KR20210047916A - 광학 부재 및 그의 제조 방법 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 비교적 저렴하게 제조할 수 있는 경량의 광학 부재이며, 온도 상승에 의한 비틀림이 억제되고, 외관 색이 충분히 흑색화 또는 암색화된 광학 부재 및 그의 효율적인 제조 방법을 제공한다. 본 발명의 광학 재료는, 티타늄 또는 티타늄 합금을 포함하는 기재와, 당해 기재의 표면에 형성된 탄소 도핑 산화티타늄층을 갖는 것을 특징으로 한다. 탄소 도핑 산화티타늄층에 있어서의 탄소의 함유량은 0.1 내지 15at％인 것이 바람직하다.

Description

광학 부재 및 그의 제조 방법
본 발명은, 표면의 흑색화 또는 암색화가 요구되는 광학 부재 및 그의 제조 방법에 관한 것이다.
디지털 카메라, 디지털 비디오 카메라 및 카메라가 구비된 핸드폰 등의 광학기기를 구성하는 각종 광학 부품(하우징, 하우징 내부의 각종 지지부, 셔터 블레이드 및 조리개 등)에 사용되는 광학 부재는, 경량인 것에 더하여 표면의 광 반사율이 낮을 것이 요구되며, 표면의 흑색도를 높게 하는 것이 일반적이다.
또한, 리소그래피 공정에서 사용되는 광학 부품인 펠리클용 펠리클 프레임에 대해서도, 표면을 흑색 또는 암색으로 함으로써, 사용 전의 이물 불착 검사 등을 보다 용이하면서도 확실하게 행할 수 있다. 즉, 검사성의 관점에서, 펠리클 프레임의 표면은 흑색 또는 암색일 것이 요구된다.
또한, 이들 광학 부품은 고온 환경하에서 유지되는 경우도 있어, 열팽창에 의한 비틀림이 크면, 광학 부품은 충분히 그 성능을 발현할 수 없다. 특히, 노광 장치에 대해서는 생산성 향상(스루풋)의 요구로부터 광원 출력의 증대나 회로 선폭의 미세화를 위해 노광 광원의 단파장화가 진행되고 있으며, 광로가 되는 광학 부재에 있어서 온도 상승에 의한 비틀림이 문제가 되고 있다.
종래, 비중이 작고 절삭 가공성이 양호하다는 점에서 광학 부재에는 알루미늄이 사용되어 왔지만, 알루미늄은 선팽창 계수가 높아, 알루미늄제의 광학 부재는 온도 상승에 의한 비틀림이 발생하기 쉽다. 이에 대해, 광학 부재의 소재는 알루미늄에 한정되지 않고, 세라믹스나 강 등의 사용에 대해서도 검토가 진행되고 있다.
예를 들어, 특허문헌 1(일본 특허 공개 제2016-177120호 공보)에 있어서는, 프레임 형상으로 형성된 펠리클 프레임이며, 영률이 150㎬ 이상이고, 또한 비커스 경도가 800 이상인 소결체로 이루어지고, 프레임 형상에 있어서의 코너부는 직선부의 폭 이상의 폭을 확보하고, 코너부 중 적어도 하나의 폭은 직선부의 폭보다 넓은 펠리클 프레임이며, 당해 펠리클 프레임은 세라믹스, 초경합금 또는 서멧제로 하는 것이 개시되어 있다.
상기 특허문헌 1에 기재된 펠리클 프레임에 있어서는, 높은 영률 및 비커스 경도의 소결체를 사용하고 있으므로, 펠리클 프레임에 펠리클막을 장설하였을 때에 발생하는 막 장력에 의해 펠리클 프레임이 변형되는 것을 억제할 수 있다. 게다가, 적어도 하나의 코너부의 폭이 직선부의 폭보다 넓기 때문에 코너부의 강도를 높게 할 수 있어, 펠리클 프레임의 변형이나 손괴를 더욱 억제할 수 있다고 되어 있다.
또한, 특허문헌 2(일본 특허 공개 제2014-085435호 공보)에 있어서는, 1매의 금속 평판으로부터 프레스 가공에 의해 제작된 펠리클 프레임이며, 그 단면은 L자 형상을 이루고, 펠리클 프레임 내벽면으로부터 외측을 향해 직각으로 절곡된 외면에 펠리클막 접착면을 갖고, 내벽면에 접하는 단부면에 마스크 점착면을 갖는 것을 특징으로 하는 펠리클 프레임이며, 당해 펠리클 프레임을 탄소강이나 스테인리스강으로 하는 것이 개시되어 있다.
상기 특허문헌 2에 기재된 펠리클 프레임에 있어서는, 양산성이 우수한 프레스 가공에 의해 제작되는 펠리클 프레임이므로 제작 비용이 매우 저렴한 동시에, 단면 L자 형상 또는 역ㄷ자 형상으로 성형되어 있기 때문에, 펠리클 프레임으로서 필요 충분한 강성을 확보할 수 있다고 되어 있다.
일본 특허 공개 제2016-177120호 공보 일본 특허 공개 제2014-085435호 공보
그러나 상기 특허문헌 1에 기재되어 있는 펠리클 프레임은 인성이 부족한 소재를 포함하고 있으며, 매우 취약하다는 점에서 취급이 곤란하다. 또한, 가공성이 부족하여, 제조 비용도 높아져 버린다. 게다가, 초경합금이나 서멧은 비중이 높아 펠리클 프레임의 중량이 증가해 버린다.
또한, 상기 특허문헌 2에 기재되어 있는 펠리클 프레임은 저렴하게 제조할 수 있기는 하지만, 탄소강이나 스테인리스강은 비중이 높아, 펠리클 프레임의 중량이 증가해 버린다. 게다가, 펠리클 프레임의 표면을 충분히 흑색화하는 것이 곤란하다.
이상과 같은 종래 기술에 있어서의 문제점에 비추어, 본 발명의 목적은, 비교적 저렴하게 제조할 수 있는 경량인 광학 부재이며, 온도 상승에 의한 비틀림이 억제되고, 외관 색이 충분히 흑색화 또는 암색화된 광학 부재 및 그의 효율적인 제조 방법을 제공하는 것을 목적으로 하고 있다. 특히, 비교적 저렴하게 제조할 수 있는 경량의 펠리클 프레임이며, 온도 상승에 의한 비틀림이 억제되고, 검사성의 관점에서 외관 색이 충분히 흑색화 또는 암색화된 펠리클 프레임 및 그의 효율적인 제조 방법을 제공하는 것을 목적으로 하고 있다.
본 발명자들은, 상기 목적을 달성하기 위해 광학 부재에 대해 예의 연구를 거듭한 결과, 소재에 티타늄 또는 티타늄 합금을 사용하고, 표면에 탄소를 도핑한 산화티타늄층을 형성시키는 것 등이 매우 유효한 것을 발견하여, 본 발명에 도달하였다.
즉, 본 발명은,
티타늄 또는 티타늄 합금을 포함하는 기재와,
상기 기재의 표면에 형성된 탄소 도핑 산화티타늄층을 갖는 것
을 특징으로 하는 광학 부재를 제공한다.
본 발명의 광학 부재는 티타늄 또는 티타늄 합금을 포함하는 기재를 갖고 있다는 점에서, 알루미늄과 비교하여 선팽창 계수가 낮아, 승온 시의 비틀림이 효과적으로 억제된다. 또한, 티타늄 또는 티타늄 합금은 강이나 초경합금과 비교하여 비중이 작아, 광학 부재를 경량으로 할 수 있다. 게다가, 티타늄 또는 티타늄 합금은 금속재이며, 세라믹스나 초경합금과 비교하여 우수한 인성을 갖고 있다는 점에서 핸들링이 용이하다. 또한, 양호한 가공성을 갖고 있다는 점에서 제조 비용을 저감시킬 수 있는 것에 더하여, 광학 부재에 높은 치수 정밀도를 부여할 수 있다.
또한, 본 발명의 광학 부재는 표면이 탄소 도핑 산화티타늄층으로 되어 있어, 흑색화되어 있다. 탄소의 도핑에 의해 충분한 흑색화가 얻어지는 것에 더하여, 경도도 상승한다는 점에서, 광학 부재로서는 이상적인 표면 상태로 되어 있다.
본 발명의 광학 부재에 있어서는, 상기 탄소 도핑 산화티타늄층에 있어서의 탄소의 함유량이 0.1 내지 15at％인 것이 바람직하다. 탄소 함유량을 0.1at％ 이상으로 함으로써 표면을 흑색화할 수 있고, 15at％ 이하로 함으로써 표면의 흑색화나 경도 상승에 기여하지 않는 과잉의 탄소의 도핑을 억제할 수 있다.
또한, 본 발명의 광학 부재에 있어서는, 상기 탄소가 Ti-C 결합 상태로 도핑되어 있는 것이 바람직하다. Ti-C 결합 상태로 탄소를 도핑함으로써 표면 경도를 효과적으로 상승시킬 수 있다.
또한, 본 발명의 광학 부재에 있어서는, 표면의 명도 지수 L*값이 40 이하인 것이 바람직하다. 표면의 명도 지수 L*값을 40 이하로 함으로써, 각종 광학 부품의 광 반사를 충분히 억제할 수 있다. 또한, 펠리클 프레임의 경우에는, 사용 전의 이물 불착 검사 등을 용이하면서도 확실하게 행할 수 있다.
또한, 본 발명의 광학 부재에 있어서는, 반사율이 25％ 이하인 것이 바람직하다. 반사율을 25％ 이하로 함으로써, 각종 광학 기기나 펠리클 프레임 등에 있어서의 광 반사를 충분히 억제할 수 있다.
또한, 본 발명의 광학 부재에 있어서는, 상기 기재의 선팽창 계수가 6×10-6 내지 11×10-6/K인 것이 바람직하다. 선팽창 계수를 6×10-6K 이상으로 함으로써, 광학 부재와, 세라믹이나 실리콘 등을 포함하는 재료의 열팽창 계수가 근접해진다. 이에 의해, 광학 부재와, 세라믹이나 실리콘 등을 포함하는 부재의 온도 상승 시의 열팽창에 의한 변형의 차에서 기인하여 발생하는, 비틀림이나 균열을 저감시킬 수 있다. 이러한 효과가 발휘되는 조합으로서는, 예를 들어 광학 부재가 렌즈 홀더이며, 세라믹이나 실리콘 등을 포함하는 부재가 카메라 등의 렌즈인 경우를 들 수 있다. 또한, 선팽창 계수를 11×10-6K 이하로 함으로써, 승온 시의 비틀림을 저감시킬 수 있다.
또한, 본 발명의 광학 부재에 있어서는, 상기 기재가 α+β형 티타늄 합금인 것이 바람직하다. 예를 들어, 대표적인 티타늄 합금인 Ti-6Al-4V 합금은 α+β형 티타늄 합금이며, 강도 및 강성 등의 기계적 성질과 가공성을 높은 레벨로 양립할 수 있어, 신뢰성이 높은 광학 부재를 저렴하게 제조할 수 있다.
또한, 본 발명은,
티타늄 또는 티타늄 합금을 포함하는 기재를 광학 부재의 형상으로 가공하는 기재 제작 공정과,
상기 기재의 표면에 탄화수소를 주성분으로 하는 가스의 연소염을 맞닿게 하여, 상기 표면의 온도가 700 내지 1500℃가 되도록 가열 처리하거나, 또는 상기 표면의 온도가 700 내지 1500℃가 되도록 탄화수소를 주성분으로 하는 가스의 연소 가스 분위기 중에서 가열 처리하여, 상기 표면에 탄소 도핑 산화티타늄층을 형성시키는 탄소 도핑 처리 공정을 갖는 것
을 특징으로 하는 광학 부재의 제조 방법도 제공한다.
기재 제작 공정은 티타늄 또는 티타늄 합금을 포함하는 기재를 광학 부재의 형상으로 하기 위한 공정이며, 원하는 형상이 얻어지는 한, 가공 방법은 한정되지 않고, 종래 공지의 다양한 가공 방법을 사용할 수 있다.
또한, 탄소 도핑 처리 공정은 기재의 표면을 흑색화 또는 암색화하기 위한 공정이며, 기재의 표면에 탄소 도핑 산화티타늄층을 형성함으로써 표면의 흑색화 또는 암색화를 달성한다. 여기서, 예를 들어 대기 중의 표면 산화에 의해 기재의 표면에 산화티타늄층을 형성시키면 표면을 충분히 흑색화 또는 암색화시킬 수 없지만, 탄화수소를 주성분으로 하는 가스의 연소 가스 분위기하에서 기재의 표면 온도를 700 내지 1500℃로 함으로써, 탄소가 도핑된 흑색의 산화티타늄층을 형성시킬 수 있다.
본 발명의 광학 부재의 제조 방법에 있어서는, 상기 탄소 도핑 산화티타늄층의 최표면을 연마하는 연마 처리 공정을 더 갖는 것이 바람직하다. 탄소 도핑 처리 공정에서 형성된 탄소 도핑 산화티타늄층의 최표면에는 미소한 공공이나 크랙 등의 결함이 발생되어 있을 가능성이 있지만, 최표면을 연마함으로써 결함이 존재하지 않는 양호한 탄소 도핑 산화티타늄층만을 사용할 수 있다.
여기서, 리소그래피 공정에서는 분진의 발생을 엄밀하게 억제할 필요가 있으며, 펠리클 프레임의 최표면에 취약한 영역이 형성되는 것은 확실하게 피해야 한다. 당해 관점에서, 탄소 도핑 산화티타늄층 최표면의 연마는, 광학 부재가 펠리클 프레임인 경우에는 특히 실시하는 것이 바람직하다.
본 발명에 따르면, 비교적 저렴하게 제조할 수 있는 경량의 광학 부재이며, 온도 상승에 의한 비틀림이 억제되고, 외관 색이 충분히 흑색화 또는 암색화된 광학 부재 및 그의 효율적인 제조 방법을 제공할 수 있고, 특히 비교적 저렴하게 제조할 수 있는 경량의 펠리클 프레임이며, 온도 상승에 의한 비틀림이 억제되고, 검사성의 관점에서 외관 색이 충분히 흑색화 또는 암색화된 펠리클 프레임 및 그의 효율적인 제조 방법을 제공할 수 있다.
도 1은 실시 형태의 펠리클 프레임의 사시도이다.
도 2는 실시 형태의 펠리클 프레임의 C-C' 단면도이다.
도 3은 실시 형태의 펠리클 프레임의 제조 방법의 공정도이다.
도 4는 실시예 1의 광학 부재의 단면 관찰 결과(반사 전자 조성 상)이다.
도 5는 실시예 2의 광학 부재의 단면 관찰 결과(반사 전자 조성 상)이다.
이하, 광학 부품의 대표예로서 펠리클 프레임을 들어, 도면을 참조하면서 본 발명의 광학 부품 및 그의 제조 방법에 대한 대표적인 실시 형태에 대해 상세하게 설명하는데, 본 발명은 이들에만 한정되는 것은 아니다. 또한, 실시 형태에 있어서의 구성 요소는 일부 또는 전부를 적절하게 조합할 수 있다. 또한, 이하의 설명에서는, 동일 또는 상당 부분에는 동일 부호를 붙여 중복되는 설명은 생략하는 경우가 있다. 또한, 도면은 본 발명을 개념적으로 설명하기 위한 것이므로, 표시된 각 구성 요소의 치수나 그들의 비는 실제의 것과는 다른 경우도 있다.
1. 펠리클 프레임
도 1 및 도 2에 도시한 바와 같이, 펠리클 프레임(1)은, 탄소 도핑 산화티타늄층(2)을 표면에 갖는 티타늄 또는 티타늄 합금제의 프레임체(4)로 구성되어 있다.
프레임체(4)는 티타늄 또는 티타늄 합금제라는 점에서, 종래 일반적으로 사용되고 있는 알루미늄 합금제의 펠리클 프레임과 비교하여 높은 강도 및 영률을 갖고 있다. 또한, 티타늄 및 티타늄 합금의 비중은 약 4.5 정도로 비교적 경량이며, 펠리클 프레임(1)의 중량 증가를 억제할 수 있다.
프레임체(4)에 사용하는 티타늄 합금은, 본 발명의 효과를 손상시키지 않는 한 특별히 한정되지 않으며, 종래 공지의 다양한 티타늄 합금을 사용할 수 있다. 티타늄 합금으로서는, Ti-6Al-4V 합금, Ti-6Al-6V-2Sn 합금, Ti-6Al-2Sn-4Zr-6Mo 합금, Ti-10V-2Fe-3Al 합금, Ti-7Al-4Mo 합금, Ti-5Al-2.5Sn 합금, Ti-6Al-5Zr-0.5Mo-0.2Si 합금, Ti-5.5Al-3.5Sn-3Zr-0.3Mo-1Nb-0.3Si 합금, Ti-8Al-1Mo-1V 합금, Ti-6Al-2Sn-4Zr-2Mo 합금, Ti-5Al-2Sn-2Zr-4Mo-4Cr 합금, Ti-11.5Mo-6Zr-4.5Sn 합금, Ti-15V-3Cr-3Al-3Sn 합금, Ti-15Mo-5Zr-3Al 합금, Ti-15Mo-5Zr 합금, 또는 Ti-13V-11Cr-3Al 합금 등을 들 수 있다.
높은 강도 및 양호한 가공성을 양립시키는 관점에서는, α+β형 합금을 사용하는 것이 바람직하고, 또한 재료 가격이나 입수 용이성의 관점에서, Ti-6Al-4V 합금을 사용하는 것이 보다 바람직하다. 또한, 원리에 대해서는 반드시 분명한 것은 아니지만, Ti-6Al-4V 합금을 사용함으로써 탄소 도핑 산화티타늄층(2)의 형성에 의해, 표면을 보다 확실하게 흑색화할 수 있다.
펠리클 프레임(1)의 형상은, 본 발명의 효과를 손상시키지 않는 한 특별히 제한되지 않고, 노광 원판의 형상에 따라서 종래 공지의 다양한 형상으로 할 수 있지만, 일반적으로는 펠리클 프레임(1)의 평면 형상은 링형, 직사각형 또는 정사각형이며, 노광 원판에 마련된 회로 패턴부를 덮는 크기와 형상을 구비하고 있다.
펠리클 프레임(1)의 높이(두께)는 0.5 내지 10㎜인 것이 바람직하고, 1 내지 7㎜인 것이 보다 바람직하고, 1.0 내지 3.0㎜인 것이 가장 바람직하다. 펠리클 프레임(1)의 높이(두께)를 이들 값으로 함으로써, 펠리클 프레임(1)의 변형을 억제할 수 있음과 함께, 양호한 핸들링성을 담보할 수 있다.
펠리클 프레임(1)의 단면 형상은, 본 발명의 효과를 손상시키지 않는 한 특별히 제한되지 않고, 종래 공지의 다양한 형상으로 할 수 있지만, 상변 및 하변이 평행한 사변형으로 하는 것이 바람직하다. 펠리클 프레임(1)의 상변에는 펠리클막을 장설하기 위한 폭이 필요하고, 하변에는 접착용 점착층을 마련하여 노광 원판에 접착하기 위한 폭이 필요하다. 당해 이유로부터, 펠리클 프레임(1)의 상변 및 하변의 폭(W)은 1 내지 3㎜ 정도로 하는 것이 바람직하다.
펠리클 프레임(1)의 평탄도는 30㎛ 이하로 하는 것이 바람직하고, 20㎛ 이하로 하는 것이 보다 바람직하다. 펠리클 프레임(1)의 평탄도를 향상시킴으로써, 펠리클을 노광 원판에 첩부한 경우의 노광 원판의 변형량을 작게 할 수 있다. 또한, 상기한 펠리클 프레임(1)의 평탄도는, 펠리클 프레임(1)의 각 코너 4점과 네 변의 중앙 4점의 계 8점에 있어서 높이를 측정함으로써 가상 평면을 산출하고, 당해 가상 평면으로부터의 각 점의 거리 중, 최고점으로부터 최저점을 뺀 차에 의해 산출할 수 있다.
탄소 도핑 산화티타늄층(2)에 있어서의 탄소의 함유량은 0.1 내지 15at％인 것이 바람직하다. 탄소 함유량을 0.1at％ 이상으로 함으로써 표면을 흑색화할 수 있고, 15at％ 이하로 함으로써 표면의 흑색화나 경도 상승에 기여하지 않는 과잉의 탄소의 도핑을 억제할 수 있다. 탄소 함유량의 보다 바람직한 함유량은 0.3 내지 10at％이고, 가장 바람직한 함유량은 1 내지 5at％이다. 본 명세서에 있어서 탄소의 함유량이란, 실시예에 기재된 방법에 의해 측정되는 값을 말한다.
또한, 탄소 도핑 산화티타늄층(2)에 있어서, 탄소는 Ti-C 결합의 상태로 도핑되어 있는 것이 바람직하다. Ti-C 결합의 상태로 탄소를 도핑함으로써 표면 경도를 효과적으로 상승시킬 수 있어, 펠리클 프레임(1)의 내스크래치성 및 내마모성 등을 향상시킬 수 있다. 표면 경도는 500Hv 이상인 것이 바람직하고, 1000Hv 이상인 것이 보다 바람직하고, 1200Hv 이상인 것이 가장 바람직하다.
탄소 도핑 산화티타늄층(2)의 두께는 10㎚ 이상인 것이 바람직하고, 50㎚ 이상인 것이 보다 바람직하고, 100㎚ 이상인 것이 가장 바람직하다. 탄소 도핑 산화티타늄층(2)의 두께를 이들 값 이상으로 함으로써, 표면의 흑색화가 달성될 뿐만 아니라, 내스크래치성 및 내마모성을 확보할 수 있다.
펠리클 프레임(1) 표면의 명도 지수 L*값은 40 이하인 것이 바람직하다. 표면의 명도 지수 L*값을 40 이하로 함으로써, 각종 광학 부품의 광 반사를 충분히 억제할 수 있다. 또한, 펠리클 프레임의 경우에는, 사용 전의 이물 불착 검사 등을 용이하면서도 확실하게 행할 수 있다. 명도 지수 L*값의 보다 바람직한 값은 35 이하이고, 가장 바람직한 값은 30 이하이다. 또한, 본 명세서에 있어서, 명도 지수 L*값이란, 실시예에 기재된 방법에 의해 측정되는 값을 말한다.
또한, 펠리클 프레임(1)의 반사율은 25％ 이하인 것이 바람직하다. 반사율을 25％ 이하로 함으로써, 각종 광학 기기나 펠리클 프레임 등에 있어서의 광 반사를 충분히 억제할 수 있다. 보다 바람직한 반사율은 20％ 이하이고, 가장 바람직한 반사율은 18％ 이하이다. 상술한 펠리클 프레임(1)의 반사율은, 적어도 600 내지 750㎚의 범위에서 충족하는 것이 바람직하고, 500 내지 800㎚의 범위에서 충족하는 것이 보다 바람직하고, 400 내지 900㎚의 범위에서 충족하는 것이 더욱 바람직하고, 350 내지 1000㎚의 범위에서 충족하는 것이 특히 바람직하다. 상술한 범위 내에서 반사율이 충족됨으로써, 가시광을 포함하는 반사광이 억제되어, 카메라를 사용한 광학 부재의 광학 관찰을 양호하게 행할 수 있다. 또한, 본 명세서에 있어서 반사율이란, 실시예에 기재된 방법에 의해 측정되는 값을 말한다.
또한, 프레임체(4)의 선팽창 계수는 6×10-6 내지 11×10-6/K인 것이 바람직하다. 선팽창 계수를 6×10-6K 이상으로 함으로써, 광학 부재와, 세라믹이나 실리콘 등을 포함하는 재료의 열팽창 계수가 근접해진다. 이에 의해, 광학 부재와, 세라믹이나 실리콘 등을 포함하는 부재의 온도 상승 시의 열팽창에 의한 변형의 차에서 기인하여 발생하는, 비틀림이나 균열을 저감시킬 수 있다. 이러한 효과가 발휘되는 조합으로서는, 예를 들어 광학 부재가 렌즈 홀더이며, 세라믹이나 실리콘 등을 포함하는 부재가 카메라 등의 렌즈인 경우를 들 수 있다. 또한, 선팽창 계수를 11×10-6K 이하로 함으로써, 승온 시의 비틀림을 저감시킬 수 있다. 보다 바람직한 선팽창 계수는 7×10-6 내지 10×10-6/K이고, 가장 바람직한 선팽창 계수는 8×10-6 내지 9×10-6/K이다. 본 명세서에 있어서 선팽창 계수는, 0 내지 100℃의 온도 범위에 있어서의 값을 나타내는 것으로 한다. 상술한 프레임체(4)의 선팽창 계수는, 예를 들어 프레임체(4)가 티타늄 또는 티타늄 합금제임으로써 달성할 수 있다.
2. 펠리클 프레임의 제조 방법
도 3에 나타낸 바와 같이, 본 실시 형태의 펠리클 프레임의 제조 방법은, 티타늄 또는 티타늄 합금을 포함하는 기재를 펠리클 프레임의 형상으로 가공하는 기재 제작 공정(S01)과, 기재의 표면에 탄소 도핑 산화티타늄층을 형성시키는 탄소 도핑 처리 공정(S02)을 포함하고 있다. 이하, 임의의 공정도 포함하여 각 공정 등에 대해 상세하게 설명한다.
(1) 기재 제작 공정(S01)
기재 제작 공정(S01)은 프레임체(4)를 얻기 위한 공정이며, 필요에 따라서 티타늄 또는 티타늄 합금재에 대해 접합 및 절삭 등을 실시하여, 펠리클 프레임(1)의 프레임체(4)를 높은 치수 정밀도로 얻기 위한 공정이다.
티타늄 또는 티타늄 합금재가 충분한 크기를 갖고 있는 경우, 당해 재료로부터 프레임체(4)를 잘라낼 수 있다. 한편, 티타늄 또는 티타늄 합금재를 접합함으로써도 프레임체(4)를 얻을 수 있으며, 이 경우는 티타늄 또는 티타늄 합금재의 수율을 높일 수 있다. 여기서, 티타늄 또는 티타늄 합금재의 접합에는 고상 접합을 사용하는 것이 바람직하다. 고상 접합을 사용함으로써 접합부에서 발생하는 비틀림을 억제할 수 있어, 접합부와 모재의 기계적 성질의 차이를 작게 할 수 있다. 또한, 잘라내기 또는 접합에 의해 얻어진 프레임체(4)에 대해서는, 절삭 가공을 더 행해도 된다.
(2) 탄소 도핑 처리 공정(S02)
탄소 도핑 처리 공정(S02)은, 기재 제작 공정(S01)에서 얻어진 프레임체(4)의 표면에 탄소 도핑 산화티타늄층(2)을 형성시키기 위한 공정이다. 탄소 도핑 처리 공정(S02)에 의해 펠리클 프레임(1)의 외관 색을 결정할 수 있다(흑색화할 수 있음).
탄소 도핑 처리 공정(S02)의 전처리로서, 프레임체(4)를 탈지 처리하는 것이 바람직하다. 구체적으로는, 프레임체(4)를 아세톤 등으로 세정한 후에 순수로 세정하고, 건조시킴으로써 유분을 제거할 수 있다.
프레임체(4)의 표면에 탄화수소를 주성분으로 하는 가스의 연소염을 맞닿게 하여, 당해 표면의 온도가 700 내지 1500℃가 되도록 가열 처리하거나, 또는 표면의 온도가 700 내지 1500℃가 되도록 탄화수소를 주성분으로 하는 가스의 연소 가스 분위기 중에서 가열 처리함으로써, 프레임체(4)의 표면에 탄소 도핑 산화티타늄층(2)을 형성할 수 있다. 가열 처리의 온도는, 바람직하게는 800℃ 이상, 보다 바람직하게는 900℃ 이상이고, 바람직하게는 1400℃ 이하, 보다 바람직하게는 1300℃ 이하이다.
가열 처리의 처리 시간은, 프레임체(4)의 표면에 탄소 도핑 산화티타늄층(2)을 형성할 수 있는 시간이면 특별히 한정되지 않으며, 가열 후의 냉각 시에 탄소 도핑 산화티타늄층(2)의 박리가 억제되는 시간인 것이 바람직하다. 가열 처리 시간은, 바람직하게는 1초 이상, 보다 바람직하게는 1분 이상이며, 바람직하게는 10시간 이하, 보다 바람직하게는 1시간 이하이다.
대기 중의 표면 산화에 의해 프레임체(4)의 표면에 산화티타늄층을 형성시키면 표면을 충분히 흑색화 또는 암색화시킬 수 없지만, 탄화수소를 주성분으로 하는 가스의 연소 가스 분위기하에서 처리함으로써, 탄소가 도핑된 흑색의 산화티타늄층을 형성시킬 수 있다.
보다 구체적으로는, 탄화수소를 50용량％ 이상 함유하는 연료 가스를 연소시킨 연소염, 탄화수소를 50용량％ 이상 함유하는 연료 가스를 연소시켜 얻은 연소 가스 분위기 또는 탄화수소를 50용량％ 이상 함유하는 연료 가스 분위기를 사용하는 것이 바람직하고, 특히 환원염을 이용하는 것이 바람직하다. 탄화수소 함유량이 적은 연료를 사용하는 경우에는, 탄소의 도핑량이 불충분하거나 전무하거나 하여, 그 결과로서 흑색화가 불충분해진다. 탄화수소를 50용량％ 이상 함유하는 연료 가스로서는, 예를 들어 천연가스, LPG, 메탄, 에탄, 프로판, 부탄, 에틸렌, 프로필렌, 아세틸렌 등의 탄화수소, 혹은 이들을 적절하게 혼합한 가스를 함유하고, 적절하게 공기, 수소, 산소 등을 혼합한 가스를 사용할 수 있다. 탄화수소를 50용량％ 이상 함유하는 연료 가스는 불포화 탄화수소를 30용량％ 이상 함유하는 것이 바람직하고, 아세틸렌을 50용량％ 이상 함유하는 것이 보다 바람직하고, 탄화수소가 아세틸렌 100％인 것이 가장 바람직하다. 불포화 탄화수소, 특히 삼중 결합을 갖는 아세틸렌을 사용한 경우에는, 그 연소의 과정에서, 특히 환원염 부분에서 불포화 결합 부분이 분해되어 중간적인 라디칼 물질이 형성되며, 이 라디칼 물질은 활성이 강하기 때문에 탄소 도핑이 발생하기 쉽다고 생각된다.
또한, 가열 처리하는 프레임체(4)의 표면층이 티타늄 또는 티타늄 합금인 경우(산화층이 존재하지 않는 경우)에는 티타늄 또는 티타늄 합금을 산화시킬 산소가 필요하며, 그만큼 공기 또는 산소를 포함하고 있을 필요가 있다.
여기서, 온도 상승에 의한 프레임체(4)의 비틀림을 억제하기 위해, 양호한 탄소 도핑 산화티타늄층(2)이 얻어지는 한, 처리 온도는 낮게 설정하는 것이 바람직하다. 예를 들어, Ti-6Al-4V 합금을 사용하는 경우, 당해 합금에서 αβ상 변태가 발생하는 β 트랜서스 온도는 약 980℃이며, 탄소 도핑 처리에 의해 프레임체(4)의 온도가 β트랜서스 온도 이상이 되면, 비틀림이 현저하게 발생해 버린다. 따라서, Ti-6Al-4V 합금을 사용하는 경우에는, 표면 온도가 900 내지 980℃가 되도록 탄소 도핑 처리를 실시하는 것이 바람직하고, 표면 온도가 보다 높은 온도가 되는 경우라도 980℃ 이하가 되는 영역이 프레임체(4)에 존재하는 것이 바람직하다.
탄소 도핑 산화티타늄층(2)의 탄소 함유량, 프레임체(4)의 표면의 명도 지수 L*값 및 반사율은 탄소 도핑 처리 공정(S02)의 처리 조건에 의해 제어할 수 있고, 탄소 함유량이 0.1 내지 15at％, 명도 지수 L*값이 40 이하, 반사율이 25％ 이하가 되도록 가스의 조성, 처리 온도 및 처리 시간 등을 조정하는 것이 바람직하다.
(3) 연마 처리 공정(S03)
본 실시 형태의 펠리클 프레임의 제조 방법은, 탄소 도핑 산화티타늄층(2)의 최표면을 연마하는 연마 처리 공정(SO3)을 포함하는 것이 바람직하다. 탄소 도핑 처리 공정(S02)에서 형성된 탄소 도핑 산화티타늄층(2)의 최표면에는 미소한 공공이나 크랙 등의 결함이 발생되어 있을 가능성이 있지만, 최표면을 연마함으로써, 결함이 존재하지 않는 양호한 탄소 도핑 산화티타늄층(2)만을 사용할 수 있다.
여기서, 리소그래피 공정에서는 분진의 발생을 엄밀하게 억제할 필요가 있으며, 펠리클 프레임(1)의 최표면에 취약한 영역이 형성되는 것은 확실하게 피해야 한다. 당해 관점에서, 탄소 도핑 산화티타늄층(2)의 최표면의 연마는, 광학 부재가 펠리클 프레임인 경우에는 특히 실시하는 것이 바람직하다.
탄소 도핑 산화티타늄층(2)의 표면을 연마하는 경우, 연마력이 지나치게 강한 경우에는 최표면만을 제거하는 것이 곤란하다. 여기서 당해 연마에는, 예를 들어 핵이 되는 유리의 주위를 젤라틴질로 피복한 비즈 등의 연마력이 작은 연마재를 사용하여 서서히 연마를 행하는 것이 바람직하다. 연마량은, 탄소 도핑 산화티타늄층(2)의 최표면으로부터 약 1㎛ 정도로 하는 것이 바람직하다.
이상, 본 발명의 대표적인 실시 형태에 대해 설명하였는데, 본 발명은 이들에만 한정되는 것은 아니며 다양한 설계 변경이 가능하고, 그러한 설계 변경들은 모두 본 발명의 기술적 범위에 포함된다.
3. 광학 부재
상술한 실시 형태에서는, 광학 부재로서 펠리클 프레임(1)을 예시하여 설명하였는데 광학 부재는 이것에 한정되지 않는다. 광학 부재로서는, 예를 들어 펠리클 프레임, 렌즈 홀더, 배럴, 셰이드, 리플렉터 등을 들 수 있다.
실시예
<실시예 1>
순티타늄을 포함하는 두께 0.8㎜의 티타늄재를 잘라내어 판상의 티타늄 기재를 제작하였다. 이 티타늄 기재에 대해, 아세틸렌의 연소염을 사용하여 표면 온도가 800℃가 되도록 가열 처리함으로써 탄소 도핑 처리를 행하였다. 이에 의해, 실시예 1의 광학 부재를 제작하였다.
실시예 1의 광학 부재의 단면 관찰을 행하였다. SEM(칼 자이스사 제조, ULTRA PLUS)에 의한 반사 전자 조성 상을 도 4에 나타낸다. 또한, EPMA(시마즈 세이사쿠쇼사 제조, EPMA-8050G)를 사용하여 얻어진 탄소 도핑 산화티타늄층의 각 원소 농도(wt％) 및 탄소 함유량(at％)을 표 1에 나타낸다. 또한, 표 1에서는 도 4의 부호 A1 및 부호 A2로 나타낸 각 위치의 각 원소 농도를 나타낸다. 또한, 탄소 함유량은 각 원소 농도로부터 산출하였다.
명도 측정기(닛폰 덴쇼쿠 고교사 제조, NF777)를 사용하여, 실시예 1의 광학 부재의 명도 지수 L*를 측정하였다. 얻어진 결과를 표 2에 나타낸다.
반사율 측정기(PerkinElmer사 제조, Lambda750)를 사용하여, 실시예 1의 광학 부재의 반사율을 측정하였다. 얻어진 결과를 표 3에 나타낸다.
마이크로비커스 경도계(미츠토요사 제조, HM-221)를 사용하여, 하중을 5gf로 하여 실시예 1의 광학 부재 표면의 경도의 측정을 행하였다. 측정 위치를 변경하여 경도의 측정을 5회 행하고, 5회의 측정값의 평균값을 경도로 하였다. 얻어진 결과를 표 4에 나타낸다.
<실시예 2>
탄소 도핑 처리의 조건을, 티타늄 기재의 표면 온도가 740℃가 되도록 가열 처리하는 것 이외에는 실시예 1과 마찬가지로 하여, 실시예 2의 광학 부재를 제작하였다.
실시예 1과 마찬가지로 하여 얻어진 실시예 2의 광학 부재의 반사 전자 조성 상을 도 5에 나타낸다. 또한, 실시예 1과 마찬가지로 하여 얻어진 탄소 도핑 산화티타늄층의 각 원소 농도(wt％) 및 탄소 함유량(at％)을 표 1에, 명도 지수 L*를 표 2에, 반사율을 표 3에, 경도를 표 4에 각각 나타낸다. 또한 표 1에서는, 도 5의 부호 B1 및 부호 B2로 나타낸 각 위치의 각 원소 농도를 나타낸다.
<비교예 1>
실시예 1과 마찬가지로 하여 티타늄 기재를 제작한 후에 탄소 도핑 처리를 행하지 않음으로써, 표면층으로서 탄소 도핑 산화티타늄층을 갖지 않는, 비교예 1의 광학 부재를 제작하였다.
실시예 1과 마찬가지로 하여 측정한 표면층(산화티타늄층)의 명도 지수 L*, 반사율, 및 경도를 표 2 내지 표 4에 각각 나타낸다.
Figure pct00001
Figure pct00002
Figure pct00003
Figure pct00004
실시예 1의 광학 부재는, SEM에 의한 관찰 결과로부터, 조성이 다른 적어도 2층을 갖고 있는 것이 분명해졌다. EPMA에 의해 얻어진 산소와 티타늄의 원소 농도의 분포는 SEM에 의해 관찰된 층 구성과 대략 일치하고 있고, 산소의 농도가 표층측에서는 높고 하층측에서는 낮았던 것에 비해, 티타늄의 농도는 표층측에서는 낮고 하층측에서는 높았다. 이것으로부터, 실시예 1의 광학 부재에서는, 티타늄을 포함하는 기재의 표면이 산화를 받고 있음을 알 수 있었다. 또한, 탄소의 원소 농도의 분포와, 부호 A1과 부호 A2의 각 위치에 있어서의 원소 농도의 값으로부터, 표면측의 층이, 탄소가 도핑된 탄소 도핑 산화티타늄층을 갖고 있음이 분명해졌다. 이들 결과로부터, 실시예 1의 광학 부재에서는, 티타늄을 포함하는 기재의 표면에, 탄소 도핑 산화티타늄층을 갖는 것이 뒷받침되었다.
실시예 2의 광학 부재는, SEM 및 원소 농도의 분포로부터, 실시예 1보다도 표면측의 층의 막 두께가 얇아져 있기는 하지만, 실시예 1과 마찬가지로 티타늄을 포함하는 기재의 표면이 산화를 받고 있음을 알 수 있었다. 또한, 탄소의 원소 농도의 분포와, 부호 B1과 부호 B2의 각 위치에 있어서의 원소 농도의 값으로부터, 실시예 1과 마찬가지로 실시예 2의 광학 부재에서는 티타늄을 포함하는 기재의 표면에, 탄소 도핑 산화티타늄층을 갖는 것이 뒷받침되었다.
또한, 표 2, 표 3의 결과로부터 분명한 바와 같이, 기재의 표면에 탄소 도핑 산화티타늄층을 갖는 실시예 1, 2의 광학 부재는, 표면이 티타늄을 포함하는 층인 비교예 1의 광학 부재보다도 명도 지수 L*값과 반사율이 억제되어 있으며, 외관 색이 충분히 암색화된 광학 부재로 되어 있었다. 또한, 표 4의 결과로부터 분명한 바와 같이, 실시예 1, 2의 광학 부재에서는 비교예 1의 광학 부재보다도 표면의 경도가 대폭 향상된 것이었다.
1: 펠리클 프레임
2: 탄소 도핑 산화티타늄층
4: 프레임체

Claims (9)

  1. 티타늄 또는 티타늄 합금을 포함하는 기재와,
    상기 기재의 표면에 형성된 탄소 도핑 산화티타늄층을 갖는 것
    을 특징으로 하는, 광학 부재.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 탄소 도핑 산화티타늄층에 있어서의 탄소의 함유량이 0.1 내지 15at％인 것
    을 특징으로 하는, 광학 부재.
  3. 제1항 또는 제2항에 있어서,
    상기 탄소가 Ti-C 결합 상태로 도핑되어 있는 것
    을 특징으로 하는, 광학 부재.
  4. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,
    표면의 명도 지수 L*값이 40 이하인 것
    을 특징으로 하는, 광학 부재.
  5. 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서,
    반사율이 25％ 이하인 것
    을 특징으로 하는, 광학 부재.
  6. 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 기재의 선팽창 계수가 6×10-6 내지 11×10-6/K인 것
    을 특징으로 하는, 광학 부재.
  7. 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 기재가 α+β형 티타늄 합금인 것
    을 특징으로 하는, 광학 부재.
  8. 티타늄 또는 티타늄 합금을 포함하는 기재를 광학 부재의 형상으로 가공하는 기재 제작 공정과,
    상기 기재의 표면에 탄화수소를 주성분으로 하는 가스의 연소염을 맞닿게 하여, 상기 표면의 온도가 700 내지 1500℃가 되도록 가열 처리하거나, 또는 상기 표면의 온도가 700 내지 1500℃가 되도록 탄화수소를 주성분으로 하는 가스의 연소 가스 분위기 중에서 가열 처리하여, 상기 표면에 탄소 도핑 산화티타늄층을 형성시키는 탄소 도핑 처리 공정을 갖는 것
    을 특징으로 하는, 광학 부재의 제조 방법.
  9. 제8항에 있어서,
    상기 탄소 도핑 산화티타늄층의 최표면을 연마하는 연마 처리 공정을 더 갖는 것
    을 특징으로 하는, 광학 부재의 제조 방법.
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Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2023149056A1 (ja) * 2022-02-04 2023-08-10 日本軽金属株式会社 光学部材及びその製造方法

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010154783A (ja) * 2008-12-26 2010-07-15 Globeride Inc 釣糸ガイド、及びガイドリングの製造方法
KR20110052684A (ko) * 2008-09-05 2011-05-18 스미토모 긴조쿠 고잔 가부시키가이샤 흑색 피복막과 그 제조 방법, 흑색 차광판 및 그것을 이용한 조리개, 광량 조정용 조리개 장치, 셔터, 및 내열 차광 테이프
JP2014085435A (ja) 2012-10-22 2014-05-12 Shin Etsu Chem Co Ltd ペリクルフレーム及びこのペリクルフレームで構成されたペリクル
JP2016177120A (ja) 2015-03-20 2016-10-06 日本特殊陶業株式会社 ペリクル枠およびペリクル枠の製造方法

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000121825A (ja) * 1998-10-19 2000-04-28 Asahi Glass Co Ltd 遮光層付き基板、その製造方法並びにスパッタターゲット、カラーフィルタ基板、及び表示素子
JP3948739B2 (ja) * 2003-12-09 2007-07-25 財団法人電力中央研究所 炭素ドープ酸化チタン層を有する多機能材
CN1657976A (zh) * 2004-02-16 2005-08-24 柯尼卡美能达精密光学株式会社 光学元件和光接收装置
JP4902125B2 (ja) * 2005-02-28 2012-03-21 財団法人電力中央研究所 鏡面を有する多機能材
JP4921417B2 (ja) * 2007-12-21 2012-04-25 三井化学株式会社 ペリクル
JP5459696B2 (ja) * 2008-11-05 2014-04-02 一般財団法人電力中央研究所 耐食性基体の製造方法
JP5292090B2 (ja) * 2008-12-25 2013-09-18 グローブライド株式会社 スポーツ用品
JP5344682B2 (ja) * 2008-12-26 2013-11-20 グローブライド株式会社 釣糸ガイド、及び釣糸ガイドの製造方法
SG187145A1 (en) * 2010-08-05 2013-02-28 3M Innovative Properties Co Multilayer film comprising matte surface layer and articles
JP6024381B2 (ja) 2012-10-23 2016-11-16 ブラザー工業株式会社 画像形成装置

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20110052684A (ko) * 2008-09-05 2011-05-18 스미토모 긴조쿠 고잔 가부시키가이샤 흑색 피복막과 그 제조 방법, 흑색 차광판 및 그것을 이용한 조리개, 광량 조정용 조리개 장치, 셔터, 및 내열 차광 테이프
JP2010154783A (ja) * 2008-12-26 2010-07-15 Globeride Inc 釣糸ガイド、及びガイドリングの製造方法
JP2014085435A (ja) 2012-10-22 2014-05-12 Shin Etsu Chem Co Ltd ペリクルフレーム及びこのペリクルフレームで構成されたペリクル
JP2016177120A (ja) 2015-03-20 2016-10-06 日本特殊陶業株式会社 ペリクル枠およびペリクル枠の製造方法

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EP3845934A1 (en) 2021-07-07
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