KR20220124068A - 열처리장치 - Google Patents

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KR20220124068A
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conveying
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준지 나카타니
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제이텍트 써모 시스템 코퍼레이션
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Abstract

[과제]
피처리물을 열처리로내로 반송하여 지지재에 지지될 때 피처리부재에 열충격이 발생하지 않는 열처리장치를 제공한다.
[해결수단]
본 발명의 열처리 장치는, 열처리공간을 형성하는 열처리로와, 상기 열처리공간 내에 설치되는 지지재와, 상기 열처리공간 외부으로부터 열처리공간내에 상기 피처리물을 반송한 후에 상기 피처리물을 상기 지지재에 지지시키는 반송장치와, 상기 반송장치에 의해 상기 열처리장치내에 반송된 상기 피처리물의 온도를 감지하는 온도감지장치를 구비한다. 상기 반송장치는 상기 온도감지장치에 의해 감지된 온도에 기초하여 상기 반송장치에 의해 상기 열처리장치내에 반송된 상기 피처리물을 상기 지지재에 지지시키는 타이밍을 결정한다.

Description

열처리장치{HEAT TREATMENT APPARATUS}
본 발명은 반송용 로드에 의해 열처리로에 피처리물을 반입 및 반출하는 기구를 구비한 열처리장치에 관한 것이다.
열처리로에 피처리물을 반입하여 열처리를 수행하는 열처리장치에서는 열처리로 외부로부터 피처리물을 반송하고, 열처리로 내의 지지재로 피처리물을 지지하고 나서 열처리를 수행한다.
예를 들어 특허문헌 1에서는 노체의 피처리물 반입용 반입반출구(개구부)에 셔터를 개재하여 준비실(40)이 설치되어 있다. 피처리물은 준비실(40) 내의 지지기구로 지지되고 나서 암에 의해 노체내에 반송된다. 그리고, 피처리물은 노체내에서 지지재에 전달된다. 이와 같은 준비실을 설치하면 열처리장치의 구조를 간단하고 편리하게 할 수 있고 또한 소형화할 수 있는 이점이 있다.
또한, 특허문헌 2에 개시된 구조는 열처리로 외부로부터 피처리물을 반송하고, 열처리용기 내에서 피처리기판을 처리대 위에 하강시켜 탑재한다. 이때 피처리물이 저온이기 때문에 처리대와 기판의 온도차가 작아지도록 충분한 하강시간을 확보한다. 이와 같이 하여 처리대와 기판의 온도차를 없애 처리대 위에 퇴적한 막의 박리를 줄인다.
[특허문헌 1] 특개2017-117850호 공보 [특허문헌 2] 특개2001-250782호 공보
그러나, 상기한 열처리장치는 모두 열처리로 내에 반송된 피처리부재를 노내의 지지재로 지지할 때에 열충격이 발생할 가능성이 있다.
예를 들어 특허문헌 1에 기재된 열처리장치에서는 피처리물을 노내에서 지지할 때에 지지재와 피처리물의 온도차에 대하여 고려되하지 않았다. 이 때문에 양자의 온도차가 크면 지지부재와 피처리물이 접촉하였을 때에 열충격이 발생할 가능성이 있다.
또한, 특허문헌 2에 기재된 열처리장치에서는 열처리용기 내에서 피처리기판을 처리대 위에 하강시켜 탑재할 때에 처리대와 기판의 온도차가 작아지도록 충분한 하강시간을 확보하지만, 피처리기판을 열처리용기 내에서 지지하는 리프트핀(14)이 이미 가열되어 있다고 생각된다. 이 때문에 리프트핀(14)으로 피처리물을 탑재할 때의 리프트핀(14)의 선단부와 피처리물 사이의 온도차가 커져서 이 부분에 열충격이 발생한다.
이와 같이 종래의 열처리장치에서는 피처리물이 외부로부터 반송되어 열처리로내의 지지재로 지지되면 노내의 고온상태로 되어 있지 않은 피처리물을 고온의 지지재로 지지하게 되어 피처리물에 열 데미지가 발생한다. 그 결과, 피처리물에 크랙이 발생하거나 또는 파괴(균열)가 발생한다.
본 발명의 목적은, 피처리물을 열처리로 내에 반송하여 지지재에 지지할 때 피처리부재에 열충격이 발생하지 않는 열처리장치를 제공하는데 있다.
본 발명의 열처리장치는,
열처리공간을 형성하고, 상기 열처리공간 내의 피처리물에 가열처리를 실시하는 열처리로와,
상기 열처리공간 내에 설치되는 지지재와,
상기 열처리공간 외부로부터 상기 열처리공간 내에 상기 피처리물을 반송한 후에 상기 피처리물을 상기 지지재에 지지시키는 반송장치를 구비한다.
또한, 상기 반송장치에 의해 상기 열처리장치 내에 반송된 상기 피처리물의 온도를 감지하는 온도감지장치를 구비하고,
상기 반송장치는 상기 온도감지장치에 의해 감지된 온도에 기초하여 상기 반송장치에 의해 상기 열처리장치 내에 반송된 상기 피처리물을 상기 지지재에 지지시키는 타이밍을 결정한다.
또한, 본 발명에 있어서, 피처리물이란 열처리를 수행하는 목적물의 워크를 의미하는데, 워크를 지지하는 트레이도 포함하는 개념이다(이하 동일함).
피처리물은 열처리공간 밖으로부터 열처리공간 내에 반송된 후에 열처리공간내에 설치된 지지재에 지지된다. 그리고, 이 지지되는 타이밍이 조정된다. 즉, 온도감지장치에 의해 열처리장치 내에 반송된 피처리물의 온도에 기초하여 상기 타이밍이 조정된다.
이와 같이 제어함으로써, 열처리장치 내에 반송된 피처리물의 온도가 열처리공간 내에서 가열되고 나서 지지재로 지지되도록 할 수 있다. 그러면, 피처리물이 지지재로 지지되었을 때의 양자의 온도차가 높아지지 않아 피처리물에 대한 열충격이 발생하지 않는다.
반송장치는 온도감지장치에 의해 감지된 온도가 손상온도보다 높아진 경우에 반송장치에 의해 열처리장치내에 반송된 피처리물을 지지재에 지지시킨다. 손상온도란 열충격에 의해 피처리물이 크랙을 일으키거나 갈라지는 온도이다, 즉, 피처리물이 지지재에 지지되었을 때 피처리물의 온도와 지지부재의 온도차에 기인하는 열충격에 의해 상기 피처리물이 손상되는 온도이다.
또한, 온도감지장치는 피처리물에 접촉하지 않고 피처리물의 온도를 감지한다. 이와 같은 온도감지장치로서는 방사온도계가 일반적이다.
본 발명에 따르면, 피처리물이 열처리로 내에 반송되어 지지재에 지지될 때 피처리물이 일정한 고온이 되고 나서 지지되도록 하였기 때문에 피처리물이 열충격에 의해 손상되는 것을 방지할 수 있다.
도 1(A), 도 1(B)는 본 발명의 실시형태에 따른 열처리장치의 개략구성을 도시한 측면도이다.
도 2는 반송용 로드의 전단부(제1 단부)의 평면도이다.
도 3(A)는 측면도이고, 도 3(B)는 반송용 로드의 전단부(제1 단부)의 평면도이고, 도 3(C)는 단면도이고, 도 3(D)는 외관사시도이다.
도 4는 열처리 공간의 z방향에서 피처리물, 지지대의 위치 관계를 나타내는 도면이다.
도 5(A), 도 5(B)는 반송용 로드 및 지지부재의 거동을 도시한 도면이다.
도 6은 반송실의 전벽에 형성된 개구와 반송용 로드를 도시한 도면이다.
도 7(A), 도 7(B)는 전환장치의 일구성예를 도시한 도면이다.
도 8(A), 도 8(B), 도 8(C), 도 8(D), 도 8(E)는 열처리장치의 외부로부터 피처리물을 투입하여 열처리를 수행하기까지의 공정을 도시한 도면이다.
도 9(A), 도 9(B), 도 9(C), 도 9(D)는 피처리물의 열처리후부터 피처리물을 열처리장치의 외부에 꺼내기까지의 공정을 도시한 도면이다.
도 10은 전체의 동작을 나타내는 흐름도이다.
도 11(A), 도 11(B)는 지지부재의 다른 일례를 개념적으로 도시한 도면이다.
도 12는 반송용 로드의 파생예의 구성을 도시한 부분적인 평면도이다.
도 13는 반송용 로드를 회전시키는 파생예의 구성을 도시한 도면이다.
도 14은 반송용 로드를 회전시키는 다른 파생예의 부분적인 구성을 도시한 도면이다.
본 발명의 실시형태에 따른 열처리장치에 대하여 도면을 참조하여 설명한다. 도 1(A), 도 1(B)는 본 발명의 실시형태에 따른 열처리장치의 개략구성을 도시한 측면도이다. 도 1(A), 도 1(B)에서는 반송실 및 열처리로에 대한 단면도를 도시하고 있다. 또한 도 1(A)는 피처리물이 반송실내에 있는 경우를 나타내고, 도 1(B)는 피처리물이 열처리로내에 있는 경우를 나타낸다. 도 2는 반송용 로드의 전단부(제1 단부)의 평면도이다. 도 3(A)는 측면도이고, 도 3(B)는 반송용 로드의 전단부(제1 단부)의 평면도이고, 도 3(C)는 단면도이고, 도 3(D)는 외관사시도이다. 도 4는 열처리 공간의 z방향에서 피처리물, 지지대의 위치 관계를 나타내는 도면이다.
이하, 높이방향을 z방향, 반송용 로드의 이동방향을 x방향, x방향에 직교하는 방향을 y방향으로서 설명한다.
(열처리장치(10)의 전체 구성)
도 1(A), 도 1(B), 도 2에 도시된 바와 같이 열처리장치(10)는 열처리로(20), 반송실(30), 반송용 로드(41), 반송용 로드(42), 반송장치(50) 및 전환장치(60)를 구비한다.
열처리로(20)와 반송실(30)은 일방향(도 1(A), 도 1(B)에 있어서의 x방향)을 따라 나란히 배치되어 있다. 열처리로(20)와 반송실(30)은 접속되어 있다.
열처리로(20)는 피처리물에 대하여 가열처리를 수행하는 열처리공간(내부공간)(200)을 갖는다. 열처리로(20)는 열처리공간(200)의 분위기를 유지할 수 있는 방으로 구성되어 있다. 열처리로(20)는 상부의 벽구조체에 가스도입부(도시생략)가 설치되고, 가스도입부로부터 소정의 분위기가스(열처리가스)가 열처리공간(200)내에 유도된다.
열처리공간(200)에는 피처리물(WK)을 지지하기 위한 지지재(230 - 233) 및 열원(240)이 배치되어 있다. 지지재(230 - 233)는 전체적으로 막대형상이며 선단이 가는 세라믹스로 구성되고, z방향으로 연장되도록 열처리공간(200)내에 도시하지 않은 홀딩부재로 홀딩되어 있다. 도 4에 도시된 바와 같이 4개의 지지재(230 - 233)는 x방향으로 2개가 배열되고, 또한 y방향으로 2개가 배열되도록 배치되어 있다. 지지재(230 - 233)의 선단 위치는 반송용 로드(41) 및 반송용 로드(42)의 상단보다 높은 위치에 있다.
열원(240)은 열처리공간(200)의 상측의 벽에 근접한 위치 및 하측의 벽에 근접한 위치에 각각 배치되어 있다. 그뿐만 아니라 열원(240)은 열처리공간(200)의 측방에 배치되어 있어도 된다. 열원(240)은 지지재(230 - 233)로 지지된 피처리물(WK)을 균일가열할 수 있는 것이면 된다.
열처리로(20)를 구성하는 벽에 있어서의 1개의 측벽(전벽(21))에는 개구(201)가 형성되어 있다. 개구(201)는 전벽(21)을 관통하고 있다. 이 개구(201)를 통하여 열처리로(20)의 열처리공간(200)은 반송실(30)의 반송공간(내부공간)(300)에 이어져 있다.
열처리로(20)를 구성하는 다른 벽(상벽)에는 그 중앙부에 홀이 형성되어 있다. 또한 다른 벽(상벽)에 근접한 위치에 설치되어 있는 열원(240)에도 상기 홀에 대응하는 위치에 다른 홀이 형성되어 있다. 이 2개의 홀에는 창부를 통하여 온도감지장치로서 방사온도계(250)가 배치되어 있다. 후술하는 바와 같이 방사온도계(250)는 열처리로내에 반송된 피처리물(WK)의 온도를 검출한다. 창부는 방사온도계(250)로 방사하는 파장(수μ 내지 10μ 이하)을 흡수하지 않는 특성의 창유리로 구성하는 것이 가능하다.
반송실(30)은 반송공간(300)을 갖는다. 반송실(30)을 구성하는 벽에 있어서의 1개의 측벽(전벽(31))에는 개구(301) 및 개구(302)(도 5 참조)가 형성되어 있다. 개구(301, 302)는 전벽(31)을 관통하고 있다. 이들 개구(301, 302)에 의해 반송용 로드(41) 및 반송용 로드(42)가 전진과 후퇴를 할 수 있다.
반송실(30)은 차열벽(32)이 배치되어 있다. 차열벽(32)은 반송실(30)에 있어서의 열처리로(20)측 단부의 근방에 배치되어 있다. 차열벽(32)은 가동식이고, 반송공간(300)에 있어서의 개구(201)로 이어지는 측의 공간과 개구(301)로 이어지는 측의 공간의 차단, 연통이 전환된다.
반송용 로드(41)와 반송용 로드(42)는 일방향으로 연장되는 막대형상(본원에서는 원기둥형상)이다. 반송용 로드(41)와 반송용 로드(42)의 재질은 부식하기 어려운 스테인리스강(SUS)으로 구성되어 있다.
반송용 로드(41)와 반송용 로드(42)가 연장되는 방향은 열처리로(20)와 반송실(30)이 배열되는 방향에 평행하다. 반송용 로드(41)와 반송용 로드(42)는 소정의 거리를 두고 평행하게 배치되어 있다. 반송용 로드(41)와 반송용 로드(42)가 배열되는 방향은 x방향 및 z방향에 직교하는 방향(도 1(A), 도 1(B)에 있어서의 y방향)이다. 반송용 로드(41)와 반송용 로드(42)의 거리(Ws)(도 2 참조)는 후술하는 지지부재(412) 및 지지부재(422)의 길이도 고려하여 지지재(230 - 233)의 y방향의 치수보다 크다.
반송용 로드(41)와 반송용 로드(42)는 반송실(30)의 전벽(31)에 형성된 제2 개구를 삽입통과하고 있다. 반송용 로드(41)가 연장되는 방향의 제1 단부(4111)와 반송용 로드(42)가 연장되는 방향의 제1 단부(4211)(도 2 참조)는 반송실(30) 내측에 배치되고, 반송용 로드(41)가 연장되는 방향의 제2 단부(4112)와 반송용 로드(42)가 연장되는 방향의 제2 단부(4212)(도 6 참조)는 반송실(30)의 외부에 배치된다.
후술하는 바와 같이 반송용 로드(41)와 반송용 로드(42)는 각각 45도 회전한다. 0도인 때를 로드상태 A, 45도 회전한 때를 로드상태 B라고 칭한다. 자세한 사항은 후술하는 바와 같이 반송용 로드(41)와 반송용 로드(42)는 이하의 공정을 반복한다.
반송용 로드(41)와 반송용 로드(42)는,
(공정 1) 반송실(30)내에서 로드상태 B로 피처리물을 상방으로부터 받는다. 피처리물(WK)이 세트된다.
(공정 2) 로드상태 B로 전진하여 제1 단부(4111, 4211)를 열처리로(20)내로 이동시킨다.
(공정 3) 피처리물(WK)의 온도가 소정 온도로 상승하면 로드상태 A로 한다. 이때 피처리물(WK)은 4개의 지지재(230 - 233)상에 놓여 지지된다. 피처리물(WK)에 대한 열처리가 수행된다.
(공정 4) 로드상태 A로 후퇴하여 제1 단부(4111, 4211)가 반송실(30)내로 이동한다.
(공정 5) 피처리물(WK)에 대한 열처리가 끝나면 로드상태 A로 전진하여 제1 단부(4111, 4211)를 열처리로(20)내로 이동시킨다.
(공정 6) 로드상태 B로 한다. 이때 피처리물(WK)을 지지재(230 - 233)에서 받아 지지한다.
(공정 7) 로드상태 B로 후퇴하여 제1 단부(4111, 4211)가 반송실(30)내로 이동한다.
(공정 8) 로드상태 B로 피처리물(WK)을 외부에 꺼낸다.
x방향에 있어서의 반송용 로드(41)가 연장되는 방향의 제1 단부(4111)와 반송용 로드(42)가 연장되는 방향의 제1 단부(4211)의 위치는 동일하고, 반송용 로드(41)가 연장되는 방향의 제2 단부(4112)와 반송용 로드(42)가 연장되는 방향의 제2 단부(4212)는 동일하다.
반송장치(50)는 반송실(30)을 기준으로 하여 열처리로(20)가 접속하는 측과 반대측에 배치되어 있다. 즉, 반송장치(50)는 반송실(30) 및 열처리로(20)의 외측에 배치되어 있다. 반송장치(50)는 로드유지부재(51)를 통하여 반송용 로드(41)와 반송용 로드(42)에 접속한다. 반송용 로드(41)와 반송용 로드(42)는 각각의 측면을 따르는 방향으로 회전 가능한 상태(로드상태 A와 로드상태 B)로 로드유지부재(51)에 홀딩되어 있다.
반송장치(50)는 전후방향인 x방향을 따라 이동한다. 이 반송장치(50)의 이동에 의해 반송용 로드(41)와 반송용 로드(42)도 전후방향인 x방향을 따라 이동한다. 이에 의해 도 1(A)에 도시된 바와 같이 반송장치(50)가 이동범위의 제1 단부에 있을 때 반송용 로드(41)의 제1 단부(4111)의 부분과 반송용 로드(42)의 제1 단부(4211)의 부분은 반송실(30)의 반송공간(300)에 배치된다. 한편, 도 1(B)에 도시된 바와 같이 반송장치(50)가 이동범위의 제2 단부에 있을 때 반송용 로드(42)의 제1 단부(4211)의 부분과 반송용 로드(42)의 제1 단부(4211)의 부분은 열처리로(20)의 열처리공간(200)에 배치된다.
반송장치(50)는 열처리로(20)의 외측이며 또한 떨어진 위치에 배치되어 있다. 이 때문에 반송장치(50)는 열대책할 필요는 없다. 반송장치(50)는 저렴한 보급품으로 구성하는 것이 가능하다.
이상과 같이 열처리장치(10)는 반송실(30)에 있어서 반송용 로드(41)의 제1 단부(4111)의 부분 및 반송용 로드(42)의 제1 단부(4211)의 부분에 재치된 피처리물(WK)이 개구(201)를 통하여 열처리로(20)내에 반입된다(도 1(A)→도 1(B)). 열처리로(20)내에 반입된 피처리물(WK)은 그 온도가 낮지만 열처리로(20)내에서 소정 온도로 상승하였을 때에 로드상태 B→로드상태 A가 되어 지지재(230 - 233)로 지지된다. 이때 피처리물(WK)의 온도는 충분히 가열되어 있기 때문에 지지재(230 - 233)로 지지되었을 때에 피처리물(WK)에 대한 열충격은 일어나지 않는다.
피처리물(WK)에 대한 열충격은 피처리물(WK)의 재료의 대열충격 온도특성에 의존한다. 대열충격 온도특성은 급격한 온도변화에 견딜 수 있는 온도특성이다. 예를 들어 세라믹스 중의 알루미나의 대열충격온도는 200℃ 정도이다.
그래서 피처리물(WK)을 지지재(230 - 233)로 지지하였을 때의 피처리물(WK)과 지지재(230 - 233)의 온도차가 대열충격온도 이내가 되도록 제어한다. 예를 들어 피처리물(WK)의 피지지점 부근이 알루미나인 경우, 상기 온도차가 200℃ 이내가 될 때까지 피처리물(WK)을 가열한다. 열제어의 구체예는 이하와 같다.
열처리로(20)내의 온도가 1300℃로 유지되어 있다고 한다. 피처리물(WK)이 열처리로(20)내에 반입되기 직전에서는 피처리물(WK)의 온도는 상온이다. 피처리물(WK)이 열처리로(20)내에 반입되면 피처리물(WK)이 가열된다. 이때 피처리물(WK)은 로드상태 B에서 반송용 로드(41, 42)로 지지되어 있기 때문에 피처리물(WK)에 대한 열충격은 없다. 피처리물(WK)의 온도가 1100℃ 이상으로 상승하면 반송용 로드(41, 42)를 로드상태 A로 한다. 이때 피처리물(WK)은 지지재(230 - 233)로 지지되지만 양자의 온도차는 200℃ 이하로 되어 있다. 따라서 피처리물(WK)에 대하여 열충격은 일어나지 않는다. 본 발명의 손상온도란 본 예에서는 양자의 온도차가 200℃ 이상이 되는 1100℃ 이하이다.
또한, 지지재(230 - 233)는 선단부만을 별도의 부재로 구성하여도 된다. 이와 같이 하면 선단부가 파손되어도 교환이 용이하다. 또한 피처리물(WK)의 특성에 따라 선단부를 변경하는 것도 가능하다. 선단부는 예를 들어 나사구조에 의해 본체부에 부착하도록 하면 된다.
다음에 전환장치(60)와 반송용 로드(41, 42)에 대하여 설명한다.
전환장치(60)는 반송용 로드(41)의 제2 단부(4112) 및 반송용 로드(42)의 제2 단부(4212)에 접속한다. 전환장치(60)는 반송용 로드(41) 및 반송용 로드(42)를 각각의 측면을 따른 방향으로 회전시켜 로드상태 A와 로드상태 B 중 어느 하나의 상태로 홀딩하는 회전보조기구를 구비한다.
반송용 로드(41)에는 피처리물(WK)을 지지하기 위한 지지부재(412)가 배치되고, 반송용 로드(42)에는 지지부재(422)가 배치된다.
도 2에 도시된 바와 같이 지지부재(412)는 2개이고, 2개의 지지부재(412)는 반송용 로드(41)의 제1 단부(4111)의 근방(반송용 로드(41)의 제1 단부(4111)의 부분)에 접속하고 있다. 2개의 지지부재(412)는 반송용 로드(41)가 연장되는 방향에 있어서 간격(LS412)으로 배치되어 있다. 이 간격(LS412)은 반송시에 지지하는 피처리물(WK)의 x방향을 따른 크기 또는 피처리물(WK)의 크기에 따라 결정되고, 2개의 지지부재(412)가 피처리물(WK)의 이면에 접촉하도록 결정되어 있다.
2개의 지지부재(412)는 반송용 로드(41)의 측면(411)에 접속하고 있다. 2개의 지지부재(412)는 측면(411)으로부터 반송용 로드(42)측에 돌출되어 있다. 2개의 지지부재(412)의 돌출량(L412)은 피처리물(WK)의 높이방향의 이동량에 따라 결정된다.
도 3(A) 내지 도 3(D)에 도시된 바와 같이 2개의 지지부재(412)는 둥근막대이고, 선단에 외주단(413)을 갖는다. 이에 의해 피처리물(WK)을 지지할 때에 외주단(413)이 피처리물(WK)의 이면에 당접한다. 즉, 지지부재(412)는 피처리물(WK)을 점에 의해 지지할 수 있다. 따라서 지지부재(412)는 피처리물(WK)에의 접촉이 최소한으로 억제된다. 이에 의해 예를 들어 피처리물(WK)에 당접한 지지부재(412)를 통하여 방열함으로써 피처리물(WK)에 국소적인 온도차가 발생하여 피처리물(WK)이 뒤틀리는 등의 열의 영향을 억제할 수 있다. 또한 지지부재(412)가 x방향으로 2개 배열되어 있음으로써 피처리물(WK)을 더 안정되게 지지할 수 있다.
도 2에 도시된 바와 같이 지지부재(422)는 2개이고, 2개의 지지부재(422)는 반송용 로드(42)의 제1 단부(4211)의 근방(반송용 로드(42)의 제1 단부(4211)의 부분)에 접속하고 있다. 2개의 지지부재(422)는 반송용 로드(42)가 연장되는 방향에 있어서 간격(LS422)으로 배치되어 있다. 이 간격(LS422)은 반송시에 지지하는 피처리물(WK)의 x방향을 따른 크기에 따라 결정되고, 2개의 지지부재(422)가 피처리물(WK)의 이면에 접촉하도록 결정되어 있다.
2개의 지지부재(422)는 반송용 로드(42)의 측면(421)에 접속하고 있다. 2개의 지지부재(422)는 측면(421)으로부터 반송용 로드(41)측에 돌출되어 있다. 2개의 지지부재(422)의 돌출량(L422)은 피처리물(WK)의 높이방향의 이동량에 따라 결정된다.
도 5(A), 도 5(B)는 반송용 로드 및 지지부재의 거동을 도시한 도면이다. 도 5(A)는 로드상태 B이고, 도 5(B)는 로드상태 A이다.
2개의 지지부재(422)는 2개의 지지부재(412)와 마찬가지로 둥근막대이고, 선단에 외주단(423)(도 5 참조)을 갖는다. 이에 의해 로드상태 B에서는 피처리물(WK)을 지지할 때에 외주단(423)이 피처리물(WK)의 이면에 당접한다. 즉, 지지부재(422)는 피처리물(WK)을 점에 의해 지지할 수 있다. 따라서 지지부재(422)는 피처리물(WK)에의 접촉이 최소한으로 억제된다. 이에 의해 예를 들어 피처리물(WK)에 당접한 지지부재(422)를 통하여 방열함으로써 피처리물(WK)에 국소적인 온도차가 발생하여 피처리물(WK)이 뒤틀리는 등의 열의 영향을 억제할 수 있다.
또한, 지지부재(422)가 x방향으로 2개 배열되어 있음으로써 피처리물(WK)을 안정되게 지지할 수 있다. 여기서 지지부재(412, 422)가 둥근막대인 예를 나타냈지만, 이에 한정하는 것은 아니며 삼각기둥이나 다각기둥의 막대형상체나 선단이 반구형상인 막대형상체 등, 피처리물을 점 접촉으로 지지할 수 있는 것이면 된다.
(반송용 로드(41, 42) 및 지지부재(412, 422)의 거동)
전술한 바와 같이 전환장치(60)에 의해 반송용 로드(41)와 반송용 로드(42)가 회전한다. 이에 의해 지지부재(412) 및 지지부재(422)는 도 5(A)에 도시된 로드상태 B(45도 회전)의 자세와 도 5(B)에 도시된 로드상태 A의 자세를 취할 수 있다.
로드상태 B에서는 지지부재(412)의 선단이 반송용 로드(41)의 상단보다 상측이 되고, 지지부재(422)의 선단이 반송용 로드(42)의 상단보다 상측이 된다. 또한 도 5(A)에 도시된 바와 같이 로드상태 B에서는 지지부재(412) 및 지지부재(422)의 선단으로 지지된 피처리물(WK)은 지지재(230 - 233)의 상단보다 상방에 배치된다.
로드상태 A(0도 회전)는 지지부재(412)의 선단이 반송용 로드(41)의 상단보다 하측이 되고, 지지부재(422)의 선단이 반송용 로드(42)의 상단보다 하측이 되는 양태이다.
따라서, 이 전환을 이용함으로써 반송실(30)에서 로드상태 B로 피처리물(WK)을 지지부재(412) 및 지지부재(422)에 재치하고, 그대로 열처리로(20)내에 반송함으로써 피처리물(WK)은 지지재(230 - 233)의 상방으로 옮겨진다.
피처리물(WK)이 소정의 온도까지 가열되면 로드상태 A로 전환되어, 피처리물(WK)은 지지부재(412) 및 지지부재(422)에 의한 지지로부터 해방되어 지지재(230 - 233)에 지지된다.
피처리물(WK)이 열처리공간(200)내에서 열처리된 후, 로드상태 A에서 반송용 로드(41, 42)를 열처리로(20)내에 삽입하면 반송용 로드(41, 42)는 피처리물(WK)의 하방에 배치된다. 즉, 반송용 로드(41, 42)는 피처리물(WK)에 충돌하는 일 없이 열처리로(20)내에 배치된다.
이 상태에서, 반송용 로드(41, 42)를 45도 회전시켜 로드상태 B로 전환한다. 그러면 피처리물(WK)은 지지재(230 - 233)에 의한 지지에서 지지부재(412) 및 지지부재(422)에 의한 지지로 전환된다. 따라서 피처리물(WK)은 지지재(230 - 233)에서 떠난다. 그리고 이 상태로 반송됨으로써 피처리물(WK)은 열처리로(20)로부터 반송실(30)에 반출된다.
이와 같이 본 실시형태의 구성을 이용함으로써 반송용 로드(41, 42)의 높이방향의 위치를 바꾸는 일 없이 피처리물(WK)을 반송실(30)내로부터 열처리로(20)내에 반송하여 피처리물(WK)을 소정의 온도까지 가열 처리를 한 후에 지지재(230 - 233)에서 지지한다. 그 후 피처리물(WK)에 대한 열처리를 하여 피처리물(WK)을 지지재(230 - 233)에서 들어 올려 열처리로(20)내로부터 반송실(30)내에 반송할 수 있다.
이에 의해 개구(201)의 높이는 반송용 로드(41, 42)의 하단으로부터 피처리물(WK)의 상면까지의 높이 정도이면 된다. 따라서 개구(201)의 개구면적을 작게 할 수 있고, 열처리로(20)의 열이나 충전된 기체가 개구(201)를 통하여 반송실(30)에 누설하는 것을 억제할 수 있다. 즉, 개구(201)의 존재로 인한 열처리로(20)의 온도, 분위기의 변화를 억제할 수 있다. 단, 바람직한 실시예에서는 열처리공간(200)과 반송공간(300)의 분위기가 동일해지도록 냉각가스(P)를 열처리공간(200)내의 가스와 동일한 것으로 한다. 혹은 양자의 주요성분을 동일한 것으로 한다. 이에 의해 차열벽(32)에 의해 개구(201)의 개폐를 반복하여도 열처리공간(200)과 반송공간(300)의 분위기를 동일하게 유지할 수 있다.
또한, 전환장치(60)와 반송장치(50)를 포함하는 구동장치는 열처리로(20)와 반송실(30)의 외측이며 또한 이들로부터 떨어진 위치에 설치된다. 이 때문에 전환장치(60)와 반송장치(50)는 고열 대응의 부품이 아니라 저렴한 범용부품으로 구성 가능하다.
또한, 본 실시형태의 구성을 이용함으로써 반송실(30)의 높이를 낮게 할 수 있다. 이에 의해 반송실(30)의 체적을 작게 할 수 있어 반송실(30)을 위한 기체의 사용량을 삭감할 수 있고 반송실(30)의 분위기의 치환시간도 삭감할 수 있다.
또한, 본 실시형태의 구성을 이용함으로써 개구(301, 302)의 개구면적을 작게 할 수 있다. 도 6은 반송실의 전벽에 형성된 개구와 반송용 로드를 도시한 도면이다.
전술한 바와 같이 열처리장치(10)에서는 반송용 로드(41, 42)는 x방향으로만 이동하고, z방향으로는 이동하지 않는다. 따라서 개구(301, 302)는 반송용 로드(41, 42)가 삽입통과할 만큼의 크기이면 되고, 예를 들어 반송용 로드(41, 42)의 외형(원주면)을 따른 형상이고, 반송용 로드(41, 42)의 외형보다 약간 크면 된다. 예를 들어 개구(301, 302)는 반송용 로드(41, 42)의 단면형상과 같은 형상으로 거의 동일한 치수의 원형의 개구이면 된다.
보다 구체적으로는 개구(301)의 직경(φ301)은 반송용 로드(41)의 직경(φ41)과 거의 동일한 정도이면서 크면 된다. 이때 개구(301)의 직경(φ301)은 반송용 로드(41)의 직경(φ41)에 가까울수록 바람직하다. 또한 개구(301)의 직경(φ301)은 지지부재(412)의 제1 양태에 있어서의 반송용 로드(41)의 하단과 지지부재(412)의 상단의 거리(H41)보다 짧으면 된다.
마찬가지로, 개구(302)의 직경(φ302)은 반송용 로드(42)의 직경(φ42)과 거의 동일한 정도이면서 크면 된다. 이때, 개구(302)의 직경(φ302)은 반송용 로드(42)의 직경(φ42)에 가까울수록 바람직하다. 또한, 개구(302)의 직경(φ302)은 지지부재(422)의 제1 양태에 있어서의 반송용 로드(42)의 하단과 지지부재(422)의 상단의 거리(H42)보다 짧으면 된다.
이와 같은 구성에 의해 개구(301, 302)의 개구면적을 작게 할 수 있다. 이에 의해 반송실(30)과 외부가 개구(301, 302)를 통하여 연통하는 면적을 작게 할 수 있다. 따라서 외부의 온도 및 분위기가 반송실(30)의 내부의 온도 및 분위기에 미치는 영향을 작게 할 수 있다. 나아가서는 반송실(30)을 통하여 열처리로(20)의 내부의 온도 및 분위기에 미치는 영향을 작게 할 수 있다.
또한, 반송용 로드(41, 42)를 회전시키는 전환장치(60)는 예를 들어 도 7(A), 도 7(B)에 도시된 구성에 의해 실현된다. 도 7(A), 도 7(B)는 전환장치의 일구성예를 나타내는 도면이고, 도 7(A)가 도 5(A)의 로드상태 B에 대응하고, 도 7(B)가 도 5(B)의 로드상태 A에 대응한다.
도 7(A), 도 7(B)에 도시된 바와 같이 전환장치(60)는 샤프트(611), 샤프트(621), 슬라이딩판(612), 슬라이딩판(622), 결합판(63), 축부재(601) 및 액추에이터(602)를 구비한다.
샤프트(611)는 반송용 로드(41)로부터 반송용 로드(42)측으로 연장되는 형상이다. 샤프트(611)의 제1 단부는 반송용 로드(41)의 제2 단부(4112)에 고정되어 있다. 샤프트(611)의 제2 단부는 슬라이딩판(612)에 접속한다. 이때 슬라이딩판(612)에는 y방향으로 연장되는 홈(613)이 형성되어 있고, 샤프트(611)의 제2 단부는 해당 제2 단부에 배치된 핀(614)을 홈(613)에 끼워 넣음으로써 슬라이딩판(612)에 대하여 슬라이딩 가능하게 접속된다.
샤프트(621)는 반송용 로드(42)로부터 반송용 로드(41)측으로 연장되는 형상이다. 샤프트(621)의 제1 단부는 반송용 로드(42)의 제2 단부(4212)에 고정되어 있다. 샤프트(621)의 제2 단부는 슬라이딩판(622)에 접속한다. 이때 슬라이딩판(622)에는 y방향으로 연장되는 홈(623)이 형성되어 있고, 샤프트(621)의 제2 단부는 해당 제2 단부에 배치된 핀(624)을 홈(623)에 끼워 넣음으로써 슬라이딩판(622)에 대하여 슬라이딩 가능하게 접속된다.
슬라이딩판(612)과 슬라이딩판(622)은 결합판(63)에 고정되어 있다. 보다 구체적으로는 슬라이딩판(612)은 결합판(63)에 있어서의 y방향의 제1 단부에 고정되고, 슬라이딩판(622)은 결합판(63)에 있어서의 y방향의 제2 단부에 고정되어 있다.
결합판(63)의 y방향의 중심에는 z방향으로 연장되는 축부재(601)의 제1 단부가 접속하고 있다. 축부재(601)의 제2 단부는 액추에이터(602)에 접속하고 있다.
이와 같은 구성에 있어서 액추에이터(602)에 의해 축부재(601)의 길이를 변화시킴으로써 결합판(63), 슬라이딩판(612) 및 슬라이딩판(622)의 z방향의 위치는 변화한다. 이 변화에 수반하여 핀(614)이 홈(613)내를 이동(슬라이딩)하고, 핀(624)이 홈(623)내를 이동(슬라이딩)한다. 그리고 핀(614)의 이동에 수반하여 샤프트(611)가 회동하고, 핀(624)의 이동에 수반하여 샤프트(621)가 회동한다. 이들 샤프트(611, 621)의 회동에 의해 반송용 로드(41, 42)는 회전한다.
이와 같은 구성을 전환장치(60)에 이용함으로써 반송용 로드(41)의 회전과 반송용 로드(42)의 회전을 동기시킬 수 있다. 따라서 피처리물(WK)의 들어올림 등을 안정되게 수행할 수 있다.
또한, 이상의 구성을 구비한 열처리장치(10)는 예를 들어 도 8, 도 9에 도시된 바와 같은 처리를 수행함으로써 피처리물(WK)의 열처리를 수행한다.
도 8(A), 도 8(B), 도 8(C), 도 8(D), 도 8(E)는 열처리장치의 외부로부터 피처리물(WK)을 투입하여 열처리를 수행하기까지의 공정을 도시한 도면이다. 도 9(A), 도 9(B), 도 9(C), 도 9(D)는 피처리물(WK)의 열처리후부터 피처리물(WK)을 열처리장치의 외부에 꺼내기까지의 공정을 도시한 도면이다. 도 10을 도 8, 도 9의 공정을 흐름도로 나타낸 것이다.
우선 도 8(A)에 도시된 바와 같이 반송용 로드(41, 42)의 제1 단부(4111, 4211)가 반송실(30)내에 있는 상태에서 투입구(39)로부터 피처리물(WK)을 투입한다(ST1). 이때 지지부재(412, 422)는 로드상태 B이고, 피처리물(WK)은 지지부재(412, 422)상에 놓여진다. 이 상태에서는 차열벽(32)은 반송실(30)의 반송공간(300)을 반송용 로드(41, 42)가 존재하는 측과 개구(201)에 이어지는 측으로 분리하도록 설치된다. 이에 의해 투입구(39)와 개구(201)가 직접 이어지는 것을 억제할 수 있다. 상기한 바와 같이 피처리물(WK)이 투입된 후, 투입구(39)를 닫은 상태로 한다. 그리고 피처리물(WK)을 반송실(30)내에 투입하였을 때에 투입구(39)로부터 혼입한 외기를 제거하기 위해서 반송실(30)의 치환처리가 수행된다. 이 치환처리는 반송실(30)내에 질소가스 등의 퍼지가스를 공급함으로써 수행되고, 반송실(30)내의 공기가 퍼지가스에 내보내진다. 이에 의해 반송실(30)내의 분위기는 질소가스 등의 불활성가스 분위기로 치환된다.
다음에 도 8(B)에 도시된 바와 같이 투입구(39)가 닫힌 상태에서 차열벽(32)이 상방으로 이동한다. 이에 의해 반송용 로드(41, 42) 및 피처리물(WK)을 개구(201)를 통하여 열처리로(20)에 반입 가능한 상태가 된다.
다음에 도 8(C)에 도시된 바와 같이 반송장치(50)에 의해 반송용 로드(41, 42)가 이동하고(ST2), 반송용 로드(41, 42)의 제1 단부(4111, 4211)는 열처리로(20)내에 삽입된다. 이에 의해 피처리물(WK)은 지지재(230 - 233)의 상방까지 반송된다.
이 상태에서 피처리물(WK)의 온도가 가열된다. 피처리물(WK)의 온도는 방사온도계(250)에서 측정된 온도가 소정 온도가 될 때까지 대기한다(ST3, ST4).
다음에 피처리물(WK)의 온도가 소정 온도에 도달하면 피처리물(WK)을 지지재(230 - 233)에 지지시키는 타이밍이라고 결정하고, 도 8(D)에 도시된 바와 같이 지지부재(412, 422)는 로드상태 B로부터 로드상태 A로 전환되고, 피처리물(WK)은 지지재(230 - 233)에 지지된다(ST5).
다음에 도 8(E)에 도시된 바와 같이 반송장치(50)에 의해 반송용 로드(41, 42)가 이동하고, 반송용 로드(41, 42)의 제1 단부(4111, 4211)는 반송실(30)내로 철수한다(ST6). 이 상태에서 차열벽(32)은 하방으로 이동하여 반송실(30)의 반송공간(300)을 반송용 로드(41, 42)가 존재하는 측과 개구(201)에 이어지는 측으로 분리한다. 바꾸어 말하면 차열벽(32)은 개구(201)를 막는 구조가 되어 밀폐공간이 형성된다.
그리고 이 상태에서 열처리로(20)는 소정의 온도, 분위기로 제어되고, 피처리물(WK)은 소정 시간동안 열처리된다(ST7).
피처리물(WK)에 대한 열처리후, 도 9(A)에 도시된 바와 같이 차열벽(32)은 상방으로 이동한다. 그리고 반송용 로드(41, 42)가 이동하여 반송용 로드(41, 42)의 제1 단부(4111, 4211)는 열처리로(20)내에 있어서의 피처리물(WK)의 아래에 도달한다(ST8). 이때 지지부재(412, 422)는 로드상태 A이므로 반송용 로드(41, 42)의 제1 단부(4111, 4211)가 피처리물(WK)에 가까워져도 피처리물(WK)에 닿지 않는다.
다음에 도 9(B)에 도시된 바와 같이 지지부재(412, 422)는 로드상태 A로부터 로드상태 B로 전환되어 피처리물(WK)은 지지재(230 - 233)로부터 들어 올려진다. 그리고 피처리물(WK)은 지지부재(412, 422)에 의해 지지된다(ST9).
다음에 도 9(C)에 도시된 바와 같이 반송장치(50)에 의해 반송용 로드(41, 42)가 이동하고, 반송용 로드(41, 42)의 제1 단부(4111, 4211)는 반송실(30)내로 이동한다(ST10). 이에 의해 피처리물(WK)은 열처리로(20)로부터 반송실(30)에 반출된다.
다음에 도 9(D)에 도시된 바와 같이 차열벽(32)은 하방으로 이동하여 반송실(30)의 반송공간(300)을 반송용 로드(41, 42)가 존재하는 측과 개구(201)에 이어지는 측으로 분리한다. 이 상태에서 투입구(39)를 개방함으로써 피처리물(WK)은 열처리장치(10)의 외부에 꺼내진다(ST11).
이와 같은 열처리공정에서는 열처리로(20)와 반송실(30) 사이의 개구(201) 및 반송실(30)과 외부의 개구(301)가 열처리로(20) 및 반송실(30)의 분위기의 유지에 영향을 미친다. 그러나 본 실시형태의 구성을 구비함으로써 개구(201) 및 개구(301)의 개구면적을 작게 할 수 있고, 열처리로(20) 및 반송실(30)의 분위기의 유지에 미치는 영향을 억제할 수 있다. 즉, 열처리로(20) 및 반송실(30)의 분위기의 유지에 대한 개구(201, 301)에 의한 손실을 억제하여 열처리로(20) 및 반송실(30)의 분위기의 유지를 효율적으로 수행할 수 있다.
또한, 피처리물(WK)은 ST4에서 소정 온도까지 가열된 다음에 지지재(230 - 233)에 지지되기 때문에, 피처리물(WK)이 지지재(230 - 233)에 지지될 때 열충격이 발생하지 않는다.
(지지부재의 양태 전환의 다른 예)
또한 전술한 설명에서는 반송용 로드(41, 42)를 회전시킴으로써 높이방향(z방향)에 있어서의 지지부재(412, 422)의 선단의 위치를 변화시키는 양태를 나타냈다. 그러나 다른 구성에 의해 높이방향에 있어서의 지지부재(412, 422)의 선단의 위치를 변화시킬 수도 있다. 도 11(A), 도 11(B)는 지지부재의 다른 일례를 개념적으로 나타내는 도면이다. 도 11(A), 도 11(B)는 지지부재의 제1 단부측으로부터 본 도면이다.
지지부재(412, 422)는 도 11(A)에 도시된 반송용 로드(41, 42)의 상단으로부터 돌출되는 로드상태 B와 도 11B)에 도시된 반송용 로드(41, 42)내에 수용되는 로드상태 A를 갖는다. 지지부재(412, 422)를 반송용 로드(41, 42)의 상단으로부터 돌출시키거나 반송용 로드(41, 42)에 수용하는 기구는 지지부재(412, 422)를 물리적으로 밀어내거나 끌어들이거나 하는 기구여도 되고, 지지부재(412, 422)를 압축공기 등을 이용하여 밀어내거나 끌어들이거나 하는 기구여도 된다. 또한 다른 기구여도 된다. 이러한 구성이어도 전술한 반송용 로드(41, 42)를 회전시키는 기구를 이용한 구성과 마찬가지의 작용효과를 얻을 수 있다.
또한, 전술한 설명에서는 반송용 로드로서 1쌍의 반송용 로드(41, 42)를 이용한 예를 나타냈지만, 전술한 구성은 이에 한정하는 것이 아니며 1개의 반송용 로드를 이용하여도 된다. 이 경우, 1개의 반송용 로드(41)를 이동하여 피처리물(WK)을 열처리로(20)에 반입시키거나 할 수 있다.
도 12는 반송용 로드의 파생예의 구성을 도시한 부분적인 평면도이다. 예를 들어 도 12에 도시된 바와 같이 하나의 반송용 로드(41)를 그 선단부에서 두갈래 형상으로 분기시키고, 이 두갈래부의 일단과 타단에는 각각 지지부재(412, 422)가 배치되는 구조로 하면 된다. 또한 이때 지지부재(412, 422)의 로드상태 B와 로드상태 A의 전환에 대해서는 예를 들어 전술한 도 11(A), 도 11(B)에서 나타낸 예와 마찬가지로 지지부재(412, 422)는 상기 두갈래부의 일단과 타단으로부터 돌출되는 로드상태 B와 상기 2갈래부 일단과 타단의 안에 수용되는 로드상태 A로 전환하도록 할 수 있다.
또한, 열처리로(20)로서 분위기로를 예로서 나타냈지만, 전술한 구성은 분위기로에 한정하는 것은 아니며 다른 사양의 열처리로에도 적용할 수 있다.
(반송용 로드(41, 42)를 회전시키는 다른 예)
전술한 설명에서는 액추에이터(602)를 포함한 전환장치(60)를 이용하여 반송용 로드(41, 42)를 회전시키고 있지만, 모터(650)를 사용하여 반송용 로드(41, 42)를 회전시키는 것이 가능하다.
도 13은 반송용 로드(41)의 제2 단부(4112)에 모터(650), 반송용 로드(42)의 제2 단부(4212)(도 7 참조)에 모터(651)를 설치한 실시예를 나타낸다. 모터(650)와 모터(651)의 스테이터는 반송장치(50)에 고정되고, 각 모터의 로터의 회전부가 제2 단부(4112)와 제2 단부(4212)의 각각에 연결된다. 모터(650)와 모터(651)는 소정의 각도만큼 회전하는 스테핑모터로 구성하는 것이 바람직하다. 또한 모터(650)와 모터(651)는 도면외의 제어회로로 동기되고, 그 회전각도는 동일해지도록 제어된다. 이와 같이 모터(650, 651)를 제2 단부(4112)와 제2 단부(4212)에 설치함으로써 구조가 간이화된다.
(반송용 로드(41, 42)를 회전시키는 다른 예)
도 14는 반송용 로드(41, 42)를 회전시키는 또 다른 예를 나타낸다.
이 실시예에서는 전환장치(60)를 랙·피니언기구를 포함한 구조로 한다. 전환장치(60)는 반송용 로드(41)의 제2 단부(4112)측에 설치되는 랙·피니언기구(700)와 반송용 로드(42)의 제2 단부(4212)측에 설치되는 랙·피니언기구(800)로 구성된다.
랙·피니언 기구(700)는 반송용 로드(41)의 제2 단부(4112)에 연결되는 피니언기어(702)와 이에 맞물리는 막대형상의 랙(703)과 랙(703)을 상하동시키는 에어실린더(701)로 구성된다. 마찬가지로 랙·피니언기구(800)는 반송용 로드(42)의 제2 단부(4212)에 연결되는 피니언 기어(802)와 이에 맞물리는 막대형상의 랙(803)과 랙(803)을 상하동시키는 에어실린더(801)로 구성된다. 또한 에어실린더(701, 801)를 제어하는 제어부가 설치되어 있다(도시생략). 제어부는 에어실린더(701, 801)를 동기제어하여 랙(703)과 랙(803)을 동일한 양만큼 상하동시킨다. 도 14(A)는 랙(703)과 랙(803)이 상방으로 이동하여 로드상태 B가 된 것을 나타내고, 도 14(B)는 로드상태 B로부터 랙(703)과 랙(803)이 하방으로 이동하여 로드상태 A가 된 것을 나타내고 있다.
이와 같이 전환장치(60)에 랙·피니언기구를 설치하도록 하여도 반송용 로드(41, 42)를 동일한 각도만큼 소정 회전시키는 것이 가능하다.
전술한 실시형태의 설명은 모든 점에서 예시이며 제한적인 것은 아니라고 생각되어야 한다. 본 발명의 범위는 전술한 실시형태가 아니라 특허청구범위에 의해 나타난다. 또한 본 발명의 범위에는 특허청구범위와 균등한 의미 및 범위내에서의 모든 변경이 포함되는 것이 의도된다.
10: 열처리장치
20: 열처리로
21: 전벽
30: 반송실
31: 전벽
32: 차열벽
39: 투입구
41, 42: 반송용 로드
50: 반송장치
51: 로드유지부재
60: 전환장치
63: 결합판
200: 열처리공간
201: 개구
230 - 233: 지지재
240: 열원
300: 반송공간
301: 개구
302: 개구
411: 반송용 로드(41)의 측면
412, 422: 지지부재
421: 반송용 로드(42)의 측면
423: 지지부재(422)의 외주단
601: 축부재
602: 액추에이터
611: 샤프트
612: 슬라이딩판
613: 슬라이딩판(612)의 홈
614: 핀
621: 샤프트
622: 슬라이딩판
623: 슬라이딩판(622)의 홈
624: 핀
4111: 반송용 로드(41)의 제1 단부
4112: 반송용 로드(41)의 제2 단부
4211: 반송용 로드(42)의 제1 단부
4212: 반송용 로드(42)의 제2 단부
WK: 피처리물

Claims (3)

  1. 열처리공간을 형성하는 열처리로로서, 상기 열처리공간내의 피처리물에 가열처리를 실시하는 열처리로와,
    상기 열처리공간 내에 설치되는 지지재와,
    상기 열처리공간 외부으로부터 상기 열처리공간내에 상기 피처리물을 반송한 후에 상기 피처리물을 상기 지지재에 지지시키는 반송장치와,
    상기 반송장치에 의해 상기 열처리장치내에 반송된 상기 피처리물의 온도를 감지하는 온도감지장치를 구비하고,
    상기 반송장치는 상기 온도감지장치에 의해 감지된 온도에 기초하여 상기 반송장치에 의해 상기 열처리장치내에 반송된 상기 피처리물을 상기 지지재에 지지시키는 타이밍을 결정하는, 열처리장치.
  2. 청구항 1에 있어서,
    손상온도는, 상기 피처리물이 상기 지지재에 지지되었을 때에 상기 피처리물의 온도와 상기 지지재의 온도차에 기인하는 열충격에 의해 상기 피처리물이 손상되는 상기 피처리물의 온도이고,
    상기 반송장치는, 상기 온도감지장치에 의해 감지된 온도가 상기 손상온도보다 높은 경우, 상기 반송장치에 의해 상기 열처리장치내에 반송된 상기 피처리물을 상기 지지재에 지지시키는, 열처리장치.
  3. 청구항 1 또는 청구항 2에 있어서,
    상기 온도감지장치는 상기 피처리물에 접촉하지 않고 상기 피처리물의 온도를 감지하는, 열처리장치.
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