시예 5-1의 400~700㎚ 평균 정반사율은, 0.147%이며, 0.450% 이하의 범위에 들어 있다.
실시예 5-1의 380~780㎚ 평균 정반사율은, 0.247%이며, 0.660% 이하의 범위에 들어 있다.
실시예 5-1의 380~780㎚ 평균 광학 농도는, 4 이상이며, 2.1 이상의 범위에 들어 있다.
실시예 5-1은, 고광학 농도 및 저반사율의 양면에 있어서, 우수한 흑색도를 가지는 것이다.
실시예 5-2의 광학 다층막(4)의 층수는, 4로서, 4 이상의 범위에 들어 있다.
실시예 5-2의 광학 다층막(4)의 총 물리막 두께는, 283㎚로서, 400㎚ 이하의 범위에 들어 있다.
실시예 5-2의 최표층(10)은, L4(SiO2층)이며, 그 물리막 두께는, 81㎚로서, 62㎚ 이상 91㎚ 이하의 범위에 들어 있다.
실시예 5-2의 L2는, Si3N4층이며, 그 물리막 두께는, 46㎚로서, 26㎚ 이상 85㎚ 이하의 범위에 들어 있기 때문에, 실시예 5-2의 L2는, 차최표층(12)이다.
실시예 5-2의 표층측 광흡수층(14)은, L3(Nb층)이며, 표층측 광흡수 두께(C)는, 7㎚로서, 6㎚ 이상 17㎚ 이하의 범위에 들어 있다.
실시예 5-2의 기재측 광흡수층(16)은, L1(Nb층)이며, 기재측 광흡수 두께(D)는, 149㎚로서, 60㎚ 이상의 범위에 들어 있다.
실시예 5-2의 특정 표층 두께(E)는, 전체 물리막 두께와 동일한 283㎚이며, 실시예 5-2의 특정 비율(F)은, (7+149)/283≒0.55(55%)가 되어, 34% 이상으로 되어 있다.
실시예 5-2의 400~700㎚ 평균 정반사율은, 0.254%이며, 0.450% 이하의 범위에 들어 있다.
실시예 5-2의 380~780㎚ 평균 정반사율은, 0.452%이며, 0.660% 이하의 범위에 들어 있다.
실시예 5-2의 380~780㎚ 평균 광학 농도는, 4 이상이며, 2.1 이상의 범위에 들어 있다.
실시예 5-2는, 고광학 농도 및 저반사율의 양면에 있어서, 우수한 흑색도를 가지는 것이다.
실시예 5-3의 광학 다층막(4)의 층수는, 5로서, 4 이상의 범위에 들어 있다.
실시예 5-3의 광학 다층막(4)의 총 물리막 두께는, 259㎚로서, 400㎚ 이하의 범위에 들어 있다.
실시예 5-3의 최표층(10)은, L5(SiO2층)이며, 그 물리막 두께는, 71㎚로서, 62㎚ 이상 91㎚ 이하의 범위에 들어 있다.
실시예 5-3의 L4는, Nb2O5층이며, 그 물리막 두께는, 14㎚로서, 26㎚ 이상 85㎚ 이하의 범위에 들어 있지 「않기」 때문에, 실시예 5-3의 L4는, 차최표층(12)은 「아니다」. 실시예 5-3의 L2는, Nb2O5층이며, 그 물리막 두께는, 26㎚이며, 26㎚ 이상 85㎚ 이하의 범위에 들어 있기 때문에, 실시예 5-3의 L2는, 차최표층(12)이다.
실시예 5-3의 표층측 광흡수층(14)은, L3(Nb층)이며, 표층측 광흡수 두께(C)는, 7㎚로서, 6㎚ 이상 17㎚ 이하의 범위에 들어 있다.
실시예 5-3의 기재측 광흡수층(16)은, L1(Nb층)이며, 기재측 광흡수 두께(D)는, 141㎚로서, 60㎚ 이상의 범위에 들어 있다.
실시예 5-3의 특정 표층 두께(E)는, 전체 물리막 두께와 동일한 259㎚이며, 실시예 5-3의 특정 비율(F)은, (7+141)/259≒0.57(57%)이 되어, 34% 이상으로 되어 있다.
실시예 5-3의 400~700㎚ 평균 정반사율은, 0.286%이며, 0.450% 이하의 범위에 들어 있다.
실시예 5-3의 380~780㎚ 평균 정반사율은, 0.592%이며, 0.660% 이하의 범위에 들어 있다.
실시예 5-3의 380~780㎚ 평균 광학 농도는, 4 이상이며, 2.1 이상의 범위에 들어 있다.
실시예 5-3은, 고광학 농도 및 저반사율의 양면에 있어서, 우수한 흑색도를 가지는 것이다.
실시예 5-4의 광학 다층막(4)의 층수는, 5로서, 4 이상의 범위에 들어 있다.
실시예 5-4의 광학 다층막(4)의 총 물리막 두께는, 302㎚로서, 400㎚ 이하의 범위에 들어 있다.
실시예 5-4의 최표층(10)은, L5(SiO2층)이며, 그 물리막 두께는, 70㎚로서, 62㎚ 이상 91㎚ 이하의 범위에 들어 있다.
실시예 5-4의 L4는, Nb2O5층이며, 그 물리막 두께는, 18㎚로서, 26㎚ 이상 85㎚ 이하의 범위에 들어 있지 「않기」 때문에, 실시예 5-4의 L4는, 차최표층(12)은 「아니다」. 실시예 5-4의 L2는, SiO2층이며, 그 물리막 두께는, 43㎚로서, 26㎚ 이상 85㎚ 이하의 범위에 들어 있기 때문에, 실시예 5-4의 L2는, 차최표층(12)이다.
실시예 5-4의 표층측 광흡수층(14)은, L3(Nb층)이며, 표층측 광흡수 두께(C)는, 12㎚로서, 6㎚ 이상 17㎚ 이하의 범위에 들어 있다.
실시예 5-4의 기재측 광흡수층(16)은, L1(Nb층)이며, 기재측 광흡수 두께(D)는, 159㎚로서, 60㎚ 이상의 범위에 들어 있다.
실시예 5-4의 특정 표층 두께(E)는, 전체 물리막 두께와 동일한 302㎚이며, 실시예 5-4의 특정 비율(F)은, (12+159)/302≒0.57(57%)이 되어, 34% 이상으로 되어 있다.
실시예 5-4의 400~700㎚ 평균 정반사율은, 0.262%이며, 0.450% 이하의 범위에 들어 있다.
실시예 5-4의 380~780㎚ 평균 정반사율은, 0.425%이며, 0.660% 이하의 범위에 들어 있다.
실시예 5-4의 380~780㎚ 평균 광학 농도는, 4 이상이며, 2.1 이상의 범위에 들어 있다.
실시예 5-4는, 고광학 농도 및 저반사율의 양면에 있어서, 우수한 흑색도를 가지는 것이다.
실시예 5-5의 광학 다층막(4)의 층수는, 4로서, 4 이상의 범위에 들어 있다.
실시예 5-5의 광학 다층막(4)의 총 물리막 두께는, 274㎚로서, 400㎚ 이하의 범위에 들어 있다.
실시예 5-5의 최표층(10)은, L4(SiO2층)이며, 그 물리막 두께는, 76㎚로서, 62㎚ 이상 91㎚ 이하의 범위에 들어 있다.
실시예 5-5의 L2는, Al2O3층이며, 그 물리막 두께는, 50㎚로서, 26㎚ 이상 85㎚ 이하의 범위에 들어 있기 때문에, 실시예 5-5의 L2는, 차최표층(12)이다.
실시예 5-5의 표층측 광흡수층(14)은, L3(Nb층)이며, 표층측 광흡수 두께(C)는, 8㎚로서, 6㎚ 이상 17㎚ 이하의 범위에 들어 있다.
실시예 5-5의 기재측 광흡수층(16)은, L1(Nb층)이며, 기재측 광흡수 두께(D)는, 140㎚로서, 60㎚ 이상의 범위에 들어 있다.
실시예 5-5의 특정 표층 두께(E)는, 전체 물리막 두께와 동일한 274㎚이며, 실시예 5-5의 특정 비율(F)은, (8+140)/274≒0.54(54%)가 되어, 34% 이상으로 되어 있다.
실시예 5-5의 400~700㎚ 평균 정반사율은, 0.215%이며, 0.450% 이하의 범위에 들어 있다.
실시예 5-5의 380~780㎚ 평균 정반사율은, 0.470%이며, 0.660% 이하의 범위에 들어 있다.
실시예 5-5의 380~780㎚ 평균 광학 농도는, 4 이상이며, 2.1 이상의 범위에 들어 있다.
실시예 5-5는, 고광학 농도 및 저반사율의 양면에 있어서, 우수한 흑색도를 가지는 것이다.
실시예 5-6의 광학 다층막(4)의 층수는, 5로서, 4 이상의 범위에 들어 있다.
실시예 5-6의 광학 다층막(4)의 총 물리막 두께는, 259㎚로서, 400㎚ 이하의 범위에 들어 있다.
실시예 5-6의 최표층(10)은, L5(SiO2층)이며, 그 물리막 두께는, 71㎚로서, 62㎚ 이상 91㎚ 이하의 범위에 들어 있다.
실시예 5-6의 L4는, TiO2층이며, 그 물리막 두께는, 14㎚로서, 26㎚ 이상 85㎚ 이하의 범위에 들어 있지 「않기」 때문에, 실시예 5-6의 L4는, 차최표층(12)은 「아니다」. 실시예 5-6의 L2는, TiO2층이며, 그 물리막 두께는, 26㎚로서, 26㎚ 이상 85㎚ 이하의 범위에 들어 있기 때문에, 실시예 5-6의 L2는, 차최표층(12)이다.
실시예 5-6의 표층측 광흡수층(14)은, L3(Nb층)이며, 표층측 광흡수 두께(C)는, 7㎚로서, 6㎚ 이상 17㎚ 이하의 범위에 들어 있다.
실시예 5-6의 기재측 광흡수층(16)은, L1(Nb층)이며, 기재측 광흡수 두께(D)는, 141㎚로서, 60㎚ 이상의 범위에 들어 있다.
실시예 5-6의 특정 표층 두께(E)는, 전체 물리막 두께와 동일한 259㎚이며, 실시예 5-6의 특정 비율(F)은, (7+141)/259≒0.57(57%)이 되어, 34% 이상으로 되어 있다.
실시예 5-6의 400~700㎚ 평균 정반사율은, 0.315%이며, 0.450% 이하의 범위에 들어 있다.
실시예 5-6의 380~780㎚ 평균 정반사율은, 0.644%이며, 0.660% 이하의 범위에 들어 있다.
실시예 5-6의 380~780㎚ 평균 광학 농도는, 4 이상이며, 2.1 이상의 범위에 들어 있다.
실시예 5-6은, 고광학 농도 및 저반사율의 양면에 있어서, 우수한 흑색도를 가지는 것이다.
실시예 5-7의 광학 다층막(4)의 층수는, 4로서, 4 이상의 범위에 들어 있다.
실시예 5-7의 광학 다층막(4)의 총 물리막 두께는, 302㎚로서, 400㎚ 이하의 범위에 들어 있다.
실시예 5-7의 최표층(10)은, L4(SiO2층)이며, 그 물리막 두께는, 80㎚로서, 62㎚ 이상 91㎚ 이하의 범위에 들어 있다.
실시예 5-7의 L2는, MgF2층이며, 그 물리막 두께는, 77㎚로서, 26㎚ 이상 85㎚ 이하의 범위에 들어 있기 때문에, 실시예 5-7의 L2는, 차최표층(12)이다.
실시예 5-7의 표층측 광흡수층(14)은, L3(Nb층)이며, 표층측 광흡수 두께(C)는, 9㎚로서, 6㎚ 이상 17㎚ 이하의 범위에 들어 있다.
실시예 5-7의 기재측 광흡수층(16)은, L1(Nb층)이며, 기재측 광흡수 두께(D)는, 150㎚로서, 60㎚ 이상의 범위에 들어 있다.
실시예 5-7의 특정 표층 두께(E)는, 전체 물리막 두께와 동일한 302㎚이며, 실시예 5-7의 특정 비율(F)은, (9+150)/302≒0.53(53%)이 되어, 34% 이상으로 되어 있다.
실시예 5-7의 400~700㎚ 평균 정반사율은, 0.284%이며, 0.450% 이하의 범위에 들어 있다.
실시예 5-7의 380~780㎚ 평균 정반사율은, 0.346%이며, 0.660% 이하의 범위에 들어 있다.
실시예 5-7의 380~780㎚ 평균 광학 농도는, 4 이상이며, 2.1 이상의 범위에 들어 있다.
실시예 5-7은, 고광학 농도 및 저반사율의 양면에 있어서, 우수한 흑색도를 가지는 것이다.
실시예 5-8의 광학 다층막(4)의 층수는, 4로서, 4 이상의 범위에 들어 있다.
실시예 5-8의 광학 다층막(4)의 총 물리막 두께는, 277㎚로서, 400㎚ 이하의 범위에 들어 있다.
실시예 5-8의 최표층(10)은, L4(SiO2층)이며, 그 물리막 두께는, 79㎚로서, 62㎚ 이상 91㎚ 이하의 범위에 들어 있다.
실시예 5-8의 L2는, ZrO2층이며, 그 물리막 두께는, 42㎚로서, 26㎚ 이상 85㎚ 이하의 범위에 들어 있기 때문에, 실시예 5-8의 L2는, 차최표층(12)이다.
실시예 5-8의 표층측 광흡수층(14)은, L3(Nb층)이며, 표층측 광흡수 두께(C)는, 6㎚로서, 6㎚ 이상 17㎚ 이하의 범위에 들어 있다.
실시예 5-8의 기재측 광흡수층(16)은, L1(Nb층)이며, 기재측 광흡수 두께(D)는, 150㎚로서, 60㎚ 이상의 범위에 들어 있다.
실시예 5-8의 특정 표층 두께(E)는, 전체 물리막 두께와 동일한 277㎚이며, 실시예 5-8의 특정 비율(F)은, (6+150)/277≒0.56(56%)이 되어, 34% 이상으로 되어 있다.
실시예 5-8의 400~700㎚ 평균 정반사율은, 0.264%이며, 0.450% 이하의 범위에 들어 있다.
실시예 5-8의 380~780㎚ 평균 정반사율은, 0.417%이며, 0.660% 이하의 범위에 들어 있다.
실시예 5-8의 380~780㎚ 평균 광학 농도는, 4 이상이며, 2.1 이상의 범위에 들어 있다.
실시예 5-8은, 고광학 농도 및 저반사율의 양면에 있어서, 우수한 흑색도를 가지는 것이다.
실시예 5-9의 광학 다층막(4)의 층수는, 4로서, 4 이상의 범위에 들어 있다.
실시예 5-9의 광학 다층막(4)의 총 물리막 두께는, 274㎚로서, 400㎚ 이하의 범위에 들어 있다.
실시예 5-9의 최표층(10)은, L4(SiO2층)이며, 그 물리막 두께는, 79㎚로서, 62㎚ 이상 91㎚ 이하의 범위에 들어 있다.
실시예 5-9의 L2는, Ta2O5층이며, 그 물리막 두께는, 39㎚로서, 26㎚ 이상 85㎚ 이하의 범위에 들어 있기 때문에, 실시예 5-9의 L2는, 차최표층(12)이다.
실시예 5-9의 표층측 광흡수층(14)은, L3(Nb층)이며, 표층측 광흡수 두께(C)는, 6㎚로서, 6㎚ 이상 17㎚ 이하의 범위에 들어 있다.
실시예 5-9의 기재측 광흡수층(16)은, L1(Nb층)이며, 기재측 광흡수 두께(D)는, 150㎚로서, 60㎚ 이상의 범위에 들어 있다.
실시예 5-9의 특정 표층 두께(E)는, 전체 물리막 두께와 동일한 274㎚이며, 실시예 5-9의 특정 비율(F)은, (6+150)/274≒0.57(57%)이 되어, 34% 이상으로 되어 있다.
실시예 5-9의 400~700㎚ 평균 정반사율은, 0.298%이며, 0.450% 이하의 범위에 들어 있다.
실시예 5-9의 380~780㎚ 평균 정반사율은, 0.538%이며, 0.660% 이하의 범위에 들어 있다.
실시예 5-9의 380~780㎚ 평균 광학 농도는, 3.7이며, 2.1 이상의 범위에 들어 있다.
실시예 5-9는, 고광학 농도 및 저반사율의 양면에 있어서, 우수한 흑색도를 가지는 것이다.
실시예 5-10의 광학 다층막(4)의 층수는, 4로서, 4 이상의 범위에 들어 있다.
실시예 5-10의 광학 다층막(4)의 총 물리막 두께는, 295㎚로서, 400㎚ 이하의 범위에 들어 있다.
실시예 5-10의 최표층(10)은, L4(SiO2층)이며, 그 물리막 두께는, 71㎚로서, 62㎚ 이상 91㎚ 이하의 범위에 들어 있다.
실시예 5-10의 L2는, SiO2층층이며, 그 물리막 두께는, 73㎚로서, 26㎚ 이상 85㎚ 이하의 범위에 들어 있기 때문에, 실시예 5-10의 L2는, 차최표층(12)이다.
실시예 5-10의 표층측 광흡수층(14)은, L3(Ti층)이며, 표층측 광흡수 두께(C)는, 16㎚로서, 6㎚ 이상 17㎚ 이하의 범위에 들어 있다.
실시예 5-10의 기재측 광흡수층(16)은, L1(Ti층)이며, 기재측 광흡수 두께(D)는, 135㎚로서, 60㎚ 이상의 범위에 들어 있다.
실시예 5-10의 특정 표층 두께(E)는, 전체 물리막 두께와 동일한 295㎚이며, 실시예 5-10의 특정 비율(F)은, (16+135)/295≒0.51(51%)이 되어, 34% 이상으로 되어 있다.
실시예 5-10의 400~700㎚ 평균 정반사율은, 0.193%이며, 0.450% 이하의 범위에 들어 있다.
실시예 5-10의 380~780㎚ 평균 정반사율은, 0.497%이며, 0.660% 이하의 범위에 들어 있다.
실시예 5-10의 380~780㎚ 평균 광학 농도는, 3.2이며, 2.1 이상의 범위에 들어 있다.
실시예 5-10은, 고광학 농도 및 저반사율의 양면에 있어서, 우수한 흑색도를 가지는 것이다.
실시예 5-11의 광학 다층막(4)의 층수는, 4로서, 4 이상의 범위에 들어 있다.
실시예 5-11의 광학 다층막(4)의 총 물리막 두께는, 312㎚로서, 400㎚ 이하의 범위에 들어 있다.
실시예 5-11의 최표층(10)은, L4(SiO2층)이며, 그 물리막 두께는, 76㎚로서, 62㎚ 이상 91㎚ 이하의 범위에 들어 있다.
실시예 5-11의 L2는, SiO2층이며, 그 물리막 두께는, 71㎚로서, 26㎚ 이상 85㎚ 이하의 범위에 들어 있기 때문에, 실시예 5-11의 L2는, 차최표층(12)이다.
실시예 5-11의 표층측 광흡수층(14)은, L3(NiOx층)이며, 표층측 광흡수 두께(C)는, 15㎚로서, 6㎚ 이상 17㎚ 이하의 범위에 들어 있다. 여기서의 NiOx층은, Ni의 성막 레이트 0.3㎚/s에 있어서의 증착에 의해 형성될 수 있는 것이며, 증착 시에, 산소 가스가, 20sccm 도입되는 것이다. 이하, NiOx층은, 마찬가지로 작성된 것이 상정된다. 또한, 산소 가스의 유량의 변경에 의해, NiOx의 조성(NiOx에 있어서의 x)은 변경 가능하다.
실시예 5-11의 기재측 광흡수층(16)은, L1(NiOx층)이며, 기재측 광흡수 두께(D)는, 150㎚로서, 60㎚ 이상의 범위에 들어 있다.
실시예 5-11의 특정 표층 두께(E)는, 전체 물리막 두께와 동일한 312㎚이며, 실시예 5-11의 특정 비율(F)은, (15+150)/312≒0.53(53%)이 되어, 34% 이상으로 되어 있다.
실시예 5-11의 400~700㎚ 평균 정반사율은, 0.393%이며, 0.450% 이하의 범위에 들어 있다.
실시예 5-11의 380~780㎚ 평균 정반사율은, 0.653%이며, 0.660% 이하의 범위에 들어 있다.
실시예 5-11의 380~780㎚ 평균 광학 농도는, 3.4이며, 2.1 이상의 범위에 들어 있다.
실시예 5-11은, 고광학 농도 및 저반사율의 양면에 있어서, 우수한 흑색도를 가지는 것이다.
실시예 5-12의 광학 다층막(4)의 층수는, 4로서, 4 이상의 범위에 들어 있다.
실시예 5-12의 광학 다층막(4)의 총 물리막 두께는, 356㎚로서, 400㎚ 이하의 범위에 들어 있다.
실시예 5-12의 최표층(10)은, L4(SiO2층)이며, 그 물리막 두께는, 62㎚로서, 62㎚ 이상 91㎚ 이하의 범위에 들어 있다.
실시예 5-12의 L2는, SiO2층이며, 그 물리막 두께는, 36㎚로서, 26㎚ 이상 85㎚ 이하의 범위에 들어 있기 때문에, 실시예 5-12의 L2는, 차최표층(12)이다.
실시예 5-12의 표층측 광흡수층(14)은, L3(Ge층)이며, 표층측 광흡수 두께(C)는, 8㎚로서, 6㎚ 이상 17㎚ 이하의 범위에 들어 있다.
실시예 5-12의 기재측 광흡수층(16)은, L1(Ge층)이며, 기재측 광흡수 두께(D)는, 250㎚로서, 60㎚ 이상의 범위에 들어 있다.
실시예 5-12의 특정 표층 두께(E)는, 전체 물리막 두께와 동일한 356㎚이며, 실시예 5-12의 특정 비율(F)은, (8+250)/356≒0.72(72%)가 되어, 34% 이상으로 되어 있다.
실시예 5-12의 400~700㎚ 평균 정반사율은, 0.402%이며, 0.450% 이하의 범위에 들어 있다.
실시예 5-12의 380~780㎚ 평균 정반사율은, 0.637%이며, 0.660% 이하의 범위에 들어 있다.
실시예 5-12의 380~780㎚ 평균 광학 농도는, 2.1이며, 2.1 이상의 범위에 들어 있다.
실시예 5-12은, 고광학 농도 및 저반사율의 양면에 있어서, 우수한 흑색도를 가지는 것이다.
실시예 5-13의 광학 다층막(4)의 층수는, 4로서, 4 이상의 범위에 들어 있다.
실시예 5-13의 최표층(10)은, L4(SiO2층)이며, 그 물리막 두께는, 77㎚로서, 62㎚ 이상 91㎚ 이하의 범위에 들어 있다.
실시예 5-13의 L2는, SiO2층이며, 그 물리막 두께는, 63㎚로서, 26㎚ 이상 85㎚ 이하의 범위에 들어 있기 때문에, 실시예 5-13의 L2는, 차최표층(12)이다.
실시예 5-13의 표층측 광흡수층(14)은, L3(Cr층)이며, 표층측 광흡수 두께(C)는, 8㎚로서, 6㎚ 이상 17㎚ 이하의 범위에 들어 있다.
실시예 5-13의 기재측 광흡수층(16)은, L1(Cr층)이며, 기재측 광흡수 두께(D)는, 150㎚로서, 60㎚ 이상의 범위에 들어 있다.
실시예 5-13의 특정 표층 두께(E)는, 전체 물리막 두께와 동일한 298㎚이며, 실시예 5-13의 특정 비율(F)은, (8+150)/298≒0.53(53%)이 되어, 34% 이상으로 되어 있다.
실시예 5-13의 400~700㎚ 평균 정반사율은, 0.165%이며, 0.450% 이하의 범위에 들어 있다.
실시예 5-13의 380~780㎚ 평균 정반사율은, 0.170%이며, 0.660% 이하의 범위에 들어 있다.
실시예 5-13의 380~780㎚ 평균 광학 농도는, 4 이상이며, 2.1 이상의 범위에 들어 있다.
실시예 5-13은, 고광학 농도 및 저반사율의 양면에 있어서, 우수한 흑색도를 가지는 것이다.
실시예 5-14의 광학 다층막(4)의 층수는, 4로서, 4 이상의 범위에 들어 있다.
실시예 5-14의 광학 다층막(4)의 총 물리막 두께는, 221㎚로서, 400㎚ 이하의 범위에 들어 있다.
실시예 5-14의 최표층(10)은, L4(SiO2층)이며, 그 물리막 두께는, 70㎚로서, 62㎚ 이상 91㎚ 이하의 범위에 들어 있다.
실시예 5-14의 L2는, SiO2층이며, 그 물리막 두께는, 70㎚로서, 26㎚ 이상 85㎚ 이하의 범위에 들어 있기 때문에, 실시예 5-14의 L2는, 차최표층(12)이다.
실시예 5-14의 표층측 광흡수층(14)은, L3(Nb층)이며, 표층측 광흡수 두께(C)는, 17㎚로서, 6㎚ 이상 17㎚ 이하의 범위에 들어 있다.
실시예 5-14의 기재측 광흡수층(16)은, L1(Al층)이며, 기재측 광흡수 두께(D)는, 60㎚로서, 60㎚ 이상의 범위에 들어 있다.
실시예 5-14의 특정 표층 두께(E)는, 전체 물리막 두께와 동일한 221㎚이며, 실시예 5-14의 특정 비율(F)은, (17+60)/221=0.35(35%)가 되어, 34% 이상으로 되어 있다.
실시예 5-14의 400~700㎚ 평균 정반사율은, 0.241%이며, 0.450% 이하의 범위에 들어 있다.
실시예 5-14의 380~780㎚ 평균 정반사율은, 0.562%이며, 0.660% 이하의 범위에 들어 있다.
실시예 5-14의 380~780㎚ 평균 광학 농도는, 4 이상이며, 2.1 이상의 범위에 들어 있다.
실시예 5-14는, 고광학 농도 및 저반사율의 양면에 있어서, 우수한 흑색도를 가지는 것이다.
실시예 5-15의 광학 다층막(4)의 층수는, 4로서, 4 이상의 범위에 들어 있다.
실시예 5-15의 광학 다층막(4)의 총 물리막 두께는, 205㎚로서, 400㎚ 이하의 범위에 들어 있다.
실시예 5-15의 최표층(10)은, L4(SiO2층)이며, 그 물리막 두께는, 75㎚로서, 62㎚ 이상 91㎚ 이하의 범위에 들어 있다.
실시예 5-15의 L2는, SiO2층이며, 그 물리막 두께는, 61㎚로서, 26㎚ 이상 85㎚ 이하의 범위에 들어 있기 때문에, 실시예 5-15의 L2는, 차최표층(12)이다.
실시예 5-15의 표층측 광흡수층(14)은, L3(Nb층)이며, 표층측 광흡수 두께(C)는, 10㎚로서, 6㎚ 이상 17㎚ 이하의 범위에 들어 있다.
실시예 5-15의 기재측 광흡수층(16)은, L1(Nb층)이며, 기재측 광흡수 두께(D)는, 60㎚로서, 60㎚ 이상의 범위에 들어 있다.
실시예 5-15의 특정 표층 두께(E)는, 전체 물리막 두께와 동일한 205㎚이며, 실시예 5-15의 특정 비율(F)은, (10+60)/205≒0.34(34%)가 되어, 34% 이상으로 되어 있다.
실시예 5-15의 400~700㎚ 평균 정반사율은, 0.246%이며, 0.450% 이하의 범위에 들어 있다.
실시예 5-15의 380~780㎚ 평균 정반사율은, 0.427%이며, 0.660% 이하의 범위에 들어 있다.
실시예 5-15의 380~780㎚ 평균 광학 농도는, 2.1이며, 2.1 이상의 범위에 들어 있다.
실시예 5-15은, 고광학 농도 및 저반사율의 양면에 있어서, 우수한 흑색도를 가지는 것이다.
실시예 5-16의 광학 다층막(4)의 층수는, 5로서, 4 이상의 범위에 들어 있다.
실시예 5-16의 광학 다층막(4)의 총 물리막 두께는, 400㎚로서, 400㎚ 이하의 범위에 들어 있다.
실시예 5-16의 최표층(10)은, L5(SiO2층)이며, 그 물리막 두께는, 75㎚로서, 62㎚ 이상 91㎚ 이하의 범위에 들어 있다.
실시예 5-16의 L3은, SiO2층이며, 그 물리막 두께는, 61㎚로서, 26㎚ 이상 85㎚ 이하의 범위에 들어 있기 때문에, 실시예 5-16의 L3은, 차최표층(12)이다.
실시예 5-16의 표층측 광흡수층(14)은, L4(Nb층)이며, 표층측 광흡수 두께(C)는, 10㎚로서, 6㎚ 이상 17㎚ 이하의 범위에 들어 있다.
실시예 5-16의 기재측 광흡수층(16)은, L2(Nb층)이며, 기재측 광흡수 두께(D)는, 60㎚로서, 60㎚ 이상의 범위에 들어 있다.
실시예 5-16의 특정 표층 두께(E)는, L2~L5의 물리막 두께의 합계인 206㎚이며, 실시예 5-16의 특정 비율(F)은, (10+60)/206≒0.34(34%)가 되어, 34% 이상으로 되어 있다.
실시예 5-16의 400~700㎚ 평균 정반사율은, 0.246%이며, 0.450% 이하의 범위에 들어 있다.
실시예 5-16의 380~780㎚ 평균 정반사율은, 0.425%이며, 0.660% 이하의 범위에 들어 있다.
실시예 5-16의 380~780㎚ 평균 광학 농도는, 2.1이며, 2.1 이상의 범위에 들어 있다.
실시예 5-16은, 고광학 농도 및 저반사율의 양면에 있어서, 우수한 흑색도를 가지는 것이다.
실시예 5-17의 광학 다층막(4)의 층수는, 6으로서, 4 이상의 범위에 들어 있다.
실시예 5-17의 광학 다층막(4)의 총 물리막 두께는, 230㎚로서, 400㎚ 이하의 범위에 들어 있다.
실시예 5-17의 최표층(10)은, L6(SiO2층)이며, 그 물리막 두께는, 75㎚로서, 62㎚ 이상 91㎚ 이하의 범위에 들어 있다.
실시예 5-17의 L4는, SiO2층이며, 그 물리막 두께는, 61㎚로서, 26㎚ 이상 85㎚ 이하의 범위에 들어 있기 때문에, 실시예 5-17의 L4는, 차최표층(12)이다.
실시예 5-17의 표층측 광흡수층(14)은, L5(Nb층)이며, 표층측 광흡수 두께(C)는, 9㎚로서, 6㎚ 이상 17㎚ 이하의 범위에 들어 있다.
실시예 5-17의 기재측 광흡수층(16)은, L1, L3(Nb층)이며, 기재측 광흡수 두께(D)는, 10+50=60㎚로서, 60㎚ 이상의 범위에 들어 있다. 실시예 5-17의 기재측 최대 두께 광흡수층(18)은, L3(Nb층)이다.
실시예 5-17의 특정 표층 두께(E)는, L3~L6의 합계 물리막 두께와 동일한 195㎚이며, 실시예 5-17의 특정 비율(F)은, (9+60)/195≒0.35(35%)가 되어, 34% 이상으로 되어 있다.
실시예 5-17의 400~700㎚ 평균 정반사율은, 0.224%이며, 0.450% 이하의 범위에 들어 있다.
실시예 5-17의 380~780㎚ 평균 정반사율은, 0.348%이며, 0.660% 이하의 범위에 들어 있다.
실시예 5-17의 380~780㎚ 평균 광학 농도는, 2.1이며, 2.1 이상의 범위에 들어 있다.
실시예 5-17은, 고광학 농도 및 저반사율의 양면에 있어서, 우수한 흑색도를 가지는 것이다.
실시예 5-18의 광학 다층막(4)의 층수는, 6으로서, 4 이상의 범위에 들어 있다.
실시예 5-18의 광학 다층막(4)의 총 물리막 두께는, 382㎚로서, 400㎚ 이하의 범위에 들어 있다.
실시예 5-18의 최표층(10)은, L6(SiO2층)이며, 그 물리막 두께는, 88㎚로서, 62㎚ 이상 91㎚ 이하의 범위에 들어 있다.
실시예 5-18의 L4는, SiO2층이며, 그 물리막 두께는, 85㎚로서, 26㎚ 이상 85㎚ 이하의 범위에 들어 있기 때문에, 실시예 5-18의 L4는, 차최표층(12)이다.
실시예 5-18의 표층측 광흡수층(14)은, L5(Nb층)이며, 표층측 광흡수 두께(C)는, 7㎚로서, 6㎚ 이상 17㎚ 이하의 범위에 들어 있다.
실시예 5-18의 기재측 광흡수층(16)은, L1, L3(Nb층)이며, 기재측 광흡수 두께(D)는, 105+16=121㎚로서, 60㎚ 이상의 범위에 들어 있다.
실시예 5-18의 기재측 최대 두께 광흡수층(18)은, L1(Nb층)이다.
실시예 5-18의 특정 표층 두께(E)는, 전체 물리막 두께와 동일한 382㎚이며, 실시예 5-18의 특정 비율(F)은, (7+121)/382≒0.34(34%)가 되어, 34% 이상으로 되어 있다.
실시예 5-18의 400~700㎚ 평균 정반사율은, 0.388%이며, 0.450% 이하의 범위에 들어 있다.
실시예 5-18의 380~780㎚ 평균 정반사율은, 0.591%이며, 0.660% 이하의 범위에 들어 있다.
실시예 5-18의 380~780㎚ 평균 광학 농도는, 3.7이며, 2.1 이상의 범위에 들어 있다.
실시예 5-18은, 고광학 농도 및 저반사율의 양면에 있어서, 우수한 흑색도를 가지는 것이다.
실시예 5-19의 광학 다층막(4)의 층수는, 8로서, 4 이상의 범위에 들어 있다.
실시예 5-19의 광학 다층막(4)의 총 물리막 두께는, 400㎚로서, 400㎚ 이하의 범위에 들어 있다.
실시예 5-19의 최표층(10)은, L8(SiO2층)이며, 그 물리막 두께는, 75㎚로서, 62㎚ 이상 91㎚ 이하의 범위에 들어 있다.
실시예 5-19의 L6은, SiO2층이며, 그 물리막 두께는, 61㎚로서, 26㎚ 이상 85㎚ 이하의 범위에 들어 있기 때문에, 실시예 5-19의 L6은, 차최표층(12)이다.
실시예 5-19의 표층측 광흡수층(14)은, L7(Nb층)이며, 표층측 광흡수 두께(C)는, 10㎚로서, 6㎚ 이상 17㎚ 이하의 범위에 들어 있다.
실시예 5-19의 기재측 광흡수층(16)은, L1, L3, L5(Nb층)이며, 기재측 광흡수 두께(D)는, 5+5+50=60㎚로서, 60㎚ 이상의 범위에 들어 있다. 실시예 5-19의 기재측 최대 두께 광흡수층(18)은, L5(Nb층)이다.
실시예 5-19의 특정 표층 두께(E)는, L5~L8의 합계 물리막 두께와 동일한 196㎚이며, 실시예 5-19의 특정 비율(F)은, (10+60)/196≒0.36(36%)이 되어, 34% 이상으로 되어 있다.
실시예 5-19의 400~700㎚ 평균 정반사율은, 0.274%이며, 0.450% 이하의 범위에 들어 있다.
실시예 5-19의 380~780㎚ 평균 정반사율은, 0.540%이며, 0.660% 이하의 범위에 들어 있다.
실시예 5-19의 380~780㎚ 평균 광학 농도는, 2.3이며, 2.1 이상의 범위에 들어 있다.
실시예 5-19는, 고광학 농도 및 저반사율의 양면에 있어서, 우수한 흑색도를 가지는 것이다.
실시예 5-20의 광학 다층막(4)의 층수는, 6으로서, 4 이상의 범위에 들어 있다.
실시예 5-20의 광학 다층막(4)의 총 물리막 두께는, 349㎚로서, 400㎚ 이하의 범위에 들어 있다.
실시예 5-20의 최표층(10)은, L6(SiO2층)이며, 그 물리막 두께는, 91㎚로서, 62㎚ 이상 91㎚ 이하의 범위에 들어 있다.
실시예 5-20의 L4는, SiO2층이며, 그 물리막 두께는, 79㎚로서, 26㎚ 이상 85㎚ 이하의 범위에 들어 있기 때문에, 실시예 5-20의 L4는, 차최표층(12)이다.
실시예 5-20의 표층측 광흡수층(14)은, L5(Nb층)이며, 표층측 광흡수 두께(C)는, 8㎚로서, 6㎚ 이상 17㎚ 이하의 범위에 들어 있다.
실시예 5-20의 기재측 광흡수층(16)은, L1, L3(Nb층)이며, 기재측 광흡수 두께(D)는, 90+19=109㎚로서, 60㎚ 이상의 범위에 들어 있다.
실시예 5-20의 특정 표층 두께(E)는, 전체 물리막 두께와 동일한 349㎚이며, 실시예 5-20의 특정 비율(F)은, (8+109)/349≒0.34(34%)가 되어, 34% 이상으로 되어 있다.
실시예 5-20의 400~700㎚ 평균 정반사율은, 0.447%이며, 0.450% 이하의 범위에 들어 있다.
실시예 5-20의 380~780㎚ 평균 정반사율은, 0.656%이며, 0.660% 이하의 범위에 들어 있다.
실시예 5-20의 380~780㎚ 평균 광학 농도는, 3.4이며, 2.1 이상의 범위에 들어 있다.
실시예 5-20은, 고광학 농도 및 저반사율의 양면에 있어서, 우수한 흑색도를 가지는 것이다.
이와 같이, 실시예 5-1~5-20은, 광학 다층막(4)의 층수 및 총 물리막 두께, 최표층(10)의 물리막 두께, 표층측 광흡수 두께(C), 기재측 광흡수 두께(D), 특정 표층 두께(E) 및 특정 비율(F)이, 모두 각각의 바람직한 범위 내에 들어가 있고, 400~700㎚ 평균 정반사율, 380~780㎚ 평균 정반사율, 및 380~780㎚ 평균 광학 농도가, 모두 투명한 경면 기재에 있어서의 각각의 바람직한 범위 내에 들어 있다.
[실시예 6]
기재(2)의 표면 거칠기가 0.4㎛ 이상 1.0 이하의 범위 내에서 상이한 복수의 경우에 대하여, 실시예 6(실시예 6-1~6-3)의 형성에 의해 확인되었다. 실시예 6-1~6-2는, 실시예 2-1(흑색 요철 기재, 표면 거칠기 0.6㎛)에 대하여, 표면 거칠기가 상이한 흑색 요철 기재로 각각 변경한 것이다.
실시예 6-1의 기재의 표면 거칠기는, 0.4㎛이다. 실시예 6-1의 기재(성막전)의 명도 L*은, 22.4이다. 실시예 6-1의 기재의 380~780㎚ 평균 정반사율은, 0.23%이다. 실시예 6-1의 기재의 평균 광학 농도는, 4 이상이다.
실시예 6-2의 기재의 표면 거칠기는, 0.5㎛이다. 실시예 6-2의 기재(성막 전)의 명도 L*은, 13.4이다. 실시예 6-2의 기재의 380~780㎚ 평균 정반사율은, 0.02%이다. 실시예 6-2의 기재의 평균 광학 농도는, 4 이상이다.
또한, 실시예 6-3은, 다음의 기재에, 하기 [표 13]에 나타나는 광학 다층막(4)을 성막한 것이다.
실시예 6-3의 기재의 표면 거칠기는, 1.0㎛이다. 실시예 6-3의 기재(성막 전)의 명도 L*은, 22.3이다. 실시예 6-3의 기재의 380~780㎚ 평균 정반사율은, 0.08%이다. 실시예 6-3의 기재의 평균 광학 농도는, 4 이상이다.
실시예 6-3의 광학 다층막(4)의 층수는, 7로서, 4 이상의 범위에 들어 있다.
실시예 6-3의 광학 다층막(4)의 총 물리막 두께는, 292㎚로서, 400㎚ 이하의 범위에 들어 있다.
실시예 6-3의 최표층(10)은, L7(SiO2층)이며, 그 물리막 두께는, 75㎚로서, 62㎚ 이상 91㎚ 이하의 범위에 들어 있다.
실시예 6-3의 L3은, SiO2층이며, 그 물리막 두께는, 41㎚로서, 26㎚ 이상 85㎚ 이하의 범위에 들어 있기 때문에, 실시예 6-3의 L3은, 차최표층(12)이다.
실시예 6-3의 표층측 광흡수층(14)은, L6(Si+Nb층)이며, 표층측 광흡수 두께(C)는, 8㎚로서, 6㎚ 이상 17㎚ 이하의 범위에 들어 있다. 여기서, L6, L1의 Si+Nb층은, 다음과 같이 제작될 수 있는 것이다. 즉, Si가 성막 레이트 0.21㎚/s로 스퍼터되고, 동시에 Nb가 성막 레이트 0.20㎚/s로 스퍼터되어, Si+Nb층이 된다. 성막 레이트의 비로부터 계산되는 Si와 Nb와의 비(체적비)는, Si:Nb=51:49 정도이며, Si+Nb층은, Si가 과반이 되는 혼합막이다. Si:Nb는, 성막 레이트 등의 성막 조건에 의해 변경 가능하다. 성막된 Si+Nb층에 있어서의 정확한 Si:Nb의 값은, 현미경 등에 의한 방대한 범위의 관찰을 필요로 하기 때문에, 당업자였다고 해도, 제시하기 어렵다.
실시예 6-3의 기재측 광흡수층(16)은, L1(Si+Nb층)이며, 기재측 광흡수 두께(D)는, 150㎚로서, 60㎚ 이상의 범위에 들어 있다.
실시예 6-3의 특정 표층 두께(E)는, 전체 물리막 두께와 동일한 292㎚이며, 실시예 6-3의 특정 비율(F)은, (8+150)/292≒0.54(54%)가 되어, 34% 이상으로 되어 있다.
실시예 6 및 실시예 2-1(재게)의 표면 거칠기 및 확인 결과가, 다음의 [표 14]에 나타난다. 또한, 실시예 6-1~6-2의 층 구조는, 실시예 1-1, 2-1(상기 [표 1], [표 3])과 동일하다.
실시예 6-1(표면 거칠기 0.4㎛)의 명도 L*은, 3.00이며, 4.5이하의 범위에 들어 있다.
실시예 6-1의 380~780㎚ 평균 정반사율은, 0.011%이며, 0.02% 이하의 범위에 들어 있다.
실시예 6-1의 380~780㎚ 평균 광학 농도는, 4 이상이며, 4.0 이상의 범위에 들어 있다.
실시예 6-2(표면 거칠기 0.5㎛)의 명도 L*은, 1.94이며, 4.5 이하의 범위에 들어 있다.
실시예 6-2의 380~780㎚ 평균 정반사율은, 0.008%이며, 0.02% 이하의 범위에 들어 있다.
실시예 6-2의 380~780㎚ 평균 광학 농도는, 4 이상이며, 4.0 이상의 범위에 들어 있다.
실시예 2-1(표면 거칠기 0.6㎛)의 명도 L*은, 2.96이며, 4.5 이하의 범위에 들어 있다.
실시예 2-1의 380~780㎚ 평균 정반사율은, 0.010%이며, 0.02% 이하의 범위에 들어 있다.
실시예 2-1의 380~780㎚ 평균 광학 농도는, 4 이상이며, 4.0 이상의 범위에 들어 있다.
실시예 6-3(표면 거칠기 1.0㎛)의 명도 L*은, 3.65이며, 4.5 이하의 범위에 들어 있다.
실시예 6-3의 380~780㎚ 평균 정반사율은, 0.006%이며, 0.02% 이하의 범위에 들어 있다.
실시예 6-3의 380~780㎚ 평균 광학 농도는, 4 이상이며, 4.0 이상의 범위에 들어 있다.
실시예 6-1~6-2, 실시예 2-1 및 실시예 6-3은, 기재(2)의 표면 거칠기가 0.4㎛ 이상 1.0㎛ 이하의 범위 내에서 각각 상이하지만, 모두 명도 L*, 380~780㎚ 평균 정반사율 및 380~780㎚ 평균 광학 농도에 있어서, 요철 기재와 관련된 바람직한 범위가 되어, 새까만 차광 부재(1)로 되어 있다.
[실시예 7]
소형화가 진행되는 카메라 모듈에서는, 차광 필름도 얇아지고 있기 때문에, 광학 다층막(4)을 성막하는 경우에는, 광학 다층막(4)의 응력에 의한 필름 기재의 휨이, 판상의 기재의 경우에 비해 발생하기 쉽다. 광학 부재(1)에 있어서의 휨의 발생에 의해, 광학 부재(1)에 있어서의 원하는 기능의 발휘가 억제되거나, 광학 부재(1)가 카메라 모듈에 수납되지 않는 경우가 있다. 즉, 필름 기재(박형 기재)의 차광 부재(1)에 있어서의 휨의 억제가 요구되는 경우가 있다.
따라서, 실시예 7에서는, 두께 25㎛의 흑색 요철 기재인 필름의 편면에 대하여 광학 다층막(4)을 형성한 후, 가로세로 30㎜로 절단한 것(실시예 7-1~7-3)에 있어서의 휨의 발생을 조사할 수 있었다. 또한, 실시예 7의 각 기재의 표면 거칠기는, 0.6㎛이며, 성막 전의 각 기재의 명도 L*은, 19.3이며, 성막 전의 각 기재의 380~780㎚ 평균 정반사율은, 0.06%이며, 성막 전의 각 기재의 평균 광학 농도는, 4 이상이다.
도 2는, 차광 부재(1)의 휨에 대한 모식도이다. 광학 다층막(4)(각 층)의 재질에 의해, 광학 다층막(4)에 있어서 응력이 발생하여, 비교적 크고 두꺼운 기재(2)에서는 응력에 견디어 휨이 발생하지 않지만, 비교적 작고 얇은 기재(2)에서는 광학 다층막(4)의 응력이 기재(2)를 젖힐 수 있다. 차광 부재(1)와 관련된 광학 다층막(4)에서는, 실시예 7을 포함하는 대부분의 경우, 응력이 발생하여, 광학 다층막(4)(성막면(M))측으로 볼록해지는 휨이 생길 수 있다. 응력의 크기는, 응력을 가지는 재질의 사용량과 대략 비례 관계에 있다. 휨의 정도는, 실시예 7의 차광 부재(1)를, 수평인 시험대(T)에, 광학 다층막(4)측을 아래로 하여 정치하였을 때의, 시험대(T)로부터의 최대의 높이인 최대 휨량(H)에 의해 측정된다.
또한, 실시예 7의 명도 L*, 380~780㎚ 평균 정반사율 및 380~780㎚ 평균 광학 농도가, 실시예 1와 마찬가지로 측정되었다.
이들의 층 구조 등이, 상기의 [표 1]과 마찬가지로, 다음의 [표 15]에 있어서 나타난다.
실시예 7-1의 광학 다층막(4)의 층수는, 7로서, 4 이상의 범위에 들어 있다.
실시예 7-1의 광학 다층막(4)의 총 물리막 두께는, 297㎚로서, 400㎚ 이하의 범위에 들어 있다.
실시예 7-1의 최표층(10)은, L7(SiO2층)이며, 그 물리막 두께는, 75㎚로서, 62㎚ 이상 91㎚ 이하의 범위에 들어 있다.
실시예 7-1의 L3은, SiO2층이며, 그 물리막 두께는, 41㎚로서, 26㎚ 이상 85㎚ 이하의 범위에 들어 있기 때문에, 실시예 7-1의 L3은, 차최표층(12)이다.
실시예 7-1의 표층측 광흡수층(14)은, L5(Si+Nb층)이며, 표층측 광흡수 두께(C)는, 8㎚로서, 6㎚ 이상 17㎚ 이하의 범위에 들어 있다. Si+Nb층의 성막은, 전술한 바와 같으며, 실시예 7에 있어서 마찬가지이다.
실시예 7-1의 기재측 광흡수층(16)은, L1(Si+Nb층)이며, 기재측 광흡수 두께(D)는, 155㎚로서, 60㎚ 이상의 범위에 들어 있다.
실시예 7-1의 특정 표층 두께(E)는, 전체 물리막 두께와 동일한 297㎚이며, 실시예 7-1의 특정 비율(F)은, (8+155)/297≒0.55(55%)가 되어, 34% 이상으로 되어 있다.
실시예 7-1의 명도 L*은, 3.40이며, 4.5 이하의 범위에 들어 있다.
실시예 7-1의 380~780㎚ 평균 정반사율은, 0.007%이며, 0.02% 이하의 범위에 들어 있다.
실시예 7-1의 380~780㎚ 평균 광학 농도는, 4 이상이며, 4.0 이상의 범위에 들어 있다.
실시예 7-1은, 고광학 농도 및 저반사율의 양면에 있어서, 우수한 흑색도를 가지는 것이다.
실시예 7-1의 최대 휨량(H)은, 2.0㎜이며, 비교적 작다.
실시예 7-2의 광학 다층막(4)의 층수는, 7로서, 4 이상의 범위에 들어 있다.
실시예 7-2의 광학 다층막(4)의 총 물리막 두께는, 400㎚로서, 400㎚ 이하의 범위에 들어 있다.
실시예 7-2의 최표층(10)은, L7(SiO2층)이며, 그 물리막 두께는, 75㎚로서, 62㎚ 이상 91㎚ 이하의 범위에 들어 있다.
실시예 7-2의 L3은, SiO2층이며, 그 물리막 두께는, 41㎚로서, 26㎚ 이상 85㎚ 이하의 범위에 들어 있기 때문에, 실시예 7-2의 L3은, 차최표층(12)이다.
실시예 7-2의 표층측 광흡수층(14)은, L5(Si+Nb층)이며, 표층측 광흡수 두께(C)는, 8㎚로서, 6㎚ 이상 17㎚ 이하의 범위에 들어 있다.
실시예 7-2의 기재측 광흡수층(16)은, L1(Si+Nb층)이며, 기재측 광흡수 두께(D)는, 258㎚로서, 60㎚ 이상의 범위에 들어 있다.
실시예 7-2의 특정 표층 두께(E)는, 전체 물리막 두께와 동일한 400㎚로서, 실시예 7-2의 특정 비율(F)은, (8+258)/400≒0.67(67%)이 되어, 34% 이상으로 되어 있다.
실시예 7-2의 명도 L*은, 2.97이며, 4.5 이하의 범위에 들어 있다.
실시예 7-2의 380~780㎚ 평균 정반사율은, 0.006%이며, 0.02% 이하의 범위에 들어 있다.
실시예 7-2의 380~780㎚ 평균 광학 농도는, 4 이상이며, 4.0 이상의 범위에 들어 있다.
실시예 7-2은, 고광학 농도 및 저반사율의 양면에 있어서, 우수한 흑색도를 가지는 것이다.
실시예 7-2의 최대 휨량(H)은, 2.5㎜이며, 비교적 작다.
실시예 7-3의 광학 다층막(4)의 층수는, 7로서, 4 이상의 범위에 들어 있다.
실시예 7-3의 광학 다층막(4)의 총 물리막 두께는, 500㎚로서, 400㎚ 이하의 범위에 들어 있지 「않다」. 또한, 청구항 1에 종속하는 청구항 2에 있어서, 광학 다층막(4)의 총 물리막 두께가 400㎚ 이하인 사항이, 특정된다.
실시예 7-3의 최표층(10)은, L7(SiO2층)이며, 그 물리막 두께는, 75㎚로서, 62㎚ 이상 91㎚ 이하의 범위에 들어 있다.
실시예 7-3의 L3은, SiO2층이며, 그 물리막 두께는, 41㎚로서, 26㎚ 이상 85㎚ 이하의 범위에 들어 있기 때문에, 실시예 7-3의 L3은, 차최표층(12)이다.
실시예 7-3의 표층측 광흡수층(14)은, L5(Si+Nb층)이며, 표층측 광흡수 두께(C)는, 8㎚로서, 6㎚ 이상 17㎚ 이하의 범위에 들어 있다.
실시예 7-3의 기재측 광흡수층(16)은, L1(Si+Nb층)이며, 기재측 광흡수 두께(D)는, 358㎚로서, 60㎚ 이상의 범위에 들어 있다.
실시예 7-3의 특정 표층 두께(E)는, 전체 물리막 두께와 동일한 500㎚이며, 실시예 7-3의 특정 비율(F)은, (8+358)/500≒0.73(73%)이 되어, 34% 이상으로 되어 있다.
실시예 7-3의 명도 L*은, 2.73이며, 4.5 이하의 범위에 들어 있다.
실시예 7-3의 380~780㎚ 평균 정반사율은, 0.005%이며, 0.02% 이하의 범위에 들어 있다.
실시예 7-3의 380~780㎚ 평균 광학 농도는, 4 이상이며, 4.0 이상의 범위에 들어 있다.
실시예 7-3은, 고광학 농도 및 저반사율의 양면에 있어서, 우수한 흑색도를 가지는 것이다.
실시예 7-3의 최대 휨량(H)은, 3.5㎜이며, 비교적 크다. 휨의 정도를 억제하는 관점에서, 광학 다층막(4)의 총 물리막 두께는, 가로세로 30㎜로 두께 25㎛의 기재에 있어서 최대 휨량(H)이 2.5㎜ 이하가 되는, 400㎚ 이하인 것이 바람직하다.
1‥차광 부재, 2‥기재, 4‥광학 다층막, 6‥광흡수층, 8‥유전체층, 10‥최표층, 12‥차최표층, 14‥표층측 광흡수층, 16‥기재측 광흡수층, 18‥기재측 최대 두께 광흡수층, C‥표층측 광흡수 두께, D‥기재측 광흡수 두께, E‥특정 표층 두께, M‥성막면.
Claims (11)
- 기재와,
상기 기재의 1 이상의 면인 성막면에 배치되는 광학 다층막을 구비하고 있으며,
상기 광학 다층막은, 가시광을 흡수하는 광흡수층과 유전체제의 층인 유전체층이, 4층 이상으로 배치된 것이며,
상기 기재로부터 가장 먼 층인 최표층은, 상기 유전체층이며,
상기 최표층의 물리막 두께는, 62㎚ 이상 91㎚ 이하이며,
물리막 두께가 26㎚ 이상 85㎚ 이하인 상기 유전체층으로서 상기 최표층에 가장 가까운 것인 차최표층과, 상기 최표층과의 사이에 배치된, 1 이상의 상기 광흡수층의 물리막 두께의 합계인 표층측 광흡수 두께는, 6㎚ 이상 17㎚ 이하이며,
상기 차최표층과 상기 기재와의 사이에 배치된, 1 이상의 상기 광흡수층의 물리막 두께의 합계인 기재측 광흡수 두께는, 60㎚ 이상이며,
상기 차최표층과 상기 기재와의 사이에 배치된 상기 광흡수층 중 가장 물리막 두께가 큰 층인 기재측 최대 두께 광흡수층에서부터, 상기 최표층까지의 물리막 두께의 합계인 특정 표층 두께를 나누는 수로 하고, 상기 표층측 광흡수 두께와 상기 기재측 광흡수 두께와의 합을 나뉘는 수로 한 경우의 몫인 특정 비율은, 0.34 이상인 것을 특징으로 하는 차광 부재. - 제 1 항에 있어서,
상기 광학 다층막의 총 물리막 두께는, 400㎚ 이하인 것을 특징으로 하는 차광 부재. - 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
상기 성막면은, 요철을 가지고 있으며,
상기 성막면의 표면 거칠기는, 1.0㎛ 이하인 것을 특징으로 하는 차광 부재. - 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 기재는, 흑색으로 착색되어 있는 것을 특징으로 하는 차광 부재. - 제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 광흡수층은, 금속 혹은 금속의 불포화 산화물을 포함하고 있는 것을 특징으로 하는 차광 부재. - 제 5 항에 있어서,
상기 광흡수층의 주성분은, Nb, Ti, Ni, Ge, Al, Si 및 Cr, 및 이들의 각 불포화 산화물 중 적어도 어느 것인 것을 특징으로 하는 차광 부재. - 제 1 항 내지 제 6 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 유전체층은, 금속 화합물을 포함하고 있는 것을 특징으로 하는 차광 부재. - 제 7 항에 있어서,
상기 유전체층의 주성분은, SiO2, MgF2, Nb2O5, TiO2, Al2O3, ZrO2, Ta2O5, Si3N4, SiNyOz 중 적어도 어느 것인 것을 특징으로 하는 차광 부재. - 제 1 항 내지 제 8 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 최표층의 주성분은, SiO2 및 MgF2 중 적어도 일방인 것을 특징으로 하는 차광 부재. - 기재와,
상기 기재의 1 이상의 면인 성막면에 배치되는 광학 다층막을 구비하고 있으며,
상기 성막면은, 요철을 가지고 있으며,
입사각이 0° 이상 8° 이하의 광에 대한 380㎚ 이상 780㎚ 이하의 파장 영역에 있어서의 평균 광학 농도가, 4.0 이상이며,
입사각이 0° 이상 8° 이하의 광에 대한 380㎚ 이상 780㎚ 이하의 파장 영역에 있어서의 평균 정반사율이, 0.02% 이하이며,
L*a*b* 표색계 측정(JISZ8729)에 있어서의 명도 L*이, 4.5 이하인 것을 특징으로 하는 차광 부재. - 투명한 기재와,
상기 기재의 1 이상의 면인 성막면에 배치되는 광학 다층막을 구비하고 있으며,
상기 성막면은, 경면이며,
입사각이 0° 이상 8° 이하의 광에 대한 400㎚ 이상 700㎚ 이하의 파장 영역에 있어서의 평균 정반사율이, 0.450% 이하이며,
입사각이 0° 이상 8° 이하의 광에 대한 380㎚ 이상 780㎚ 이하의 파장 영역에 있어서의 평균 정반사율이, 0.660% 이하이며,
입사각이 0° 이상 8° 이하의 광에 대한 380㎚ 이상 780㎚ 이하의 파장 영역에 있어서의 평균 광학 농도가, 2.1 이상인 것을 특징으로 하는 차광 부재.
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