KR20220091543A - Ni 도금 강판 및 Ni 도금 강판의 제조 방법 - Google Patents

Ni 도금 강판 및 Ni 도금 강판의 제조 방법 Download PDF

Info

Publication number
KR20220091543A
KR20220091543A KR1020227018009A KR20227018009A KR20220091543A KR 20220091543 A KR20220091543 A KR 20220091543A KR 1020227018009 A KR1020227018009 A KR 1020227018009A KR 20227018009 A KR20227018009 A KR 20227018009A KR 20220091543 A KR20220091543 A KR 20220091543A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
steel sheet
plated steel
carbon concentration
carbon
region
Prior art date
Application number
KR1020227018009A
Other languages
English (en)
Other versions
KR102616426B1 (ko
Inventor
야스토 고토
기요카즈 이시즈카
다케히로 다카하시
Original Assignee
닛폰세이테츠 가부시키가이샤
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 닛폰세이테츠 가부시키가이샤 filed Critical 닛폰세이테츠 가부시키가이샤
Publication of KR20220091543A publication Critical patent/KR20220091543A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR102616426B1 publication Critical patent/KR102616426B1/ko

Links

Images

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D3/00—Electroplating: Baths therefor
    • C25D3/02—Electroplating: Baths therefor from solutions
    • C25D3/12—Electroplating: Baths therefor from solutions of nickel or cobalt
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B15/00—Layered products comprising a layer of metal
    • B32B15/01—Layered products comprising a layer of metal all layers being exclusively metallic
    • B32B15/013—Layered products comprising a layer of metal all layers being exclusively metallic one layer being formed of an iron alloy or steel, another layer being formed of a metal other than iron or aluminium
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C21—METALLURGY OF IRON
    • C21D—MODIFYING THE PHYSICAL STRUCTURE OF FERROUS METALS; GENERAL DEVICES FOR HEAT TREATMENT OF FERROUS OR NON-FERROUS METALS OR ALLOYS; MAKING METAL MALLEABLE, e.g. BY DECARBURISATION OR TEMPERING
    • C21D1/00—General methods or devices for heat treatment, e.g. annealing, hardening, quenching or tempering
    • C21D1/26—Methods of annealing
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C21—METALLURGY OF IRON
    • C21D—MODIFYING THE PHYSICAL STRUCTURE OF FERROUS METALS; GENERAL DEVICES FOR HEAT TREATMENT OF FERROUS OR NON-FERROUS METALS OR ALLOYS; MAKING METAL MALLEABLE, e.g. BY DECARBURISATION OR TEMPERING
    • C21D8/00—Modifying the physical properties by deformation combined with, or followed by, heat treatment
    • C21D8/02—Modifying the physical properties by deformation combined with, or followed by, heat treatment during manufacturing of plates or strips
    • C21D8/0205—Modifying the physical properties by deformation combined with, or followed by, heat treatment during manufacturing of plates or strips of ferrous alloys
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C21—METALLURGY OF IRON
    • C21D—MODIFYING THE PHYSICAL STRUCTURE OF FERROUS METALS; GENERAL DEVICES FOR HEAT TREATMENT OF FERROUS OR NON-FERROUS METALS OR ALLOYS; MAKING METAL MALLEABLE, e.g. BY DECARBURISATION OR TEMPERING
    • C21D8/00—Modifying the physical properties by deformation combined with, or followed by, heat treatment
    • C21D8/02—Modifying the physical properties by deformation combined with, or followed by, heat treatment during manufacturing of plates or strips
    • C21D8/0247—Modifying the physical properties by deformation combined with, or followed by, heat treatment during manufacturing of plates or strips characterised by the heat treatment
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C21—METALLURGY OF IRON
    • C21D—MODIFYING THE PHYSICAL STRUCTURE OF FERROUS METALS; GENERAL DEVICES FOR HEAT TREATMENT OF FERROUS OR NON-FERROUS METALS OR ALLOYS; MAKING METAL MALLEABLE, e.g. BY DECARBURISATION OR TEMPERING
    • C21D8/00—Modifying the physical properties by deformation combined with, or followed by, heat treatment
    • C21D8/02—Modifying the physical properties by deformation combined with, or followed by, heat treatment during manufacturing of plates or strips
    • C21D8/0278—Modifying the physical properties by deformation combined with, or followed by, heat treatment during manufacturing of plates or strips involving a particular surface treatment
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C21—METALLURGY OF IRON
    • C21D—MODIFYING THE PHYSICAL STRUCTURE OF FERROUS METALS; GENERAL DEVICES FOR HEAT TREATMENT OF FERROUS OR NON-FERROUS METALS OR ALLOYS; MAKING METAL MALLEABLE, e.g. BY DECARBURISATION OR TEMPERING
    • C21D9/00—Heat treatment, e.g. annealing, hardening, quenching or tempering, adapted for particular articles; Furnaces therefor
    • C21D9/46—Heat treatment, e.g. annealing, hardening, quenching or tempering, adapted for particular articles; Furnaces therefor for sheet metals
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C22—METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
    • C22C—ALLOYS
    • C22C38/00—Ferrous alloys, e.g. steel alloys
    • C22C38/08—Ferrous alloys, e.g. steel alloys containing nickel
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D5/00—Electroplating characterised by the process; Pretreatment or after-treatment of workpieces
    • C25D5/48—After-treatment of electroplated surfaces
    • C25D5/50—After-treatment of electroplated surfaces by heat-treatment
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D7/00—Electroplating characterised by the article coated
    • C25D7/06—Wires; Strips; Foils
    • C25D7/0614—Strips or foils
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01M—PROCESSES OR MEANS, e.g. BATTERIES, FOR THE DIRECT CONVERSION OF CHEMICAL ENERGY INTO ELECTRICAL ENERGY
    • H01M50/00—Constructional details or processes of manufacture of the non-active parts of electrochemical cells other than fuel cells, e.g. hybrid cells
    • H01M50/10—Primary casings; Jackets or wrappings
    • H01M50/116—Primary casings; Jackets or wrappings characterised by the material
    • H01M50/117—Inorganic material
    • H01M50/119—Metals
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01M—PROCESSES OR MEANS, e.g. BATTERIES, FOR THE DIRECT CONVERSION OF CHEMICAL ENERGY INTO ELECTRICAL ENERGY
    • H01M50/00—Constructional details or processes of manufacture of the non-active parts of electrochemical cells other than fuel cells, e.g. hybrid cells
    • H01M50/10—Primary casings; Jackets or wrappings
    • H01M50/116—Primary casings; Jackets or wrappings characterised by the material
    • H01M50/124—Primary casings; Jackets or wrappings characterised by the material having a layered structure
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01M—PROCESSES OR MEANS, e.g. BATTERIES, FOR THE DIRECT CONVERSION OF CHEMICAL ENERGY INTO ELECTRICAL ENERGY
    • H01M50/00—Constructional details or processes of manufacture of the non-active parts of electrochemical cells other than fuel cells, e.g. hybrid cells
    • H01M50/10—Primary casings; Jackets or wrappings
    • H01M50/116—Primary casings; Jackets or wrappings characterised by the material
    • H01M50/124—Primary casings; Jackets or wrappings characterised by the material having a layered structure
    • H01M50/1243—Primary casings; Jackets or wrappings characterised by the material having a layered structure characterised by the internal coating on the casing
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01M—PROCESSES OR MEANS, e.g. BATTERIES, FOR THE DIRECT CONVERSION OF CHEMICAL ENERGY INTO ELECTRICAL ENERGY
    • H01M50/00—Constructional details or processes of manufacture of the non-active parts of electrochemical cells other than fuel cells, e.g. hybrid cells
    • H01M50/10—Primary casings; Jackets or wrappings
    • H01M50/116—Primary casings; Jackets or wrappings characterised by the material
    • H01M50/124—Primary casings; Jackets or wrappings characterised by the material having a layered structure
    • H01M50/1245—Primary casings; Jackets or wrappings characterised by the material having a layered structure characterised by the external coating on the casing
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C22—METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
    • C22C—ALLOYS
    • C22C38/00—Ferrous alloys, e.g. steel alloys
    • C22C38/004—Very low carbon steels, i.e. having a carbon content of less than 0,01%
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C22—METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
    • C22C—ALLOYS
    • C22C38/00—Ferrous alloys, e.g. steel alloys
    • C22C38/02—Ferrous alloys, e.g. steel alloys containing silicon
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C22—METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
    • C22C—ALLOYS
    • C22C38/00—Ferrous alloys, e.g. steel alloys
    • C22C38/04—Ferrous alloys, e.g. steel alloys containing manganese
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D17/00—Constructional parts, or assemblies thereof, of cells for electrolytic coating
    • C25D17/10—Electrodes, e.g. composition, counter electrode
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D5/00—Electroplating characterised by the process; Pretreatment or after-treatment of workpieces
    • C25D5/34—Pretreatment of metallic surfaces to be electroplated
    • C25D5/36—Pretreatment of metallic surfaces to be electroplated of iron or steel
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
    • Y02E60/00—Enabling technologies; Technologies with a potential or indirect contribution to GHG emissions mitigation
    • Y02E60/10—Energy storage using batteries

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Electrochemistry (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Thermal Sciences (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Electroplating Methods And Accessories (AREA)
  • Heat Treatment Of Sheet Steel (AREA)

Abstract

본 발명의 일 양태에 관한 Ni 도금 강판은, 모재 강판과, 상기 모재 강판의 표면에 배치된 Ni계 피복층을 구비하고, 상기 Ni 도금 강판을 GDS 분석함으로써 얻어지는 탄소 농도의 깊이 방향 분포가, 상기 모재 강판과 상기 Ni계 피복층의 계면의 근방에 있어서, 상기 모재 강판의 판 두께 중심부의 탄소 농도의 2배 이상의 탄소 농도를 나타내는 피크를 갖는다.

Description

Ni 도금 강판 및 Ni 도금 강판의 제조 방법
본 발명은, Ni 도금 강판 및 Ni 도금 강판의 제조 방법에 관한 것이다.
휴대용 전자 기기, xEV(EV, 하이브리드차, 및 플러그인 하이브리드차의 총칭)의 보급에 수반하여, 휴대용 전자 기기, xEV의 전원이 되는 전지의 소형화 및 대용량화가 요구되고 있다. 전지의 대용량화를 위해, 전지 용기를 구성하는 표면 처리 강판에는, 그 두께가 작더라도 전지 강도를 확보할 수 있는 고강도가 요구된다. 한편, 전지의 소형화를 위해, 전지 용기를 구성하는 표면 처리 강판에는, 피막 밀착성 및 가공부 내식성 등도, 전지 용기로서 사용되는 강판에는 당연히 필요해진다.
전지용 강판으로서, 예를 들어 이하와 같은 것이 제안되어 있다.
특허문헌 1에는, 강판과, 상기 강판 상에 형성된 철-니켈 확산층과, 상기 철-니켈 확산층 상에 형성되고, 최표층을 구성하는 니켈층을 구비하는 전지 용기용 표면 처리 강판이며, 고주파 글로우 방전 발광 분광 분석 장치에 의해 상기 전지 용기용 표면 처리 강판의 표면으로부터 깊이 방향을 향해 Fe 강도 및 Ni 강도를 연속적으로 측정했을 때에 있어서, Fe 강도가 제1 소정값을 나타내는 깊이(D1)와, Ni 강도가 제2 소정값을 나타내는 깊이(D2)의 차분(D2－D1)인 상기 철-니켈 확산층의 두께가 0.04 내지 0.31㎛이고, 상기 철-니켈 확산층 및 상기 니켈층에 포함되는 니켈의 합계량이, 4.4g/㎡ 이상 10.8g/㎡ 미만인 전지 용기용 표면 처리 강판이 개시되어 있다.
특허문헌 2에는, 강판과, 상기 강판 상에 형성된 철-니켈 확산층과, 상기 철-니켈 확산층 상에 형성되고, 최표층을 구성하는 니켈층을 구비하는 전지 용기용 표면 처리 강판이며, 고주파 글로우 방전 발광 분광 분석 장치에 의해 상기 전지 용기용 표면 처리 강판의 표면으로부터 깊이 방향을 향해 Fe 강도 및 Ni 강도를 연속적으로 측정했을 때에 있어서, Fe 강도가 제1 소정값을 나타내는 깊이(D1)와, Ni 강도가 제2 소정값을 나타내는 깊이(D2)의 차분(D2－D1)인 상기 철-니켈 확산층의 두께가 0.04 내지 0.31㎛이고, 상기 철-니켈 확산층 및 상기 니켈층에 포함되는 니켈의 합계량이, 10.8 내지 26.7g/㎡인 전지 용기용 표면 처리 강판이 개시되어 있다.
특허문헌 3에는, 전지 용기용 니켈 도금 열처리 강판이며, 강판 상에 4.4 내지 26.7g/㎡의 니켈층을 갖고, 고주파 글로우 방전 발광 분광 분석 장치에 의해 상기 전지 용기용 니켈 도금 열처리 강판의 표면으로부터 깊이 방향을 향해 Fe 강도 및 Ni 강도를 연속적으로 측정했을 때에 있어서, Fe 강도가 제1 소정값을 나타내는 깊이(D1)와, Ni 강도가 제2 소정값을 나타내는 깊이(D2)의 차분(D2－D1)이 0.04㎛ 미만인 것을 특징으로 하는 전지 용기용 니켈 도금 열처리 강판이 개시되어 있다.
그러나, 이들 기술에 의해서도, 전지용 강판에 근년 요구되는 여러 특성 모두를 충족시키는 것은 용이하지 않다. 본 발명자들은, 철-니켈 확산층의 두께 및 Ni 부착량의 제어만으로는, Ni 도금 강판의 피막 밀착성 및 가공부 내식성 모두를 충분히 향상시킬 수 없다고 생각했다.
국제 공개 제2017/094919호 국제 공개 제2017/094920호 국제 공개 제2017/094921호
본 발명은, 양호한 피막 밀착성을 갖고, 그 때문에 가공부 내식성이 우수한 Ni 도금 강판 및 Ni 도금 강판의 제조 방법을 제공하는 것을 과제로 한다.
본 발명의 요지는 이하와 같다.
(1) 본 발명의 일 양태에 관한 Ni 도금 강판은, 모재 강판과, 상기 모재 강판의 표면에 배치된 Ni계 피복층을 구비하고, 상기 Ni 도금 강판을 글로우 방전 발광 분석함으로써 얻어지는 탄소 농도의 깊이 방향 분포가, 상기 모재 강판과 상기 Ni계 피복층의 계면의 근방에 있어서, 상기 모재 강판의 판 두께 중심부의 탄소 농도의 2배 이상의 탄소 농도를 나타내는 피크를 갖는다.
(2) 상기 (1)에 기재된 Ni 도금 강판에서는, 상기 Ni 도금 강판을 상기 글로우 방전 발광 분석함으로써 얻어지는 상기 탄소 농도의 상기 깊이 방향 분포가, 상기 피크의 상기 모재 강판측에 인접하여, 상기 모재 강판의 상기 판 두께 중심부의 상기 탄소 농도의 0.8배 이하의 탄소 농도를 나타내는 보텀을 가져도 된다.
(3) 상기 (1) 또는 (2)에 기재된 Ni 도금 강판에서는, 상기 Ni계 피복층이, 상기 모재 강판의 표면에 배치된, 5질량％ 이상의 Fe을 포함하고, 그 잔부의 금속 원소의 90질량％ 이상이 Ni인 Fe-Ni 합금 영역과, 상기 Fe-Ni 합금 영역 상에 배치된, 5질량％ 미만의 Fe을 포함하고, 그 잔부의 금속 원소의 90질량％ 이상이 Ni인 Ni 영역을 포함하고, 상기 피크가 상기 Fe-Ni 합금 영역과 상기 모재 강판의 계면의 근방에 존재해도 된다.
(4) 상기 (1) 또는 (2)에 기재된 Ni 도금 강판에서는, 상기 Ni계 피복층이, 5질량％ 이상의 Fe을 포함하고, 그 잔부의 금속 원소의 90질량％ 이상이 Ni인 Fe-Ni 합금 영역이고, 상기 피크가 상기 Fe-Ni 합금 영역과 상기 모재 강판의 계면의 근방에 존재해도 된다.
(5) 상기 (1) 내지 (4) 중 어느 한 항에 기재된 Ni 도금 강판에서는, 상기 Ni계 피복층에 있어서의 편면당 Ni 부착량이 1.5 내지 65g/㎡여도 된다.
(6) 상기 (1) 내지 (5) 중 어느 한 항에 기재된 Ni 도금 강판은, 전지 용기의 소재로서 사용되어도 된다.
(7) 본 발명의 다른 양태에 관한 Ni 도금 강판의 제조 방법은, 상기 (1) 내지 (6) 중 어느 한 항에 기재된 Ni 도금 강판의 제조 방법이며, 모재 강판에 Ni 도금함으로써 소재 Ni 도금 강판을 얻는 공정과, 상기 소재 Ni 도금 강판을 예비 열처리하는 공정과, 상기 소재 Ni 도금 강판을 어닐링함으로써 상기 Ni 도금을 합금화하는 공정을 구비하고, 상기 예비 열처리에 있어서, 상기 소재 Ni 도금 강판의 온도가 345℃ 이상 595℃ 이하의 범위 내가 되는 시간을 30초 이상 60초 이하로 하고, 상기 어닐링에 있어서, 595℃부터 최대 가열 온도까지의 범위에 있어서의 상기 소재 Ni 도금 강판의 평균 가열 속도를 16℃/초 이상으로 하고, 상기 소재 Ni 도금 강판의 상기 최대 가열 온도를 650℃ 이상 850℃ 이하로 하고, 또한 상기 소재 Ni 도금 강판의 온도가 830℃를 초과하는 시간을 0초 이상 15초 이하로 한다.
(8) 상기 (7)에 기재된 Ni 도금 강판의 제조 방법에서는, 상기 어닐링에 있어서, 상기 소재 Ni 도금 강판의 상기 최대 가열 온도를 805℃ 이하로 하고, 상기 소재 Ni 도금 강판의 온도가 800℃를 초과하는 시간을 0초 이상 4초 이하로 해도 된다.
본 발명에 따르면, 양호한 피막 밀착성을 갖기 때문에 가공부 내식성이 우수한 Ni 도금 강판 및 Ni 도금 강판의 제조 방법을 제공할 수 있다.
도 1은 본 발명의 일 실시 형태에 관한 Ni 도금 강판(1)의 개략도이다.
도 2는 본 발명의 일 실시 형태에 관한 Ni 도금 강판(1)의 C 강도, Ni 강도 및 Fe 강도 분포의 GDS 차트이다.
도 3은 본 발명의 일 실시 형태에 관한 Ni 도금 강판(1)의 C 강도 분포의 GDS 차트이다.
도 4는 본 발명의 일 실시 형태에 관한 Ni 도금 강판(1)의 제조 방법을 도시하는 흐름도이다.
도 5a는 본 발명의 일 실시 형태에 관한 Ni 도금 강판(1)의 제조 조건의 일례를 도시하는 시간-온도 차트의 개략도이다.
도 5b는 본 발명의 일 실시 형태에 관한 Ni 도금 강판(1)의 제조 조건의 다른 예를 도시하는 시간-온도 차트의 개략도이다.
본 발명자들은, 특정한 어닐링 조건에서 Ni 도금을 합금화함으로써 얻어지는 Ni 도금 강판은, Ni계 피복층과 모재 강판의 계면 및 그 근방에, 탄소가 농화된 영역(탄소 농화 영역)이 존재하는 것을 지견했다. 이 탄소 농화 영역에 있어서의 탄소 농도는, 모재 강판의 탄소 농도를 크게 상회하는 수준이었다. 또한, 이러한 탄소 농화 영역을 갖는 Ni 도금 강판은, 극히 양호한 피막 밀착성을 갖고 있었다.
도 2는, Ni 도금 강판을 글로우 방전 발광 분석(GDS: Glow Discharge Emission Spectrometry)함으로써 얻어지는 C, Ni, Fe 농도의 깊이 방향 분석 결과를 도시하는 도면이다. 도 2에 도시되는 그래프의 종축은, C, Ni 및 Fe의 스펙트럼선의 발광 강도이고, 이것은 C, Ni 및 Fe의 농도에 대응한다. 횡축은 측정 시간(초)이고, 이것은 스퍼터링 시간에 상당하고, 시료의 깊이에 대응한다. 도 2는, Ni 도금(Ni 부착량: 18g/㎡) 후, 345℃ 이상이 되는 시간이 50초, 최대 가열 온도 835℃ 및 830℃를 초과하는 시간이 10초인 조건에서 어닐링한 후에 냉각함으로써 얻어진 Ni 도금 강판의 분석 결과이다.
도 2에 도시된 Ni 도금 강판의 GDS 차트에는, Ni 도금의 합금화의 모습이 도시되어 있다. 도 2에 있어서, 실선으로 도시된 그래프가 Fe 강도 분포를 나타내고, 일점쇄선으로 도시된 그래프가 Ni 강도 분포를 나타내고, 파선으로 도시된 그래프가 C 강도 분포를 나타낸다. Ni 강도 및 Fe 강도의 변화를 나타내는 그래프가 완만하게 교차하고 있는 것은, Ni 도금의 Ni과 모재 강판의 Fe의 상호 확산에 의한 합금화가 Ni 도금 강판에 있어서 진전되어 있기 때문이다. 여기서 탄소의 깊이 방향의 분석 결과에 착안하면, Ni 강도 및 Fe 강도가 완만하게 변화되어 있는 영역에 있어서, 탄소의 스펙트럼선의 발광 강도의 피크가 명료하게 나타났다. 여기서, 도 2에 도시된 피크에 있어서의 탄소의 스펙트럼선의 발광 강도는, 모재 강판에 있어서의 그것을 훨씬 상회하고 있다. Ni 도금 강판의 기술 분야에 있어서, 이러한 현저한 탄소 농화 현상이 보고된 문헌은 현시점에서 존재하지 않는다.
이러한 탄소 농도 피크에 의해 나타나는 탄소 농화 영역이 발생하는 기구 및 탄소 농화 영역이 피막 밀착성을 향상시키는 기구는 현시점에서 명확하지는 않다. 단, 본 발명자들의 실험에 의하면, 345℃ 내지 595℃의 온도 범위 내에서의 균열 처리(또는 낮은 승온 속도로의 가열)를 행함으로써, 탄소 농화 영역의 생성이 강하게 촉진되는 것을 알 수 있었다. 이 사실로부터, 탄소 농화 영역이 발생하는 기구에 대해서는, 이하와 같이 추측된다.
345℃ 내지 595℃의 온도 범위에서는, Ni 원자 및 Fe 원자의 확산이 활발하지는 않으므로, Ni 도금과 모재 강판의 합금화가 발생하기 어렵다. 그 때문에, 통상의 Ni 도금 강판의 합금화 처리에 있어서는, 이 온도 범위 내에 있어서, 균열 처리 또는 낮은 승온 속도로의 가열을 하는 경우는 없다. 한편, 이 온도 범위에서는, 모재 강판 중의 C 원자는 확산되기 쉽다. 따라서, Ni 도금 강판의 합금화 시에, 345℃ 내지 595℃의 온도 범위에서, 온도 유지 또는 이것에 준하는 열처리를 하면, C 농도가 낮은 영역인 Ni 도금을 향해, 모재 강판에 포함되는 탄소가 확산되어, Ni 도금과 모재 강판의 계면 부근에서 농화된다고 추정하고 있다. 이러한 메커니즘에 의해, 탄소 농화 영역이 발생한다고 본 발명자들은 추정하고 있다.
또한, 이러한 탄소 농화 현상은, 모재 강판의 탄소량에 관계없이 발생하는 것이라고 생각된다. 본 발명자들의 실험 결과에 의하면, 모재 강판의 탄소 농도를 약 0.0015질량％(소위 극저탄소강의 수준)로 해도, 탄소 농화 영역을 갖는(GDS 분석에 의해 탄소 농도 피크가 검출되는) Ni 도금 강판(1)을 제조 가능한 것이 확인되어 있다.
상술한 지견에 의해 얻어진 본 발명의 일 양태에 관한 Ni 도금 강판(1)은, 도 1에 도시된 바와 같이, 모재 강판(11)과, 이 모재 강판(11)의 표면에 배치된 Ni계 피복층(12)을 구비한다. Ni계 피복층(12)이란, Ni 도금의 일부 또는 전부가 모재 강판(11)의 Fe과 합금화된 피복층이다. 여기서, 본 실시 형태에 관한 Ni 도금 강판(1)을 GDS 분석함으로써 얻어지는 탄소 농도의 깊이 방향 분포는, 모재 강판(11)과 Ni계 피복층(12)의 계면의 근방에 있어서, 모재 강판(11)의 판 두께 중심부의 탄소 농도의 2배 이상의 탄소 농도를 나타내는 피크(이하, 「탄소 농도 피크(13)」라고 칭함)를 갖는다. 이하, 본 실시 형태에 관한 Ni 도금 강판(1)에 대하여 상세하게 설명한다.
(모재 강판(11))
모재 강판(11)은, Ni 도금 강판(1)의 기재가 되는 강판이다. 모재 강판(11)의 성분, 판 두께 및 금속 조직 등은 특별히 한정되지 않는다. 모재 강판(11)을 전지 용기의 소재로서 사용하는 경우, 예를 들어 모재 강판(11)을 저탄소 알루미늄 킬드강 및 IF강(Interstitial Free Steel/극저탄소강) 등으로 하는 것이 좋다. 후술하는 바와 같이, 본 실시 형태에 관한 Ni 도금 강판(1)은, 모재 강판(11) 중의 탄소의 확산에 기인한다고 추정되는 탄소 농도 피크(13)를 갖고 있지만, 가령 모재 강판(11)이 저탄소강이라도 탄소 농도 피크(13)를 형성시킬 수 있다. 모재 강판(11)의 화학 조성(질량％)의 구체적인 예를 들면 이하와 같다.
(예 1) 저탄소 알루미늄 킬드강
C: 0.057, Si: 0.004, Mn: 0.29, P: 0.014, S: 0.007, 잔부: 철 및 불순물을 포함한다
(예 2) IF강
C: 0.004, Si: 0.01, Mn: 0.16, P: 0.013, S: 0.006, 잔부: 철 및 불순물을 포함한다
(예 3) IF강
C: 0.0012, Si: 0.01 미만, Mn: 0.29, P: 0.014, S: 0.001 미만, 잔부: 철 및 불순물을 포함한다
또한, Ni 도금 강판(1)을 전지 용기의 소재로서 사용하는 경우, 모재 강판(11)의 두께를 예를 들어 0.15 내지 0.8㎜로 하는 것이 좋다.
(Ni계 피복층(12))
Ni계 피복층(12)은, 모재 강판(11)의 표면에 배치된, Ni 도금의 일부 또는 전부를, 모재 강판(11)에 포함되는 Fe과 합금화함으로써 얻어지는 층이다. Ni계 피복층(12)의 평균 조성 및 두께 등은 특별히 한정되지 않고, Ni 도금 강판(1)의 용도에 따라 적절히 설정할 수 있다. 또한, Ni계 피복층(12)은, 모재 강판(11)의 한쪽의 표면에만 배치되어 있어도 되고, 양쪽의 표면에 배치되어 있어도 된다.
예를 들어, Ni계 피복층(12)의 평균 조성은, Ni: 95 내지 50질량％, Fe: 5 내지 50질량％ 및 불순물을 포함하는 것으로 할 수 있다. 또한, 기계 특성의 향상 등의 목적으로, Ni계 피복층(12)이 Co, Sn, Zn, W, Mo, Cr 등의 합금 원소를 더 포함하고 있어도 된다.
Ni계 피복층(12)의 편면당 Ni 부착량을 1.5 내지 65g/㎡로 해도 된다. Ni계 피복층(12)에 있어서의 Ni 부착량을 1.5g/㎡ 이상으로 함으로써, Ni 도금 강판(1)의 내식성 등을 확실하게 확보할 수 있으므로 바람직하다. Ni계 피복층(12)에 있어서의 Ni 부착량을 65g/㎡ 이하로 함으로써, Ni 도금 강판(1)의 제조 비용을 저감할 수 있으므로 바람직하다. Ni계 피복층(12)의 편면당 Ni 부착량을 2.4g/㎡ 이상, 4.8g/㎡ 이상, 또는 8g/㎡ 이상으로 해도 된다. Ni 도금 강판(1)의 편면당 Ni 부착량을 32g/㎡ 이하, 24g/㎡ 이하, 또는 12g/㎡ 이하로 해도 된다.
Ni계 피복층(12)의 두께를 0.2 내지 7㎛로 해도 된다. Ni계 피복층(12)의 두께를 0.2㎛ 이상으로 함으로써, Ni 도금 강판(1)의 내식성 등을 확실하게 확보할 수 있으므로 바람직하다. Ni계 피복층(12)의 두께를 7㎛ 이하로 함으로써, Ni 도금 강판(1)의 제조 비용을 저감할 수 있으므로 바람직하다. Ni계 피복층(12)의 두께를 0.3㎛ 이상, 0.6㎛ 이상, 또는 1㎛ 이상으로 해도 된다. Ni계 피복층(12)의 두께를 4㎛ 이하, 3㎛ 이하, 또는 1.5㎛ 이하로 해도 된다.
Ni계 피복층(12)에 있어서의 Ni의 부착량은, 예를 들어 ICP 분석법에 의해 측정 가능하다. 먼저, 소정 면적의 Ni계 피복층(12)을 산으로 용해한다. 다음으로, 용해액에 포함되는 Total-Ni양을 ICP로 정량 분석한다. ICP로 정량한 Total-Ni양을 상술한 소정 면적으로 나눔으로써, 단위 면적당의 Ni 부착량을 구할 수 있다. Ni계 피복층(12)의 평균 조성도, 마찬가지로 ICP 분석법에 의해 구해진다. Ni계 피복층(12)의 두께는, Ni 도금 강판(1)의 압연면에 수직인 단면을 연마하고, 이 단면에 있어서의 임의의 5군데의 SEM 사진을 촬영하여, 각 SEM 사진에 있어서 측정되는 Ni계 피복층(12)의 두께를 평균함으로써 구해진다.
(탄소 농도 피크(13))
탄소 농화 영역은, 모재 강판(11) 및 Ni계 피복층(12)의 계면 근방의 영역에 형성되며, Ni 도금 강판(1)을 GDS 분석함으로써 얻어지는 탄소 농도의 깊이 방향 분포에 있어서 인정되는 탄소 농도 피크(13)에 의해 나타난다. 탄소 농도 피크(13)는, 모재 강판(11)의 판 두께 중심부의 탄소 농도의 2배 이상의 탄소 농도를 나타내는 피크라고 정의된다. 모재 강판(11)의 판 두께 중심부란, 모재 강판(11)의 표면(압연면)으로부터, 모재 강판(11)의 두께의 1/2의 깊이의 부분을 말한다. 단 후술하는 바와 같이, 탄소 농도가 포화되는 영역의 탄소 농도를, 판 두께 중심부의 탄소 농도라고 간주해도 된다. 모재 강판(11) 및 Ni계 피복층(12)의 계면이란, 5질량％ 이상의 Fe을 포함하고, 그 잔부의 금속 원소의 90질량％ 이상이 Ni인 영역(후술하는 Fe-Ni 합금 영역)과 모재 강판(11)의 계면이라고 정의된다. 모재 강판(11) 및 Ni계 피복층(12)의 계면 근방의 영역이란, 이 계면으로부터 Ni계 피복층을 향해 1㎛ 이내의 영역이라고 정의된다.
상세한 기구는 명확하지 않지만, 탄소 농도 피크(13)에 의해 나타나는 탄소 농화 영역은, Ni 도금 강판(1)에 높은 피막 밀착성을 부여한다. 탄소의 농화가 충분히 발생하지 않아, 탄소 농도의 깊이 방향 분포에 있어서 피크가 인정되지 않은 경우, 또는 탄소 농도의 깊이 방향 분포에 있어서 피크가 인정되었기는 하지만, 이것이 나타내는 탄소 농도가 모재 강판(11)의 판 두께 중심부의 탄소 농도의 2배 미만이 된 경우, 상술한 효과는 얻어지지 않았다. 따라서, 탄소 농도 피크(13)는 상술한 바와 같이 규정되었다.
(탄소 농도 보텀(14))
Ni 도금 강판(1)에 있어서는, Ni 도금 강판(1)을 GDS 분석함으로써 얻어지는 탄소 농도의 깊이 방향 분포가, 탄소 농도 피크(13)의 모재 강판측에 인접하여, 탄소 농도 보텀(14)을 가져도 된다. 탄소 농도 보텀(14)은, 모재 강판(11)의 판 두께 중심부의 탄소 농도의 0.8배 이하의 탄소 농도를 나타내는 보텀이라고 정의된다. 이러한 탄소 결핍 영역은, 모재 강판(11)으로부터 Ni계 피복층(12)을 향해 탄소가 현저하게 확산됨으로써 발생하는 것이라고 생각된다.
도 3은, GDS 분석을 매우 장시간 실시한 경우의 탄소 농도의 깊이 방향 분석 결과이다. 도 3에 도시되는 차트에서는, 탄소의 스펙트럼선의 발광 강도의 피크(탄소 농도 피크(13))가 명료하게 나타나 있는 것에 더하여, 탄소의 스펙트럼선의 발광 강도의 밸리도 명료하게 나타나 있다. 모재 강판(11)으로부터 Ni계 피복층(12)을 향한 탄소의 확산이 매우 현저한 경우, 이 발광 강도의 밸리가, 모재 강판의 판 두께 중심부의 탄소 농도의 0.8배 이하의 탄소 농도를 나타내는 탄소 농도 보텀(14)이 된다.
본 발명자들이 실험을 거듭한 결과 얻어진 지견에 의하면, 모재 강판(11)이 탄소 농도 보텀(14)에 의해 나타나는 탄소 결핍 영역을 갖는 Ni 도금 강판(1)은, 한층 우수한 가공부 내식성을 갖는다. 탄소 결핍 영역이 Ni 도금 강판(1)의 가공성을 향상시키는 기구는 명확하지 않다. 본 발명자들은, 탄소 결핍 영역이 모재 강판(11)의 표면(모재 강판(11)과 Ni계 피복층(12)의 계면 근방)을 연화시킴으로써, Ni 도금 강판(1)의 가공성을 향상시키고, 이에 의해 가공부의 피막 손상이 억제되어, 가공부 내식성이 향상되어 있다고 추정하고 있다.
또한, 탄소 농도 보텀(14)은 넓은 폭을 갖는 경향이 있고, 본 발명자들의 실험 결과에 의하면 그 폭은 3㎛ 이상이 되는 경우가 많았다. 그 때문에, 모재 강판의 판 두께 중심부의 탄소 농도의 0.8배 이하의 탄소 농도를 갖는 영역을 탄소 결핍 영역이라고 정의한 경우, 이 탄소 결핍 영역의 두께를 3㎛ 이상으로 규정해도 된다.
탄소 농도 피크(13) 및 탄소 농도 보텀(14)의 유무는, GDS 분석에 의해 판단할 수 있다. 구체적으로는, 먼저, Ni 도금 강판(1)의 표면을 세정한다. 이어서, Ni 도금 강판(1)의 표면으로부터 모재 강판(11)을 향해 GDS 분석을 행한다. 이에 의해, 예를 들어 도 2 및 도 3에 도시된 바와 같은, Ni 도금 강판(1)의 표면으로부터 모재 강판(11)에 걸친 탄소의 스펙트럼선의 발광 강도의 변화를 나타내는 차트를 얻는다. 차트의 피크에 있어서의 탄소의 스펙트럼선의 발광 강도와, 모재 강판(11)의 판 두께 중심부에 있어서의 탄소의 스펙트럼선의 발광 강도를 비교함으로써, 차트의 피크에 있어서의 탄소 농도가 모재 강판(11)의 판 두께 중심부의 탄소 농도의 2배 이상인지 여부를 판별할 수 있다. 마찬가지로, 모재 강판(11)에 해당하는 범위 내에서 가장 탄소의 스펙트럼선의 발광 강도가 작아지는 개소에 있어서의 탄소 농도의 스펙트럼선의 발광 강도와, 모재 강판(11)의 판 두께 중심부에 있어서의 탄소의 스펙트럼선의 발광 강도를 비교함으로써, 이 개소에 있어서의 탄소 농도가 모재 강판(11)의 판 두께 중심부의 탄소 농도의 0.8배 이하인지 여부를 판별할 수 있다. 또한, 차트의 형상에 기초하여, 탄소 결핍 영역의 폭을 구할 수 있다. 또한, 도 2 및 도 3에 도시되는 그래프에서는, GDS 분석의 개시 직후에도 탄소의 스펙트럼선의 발광 강도의 피크가 보여지는데, 이것은 Ni 도금 강판의 표면의 오염, 또는 노이즈에 기인하는 것이라고 추정된다. 따라서, GDS 분석의 개시 직후의 피크는, 탄소 농도 피크(13)의 유무의 판단에 있어서는 무시된다.
또한, GDS 분석의 구체적 조건은 이하와 같다. 리가쿠사제 GDA750의 고주파 모드를 사용하여, 출력: 30W, Ar 압력: 3hPa, 분석 면적: 4㎜φ의 조건에 의해 측정하고, 측정 후의 샘플의 파임 깊이를 레이저 현미경에 의해 실측하고, 측정(스퍼터) 시간과 두께의 관계를 구했다.
모재 강판(11)의 판 두께가 큰 경우, GDS 분석을 판 두께 중심부까지 행하는 것이 곤란하다. 이러한 경우, GDS 분석 중에 탄소의 발광 강도가 포화된 개소에 있어서의 발광 강도를, 판 두께 중심부에 있어서의 탄소의 발광 강도라고 간주해도 된다. 단, 이 경우, GDS 분석을 충분한 깊이까지 행하고 나서, 탄소의 발광 강도가 포화되어 있는지 여부의 판단을 실시할 필요가 있다. 도 3에 도시된 바와 같이, 모재 강판(11)에는 탄소 농도 보텀(14)이 형성되는 경우가 있기 때문이다. GDS 분석을 단시간에 종료한 경우, 즉 GDS 분석이 Ni 도금 강판(1)의 얕은 영역에 있어서만 행해진 경우, 탄소 농도 보텀(14)을 탄소의 발광 강도가 포화되는 개소라고 오인할 우려가 있다. 본 발명자들의 실험 결과에 의하면, GDS 분석을 약 30 내지 40㎛ 이상 실시하면, 탄소 농도 보텀(14)의 영향을 회피하여, 발광 강도의 포화점을 정확하게 판단할 수 있다고 생각된다.
5군데에서 상술한 GDS 분석을 행한 결과, 4군데 이상에 있어서 모재 강판의 판 두께 중심부의 탄소 농도의 2배 이상의 탄소 농도를 나타내는 탄소 농도 피크(13)가 검출되는 Ni 도금 강판은, 본 실시 형태에 관한 Ni 도금 강판(1)의 탄소 농화 영역을 구비한다고 간주된다. 마찬가지로, 5군데에서 GDS 분석을 행한 결과, 4군데 이상에 있어서, 탄소 농도가 모재 강판(11)의 판 두께 중심부의 탄소 농도의 0.8배 이하가 되는 탄소 농도 보텀(14)이 검출되는 Ni 도금 강판은, 본 실시 형태에 관한 Ni 도금 강판(1)의 탄소 결핍 영역을 구비한다고 간주된다.
(Fe-Ni 합금 영역, Ni 영역)
Ni계 피복층(12)은, 상술한 바와 같이, Ni 도금의 일부 또는 전부를 합금화함으로써 얻어지는 층이다. Ni 도금의 일부를 합금화함으로써 얻어지는 Ni계 피복층(12)은, 모재 강판(11)의 표면에 배치된 Fe-Ni 합금 영역과, Fe-Ni 합금 영역 상에 배치되는 Ni 영역을 갖는다. Ni 도금의 전부를 합금화함으로써 얻어지는 Ni계 피복층(12)은, 그 모두가 Fe-Ni 합금 영역이 된다.
Fe-Ni 합금 영역은, 5질량％ 이상의 Fe을 포함하고, 그 잔부의 금속 원소의 90질량％ 이상이 Ni인 층이라고 정의된다. 상술한 규정이 충족되는 한, Fe-Ni 합금 영역이, Fe 및 Ni 이외의 원소(예를 들어, Co 등)를 더 포함해도 된다. 또한, Fe-Ni 합금 영역이 불순물을 함유하는 것도 허용된다.
Fe-Ni 합금 영역의 두께는 특별히 한정되지 않고, 통상의 범위 내에서 적절히 선택할 수 있다. Ni 도금 강판(1)의 피막 밀착성 및 가공부 내식성을 확보한다는 관점에서는, Fe-Ni 합금 영역의 두께는 0.2㎛ 이상인 것이 바람직하다. 한편, 합금화를 지나치게 진전시키면 탄소 농도 피크가 소실될 우려가 있으므로, Fe-Ni 합금 영역의 두께는 1㎛ 이하로 규정해도 된다.
Ni 영역은, 5질량％ 미만의 Fe을 포함하고, 그 잔부의 금속 원소의 90질량％ 이상이 Ni인 층이라고 정의된다. Ni 영역의 기계 특성을 향상시키기 위해, Ni 영역이 Co 등의 원소를 더 포함해도 된다. Ni 도금 강판(1)이 Fe-Ni 합금 영역 및 Ni 영역의 양쪽을 구비하는 경우, Ni 영역은 어닐링에 의해 연질의 재결정 Ni층이 된다. 연질의 Ni 영역은, 프레스 성형 등의 기계 가공 시에 강판의 변형에 추종하여, 모재 강판(11)의 노출을 방지한다. 따라서 Ni 영역은, Ni 도금 강판(1)의 가공부 내식성을 한층 향상시킬 수 있다.
Ni 영역의 두께는 특별히 한정되지 않고, 통상의 범위 내에서 적절히 선택할 수 있다. Ni 도금 강판(1)의 도금층은 완전히 합금화되어 있어도 되고(즉, Ni 도금 강판(1)의 표면까지 Fe이 확산되어, 표면에 있어서의 Fe 농도가 5질량％ 이상이어도 되고), 이 경우, Ni 영역의 두께는 0㎛라고 간주된다. 한편, Ni 도금 강판(1)의 가공성을 확보한다는 관점에서는, Ni 영역의 두께는 0.8㎛ 이상인 것이 바람직하다. 또한, Ni 영역에 의한 가공성 향상 효과는, Ni 영역의 두께가 약 6.8㎛ 초과가 되면 포화된다고 생각된다. 그 때문에, 경제성의 관점에서, Ni 영역의 두께는 6.8㎛ 이하인 것이 바람직하다.
Fe-Ni 합금 영역의 두께 및 Ni 영역의 두께는, EDS에 의한 원소 분석이 가능한 TEM, 또는 EDS에 의한 원소 분석이 가능한 STEM 모드를 갖는 FE-SEM을 사용하여, 판 두께 방향을 따르는 단면을 선 분석함으로써 확인할 수 있다. Fe이 5％ 이상 포함되고, 잔부의 금속 원소의 90％ 이상이 Ni인 부분을 Ni 함유층의 Fe-Ni 합금 영역이라고 정의하고, Fe이 5％ 미만이고, 잔부의 금속 원소의 90％ 이상이 Ni인 부분을 Ni 영역이라고 정의한다. 두께의 측정은, 이하의 수순으로 실시할 수 있다. 판 두께 방향을 따르는 단면을 관찰할 수 있도록 FIB에 의해 박편 가공한 샘플을, EDS에 의한 원소 분석이 가능한 TEM이나 EDS에 의한 원소 분석이 가능한 STEM 모드를 갖는 FE-SEM을 사용하여 정량 분석하고, 상기 정의한 각 영역의 요건을 충족시키는 영역을 결정하고, 그리고 이 영역의 판 두께 방향을 따르는 두께를 계측한다.
본 실시 형태에 관한 Ni 도금 강판(1)의 용도는 특별히 한정되지 않는다. 본 실시 형태에 관한 Ni 도금 강판(1)은, 피막 밀착성이 우수하고, 또한 가공부 내식성이 우수하다. 따라서, 본 실시 형태에 관한 Ni 도금 강판(1)을 전지 용기용 강판으로서 사용하는 것은, 전지의 장수명화에 공헌하므로 바람직하다.
탄소 농화 영역을 갖는(GDS 분석의 결과, 탄소 농도 피크(13)를 나타냄), 본 실시 형태에 관한 Ni 도금 강판(1)은, 우수한 피막 밀착성을 갖는다. 또한, 우수한 피막 밀착성에 기인하여, 본 실시 형태에 관한 Ni 도금 강판(1)은, 우수한 가공부 내식성을 갖는다. Ni 도금 강판(1)이 탄소 결핍 영역을 갖는(GDS 분석의 결과, 탄소 농도 보텀(14)을 나타냄) 경우, 한층 우수한 가공부 내식성을 갖는다.
(제조 방법)
다음으로, 본 실시 형태에 관한 Ni 도금 강판(1)의 바람직한 제조 방법에 대하여 설명한다. 이하에 설명하는 제조 방법에 의하면, 본 실시 형태에 관한 Ni 도금 강판(1)을 적합하게 얻을 수 있다. 단, 상술한 요건을 구비하는 Ni 도금 강판은, 그 제조 방법과는 관계없이 본 실시 형태에 관한 Ni 도금 강판(1)이라고 간주된다. 즉, 이하에 설명되는 제조 조건은, 본 실시 형태에 관한 Ni 도금 강판(1)의 범위를 한정하는 것은 아니다.
도 4에 도시된 바와 같이, 본 실시 형태에 관한 Ni 도금 강판(1)의 제조 방법은, 모재 강판(11)에 Ni 도금함으로써 소재 Ni 도금 강판을 얻는 공정 S1과, 소재 Ni 도금 강판을 예비 열처리하는 공정 S2와, 소재 Ni 도금 강판을 어닐링함으로써 Ni 도금을 합금화하는 공정 S3을 구비한다.
Ni 도금 공정 S1에서는, 모재 강판(11)에 Ni 도금을 실시한다. 본 실시 형태에서는, Ni 도금 후에 얻어지는 합금화되어 있지 않은 Ni 도금 강판을, 소재 Ni 도금 강판이라고 칭한다. Ni 도금의 방법은 특별히 한정되지 않는다. Ni 도금을 전해 Ni 도금으로 하는 것이, 조업 효율상 바람직하다. 또한, Ni 도금의 조건도 특별히 한정되지 않는다. 편면당 Ni 부착량을 1.5 내지 65g/㎡(소재 Ni 도금 강판의 Ni 도금 평균 두께 약 0.2 내지 7㎛)로 하도록, 도금욕의 성분 및 전류 조건을 설정하는 것이 바람직하다.
예비 열처리 공정 S2에서는, 소재 Ni 도금 강판에 열처리를 행한다. 이 열처리에 있어서는, 소재 Ni 도금 강판의 온도가 345℃ 이상 595℃ 이하의 범위 내가 되는 시간을 30초 이상 60초 이하로 한다. 345℃ 이상 595℃ 이하의 온도 범위에서는, Ni 및 철과의 상호 확산은 실질적으로 발생하지 않는 한편, 모재 강판으로부터 Ni 도금을 향한 C의 확산이 발생하여, Ni 도금과 모재 강판의 계면 근방에 C가 농화된다고 추정된다. 따라서, 예비 열처리 S2에 있어서 Ni과 철의 상호 확산을 억제하면서 C 농화를 촉진함으로써, 탄소 농화 영역이 형성된다고 추정된다. C 농화의 촉진의 관점에서, 소재 Ni 도금 강판의 온도가 345℃ 이상 595℃ 이하의 범위 내가 되는 시간을 30초 이상으로 한다. 한편, 345℃ 이상 595℃ 이하에서의 온도 유지 시간이 지나치게 길면, Ni 도금에 확산된 C가, Ni 도금의 표면을 향해 한층 확산되어, 탄소 농도 피크가 소실될 우려가 있다. C의 과잉 확산을 방지하는 관점에서, 소재 Ni 도금 강판의 온도가 345℃ 이상 595℃ 이하의 범위 내가 되는 시간을 60초 이하로 한다.
또한, 도 5a에 도시된 바와 같이, 소재 Ni 도금 강판의 온도가 345℃ 이상 595℃ 이하의 범위 내에서 일정하게 유지되어도 된다. 한편, 도 5b에 도시된 바와 같이, 소재 Ni 도금 강판의 온도가 345℃ 이상 595℃ 이하의 범위 내에서 점점 승온되어도 된다. 어떤 경우라도, 소재 Ni 도금 강판의 온도가 345℃ 이상 595℃ 이하로 되는 시간이 30초 이상 60초 이하인 한, 탄소 농화 영역을 Ni 도금 강판에 형성할 수 있다.
어닐링 공정 S3에서는, 예비 열처리된 소재 Ni 도금 강판을 더 가열하여, 소정 시간만큼 온도 유지하고, 이어서 냉각함으로써, 소재 Ni 도금 강판을 어닐링한다. 어닐링에 의해, Ni 도금을 구성하는 Ni과 모재 강판을 구성하는 철을 서로 열 확산시켜, Ni계 피복층(12)을 형성한다. 어닐링에 있어서는, 소재 Ni 도금 강판의 Ni 도금을 완전히 합금화시킴(즉, 모재 강판(11)의 철을 Ni 도금의 표면까지 확산시킴)으로써, Ni 영역을 갖지 않는 Ni 도금 강판(1)을 제조 가능하고, 소재 Ni 도금 강판의 Ni 도금의 일부를 합금화시킴(즉, 모재 강판(11)의 철을 Ni 도금의 표면까지 확산시키지 않음)으로써, Ni 영역을 갖는 Ni 도금 강판(1)도 제조 가능하다.
어닐링 공정 S3에 있어서는 또한, 595℃부터 최대 가열 온도(도 5a 및 도 5b 참조)까지의 범위에 있어서의 소재 Ni 도금 강판의 평균 가열 속도를 16℃/초 이상으로 하고, 소재 Ni 도금 강판의 최대 가열 온도를 650℃ 이상 850℃ 이하로 하고, 소재 Ni 도금 강판의 온도가 830℃를 초과하는 시간을 0초 이상 15초 이하로 한다. 이 조건은, Ni계 피복층(12)으로 확산된 탄소가, Ni 도금 강판(1)의 표면을 향해 한층 확산되는 것을 방지하기 위한 것이다. 또한 「595℃부터 최대 가열 온도까지의 범위에 있어서의 소재 Ni 도금 강판의 평균 가열 속도」란, 최대 가열 온도로부터 595를 뺀 값을, 소재 Ni 도금 강판의 온도를 595℃부터 최대 가열 온도까지 가열하기 위해 필요한 시간으로 나눈 값이다.
고온 영역에서 장시간의 가열 및 온도 유지를 행함으로써, Ni계 피복층(12)과 모재 강판(11)의 계면 근방에 농화된 탄소가, Ni 도금 강판(1)의 표면측으로 더 확산되게 된다. 이에 의해, Ni계 피복층(12)에 발생시킨 탄소 농도 피크(13)가 소실될 우려가 있다. 고온 영역에서의 온도 유지를 최저한으로 유지할 필요를 감안하여, 상술한 어닐링 조건이 정해졌다. 바람직하게는, 소재 Ni 도금 강판의 최대 가열 온도를 805℃ 이하로 하고, 소재 Ni 도금 강판의 온도가 800℃를 초과하는 시간을 0초 이상 4초 이하로 한다.
또한, 어닐링 공정 S3에 있어서 소재 Ni 도금 강판의 최대 가열 온도가 830℃를 초과하지 않아도 된다. 이 경우, 소재 Ni 도금 강판의 온도가 830℃를 초과하는 시간은 0초라고 간주한다.
실시예
실시예에 의해 본 발명의 일 양태의 효과를 더 구체적으로 설명한다. 단, 실시예에서의 조건은, 본 발명의 실시 가능성 및 효과를 확인하기 위해 채용한 일 조건예에 지나지 않는다. 본 발명은, 이 일 조건예에 한정되지 않는다. 본 발명은, 본 발명의 요지를 일탈하지 않고, 본 발명의 목적을 달성하는 한, 다양한 조건을 채용할 수 있다.
이하에 설명하는 조건에서, 다양한 Ni 도금 강판을 제조했다.
모재 강판은, 표 1에 나타내는 화학 성분을 갖는 것으로 했다. 판 두께는 모두 0.3㎜로 했다. 이들 모재 강판에, 표 2에 나타내는 조건에서 Ni 도금을 행하였다. Ni 도금욕은 pH＝3.5, 욕온 50℃로 조정하고, 애노드는 가용성 Ni로 했다. Ni 도금 부착량은, 전류 밀도 1㎄/㎡를 기본으로 하여, 통전 시간에 의해 제어했다.
Figure pct00001
Figure pct00002
Ni 도금 후의 소재 Ni 도금 강판에, 표 3에 나타내는 가열 조건에서 어닐링을 행하였다.
Figure pct00003
또한, 표 3에 나타나지 않는 기타 어닐링 조건은 이하와 같다. 어닐링 분위기는 N2-2％H2로 했다. 최대 가열 온도로부터 노 내 분위기 가스로 냉각하여 판 온도가 300℃ 이하로 된 것을 확인하고, 탈로했다.
상술한 수단에 의해 얻어진 다양한 Ni 도금 강판을, 이하의 수단에 의해 평가했다. 평가 결과를 표 4에 나타낸다.
(1) 탄소 농화 영역의 존재의 유무의 판단
탄소 농화 영역의 유무는, GDS 분석에 의해 명확해지는 탄소 농도 피크(13)의 유무에 기초하여 판단했다. 구체적으로는, 먼저, Ni 도금 강판(1)의 표면을 세정했다. 이어서, Ni 도금 강판(1)의 표면으로부터 모재 강판(11)을 향해 GDS 분석을 행하였다. 이에 의해, Ni 도금 강판(1)의 표면으로부터 모재 강판(11)에 걸친 탄소의 스펙트럼선의 발광 강도의 변화를 나타내는 차트를 얻었다. 차트의 피크에 있어서의 탄소의 스펙트럼선의 발광 강도와, 모재 강판(11)의 판 두께 중심부에 있어서의 탄소의 스펙트럼선의 발광 강도를 비교함으로써, 피크에 있어서의 탄소 농도가 모재 강판(11)의 판 두께 중심부의 탄소 농도의 2배 이상인지 여부를 판별했다. 또한, Ni 도금 강판의 표면의 오염, 또는 노이즈에 기인하여, GDS 분석의 개시 직후에도 피크가 발생하는 경우가 있었지만, 이것은 탄소 농도 피크(13)의 유무의 판단에 있어서는 무시되었다. 차트의 피크에 있어서의 탄소 농도가 모재 강판(11)의 판 두께 중심부의 탄소 농도의 2배 이상인 Ni 도금 강판을, 탄소 농화 영역을 갖는 Ni 도금 강판이라고 판단했다.
(2) 탄소 결핍 영역의 존재의 유무의 판단
탄소 결핍 영역의 유무도, 탄소 농도 피크(13)와 마찬가지로, GDS 분석에 의해 명확해지는 탄소 농도 보텀(14)의 유무에 기초하여 판단했다. 즉, 먼저 Ni 도금 강판(1)의 표면으로부터 모재 강판(11)에 걸친 탄소의 스펙트럼선의 발광 강도의 변화를 나타내는 차트를 얻었다. 차트의 보텀에 있어서의 탄소 농도의 스펙트럼선의 발광 강도와, 모재 강판(11)의 판 두께 중심부에 있어서의 탄소의 스펙트럼선의 발광 강도를 비교함으로써, 차트의 보텀에 있어서의 탄소 농도가 모재 강판(11)의 판 두께 중심부의 탄소 농도의 0.8배 이하인지 여부를 판별했다. 차트의 보텀에 있어서의 탄소 농도가 모재 강판(11)의 판 두께 중심부의 탄소 농도의 0.8배 이하인 Ni 도금 강판을, 탄소 결핍 영역을 갖는 Ni 도금 강판이라고 판단했다.
(3) Fe-Ni 합금 영역 및 Ni 영역의 두께의 측정
Fe-Ni 합금 영역의 두께 및 Ni 영역의 두께는, EDS에 의한 원소 분석이 가능한 STEM 모드를 갖는 FE-SEM을 사용하여, 판 두께 방향을 따르는 단면을 선 분석함으로써 확인했다. Fe이 5％ 이상 포함되고, 잔부의 금속 원소의 90％ 이상이 Ni인 부분을 Ni 함유층의 Fe-Ni 합금 영역, Fe이 5％ 미만이고, 잔부의 금속 원소의 90％ 이상이 Ni인 부분을 Ni 영역이라고 했다. 두께의 측정은, 상기 정의한 각 영역의 요건을 충족시키는 영역을 결정하고, 그리고 이 영역의 판 두께 방향을 따르는 두께를 계측함으로써 측정했다. 이들의 거리를 5군데에서 측정하고, 그 평균값을, Ni 도금 강판(1)의 Fe-Ni 합금 영역의 두께로서 표에 기재했다. 또한, Ni 도금 강판(1)의 표면과, Ni 영역과 Fe-Ni 합금 영역의 계면 사이의 거리를 5군데에서 측정하고, 그 평균값을, Ni 도금 강판(1)의 Ni 영역의 두께로서 표에 기재했다.
(4) Ni의 부착량의 측정
Ni 도금 강판(1)에 있어서의 Ni의 부착량은, ICP 분석법에 의해 측정했다. 먼저, 면적이 2500㎟(50㎜ 사방)인 Fe-Ni 합금 영역 및 Ni 영역을 산으로 용해한다. 다음으로, 용해액에 포함되는 Total-Ni양을 ICP로 정량 분석한다. ICP로 정량한 Total-Ni양을 상술한 측정 대상 영역의 면적으로 나눔으로써, 단위 면적당의 Ni 부착량을 구했다.
(5) 가공부에서의 Ni계 피막 밀착성의 평가
가공부에서의 Ni계 피막 밀착성의 평가를 위해, 판 두께 0.3㎜t의 시험편을 60㎜×30㎜로 전단했다. 여기서, 길이 60㎜인 긴 변이, 시험편의 압연 방향(L방향)에 평행이 되도록 하고, 길이 30㎜인 짧은 변이, 시험편의 압연 방향에 수직인 방향(C방향)에 평행이 되도록 했다. 시험편의 L방향 단부로부터 30㎜의 개소를 중심으로 1T 굽힘했다. 1T 굽힘이란, 시험 대상이 되는 시험편의 굽힘 방향에 관한 내측에, 시험편의 두께와 동일한 두께(즉, 0.3㎜)의 강판 1매를 끼운 상태에서, 시험편을 180도 구부리는 것을 의미한다. 시험편의 180도 굽힘부의 외측의 2차 전자상을, SEM을 사용하여 배율 200배로 3시야 촬영하고, 100㎛2 상당 이상의 면적의 관찰 시야에 있어서의 Ni계 피막의 박리 및 크랙을 화상 해석에 의해 특정했다. 박리 및 크랙이 1㎟당 합계 10개 이상 관찰된 경우, 표에 「B(Bad)」라고 나타냈다. 박리 및 크랙이 1㎟당 합계 1 내지 9개 이하였던 경우, 표에 「G(Good)」라고 나타내고, 0개였던 경우, 표에 「VG(Very Good)」라고 나타냈다. 여기서는 「G」와 「VG」를 합격이라고 했다.
(6) 가공부 내식성의 평가
내식성의 평가는, 가공부 Ni계 피막 밀착성의 평가가 합격이 된 경우에만, 원통 프레스 성형 후의 프레스품을 사용하여 실시했다. 프레스는 4단 트랜스퍼 프레스를 사용하여, 최종 형상은 18㎜φ×높이 50㎜의 원통 캔으로 했다. 내식성 평가의 시험 조건은, 상대 습도 95％, 온도 60℃의 조건에서 유지하고, 그리고, 5일째와 10일째와 20일째에 적녹의 발생 유무를 눈으로 보아 확인했다. 평가 기준은, 5일째에 적녹의 발생이 없는 경우를 합격, 적녹이 발생한 경우를 불합격이라고 하여 표 중에서 「B(Bad)」라고 나타냈다. 상기 합격 중에서, 5일째에는 적녹의 발생이 없었지만 10일째에 적녹이 발생한 경우는 「G(Good)」, 10일째에는 적녹의 발생이 없었지만 20일째에 적녹이 발생한 경우는 「VG(Very Good)」, 20일째에도 적녹의 발생이 없었던 경우는 「GG(Greatly Good)」라고 표 중에 나타냈다.
Figure pct00004
Figure pct00005
표 4에 나타낸 바와 같이, 실시예의 모두에 있어서, 모재 강판의 판 두께 중심부의 탄소 농도의 2배 이상의 탄소 농도를 나타내는 탄소 농도 피크(13)의 존재가 확인되었다. 그리고, 이들 실시예는, 도금 밀착성 및 가공부 내식성 모두 우수했다.
한편, 비교예의 모두에 있어서, 탄소 농도 피크(13)의 존재가 확인되지 않았다. 이들 비교예는, 도금 밀착성 또는 가공부 내식성이 실시예보다도 뒤떨어져 있었다.
비교예 B1, B3, B5 및 B8에 탄소 농도 피크(13)가 발생하지 않은 이유는, 예비 열처리 시에 345 내지 595℃가 되는 시간이 부족하여, 탄소의 농화가 충분히 발생하지 않았기 때문이라고 추정된다.
비교예 B2, B4, B6 및 B7에 탄소 농도 피크(13)가 발생하지 않은 이유는, 예비 열처리 시에 345 내지 595℃가 되는 시간이 60초를 초과하여, 탄소가 Ni 도금 강판의 표면 부근까지 확산되었으므로, 탄소 농도 피크(13)가 소실되었기 때문이라고 추정된다.
비교예 B9에 탄소 농도 피크(13)가 발생하지 않은 이유는, 595℃부터 최대 가열 온도까지의 범위에 있어서의 소재 Ni 도금 강판의 평균 가열 속도가 부족하여, 탄소가 Ni 도금 강판의 표면 부근까지 확산되었으므로, 탄소 농도 피크(13)가 소실되었기 때문이라고 추정된다.
본 발명에 따르면, 피막 밀착성 및 가공부 내식성이 우수한 Ni 도금 강판 및 Ni 도금 강판의 제조 방법을 제공할 수 있다. 이러한 Ni 도금 강판은, 예를 들어 전지의 소형화 및 대용량화에 공헌하므로, 높은 산업상 이용가능성을 갖는다.
1: Ni 도금 강판
11: 모재 강판
12: Ni계 피복층
13: 탄소 농도 피크
14: 탄소 농도 보텀
S1: Ni 도금 공정
S2: 예비 열처리 공정
S3: 어닐링 공정

Claims (8)

  1. 모재 강판과,
    상기 모재 강판의 표면에 배치된 Ni계 피복층
    을 구비하는 Ni 도금 강판이며,
    상기 Ni 도금 강판을 글로우 방전 발광 분석함으로써 얻어지는 탄소 농도의 깊이 방향 분포가, 상기 모재 강판과 상기 Ni계 피복층의 계면의 근방에 있어서, 상기 모재 강판의 판 두께 중심부의 탄소 농도의 2배 이상의 탄소 농도를 나타내는 피크를 갖는
    것을 특징으로 하는 Ni 도금 강판.
  2. 제1항에 있어서, 상기 Ni 도금 강판을 상기 글로우 방전 발광 분석함으로써 얻어지는 상기 탄소 농도의 상기 깊이 방향 분포가, 상기 피크의 상기 모재 강판측에 인접하여, 상기 모재 강판의 상기 판 두께 중심부의 상기 탄소 농도의 0.8배 이하의 탄소 농도를 나타내는 보텀을 갖는
    것을 특징으로 하는 Ni 도금 강판.
  3. 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 Ni계 피복층이,
    상기 모재 강판의 표면에 배치된, 5질량％ 이상의 Fe을 포함하고, 그 잔부의 금속 원소의 90질량％ 이상이 Ni인 Fe-Ni 합금 영역과,
    상기 Fe-Ni 합금 영역 상에 배치된, 5질량％ 미만의 Fe을 포함하고, 그 잔부의 금속 원소의 90질량％ 이상이 Ni인 Ni 영역
    을 포함하고,
    상기 피크가 상기 Fe-Ni 합금 영역과 상기 모재 강판의 계면의 근방에 존재하는 것을 특징으로 하는 Ni 도금 강판.
  4. 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 Ni계 피복층이, 5질량％ 이상의 Fe을 포함하고, 그 잔부의 금속 원소의 90질량％ 이상이 Ni인 Fe-Ni 합금 영역이고,
    상기 피크가 상기 Fe-Ni 합금 영역과 상기 모재 강판의 계면의 근방에 존재하는 것을 특징으로 하는 Ni 도금 강판.
  5. 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 Ni계 피복층에 있어서의 편면당 Ni 부착량이 1.5 내지 65g/㎡인 것을 특징으로 하는 Ni 도금 강판.
  6. 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서, 전지 용기의 소재로서 사용되는 것을 특징으로 하는 Ni 도금 강판.
  7. 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 기재된 Ni 도금 강판의 제조 방법이며,
    모재 강판에 Ni 도금함으로써 소재 Ni 도금 강판을 얻는 공정과,
    상기 소재 Ni 도금 강판을 예비 열처리하는 공정과,
    상기 소재 Ni 도금 강판을 어닐링함으로써 상기 Ni 도금을 합금화하는 공정을 구비하고,
    상기 예비 열처리에 있어서, 상기 소재 Ni 도금 강판의 온도가 345℃ 이상 595℃ 이하의 범위 내가 되는 시간을 30초 이상 60초 이하로 하고,
    상기 어닐링에 있어서, 595℃부터 최대 가열 온도까지의 범위에 있어서의 상기 소재 Ni 도금 강판의 평균 가열 속도를 16℃/초 이상으로 하고, 상기 소재 Ni 도금 강판의 상기 최대 가열 온도를 650℃ 이상 850℃ 이하로 하고, 또한 상기 소재 Ni 도금 강판의 온도가 830℃를 초과하는 시간을 0초 이상 15초 이하로 하는
    것을 특징으로 하는 Ni 도금 강판의 제조 방법.
  8. 제7항에 있어서, 상기 어닐링에 있어서, 상기 소재 Ni 도금 강판의 상기 최대 가열 온도를 805℃ 이하로 하고, 상기 소재 Ni 도금 강판의 온도가 800℃를 초과하는 시간을 0초 이상 4초 이하로 하는
    것을 특징으로 하는 Ni 도금 강판의 제조 방법.
KR1020227018009A 2019-12-20 2019-12-20 Ni 도금 강판 및 Ni 도금 강판의 제조 방법 KR102616426B1 (ko)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
PCT/JP2019/050106 WO2021100212A1 (ja) 2019-12-20 2019-12-20 Ｎｉめっき鋼板、及びＮｉめっき鋼板の製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20220091543A true KR20220091543A (ko) 2022-06-30
KR102616426B1 KR102616426B1 (ko) 2023-12-27

Family

ID=75981539

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020227018009A KR102616426B1 (ko) 2019-12-20 2019-12-20 Ni 도금 강판 및 Ni 도금 강판의 제조 방법

Country Status (6)

Country Link
US (1) US12116688B2 (ko)
EP (1) EP4079943A4 (ko)
JP (1) JP6885511B1 (ko)
KR (1) KR102616426B1 (ko)
CN (1) CN114746584B (ko)
WO (1) WO2021100212A1 (ko)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US11773503B2 (en) * 2019-12-20 2023-10-03 Nippon Steel Corporation Ni-plated steel sheet and method for manufacturing Ni-plated steel sheet

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2017094920A1 (ja) 2015-12-03 2017-06-08 東洋鋼鈑株式会社 電池容器用表面処理鋼板

Family Cites Families (19)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5830937B2 (ja) * 1979-02-02 1983-07-02 新日本製鐵株式会社 短時間連続焼鈍によるａｉキルド深絞り用冷延鋼板の製造法
WO1998042963A1 (fr) * 1997-03-25 1998-10-01 Nippon Oil Co., Ltd. Catalyseur pour lutter contre les emissions polluantes, son procede de fabrication, filtre de reduction des emissions polluantes et son procede de fabrication, et appareil de reduction des emissions polluantes
JP4491208B2 (ja) 2003-08-29 2010-06-30 パナソニック株式会社 電池缶およびその製造方法ならびに電池
JP4612572B2 (ja) * 2006-03-24 2011-01-12 新日本製鐵株式会社 高純度Ｎｉ拡散メッキ鋼板の製造方法
WO2010113502A1 (ja) 2009-03-31 2010-10-07 新日本製鐵株式会社 非水電解質を用いた二次電池の金属外装ケース用素材及び金属外装ケース、二次電池、金属外装ケース用素材の製造方法
JP5168237B2 (ja) * 2009-06-29 2013-03-21 新日鐵住金株式会社 ＮｉおよびＦｅの溶出が抑制された高容量リチウムイオン電池の金属外装ケース用素材および金属外装ケースならびにリチウムイオン電池
JP5908895B2 (ja) * 2011-05-10 2016-04-26 Ｊｘ金属株式会社 Ｎｉめっき金属板、溶接構造体、及び電池用材料の製造方法
WO2013047808A1 (ja) * 2011-09-30 2013-04-04 新日鐵住金株式会社 高強度溶融亜鉛めっき鋼板及びその製造方法
JP6062048B2 (ja) * 2013-06-10 2017-01-18 株式会社日立製作所 鉄鋼部材および鉄鋼部材の製造方法
JP6282577B2 (ja) * 2014-11-26 2018-02-21 株式会社神戸製鋼所 高強度高延性鋼板
GB2545722A (en) * 2015-12-23 2017-06-28 Goodwin Plc A steel, a welding consumable, a cast, forged or wrought product, a method of welding, a welded product and a method of heat treating
JP6518949B2 (ja) * 2016-06-28 2019-05-29 Ｊｆｅスチール株式会社 溶融亜鉛めっき鋼板の製造方法および溶融亜鉛めっき鋼板
CN110268083B (zh) * 2017-02-10 2021-05-28 杰富意钢铁株式会社 高强度镀锌钢板及其制造方法
EP3591098B1 (en) * 2017-03-02 2024-08-21 Nippon Steel Corporation Surface-treated steel sheet
WO2019071346A1 (en) * 2017-10-11 2019-04-18 The University Of Western Ontario ZN-NI COATING RESISTANT TO HIGH TEMPERATURES ON STEEL SUBSTRATE
WO2020137887A1 (ja) * 2018-12-27 2020-07-02 日本製鉄株式会社 Ｎｉめっき鋼板、及びＮｉめっき鋼板の製造方法
WO2020149356A1 (ja) * 2019-01-16 2020-07-23 日本製鉄株式会社 方向性電磁鋼板、方向性電磁鋼板の絶縁被膜形成方法、及び方向性電磁鋼板の製造方法
US11773503B2 (en) * 2019-12-20 2023-10-03 Nippon Steel Corporation Ni-plated steel sheet and method for manufacturing Ni-plated steel sheet
WO2021178681A1 (en) * 2020-03-04 2021-09-10 Ascend Performance Materials Operations Llc Antiviral articles

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2017094920A1 (ja) 2015-12-03 2017-06-08 東洋鋼鈑株式会社 電池容器用表面処理鋼板
WO2017094919A1 (ja) 2015-12-03 2017-06-08 東洋鋼鈑株式会社 電池容器用表面処理鋼板
WO2017094921A1 (ja) 2015-12-03 2017-06-08 東洋鋼鈑株式会社 電池缶用ニッケルめっき熱処理鋼板
KR20180087388A (ko) * 2015-12-03 2018-08-01 도요 고한 가부시키가이샤 전지 용기용 표면 처리 강판

Also Published As

Publication number Publication date
JP6885511B1 (ja) 2021-06-16
JPWO2021100212A1 (ja) 2021-11-25
WO2021100212A1 (ja) 2021-05-27
KR102616426B1 (ko) 2023-12-27
EP4079943A1 (en) 2022-10-26
CN114746584A (zh) 2022-07-12
EP4079943A4 (en) 2022-12-21
US20220403539A1 (en) 2022-12-22
CN114746584B (zh) 2024-10-29
US12116688B2 (en) 2024-10-15

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US11699824B2 (en) Nickel-plated, heat-treated steel sheet for battery cans
US20190249274A1 (en) Conductive material for connection parts which has excellent minute slide wear resistance
US9132610B2 (en) Ni-containing-surface-treated steel sheet for can and manufacturing method thereof
JP6113674B2 (ja) 耐熱性に優れる表面被覆層付き銅合金板条
KR20200111805A (ko) 전지 용기용 표면 처리 강판 및 전지 용기용 표면 처리 강판의 제조 방법
JP7443737B2 (ja) 銅合金板、めっき皮膜付銅合金板及びこれらの製造方法
WO2020203576A1 (ja) 銅合金板、めっき皮膜付銅合金板及びこれらの製造方法
KR102524942B1 (ko) 가공 후 내식성이 우수한 Ni 도금 강판, 및 Ni 도금 강판의 제조 방법
US11781234B2 (en) Copper alloy plate, plating film-attached copper alloy plate, and methods respectively for manufacturing these products
WO2020137887A1 (ja) Ｎｉめっき鋼板、及びＮｉめっき鋼板の製造方法
KR102616426B1 (ko) Ni 도금 강판 및 Ni 도금 강판의 제조 방법
JP6927433B1 (ja) Ｎｉめっき鋼板、及びＮｉめっき鋼板の製造方法
TWI828828B (zh) 銅合金板、附鍍敷被膜之銅合金板及此等之製造方法
US20180044807A1 (en) Electrically conductive material for connection component

Legal Events

Date Code Title Description
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant