KR20210132071A - 액정 배향제 및 그것을 사용한 액정 표시 소자 - Google Patents
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Abstract
Description
본 발명은, 액정 표시 소자의 제조에 사용되는 액정 배향제, 이 액정 배향제로부터 얻어지는 액정 배향막 및 이 액정 배향막을 사용한 액정 표시 소자에 관한 것이다.
액정 표시 소자는, 경량, 박형 또한 저소비 전력의 표시 디바이스로서 알려져 있다. 액정 표시 소자는, 전극을 구비한 투명한 1 쌍의 기판에 의해 액정층을 협지하여 구성된다. 액정 표시 소자에서는, 액정이 기판 간에서 원하는 배향 상태가 되도록, 유기 재료로 이루어지는 유기막이 액정 배향막으로서 사용되고 있다.
최근, 스마트폰이나 태블릿형 단말용의 고정세 액정 표시 소자에 있어서, 높은 표시 품위가 요구되고 있는 가운데, 액정 배향막에도, 액정 배향성 외에 다양한 특성이 높은 레벨로 요구되고 있다.
그들 요구를 달성하기 위해, 액정 배향막을 제조하기 위한 액정 배향제에 다양한 특성을 갖는 저분자 화합물을 첨가하는 수법이 널리 사용되고 있다. 예를 들어, 얻어지는 액정 배향막의 기계적 강도를 향상시키기 위해, 액정 배향막의 경도를 향상시키는 저분자 화합물을 함유하는 액정 배향제가 제안되어 있다 (특허문헌 1,2 참조). 이 저분자 화합물에는, 액정 배향막 제조 공정에 있어서 실시되는 가열 공정에서, 가교 반응을 일으키는 기가 함유되어 있어, 가교에 의해 중합체끼리가 연결됨으로써, 얻어지는 액정 배향막의 기계적 강도를 향상시키고 있다.
그런데, 상기 수법의 일반적인 과제로서, 액정 배향성의 저하를 들 수 있다. 액정 배향막 중의 중합체가 3 차원적으로 가교됨으로써, 액정이 일정 방향으로 배향되는 것을 저해해 버린다. 또, 미반응의 저분자 화합물의 존재도, 액정 배향에 악영향을 주는 경우가 있다.
본 발명의 주목적은, 액정 배향성이나 그 밖의 특성을 저하시키지 않고, 액정 배향막의 기계적 강도를 향상시킬 수 있는 액정 배향제를 제공하는 것이다.
본 발명자들은, 상기 과제를 해결하기 위해 예의 검토를 실시한 결과, 본 발명을 완성하기에 이르렀다. 즉, 본 발명의 요지는 이하에 나타내는 바와 같다.
1. 하기의 (A) 성분, (B) 성분, 및 유기 용제를 함유하는 것을 특징으로 하는 액정 배향제.
(A) 성분 : 폴리이미드 전구체 및 그 폴리이미드 전구체의 이미드화 중합체로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종류의 중합체.
(B) 성분 : 하이드록시알킬아미드기를 갖는 기 및 하기 식 (1) 의 구조를 갖는 화합물.
[화학식 1]
R1 ∼ R4 는, 각각 독립적으로 수소 원자 또는 탄소수 1 ∼ 5 의 알킬기를 나타내고, * 는 다른 원자와의 결합을 나타낸다.
본 발명의 액정 배향제를 사용함으로써, 액정 배향성이나 그 밖의 특성을 저하시키지 않고, 액정 배향막의 기계적 강도를 향상시킨 액정 배향막을 얻을 수 있다.
본 발명에 의해, 왜 상기 서술한 효과가 얻어지는지에 대해서는, 반드시 분명한 것은 아니지만, 대체로 다음과 같이 생각된다.
본 발명의 액정 배향제가 함유하는 (B) 성분의 화합물에는, 식 (1) 과 같이, 폴리이미드 골격의 구조를 갖고 있다. 이와 같이, (A) 성분의 중합체와 유사한 구조를 화합물이 갖고 있기 때문에, 액정이 중합체를 따라 배향되는 것을 저해하지 않는 것이 생각된다. 또, 편광 자외선을 조사하여 액정을 배향시키는 공정에서 얻어지는 액정 배향막에 있어서는, 식 (1) 중의 시클로부탄 구조가 편광 자외선 조사에 의해 분해되기 때문에, 액정의 배향을 저해하지 않는 것도 생각된다.
<(A) 성분>
본 발명의 액정 배향제에 함유되는 (A) 성분은, 폴리이미드 전구체 및 그 폴리이미드 전구체의 이미드화 중합체로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종류의 중합체이며, 그 구조는 특별히 한정되지 않는다.
<테트라카르복실산 유도체>
본 발명의 액정 배향제에 함유되는 폴리이미드 전구체는, 테트라카르복실산 유도체와 디아민의 반응으로부터 얻어지고, 폴리이미드는, 폴리이미드 전구체를 이미드화함으로써 얻어진다. 이하에, 사용되는 재료의 구체예 및 제조 방법을 상세하게 서술한다.
폴리이미드 전구체의 제조에 사용되는 테트라카르복실산 유도체로는, 테트라카르복실산 2 무수물 뿐만 아니라, 그 유도체인 테트라카르복실산, 테트라카르복실산디할라이드 화합물, 테트라카르복실산디알킬에스테르, 테트라카르복실산디알킬에스테르디할라이드를 들 수 있다.
테트라카르복실산 2 무수물 또는 그 유도체로는, 그 중에서도, 하기 식 (2) 로 나타내는 것이 바람직하다.
[화학식 2]
식 (2) 중, X1 의 구조는 특별히 한정되지 않는다. 바람직한 구체예로는, 하기 식 (X1-1) ∼ (X1-44) 를 들 수 있다.
[화학식 3]
[화학식 4]
[화학식 5]
[화학식 6]
[화학식 7]
[화학식 8]
식 (X1-1) ∼ (X1-4) 에 있어서, R11 ∼ R31 은, 각각 독립적으로, 수소 원자, 할로겐 원자, 탄소수 1 ∼ 6 의 알킬기, 탄소수 2 ∼ 6 의 알케닐기, 탄소수 2 ∼ 6 의 알키닐기, 불소 원자를 함유하는 탄소수 1 ∼ 6 의 1 가의 유기기, 또는 페닐기이다. 액정 배향성의 점에서, R3 ∼ R23 은, 수소 원자, 할로겐 원자, 메틸기, 또는 에틸기가 바람직하고, 수소 원자, 또는 메틸기가 바람직하다.
식 (X1-1) 의 구체예로는, 하기 식 (X1-1-1) ∼ (X1-1-6) 을 들 수 있다. 액정 배향성 및 광 반응의 감도의 점에서, (X1-1-1) 이 특히 바람직하다.
[화학식 9]
<디아민>
폴리이미드 전구체의 제조에 사용되는 디아민은, 하기 식 (3) 으로 나타낸다.
[화학식 10]
상기 식 (3) 중, A1 및 A2 는 각각 독립적으로, 수소 원자, 또는 탄소수 1 ∼ 5 의 알킬기, 탄소수 2 ∼ 5 의 알케닐기, 또는 탄소수 2 ∼ 5 의 알키닐기이다.
Y1 의 구조는 특별히 한정되지 않는다. 바람직한 구조로는 이하의 (Y-1) ∼ (Y-182) 를 들 수 있다.
[화학식 11]
[화학식 12]
[화학식 13]
[화학식 14]
[화학식 15]
[화학식 16]
[화학식 17]
[화학식 18]
[화학식 19]
[화학식 20]
[화학식 21]
[화학식 22]
[화학식 23]
[화학식 24]
[화학식 25]
[화학식 26]
[화학식 27]
[화학식 28]
[화학식 29]
[화학식 30]
상기 식 중, Me 는, 메틸기를 나타내고, R1 은 수소 원자 또는 탄소수 1 ∼ 5 의 탄화수소기를 나타낸다.
[화학식 31]
그 중에서도, Y1 의 구조로는, (Y-7), (Y-8), (Y-16), (Y-17), (Y-18), (Y-20), (Y-21), (Y-22), (Y-28), (Y-35), (Y-38), (Y-43), (Y-48), (Y-64), (Y-66), (Y-71), (Y-72), (Y-76), (Y-77), (Y-80), (Y-81), (Y-82), (Y-83), (Y-156), (Y-159), (Y-160), (Y-161), (Y-162) (Y-168), (Y-169), (Y-170), (Y-171), (Y-173), (Y-175) 가 바람직하고, 특히는 (Y-7), (Y-8), (Y-16), (Y-17), (Y-18), (Y-21), (Y-22), (Y-28), (Y-38), (Y-64), (Y-66), (Y-72), (Y-76), (Y-81), (Y-156), (Y-159), (Y-160), (Y-161), (Y-162), (Y-168), (Y-169), (Y-170), (Y-171), (Y-173), (Y-175) 가 바람직하다.
<(B) 성분>
본 발명의 액정 배향제에 함유되는 (B) 성분은, 하이드록시알킬아미드기를 갖는 기 및 하기 식 (1) 의 구조를 갖는 화합물이다.
[화학식 32]
R1 ∼ R4 는, 각각 독립적으로 수소 원자 또는 탄소수 1 ∼ 5 의 알킬기를 나타낸다.
바람직하게는, 수소 원자 혹은 메틸기이다. * 는 다른 원자와의 결합을 나타낸다.
(B) 성분 중, 하이드록시알킬아미드기는, 2 개 이상 갖고 있는 것이 바람직하다. 하이드록시알킬아미드기를 2 개 이상 갖는 기의 구조는 특별히 한정되지 않지만, 입수성 등의 점에서, 바람직한 예로서, 하기 식 (4) 로 나타내는 화합물을 들 수 있다.
[화학식 33]
X2 는 탄소수 1 ∼ 20 의 지방족 탄화수소기, 또는 방향족 탄화수소기를 포함하는 n + 1 가의 유기기이고, n 은 2 ∼ 6 의 정수이고, * 는 (1) 과의 결합을 나타낸다.
R5 및 R6 은, 각각 독립적으로, 수소 원자, 치환기를 가져도 되는 탄소수 1 ∼ 4 의 알킬기, 치환기를 가져도 되는 탄소수 2 ∼ 4 의 알케닐기, 또는 치환기를 가져도 되는 탄소수 2 ∼ 4 의 알키닐기이다. 또, R5 및 R6 중 적어도 1 개는, 하이드록시기로 치환된 탄화수소기를 나타낸다.
식 (4) 중, n 은, 용해성의 관점에서, 2 ∼ 4 가 바람직하다.
식 (4) 중, R5 및 R6 중 적어도 1 개는, 하기 식 (5) 로 나타내는 구조인 것이 반응성의 관점에서 바람직하고, 하기 식 (6) 으로 나타내는 구조인 것이 더욱 바람직하다.
[화학식 34]
식 (5) 중, R7 ∼ R10 은, 각각 독립적으로, 수소 원자, 탄화수소기, 또는 하이드록시기로 치환된 탄화수소기이다.
[화학식 35]
(B) 성분의 바람직한 구체예로는, 하기의 화합물을 들 수 있다.
[화학식 36]
(B) 성분은, 지나치게 많으면 액정 배향성이나 프레틸트각에 영향을 주고, 지나치게 적으면 본 발명의 효과가 얻어지지 않는다. 그 때문에, (B) 성분의 함유량은, (A) 성분에 대하여, 3 ∼ 30 질량% 가 바람직하고, 5 ∼ 15 질량% 가 보다 바람직하다.
<폴리아믹산>
본 발명에 사용되는 폴리이미드 전구체인 폴리아믹산은, 이하에 나타내는 방법으로 제조할 수 있다. 구체적으로는, 테트라카르복실산 2 무수물과 디아민을 유기 용매의 존재하, -20 ℃ ∼ 150 ℃, 바람직하게는 0 ℃ ∼ 50 ℃ 에서, 30 분 ∼ 24 시간, 바람직하게는 1 ∼ 12 시간 반응시킴으로써 합성할 수 있다.
상기 반응에 사용하는 유기 용매는, 모노머 및 폴리머의 용해성에서 N,N-디메틸포름아미드, N-메틸-2-피롤리돈, 또는 γ-부티로락톤이 바람직하고, 이것들은 1 종 또는 2 종 이상을 혼합하여 사용해도 된다. 폴리머의 농도는, 폴리머의 석출이 일어나기 어렵고, 또한 고분자량체를 얻기 쉽다는 관점에서, 1 ∼ 30 질량% 가 바람직하고, 5 ∼ 20 질량% 가 보다 바람직하다.
상기와 같이 하여 얻어진 폴리아믹산은, 반응 용액을 잘 교반시키면서 빈용매에 주입함으로써, 폴리머를 석출시켜 회수할 수 있다. 또, 석출을 수 회 실시하고, 빈용매로 세정 후, 상온 혹은 가열 건조시킴으로써 정제된 폴리아믹산의 분말을 얻을 수 있다. 빈용매는, 특별히 한정되지 않지만, 물, 메탄올, 에탄올, 헥산, 부틸셀로솔브, 아세톤, 톨루엔 등을 들 수 있다.
<폴리아믹산에스테르>
본 발명에 사용되는 폴리이미드 전구체의 하나인 폴리아믹산에스테르는, 이하에 나타내는 (1), (2) 또는 (3) 의 방법으로 제조할 수 있다.
(1) 폴리아믹산으로부터 제조하는 경우
폴리아믹산에스테르는, 테트라카르복실산 2 무수물과 디아민으로부터 얻어지는 폴리아믹산을 에스테르화함으로써 합성할 수 있다. 구체적으로는, 폴리아믹산과 에스테르화제를 유기 용제의 존재하에서 -20 ℃ ∼ 150 ℃, 바람직하게는 0 ℃ ∼ 50 ℃ 에 있어서, 30 분 ∼ 24 시간, 바람직하게는 1 ∼ 4 시간 반응시킴으로써 합성할 수 있다.
에스테르화제로는, 정제에 의해 용이하게 제거할 수 있는 것이 바람직하고, N,N-디메틸포름아미드디메틸아세탈, N,N-디메틸포름아미드디에틸아세탈, N,N-디메틸포름아미드디프로필아세탈, N,N-디메틸포름아미드디네오펜틸부틸아세탈, N,N-디메틸포름아미드디-t-부틸아세탈, 1-메틸-3-p-톨릴트리아젠, 1-에틸-3-p-톨릴트리아젠, 1-프로필-3-p-톨릴트리아젠, 4-(4,6-디메톡시-1,3,5-트리아진-2-일)-4-메틸모르폴리늄클로라이드 등을 들 수 있다. 에스테르화제의 사용량은, 폴리아믹산의 반복 단위 1 몰에 대하여 2 ∼ 6 몰 당량이 바람직하다.
상기 반응에 사용하는 용매는, 폴리머의 용해성에서 N,N-디메틸포름아미드, N-메틸-2-피롤리돈, 또는 γ-부티로락톤이 바람직하고, 이것들은 1 종 또는 2 종 이상을 혼합하여 사용해도 된다. 반응액 중의 폴리머의 농도는, 폴리머의 석출이 일어나기 어렵고, 또한 고분자량체를 얻기 쉽다는 관점에서, 1 ∼ 30 질량% 가 바람직하고, 5 ∼ 20 질량% 가 보다 바람직하다.
(2) 테트라카르복실산디에스테르디클로라이드와 디아민의 반응에 의해 제조하는 경우
폴리아믹산에스테르는, 테트라카르복실산디에스테르디클로라이드와 디아민으로부터 제조할 수 있다. 구체적으로는, 테트라카르복실산디에스테르디클로라이드와 디아민을 염기와 유기 용제의 존재하에서 -20 ℃ ∼ 150 ℃, 바람직하게는 0 ℃ ∼ 50 ℃ 에 있어서, 30 분 ∼ 24 시간, 바람직하게는 1 ∼ 4 시간 반응시킴으로써 합성할 수 있다.
상기 염기에는, 피리딘, 트리에틸아민, 4-디메틸아미노피리딘 등을 사용할 수 있는데, 반응이 온화하게 진행되기 때문에 피리딘이 바람직하다. 염기의 사용량은, 제거가 용이한 양이고, 또한 고분자량체를 얻기 쉽다는 관점에서, 테트라카르복실산디에스테르디클로라이드에 대하여, 2 ∼ 4 배 몰이 바람직하다.
상기 반응에 사용하는 용매는, 모노머 및 폴리머의 용해성에서 N-메틸-2-피롤리돈, 또는 γ-부티로락톤이 바람직하고, 이것들은 1 종 또는 2 종 이상을 혼합하여 사용해도 된다. 반응액 중의 폴리머 농도는, 폴리머의 석출이 일어나기 어렵고, 또한 고분자량체를 얻기 쉽다는 관점에서, 1 ∼ 30 질량% 가 바람직하고, 5 ∼ 20 질량% 가 보다 바람직하다. 또, 테트라카르복실산디에스테르디클로라이드의 가수 분해를 방지하기 위해, 폴리아믹산에스테르의 합성에 사용하는 용매는 가능한 한 탈수되어 있는 것이 바람직하고, 질소 분위기 중에서, 외기의 혼입을 방지하는 것이 바람직하다.
(3) 테트라카르복실산디에스테르와 디아민의 반응에 의해 제조하는 경우
폴리아믹산에스테르는, 테트라카르복실산디에스테르와 디아민을 중축합시킴으로써 제조할 수 있다. 구체적으로는, 테트라카르복실산디에스테르와 디아민을 축합제, 염기, 및 유기 용제의 존재하에서 0 ℃ ∼ 150 ℃, 바람직하게는 0 ℃ ∼ 100 ℃ 에 있어서, 30 분 ∼ 24 시간, 바람직하게는 3 ∼ 15 시간 반응시킴으로써 제조할 수 있다.
상기 축합제에는, 트리페닐포스파이트, 디시클로헥실카르보디이미드, 1-에틸-3-(3-디메틸아미노프로필)카르보디이미드염산염, N,N'-카르보닐디이미다졸, 디메톡시-1,3,5-트리아지닐메틸모르폴리늄, O-(벤조트리아졸-1-일)-N,N,N',N'-테트라메틸우로늄테트라플루오로보레이트, O-(벤조트리아졸-1-일)-N,N,N',N'-테트라메틸우로늄헥사플루오로포스페이트, (2,3-디하이드로-2-티옥소-3-벤조옥사졸릴)포스폰산디페닐 등을 사용할 수 있다. 축합제의 첨가량은, 테트라카르복실산디에스테르에 대하여 2 ∼ 3 배 몰이 바람직하다.
상기 염기에는, 피리딘, 트리에틸아민 등의 3 급 아민을 사용할 수 있다. 염기의 사용량은, 제거가 용이한 양이고, 또한 고분자량체를 얻기 쉽다는 관점에서, 디아민 성분에 대하여 2 ∼ 4 배 몰이 바람직하다.
또, 상기 반응에 있어서, 루이스산을 첨가제로서 첨가함으로써 반응이 효율적으로 진행된다. 루이스산으로는, 염화리튬, 브롬화리튬 등의 할로겐화리튬이 바람직하다. 루이스산의 첨가량은 디아민 성분에 대하여 0 ∼ 1.0 배 몰이 바람직하다.
상기 3 개의 폴리아믹산에스테르의 제조 방법 중에서도, 고분자량의 폴리아믹산에스테르가 얻어지기 때문에, 상기 (1) 또는 상기 (2) 의 제조 방법이 특히 바람직하다.
상기와 같이 하여 얻어지는 폴리아믹산에스테르의 용액은, 잘 교반시키면서 빈용매에 주입함으로써, 폴리머를 석출시킬 수 있다. 석출을 수 회 실시하고, 빈용매로 세정 후, 상온 혹은 가열 건조시켜 정제된 폴리아믹산에스테르의 분말을 얻을 수 있다. 빈용매는, 특별히 한정되지 않지만, 물, 메탄올, 에탄올, 헥산, 부틸셀로솔브, 아세톤, 톨루엔 등을 들 수 있다.
<폴리이미드>
본 발명에 사용되는 폴리이미드는, 상기 폴리아믹산 또는 폴리아믹산에스테르를 이미드화함으로써 제조할 수 있다. 본 발명에서 사용되는 폴리이미드 이미드화율은 100 % 에 한정되지 않는다. 전기 특성의 관점에서 20 ∼ 99 % 가 바람직하다. 폴리아믹산에스테르로부터 폴리이미드를 제조하는 경우, 상기 폴리아믹산에스테르 용액, 또는 폴리아믹산에스테르 수지 분말을 유기 용매에 용해시켜 얻어지는 폴리아믹산 용액에 염기성 촉매를 첨가하는 화학적 이미드화가 간편하다. 화학적 이미드화는, 비교적 저온에서 이미드화 반응이 진행되고, 이미드화의 과정 (課程) 에서 중합체의 분자량 저하가 일어나기 어려우므로 바람직하다.
화학적 이미드화는, 이미드화시키고자 하는 폴리아믹산 또는 폴리아믹산에스테르를, 유기 용매 중에 있어서 염기성 촉매와 산 무수물의 존재하에서 교반함으로써 실시할 수 있다. 또 그 때에 하기 (R-1) ∼ (R-2) 에 나타내는 화합물을 반응시킴으로써, 말단에 특정 구조를 도입한 폴리이미드 전구체가 얻어진다. 유기 용매로는 전술한 중합 반응시에 사용하는 용매를 사용할 수 있다. 염기성 촉매로는 피리딘, 트리에틸아민, 트리메틸아민, 트리부틸아민, 트리옥틸아민 등을 들 수 있다. 그 중에서도 피리딘은 반응을 진행시키기에 적당한 염기성을 가지므로 바람직하다. 또, 산 무수물로는 무수 아세트산, 무수 트리멜리트산, 무수 피로멜리트산 등을 들 수 있고, 그 중에서도 무수 아세트산을 사용하면 반응 종료 후의 정제가 용이해지므로 바람직하다. 통상적으로 종래의 폴리이미드의 경우에는 무수 아세트산을 사용하면 주사슬 말단으로서 아세틸기가 생성되는 반면, 본 발명은 아세틸화를 억제할 수 있다.
[화학식 37]
R22, R22' 는 1 가의 유기기를 나타내고, 그 구체예로는 메틸기, 에틸기, 프로필기, 2,2,2-트리클로로에틸기, 2-트리메틸실릴에틸기, 1,1-디메틸프로피닐기, 1-메틸-1-페닐에틸기, 1-메틸-1-(4-비페닐일)에틸기, 1,1-디메틸-2-할로에틸기, 1,1-디메틸-2-시아노에틸기, tert-부틸기, 시클로부틸기, 1-메틸시클로부틸기, 1-아다만틸기, 비닐기, 알릴기, 신나밀기, 8-퀴놀릴기, N-하이드록시피페리디닐기, 벤질기, p-니트로벤질기, 3,4-디메톡시-6-니트로벤질기, 2,4-디클로로벤질기, 9-플루오닐메틸기 등을 들 수 있다.
이미드화 반응을 실시할 때의 온도는, 예를 들어 -20 ℃ ∼ 120 ℃ 이고, 바람직하게는 0 ℃ ∼ 100 ℃ 이며, 반응 시간은 1 ∼ 100 시간으로 실시할 수 있다. 염기성 촉매의 양은 아믹산기의 0.5 ∼ 30 몰 배, 바람직하게는 2 ∼ 20 몰 배이며, 산 무수물의 양은 아믹산기의 1 ∼ 50 몰 배, 바람직하게는 3 ∼ 30 몰 배이다. 얻어지는 중합체의 이미드화율은, 촉매량, 온도, 반응 시간을 조절함으로써 제어할 수 있다.
폴리아믹산에스테르 또는 폴리아믹산의 이미드화 반응 후의 용액에는, 첨가한 촉매 등이 잔존하고 있으므로, 이하에 서술하는 수단에 의해, 얻어진 이미드화 중합체를 회수하고, 유기 용매로 재용해시켜, 본 발명의 액정 배향제로 하는 것이 바람직하다.
상기와 같이 하여 얻어지는 폴리이미드의 용액은, 잘 교반시키면서 빈용매에 주입함으로써, 중합체를 석출시킬 수 있다. 석출을 수 회 실시하고, 빈용매로 세정 후, 상온 혹은 가열 건조시켜 정제된 폴리아믹산에스테르의 분말을 얻을 수 있다.
상기 빈용매는, 특별히 한정되지 않지만, 메탄올, 아세톤, 헥산, 부틸셀로솔브, 헵탄, 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤, 에탄올, 톨루엔, 벤젠 등을 들 수 있다.
<액정 배향제>
본 발명에 사용되는 액정 배향제는, 상기한 (A) 성분인 폴리이미드 전구체 및 그 폴리이미드 전구체의 이미드화 중합체로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종의 중합체 (이하, 특정 구조의 중합체로 한다), 및 (B) 성분인 하이드록시알킬아미드기를 갖는 화합물이 용매 중에 용해된 용액의 형태를 갖는다.
특정 구조 중합체의 분자량은, 중량 평균 분자량으로 2,000 ∼ 500,000 이 바람직하고, 보다 바람직하게는 5,000 ∼ 300,000 이고, 더욱 바람직하게는 10,000 ∼ 100,000 이다. 또, 수평균 분자량은, 바람직하게는 1,000 ∼ 250,000 이고, 보다 바람직하게는 2,500 ∼ 150,000 이고, 더욱 바람직하게는 5,000 ∼ 50,000 이다.
본 발명의 액정 배향제 중의 중합체의 농도는, 형성시키고자 하는 도막의 두께의 설정에 따라 적절히 변경할 수 있지만, 균일하고 결함이 없는 도막을 형성시킨다는 점에서는, 1 질량% 이상인 것이 바람직하고, 용액의 보존 안정성의 점에서는, 10 질량% 이하로 하는 것이 바람직하다. 특히 바람직하게는 3 ∼ 6.5 질량% 이다.
본 발명의 액정 배향제에 함유되는 용매 (양용매라고도 한다) 는, 특정 구조 중합체가 균일하게 용해되는 것이면 특별히 한정되지 않는다.
예를 들어, N,N-디메틸포름아미드, N,N-디메틸아세트아미드, N-메틸-2-피롤리돈, N-에틸-2-피롤리돈, 디메틸술폭사이드, γ-부티로락톤, 1,3-디메틸-2-이미다졸리디논, 메틸에틸케톤, 시클로헥사논, 시클로펜타논 또는 4-하이드록시-4-메틸-2-펜타논 등을 들 수 있다.
그 중에서도, N-메틸-2-피롤리돈, N-에틸-2-피롤리돈, 또는 γ-부티로락톤을 사용하는 것이 바람직하다.
또한, 본 발명의 중합체의 용매에 대한 용해성이 높은 경우에는, 하기 식 [D-1] ∼ 식 [D-3] 으로 나타내는 용매를 사용하는 것이 바람직하다.
[화학식 38]
(D1 ∼ D3 은 탄소수 1 ∼ 6 의 알킬기를 나타낸다)
본 발명의 액정 배향제에 있어서의 양용매는, 액정 배향제에 함유되는 용매 전체의 20 ∼ 99 질량% 인 것이 바람직하다. 그 중에서도 20 ∼ 90 질량% 가 바람직하다. 보다 바람직한 것은, 30 ∼ 80 질량% 이다.
본 발명의 액정 배향제는, 본 발명의 효과를 저해하지 않는 한, 액정 배향제를 도포하였을 때의 액정 배향막의 도막성이나 표면 평활성을 향상시키는 용매 (빈용매라고도 한다) 를 사용할 수 있다. 하기에 빈용매의 구체예를 들지만, 이들 예에 한정되는 것은 아니다.
예를 들어, 에탄올, 이소프로필알코올, 1-부탄올, 2-부탄올, 이소부틸알코올, tert-부틸알코올, 1-펜탄올, 2-펜탄올, 3-펜탄올, 2-메틸-1-부탄올, 이소펜틸알코올, tert-펜틸알코올, 3-메틸-2-부탄올, 네오펜틸알코올, 1-헥산올, 2-메틸-1-펜탄올, 2-메틸-2-펜탄올, 2-에틸-1-부탄올, 1-헵탄올, 2-헵탄올, 3-헵탄올, 1-옥탄올, 2-옥탄올, 2-에틸-1-헥산올, 시클로헥산올, 1-메틸시클로헥산올, 2-메틸시클로헥산올, 3-메틸시클로헥산올, 1,2-에탄디올, 1,2-프로판디올, 1,3-프로판디올, 1,2-부탄디올, 1,3-부탄디올, 1,4-부탄디올, 2,3-부탄디올, 1,5-펜탄디올, 2-메틸-2,4-펜탄디올, 2-에틸-1,3-헥산디올, 디프로필에테르, 디부틸에테르, 디헥실에테르, 디옥산, 에틸렌글리콜디메틸에테르, 에틸렌글리콜디에틸에테르, 에틸렌글리콜디부틸에테르, 1,2-부톡시에탄, 디에틸렌글리콜디메틸에테르, 디에틸렌글리콜디에틸에테르, 디에틸렌글리콜메틸에틸에테르, 디에틸렌글리콜디부틸에테르, 2-펜타논, 3-펜타논, 2-헥사논, 2-헵타논, 4-헵타논, 3-에톡시부틸아세테이트, 1-메틸펜틸아세테이트, 2-에틸부틸아세테이트, 2-에틸헥실아세테이트, 에틸렌글리콜모노아세테이트, 에틸렌글리콜디아세테이트, 프로필렌카보네이트, 에틸렌카보네이트, 2-(메톡시메톡시)에탄올, 에틸렌글리콜모노부틸에테르, 에틸렌글리콜모노이소아밀에테르, 에틸렌글리콜모노헥실에테르, 2-(헥실옥시)에탄올, 푸르푸릴알코올, 디에틸렌글리콜, 프로필렌글리콜, 프로필렌글리콜모노부틸에테르, 1-(부톡시에톡시)프로판올, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 디프로필렌글리콜, 디프로필렌글리콜모노메틸에테르, 디프로필렌글리콜모노에틸에테르, 디프로필렌글리콜디메틸에테르, 트리프로필렌글리콜모노메틸에테르, 에틸렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 에틸렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, 에틸렌글리콜모노부틸에테르아세테이트, 에틸렌글리콜모노아세테이트, 에틸렌글리콜디아세테이트, 디에틸렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, 디에틸렌글리콜모노부틸에테르아세테이트, 2-(2-에톡시에톡시)에틸아세테이트, 디에틸렌글리콜아세테이트, 트리에틸렌글리콜, 트리에틸렌글리콜모노메틸에테르, 트리에틸렌글리콜모노에틸에테르, 락트산메틸, 락트산에틸, 아세트산메틸, 아세트산에틸, 아세트산 n-부틸, 아세트산프로필렌글리콜모노에틸에테르, 피루브산메틸, 피루브산에틸, 3-메톡시프로피온산메틸, 3-에톡시프로피온산메틸에틸, 3-메톡시프로피온산에틸, 3-에톡시프로피온산, 3-메톡시프로피온산, 3-메톡시프로피온산프로필, 3-메톡시프로피온산부틸, 락트산메틸에스테르, 락트산에틸에스테르, 락트산 n-프로필에스테르, 락트산 n-부틸에스테르, 락트산이소아밀에스테르, 상기 식 [D-1] ∼ 식 [D-3] 으로 나타내는 용매 등을 들 수 있다.
그 중에서도, 1-헥산올, 시클로헥산올, 1,2-에탄디올, 1,2-프로판디올, 프로필렌글리콜모노부틸에테르, 에틸렌글리콜모노부틸에테르 또는 디프로필렌글리콜디메틸에테르를 사용하는 것이 바람직하다.
빈용매는, 액정 배향제에 함유되는 용매 전체의 1 ∼ 80 질량% 인 것이 바람직하고, 10 ∼ 80 질량% 가 더욱 바람직하고, 20 ∼ 70 질량% 가 보다 바람직하다.
본 발명의 액정 배향제에는, 상기 외에, 본 발명의 효과가 저해되지 않는 범위이면, 본 발명에 기재된 중합체 이외의 중합체, 액정 배향막의 유전율이나 도전성 등의 전기 특성을 변화시킬 목적의 유전체 혹은 도전 물질, 액정 배향막과 기판의 밀착성을 향상시킬 목적의 실란 커플링제, 액정 배향막으로 하였을 때의 막의 경도나 치밀도를 높일 목적의 가교성 화합물, 나아가서는 도막을 소성할 때에 폴리이미드 전구체의 가열에 의한 이미드화를 효율적으로 진행시킬 목적의 이미드화 촉진제 등을 첨가해도 된다.
<액정 배향막>
<액정 배향막의 제조 방법>
본 발명의 액정 배향막은, 상기 액정 배향제를 기판에 도포하고, 건조시키고, 소성하여 얻어지는 막이다. 본 발명의 액정 배향제를 도포하는 기판으로는, 투명성이 높은 기판이면 특별히 한정되지 않으며, 유리 기판, 질화규소 기판, 아크릴 기판, 폴리카보네이트 기판 등의 플라스틱 기판 등을 사용할 수 있다. 또한, 액정 구동을 위한 ITO 전극 등이 형성된 기판을 사용하는 것이, 프로세스 간소화의 점에서 바람직하다. 또, 반사형의 액정 표시 소자에서는, 편측의 기판에만이라면 실리콘 웨이퍼 등의 불투명한 것이어도 사용할 수 있고, 이 경우의 전극은, 알루미늄 등의 광을 반사시키는 재료도 사용할 수 있다.
본 발명의 액정 배향제의 도포 방법으로는, 스핀 코트법, 인쇄법, 잉크젯법 등을 들 수 있다. 본 발명의 액정 배향제를 도포한 후의 건조, 소성 공정은, 임의의 온도와 시간을 선택할 수 있다. 통상적으로는, 함유되는 용매를 충분히 제거하기 위해, 50 ∼ 120 ℃, 바람직하게는 60 ∼ 100 ℃ 에서, 1 ∼ 10 분간, 바람직하게는 2 ∼ 5 분간 건조시키고, 그 후, 150 ∼ 300 ℃, 바람직하게는 200 ∼ 240 ℃ 에서, 5 ∼ 120 분간, 바람직하게는 10 ∼ 30 분간 소성한다. 소성 후의 도막의 두께는, 특별히 한정되지 않지만, 지나치게 얇으면 액정 표시 소자의 신뢰성이 저하되는 경우가 있으므로, 5 ∼ 300 ㎚, 바람직하게는 10 ∼ 200 ㎚ 이다.
얻어진 액정 배향막을 배향 처리하는 방법으로는, 러빙법, 광 배향 처리법 등을 들 수 있다.
러빙 처리는, 기존의 러빙 장치를 이용하여 실시할 수 있다. 이 때의 러빙포의 재질로는, 코튼, 나일론, 레이온 등을 들 수 있다. 러빙 처리의 조건으로는 일반적으로, 회전 속도 300 ∼ 2000 rpm, 이송 속도 5 ∼ 100 ㎜/s, 압입량 0.1 ∼ 1.0 ㎜ 라는 조건이 사용된다. 그 후, 순수나 알코올 등을 사용하여 초음파 세정에 의해, 러빙으로 생성된 잔류물이 제거된다.
광 배향 처리법의 구체예로는, 상기 도막 표면에, 일정 방향으로 편향된 방사선을 조사하고, 경우에 따라서는, 추가로 150 ∼ 250 ℃ 의 온도에서 가열 처리를 실시하여, 액정 배향능을 부여하는 방법을 들 수 있다. 방사선으로는, 100 ∼ 800 ㎚ 의 파장을 갖는 자외선 및 가시광선을 사용할 수 있다. 이 중, 100 ∼ 400 ㎚ 의 파장을 갖는 자외선이 바람직하고, 200 ∼ 400 ㎚ 의 파장을 갖는 자외선이 특히 바람직하다. 또, 액정 배향성을 개선하기 위해, 도막 기판을 50 ∼ 250 ℃ 에서 가열하면서, 방사선을 조사해도 된다. 상기 방사선의 조사량은, 1 ∼ 10,000 mJ/㎠ 가 바람직하고, 100 ∼ 5,000 mJ/㎠ 가 특히 바람직하다. 상기와 같이 하여 제조한 액정 배향막은, 액정 분자를 일정한 방향으로 안정적으로 배향시킬 수 있다.
편광된 자외선의 소광비가 높을수록, 보다 높은 이방성을 부여할 수 있기 때문에 바람직하다. 구체적으로는, 직선으로 편광된 자외선의 소광비는, 10 : 1 이상이 바람직하고, 20 : 1 이상이 보다 바람직하다.
상기에서 편광된 방사선을 조사한 막은, 이어서, 물 및 유기 용매로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종을 함유하는 용매로 접촉 처리해도 된다.
접촉 처리에 사용하는 용매로는, 광 조사에 의해 생성된 분해물을 용해시키는 용매이면, 특별히 한정되는 것은 아니다. 구체예로는, 물, 메탄올, 에탄올, 2-프로판올, 아세톤, 메틸에틸케톤, 1-메톡시-2-프로판올, 1-메톡시-2-프로판올아세테이트, 부틸셀로솔브, 락트산에틸, 락트산메틸, 디아세톤알코올, 3-메톡시프로피온산메틸, 3-에톡시프로피온산에틸, 아세트산프로필, 아세트산부틸, 아세트산시클로헥실 등을 들 수 있다. 이들 용매는 2 종 이상을 병용해도 된다.
범용성이나 안전성의 점에서, 물, 2-프로판올, 1-메톡시-2-프로판올 및 락트산에틸로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종이 보다 바람직하다. 물, 2-프로판올, 또는 물과 2-프로판올의 혼합 용매가 특히 바람직하다.
본 발명에 있어서, 편광된 방사선을 조사한 막과 용매를 함유하는 용액의 접촉 처리는, 침지 처리, 분무 (스프레이) 처리 등의, 막과 액이, 바람직하게는 충분히 접촉하는 방법으로 실시된다. 그 중에서도, 용매를 함유하는 용액 중에, 바람직하게는 10 초 ∼ 1 시간, 보다 바람직하게는 1 ∼ 30 분 침지 처리하는 방법이 바람직하다. 접촉 처리는, 상온이어도 되고 가온시켜도 되지만, 바람직하게는 10 ∼ 80 ℃, 보다 바람직하게는 20 ∼ 50 ℃ 에서 실시된다. 또, 필요에 따라, 초음파 등의 접촉을 높이는 수단을 실시할 수 있다.
접촉 처리 후, 사용한 용액 중의 용매를 제거할 목적으로, 물, 메탄올, 에탄올, 2-프로판올, 아세톤, 메틸에틸케톤 등의 저비점 용매에 의한 헹굼 (린스) 이나 건조 중 어느 것 또는 양방을 실시해도 된다.
또한, 용매를 함유하는 용액에 의한 접촉 처리를 한 막은, 용매의 건조 및 막 중의 분자 사슬의 재배향을 목적으로, 150 ℃ 이상에서 가열해도 된다.
가열의 온도로는, 150 ∼ 300 ℃ 가 바람직하다. 온도가 높을수록, 분자 사슬의 재배향이 촉진되지만, 온도가 지나치게 높으면 분자 사슬의 분해를 수반할 우려가 있다. 그 때문에, 가열 온도로는, 180 ∼ 250 ℃ 가 보다 바람직하고, 200 ∼ 230 ℃ 가 특히 바람직하다.
가열하는 시간은, 지나치게 짧으면, 분자 사슬의 재배향의 효과가 얻어지지 않을 가능성이 있고, 지나치게 길면, 분자 사슬이 분해되어 버릴 가능성이 있기 때문에, 10 초 ∼ 30 분이 바람직하고, 1 ∼ 10 분이 보다 바람직하다.
<액정 표시 소자>
본 발명의 액정 표시 소자는, 상기 액정 배향막의 제조 방법에 의해 얻어진 액정 배향막을 구비하는 것을 특징으로 한다.
본 발명의 액정 표시 소자는, 본 발명의 액정 배향제로부터 상기 액정 배향막의 제조 방법에 의해 액정 배향막이 형성된 기판을 얻은 후, 공지된 방법으로 액정 셀을 제조하고, 그것을 사용하여 액정 표시 소자로 한 것이다.
액정 셀의 제조 방법의 일례로서, 패시브 매트릭스 구조의 액정 표시 소자를 예로 들어 설명한다. 또한, 화상 표시를 구성하는 각 화소 부분에, TFT (Thin Film Transistor) 등의 스위칭 소자가 형성된 액티브 매트릭스 구조의 액정 표시 소자여도 된다.
먼저, 투명한 유리제의 기판을 준비하고, 일방의 기판 상에 커먼 전극을, 타방의 기판 상에 세그먼트 전극을 형성한다. 이들 전극은, 예를 들어, ITO 전극으로 할 수 있고, 원하는 화상 표시를 할 수 있도록 패터닝 (Patterning) 된다. 이어서, 각 기판 상에 커먼 전극과 세그먼트 전극을 피복하도록 하여 절연막을 형성한다. 절연막은, 예를 들어, 졸-겔법에 의해 형성된, SiO2-TiO2 로 이루어지는 막으로 할 수 있다.
다음으로, 각 기판 상에 본 발명의 액정 배향막을 형성한다. 다음으로, 일방의 기판에 타방의 기판을 서로의 배향막면이 대향하도록 하여 중첩시키고, 주변을 시일제로 접착시킨다. 시일제에는, 기판 간극을 제어하기 위해, 통상적으로 스페이서를 혼입해 둔다. 또, 시일제를 형성하지 않는 면내 부분에도, 기판 간극 제어용의 스페이서를 산포해 두는 것이 바람직하다. 시일제의 일부에는, 외부로부터 액정을 충전 가능한 개구부를 형성해 둔다.
다음으로, 시일제에 형성한 개구부를 통하여, 2 장의 기판과 시일제로 포위된 공간 내에 액정 재료를 주입한다. 그 후, 이 개구부를 접착제로 봉지한다. 주입에는, 진공 주입법을 사용해도 되고, 대기 중에서 모세관 현상을 이용한 방법을 사용해도 된다. 다음으로, 편광판의 설치를 실시한다. 구체적으로는, 2 장의 기판의 액정층과는 반대측의 면에 1 쌍의 편광판을 첩부한다. 이상의 공정을 거침으로써, 본 발명의 액정 표시 소자가 얻어진다.
본 발명에 있어서, 시일제로는, 예를 들어, 에폭시기, 아크릴로일기, (메트)아크릴로일기, 하이드록실기, 알릴기, 아세틸기 등의 반응성기를 갖는, 자외선 조사나 가열에 의해 경화되는 수지가 사용된다. 특히, 에폭시기와 (메트)아크릴로일기의 양방의 반응성기를 갖는 경화 수지계를 사용하는 것이 바람직하다.
본 발명의 시일제에는, 접착성, 내습성의 향상을 목적으로 하여, 무기 충전제를 배합해도 된다. 사용할 수 있는 무기 충전제로는, 특별히 한정되지 않지만, 구체적으로는, 구상 실리카, 용융 실리카, 결정 실리카, 산화티탄, 티탄 블랙, 실리콘카바이드, 질화규소, 질화붕소, 탄산칼슘, 탄산마그네슘, 황산바륨, 황산칼슘, 마이카, 탤크, 클레이, 알루미나, 산화마그네슘, 산화지르코늄, 수산화알루미늄, 규산칼슘, 규산알루미늄, 규산리튬알루미늄, 규산지르코늄, 티탄산바륨, 유리 섬유, 탄소 섬유, 이황화몰리브덴, 아스베스토 등을 들 수 있다. 바람직하게는, 구상 실리카, 용융 실리카, 결정 실리카, 산화티탄, 티탄 블랙, 질화규소, 질화붕소, 탄산칼슘, 황산바륨, 황산칼슘, 마이카, 탤크, 클레이, 알루미나, 수산화알루미늄, 규산칼슘, 또는 규산알루미늄을 들 수 있다. 상기 무기 충전제는 2 종 이상을 혼합하여 사용해도 된다.
실시예
이하에 실시예를 들어 본 발명을 더욱 상세하게 설명하지만, 본 발명은 이것들에 한정되지 않는다. 또한, 하기에 있어서의 화합물의 약호, 및 각 특성의 측정 방법은, 이하와 같다.
NMP : N-메틸-2-피롤리돈
GBL : γ-부티로락톤
BCS : 부틸셀로솔브
THF : 테트라하이드로푸란
DMF : N,N-디메틸포름아미드
[화학식 39]
[화학식 40]
[화학식 41]
<1HNMR 의 측정>
장치 : 푸리에 변환형 초전도 핵 자기 공명 장치 (FT-NMR)「AVANCE 3」(BRUKER 제조) 500 ㎒.
용매 : 중수소화클로로포름 (CDCl3) 또는 중수소화 N,N-디메틸술폭사이드 ([D6]-DMSO).
표준 물질 : 테트라메틸실란 (TMS).
[점도]
폴리이미드 및 폴리아믹산 용액의 점도는, E 형 점도계 (토키 산업사 제조, VE-22H) 를 사용하여, 샘플량 1.1 ㎖, 콘 로터 TE-1 (1°34', R24), 온도 25 ℃ 에서 측정하였다.
[이미드화율의 측정]
폴리이미드 분말 20 ㎎ 을 NMR 샘플관 (쿠사노 과학사 제조의 NMR 샘플링 튜브 스탠다드 φ5) 에 넣고, 중수소화디메틸술폭사이드 (DMSO-d6, 0.05 % TMS (테트라메틸실란) 혼합품) 0.53 ㎖ 를 첨가하고, 초음파를 가하여 완전히 용해시켰다. 이 용액을 니혼 전자 데이텀사 제조의 NMR 측정기 (JNW-ECA500) 로 500 ㎒ 의 프로톤 NMR 을 측정하였다. 이미드화율은, 이미드화 전후에서 변화하지 않는 구조에서 유래하는 프로톤을 기준 프로톤으로서 결정하고, 이 프로톤의 피크 적산값과, 9.5 내지 10.0 ppm 부근에 나타나는 아미드산의 NH 기에서 유래하는 프로톤 피크 적산값을 사용하여 이하의 식에 의해 구하였다.
이미드화율 (%) = (1 - α·x/y) × 100
[액정 셀의 제조]
FFS 모드 액정 표시 소자의 구성을 구비한 액정 셀을 제조하였다.
처음에, 전극이 형성된 기판을 준비하였다. 기판은, 30 ㎜ × 50 ㎜ 의 장방형이고, 두께가 0.7 ㎜ 인 유리판이다. 기판 상에는 제 1 층째로서 대향 전극을 구성하는, 솔리드상의 패턴을 구비한 ITO 전극이 형성되어 있다. 제 1 층째의 대향 전극 상에는 제 2 층째로서, CVD 법에 의해 성막된 SiN (질화규소) 막이 형성되어 있다. 제 2 층째의 SiN 막의 막두께는 500 ㎚ 이며, 층간 절연막으로서 기능한다. 제 2 층째의 SiN 막 상에는, 제 3 층째로서 ITO 막을 패터닝하여 형성된 빗살상의 화소 전극이 배치되고, 제 1 화소 및 제 2 화소의 2 개의 화소를 형성하고 있다. 각 화소의 사이즈는, 세로 10 ㎜ 이고 가로 약 5 ㎜ 이다. 이 때, 제 1 층째의 대향 전극과 제 3 층째의 화소 전극은, 제 2 층째의 SiN 막의 작용에 의해 전기적으로 절연되어 있다.
제 3 층째의 화소 전극은, 중앙 부분이 굴곡된「く 자」형상의 전극 요소를 복수 배열하여 구성된 빗살상의 형상을 갖는다. 각 전극 요소의 폭 방향의 폭은 3 ㎛ 이고, 전극 요소 간의 간격은 6 ㎛ 이다. 각 화소를 형성하는 화소 전극이, 중앙 부분이 굴곡된「く 자」형상의 전극 요소를 복수 배열하여 구성되어 있기 때문에, 각 화소의 형상은 장방형상이 아니라, 전극 요소와 동일하게 중앙 부분에서 굴곡되는, 굵은 글씨의「く 자」와 비슷한 형상을 구비한다. 그리고, 각 화소는, 그 중앙의 굴곡 부분을 경계로 하여 상하로 분할되고, 굴곡 부분의 상측의 제 1 영역과 하측의 제 2 영역을 갖는다.
각 화소의 제 1 영역과 제 2 영역을 비교하면, 그것들을 구성하는 화소 전극의 전극 요소의 형성 방향이 상이한 것으로 되어 있다. 즉, 후술하는 액정 배향막의 러빙 방향을 기준으로 한 경우, 화소의 제 1 영역에서는 화소 전극의 전극 요소가 +10°의 각도 (시계 방향) 를 이루도록 형성되고, 화소의 제 2 영역에서는 화소 전극의 전극 요소가 -10°의 각도 (시계 방향) 를 이루도록 형성되어 있다. 즉, 각 화소의 제 1 영역과 제 2 영역에서는, 화소 전극과 대향 전극 사이의 전압 인가에 의해 야기되는 액정의 기판면 내에서의 회전 동작 (인프레인·스위칭) 의 방향이 서로 역방향이 되도록 구성되어 있다.
다음으로, 얻어진 액정 배향제를 공경 1.0 ㎛ 의 필터로 여과한 후, 준비된 상기 전극이 형성된 기판과 이면에 ITO 막이 성막되어 있는 높이 4 ㎛ 의 기둥상 스페이서를 갖는 유리 기판에 스핀 코트로 도포하였다. 80 ℃ 의 핫 플레이트 상에서 2 분간 건조시킨 후, IR 식 오븐을 사용해서 230 ℃, 30 분 소성을 실시하여, 두께 100 ㎚ 의 도막을 형성시켰다. 이 도막면에 편광 자외선을 300 mJ/㎠ 가 되도록 조사하여 배향 처리를 실시하였다. 다시 IR 식 오븐을 사용해서 230 ℃, 30 분 소성을 실시하여, 액정 배향막이 형성된 기판을 얻었다. 상기 2 장의 기판을 1 세트로 하여, 기판 상에 시일제를 인쇄하고, 다른 1 장의 기판을, 액정 배향막면이 마주보는 배향 방향이 0°가 되도록 하여 붙인 후, 시일제를 경화시켜 공 (空) 셀을 제조하였다. 이 공셀에 감압 주입법에 의해, 액정 MLC-3019 (머크사 제조) 를 주입하고, 주입구를 봉지하여, FFS 구동 액정 셀을 얻었다. 그 후, 얻어진 액정 셀을 110 ℃ 에서 1 시간 가열하고, 하룻밤 방치하고 나서 잔상 평가에 사용하였다.
AD-3 과 AD-4 는 문헌 등록이 없는 신규 화합물이기 때문에, 이하에 합성예를 기재한다.
(합성예 1 : AD-3 의 합성)
[화학식 42]
500 ㎖ 4 구 플라스크에 4-아미노페닐아세트산 (10.6 g, 70 m㏖), DAH-1 (7.5 g, 33.6 m㏖), 아세트산 (120 g) 을 주입하고, 환류하에서 교반하였다. 반응 종료 후, 반응액을 순수 (800 g) 에 따르고, 침전물을 여과 분리하였다. 얻어진 조물 (粗物) 에 THF (120 g) 를 첨가하고, 실온에서 리펄프 세정함으로써, [AD-3-1] 을 32.6 g 얻었다.
2 ℓ 4 구 플라스크에 [AD-3-1] (30.0 g, 61 m㏖), 비스[2-(트리메틸실릴옥시)에틸]아민 (45.8 g, 184 m㏖), (2,3-디하이드로-2-티옥소-3-벤조옥사졸릴)포스폰산디페닐 (47.0 g, 122 m㏖), 트리에틸아민 (45.8 g, 184 m㏖), NMP (450 g) 를 주입하고, 실온에서 교반하였다. 반응 종료 후, 반응액을 0.5 ㏖/ℓ-염산 수용액 (2500 g) 에 따르고, 석출물을 여과 분리하였다. 얻어진 조물에 메탄올 (300 g) 을 첨가하고, 실온에서 리펄프 세정함으로써, [AD-3] (백색 고체) 을 30.3 g 얻었다. 목적물의 1H-NMR 의 결과를 이하에 나타낸다. 이 결과로부터, 얻어진 고체가 목적으로 하는 [AD-3] 인 것을 확인하였다.
(합성예 2 : AD-4 의 합성)
[화학식 43]
2 ℓ 4 구 플라스크에 4-아미노벤조산 (32.9 g, 24 m㏖), DAH-1 (26.9 g, 12 m㏖), AcOH (540 g) 를 주입하고, 환류하에서 교반하였다. 반응 종료 후, 반응액을 순수 (3500 g) 에 따르고, 침전물을 여과 분리하였다. 얻어진 조물에 메탄올 (1200 g) 을 첨가하고, 실온에서 리펄프 세정함으로써, [AD-4-1] 을 40.4 g 얻었다.
1 ℓ 4 구 플라스크에 [AD-4-1] (40.4 g, 87 m㏖), 비스[2-(트리메틸실릴옥시)에틸]아민 (76.0 g, 305 m㏖), (2,3-디하이드로-2-티옥소-3-벤조옥사졸릴)포스폰산디페닐 (83.7 g, 218 m㏖), 트리에틸아민 (30.9 g, 305 m㏖), NMP (400 g) 를 주입하고, 실온에서 교반하였다. 반응 종료 후, 반응액을 메탄올 (600 g) 에 따르고, 석출물을 여과 분리하였다. 얻어진 조물에 메탄올 (500 g) 을 첨가하고, 트리플루오로아세트산 (7 g) 을 첨가하여 산성으로 하고, 침전물을 여과 분리하였다. 또한, 조물에 DMF (400 g) 를 첨가하여 50 ℃ 에서 완전 용해시킨 후, 불용물을 여과 분리하였다. 얻어진 여과액을 아세트산에틸 (2500 g) 에 따르고, 석출물을 여과 분리, 건조시킴으로써, [AD-4] (백색 고체) 를 48.8 g 얻었다. 목적물의 1H-NMR 의 결과를 이하에 나타낸다. 이 결과로부터, 얻어진 고체가 목적으로 하는 [AD-4] 인 것을 확인하였다.
(제조예 1)
교반 장치 및 질소 도입관이 형성된 200 ㎖ 4 구 플라스크에 DA-1 (1.08 g, 10 m㏖), DA-2 (3.66 g, 15 m㏖), DA-3 (4.81 g, 15 m㏖), DA-4 (3.41 g, 10 m㏖) 를 첨가한 후, NMP 132 g 을 첨가하고, 질소를 보내면서 교반하여 용해시켰다. 이 디아민 용액을 교반하면서 DAH-1 (10.54 g, 47 m㏖) 을 첨가하고, NMP 를 40.3 g 첨가한 후, 추가로 40 ℃ 조건하에서 12 시간 교반함으로써 수지 고형분 농도 12 질량% 의 폴리아미드산 용액 (PAA-1) 을 얻었다. 이 폴리아믹산 용액의 25 ℃ 에 있어서의 점도는 380 mPa·s 였다.
얻어진 폴리아미드산 용액 (PAA-1) 60.0 g 을, 200 ㎖ 의 삼각 플라스크에 분리 채취하고, 이것에 NMP 를 20.0 g 첨가한 후, 무수 아세트산 4.56 g, 피리딘 1.18 g 을 첨가하고, 55 ℃ 에서 3 시간 반응시켰다. 이 반응 용액을 메탄올 300 g 에 따르고, 생성된 침전물을 여과 분리하였다. 이 침전물을 메탄올로 세정하고, 80 ℃ 에서 감압 건조시켜 폴리이미드의 분말을 얻었다. 이 폴리이미드의 이미드화율은 66 % 였다. 얻어진 폴리이미드 분말 3.6 g 에 NMP 26.4 g 을 첨가하고 70 ℃ 에서 20 hr 교반하여 용해시킴으로써 폴리이미드 용액 (SPI-1) 을 얻었다.
(제조예 2)
교반 장치 및 질소 도입관이 형성된 100 ㎖ 의 4 구 플라스크에 DA-5 를 3.99 g (20 m㏖), DA-6 을 1.49 g (5 m㏖) 칭량하여 넣고, 이어서, NMP 를 78 g 첨가하고, 질소를 보내면서 교반하여 용해시켰다. 이 디아민 용액을 교반하면서 DAH-2 를 6.77 g (23 m㏖) 첨가하고, 추가로 고형분 농도가 12 질량% 가 되도록 NMP 를 첨가하고, 70 ℃ 에서 20 시간 교반하여 폴리아믹산 용액 (PAA-2) (점도 : 420 mPa·s) 를 얻었다.
(비교예 1)
교반자를 넣은 50 ㎖ 의 삼각 플라스크에 제조예 1 에서 얻어진 폴리이미드 용액 (SPI-1) 을 5.63 g 칭량하여 넣었다. NMP 를 3.34 g, GBL 을 2.03 g, BCS 를 3.00 g, AD-1 의 10 % NMP 용액을 1.01 g 첨가하고, 마그네틱 스터러로 밤새 교반하여 액정 배향제 (AL-1) 을 얻었다.
(비교예 2)
교반자를 넣은 50 ㎖ 의 삼각 플라스크에 제조예 1 에서 얻어진 폴리이미드 용액 (SPI-1) 을 5.63 g 칭량하여 넣었다. NMP 를 3.34 g, GBL 을 2.03 g, BCS 를 3.00 g, AD-2 의 10 % NMP 용액을 1.01 g 첨가하고, 마그네틱 스터러로 밤새 교반하여 액정 배향제 (AL-2) 를 얻었다.
(실시예 1)
교반자를 넣은 50 ㎖ 의 삼각 플라스크에 제조예 1 에서 얻어진 폴리이미드 용액 (SPI-1) 을 5.63 g 칭량하여 넣었다. NMP 를 3.34 g, GBL 을 2.03 g, BCS 를 3.00 g, AD-3 의 10 % NMP 용액을 1.01 g 첨가하고, 마그네틱 스터러로 밤새 교반하여 액정 배향제 (AL-3) 을 얻었다.
(실시예 2)
교반자를 넣은 50 ㎖ 의 삼각 플라스크에 제조예 1 에서 얻어진 폴리이미드 용액 (SPI-1) 을 5.63 g 칭량하여 넣었다. NMP 를 3.34 g, GBL 을 2.03 g, BCS 를 3.00 g, AD-4 의 10 % NMP 용액을 1.01 g 첨가하고, 마그네틱 스터러로 밤새 교반하여 액정 배향제 (AL-4) 를 얻었다.
(실시예 3)
교반자를 넣은 50 ㎖ 의 삼각 플라스크에 제조예 1 에서 얻어진 폴리이미드 용액 (SPI-1) 을 1.13 g 칭량하여 넣고, 제조예 2 에서 얻어진 폴리아믹산 용액 (PAA-2) 를 4.50 g 첨가하였다. 또한 NMP 를 0.86 g, GBL 을 4.50 g, BCS 를 3.00 g, AD-3 의 10 % NMP 용액을 1.01 g 첨가하고, 마그네틱 스터러로 밤새 교반하여 액정 배향제 (AL-5) 를 얻었다.
[장기 교류 구동에 의한 잔상 평가]
상기 액정 셀을 사용하여, 60 ℃ 의 항온 환경하, 주파수 30 ㎐ 로 ± 5 V 의 교류 전압을 120 시간 인가하였다. 그 후, 액정 셀의 화소 전극과 대향 전극 사이를 쇼트시킨 상태로 하여, 그대로 실온에 하루 방치하였다.
방치 후, 액정 셀을 편광축이 직교하도록 배치된 2 장의 편광판의 사이에 설치하고, 전압 무인가의 상태에서 백라이트를 점등시켜 두고, 투과광의 휘도가 가장 작아지도록 액정 셀의 배치 각도를 조정하였다. 그리고, 제 1 화소의 제 2 영역이 가장 어두워지는 각도에서 제 1 영역이 가장 어두워지는 각도까지 액정 셀을 회전시켰을 때의 회전 각도를 각도 Δ 로서 산출하였다. 제 2 화소에서도 동일하게, 제 2 영역과 제 1 영역을 비교하여, 동일한 각도 Δ 를 산출하였다. 그리고, 제 1 화소와 제 2 화소의 각도 Δ 값의 평균값을 액정 셀의 각도 Δ 로서 산출하였다.
상기에서 얻어진 액정 셀의 각도 Δ 가 0.15°이상을「×」로 하고, 0.15°미만을「○」로 평가하였다.
(비교예 3, 4, 실시예 4, 5, 6)
얻어진 액정 배향제 (AL-1, AL-2, AL-3, AL-4, AL-5) 에 대해, 상기한 바와 같이 하여 장기 교류 구동에 의한 잔상 평가를 실시하였다. 즉, 액정 배향제 (AL-1, AL-2, AL-3, AL-4, AL-5) 를 사용하여, 각각 상기한 바와 같이 하여 FFS 모드 액정 표시 소자의 구성을 구비한 액정 셀을 제조하고, 이 FFS 구동 액정 셀에 대해, 장기 교류 구동에 의한 잔상 평가를 실시하였다. 그 결과를 하기 표 1 에 정리한다.
[막 강도 평가]
액정 배향제를, 전체면에 ITO 전극이 형성된 유리 기판의 ITO 면에 스핀 코트로 도포하였다. 80 ℃ 의 핫 플레이트 상에서 2 분간 건조시킨 후, IR 식 오븐을 사용해서 230 ℃, 30 분 소성을 실시하여, 두께 100 ㎚ 의 도막을 형성시켰다. 이 도막면에 편광 자외선을 300 mJ/㎠ 가 되도록 조사하여 배향 처리를 실시하였다. 다시 IR 식 오븐을 사용해서 230 ℃, 30 분 소성을 실시하여, 액정 배향막이 형성된 기판을 얻었다. 이 액정 배향막을, 레이온포로 러빙 (롤러 직경 : 120 ㎜, 롤러 회전수 : 1000 rpm, 이동 속도 : 20 ㎜/sec, 압입 길이 : 0.6 ㎜) 하였다. 본 기판을 현미경으로 관찰을 실시하여, 막면에 러빙에 의한 줄무늬가 보이지 않았던 것을「○」, 줄무늬가 보였던 것을「×」로서 평가하였다.
(비교예 5, 6, 실시예 7, 8, 9)
얻어진 액정 배향제 (AL-1, AL-2, AL-3, AL-4, AL-5) 에 대해, 상기 막 강도 평가를 실시하였다. 그 결과를 하기 표 2 에 정리한다.
이상의 결과를 하기 표 3 에 정리한다.
표 3 에 나타내는 바와 같이, 이미드 고리 골격을 갖고, 또한 알킬아미드 골격도 갖는 AD-3, AD-4 를 사용한 액정 배향제에 대해, 양호한 배향성과 높은 러빙 내성이 양립 가능해졌다.
Claims (11)
- 제 1 항에 있어서,
(B) 성분이, 하이드록시알킬아미드기를 2 개 이상 갖는 화합물인, 액정 배향제. - 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
(B) 성분이, (A) 성분에 대하여 0.1 ∼ 20 질량% 함유되는, 액정 배향제. - 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,
(B) 성분 중, 하이드록시알킬아미드기를 2 개 이상 갖는 기가, 하기 식 (4) 로 나타내는 액정 배향제.
X2 는, 탄소수 1 ∼ 20 의 지방족 탄화수소기, 또는 방향족 탄화수소기를 포함하는 n + 1 가의 유기기이고, n 은 2 ∼ 6 의 정수이고, * 는 (1) 과의 결합을 나타낸다. R5 및 R6 은, 각각 독립적으로, 수소 원자, 탄소수 1 ∼ 4 의 알킬기, 탄소수 2 ∼ 4 의 알케닐기, 또는 탄소수 2 ∼ 4 의 알키닐기이고, 이들 기는 치환기를 갖고 있어도 된다. 또한, R5 및 R6 중 적어도 1 개는, 치환기로서 하이드록시기를 갖는다. - 제 4 항 또는 제 5 항에 있어서,
X2 중의 카르보닐기에 직접 결합하는 원자는, 방향 고리를 형성하는 탄소 원자인, 액정 배향제. - 제 1 항 내지 제 8 항 중 어느 한 항에 기재된 액정 배향제로부터 얻어지는 액정 배향막.
- 제 9 항에 기재된 액정 배향막을 구비하는 액정 표시 소자.
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