KR20210034927A - 화합물의 제조방법 - Google Patents
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Abstract
본 출원은 화학식 2 및 화학식 4로 표시되는 화합물의 제조방법에 관한 것이다.
Description
본 발명은 화합물의 제조 방법에 관한 것이다.
고흡수성 수지(Super Absorbent Polymer, SAP)란 자체 무게의 5백 내지 1천 배 정도의 수분을 흡수할 수 있는 기능을 가진 합성 고분자 물질로서, 기저귀나 생리대 등 위생재 분야에서 널리 사용되고 있다.
이러한 용도를 위해 수분 등에 대한 높은 흡수력을 나타낼 필요가 있고, 외부의 압력에도 흡수된 수분이 빠져 나오지 않아야 하며, 이에 더하여, 물을 흡수하여 부피 팽창(팽윤)된 상태에서도 형태를 잘 유지하여 우수한 통액성(permeability)을 나타낼 필요가 있다.
이를 위해서, 가장 중요한 구성이 되는 중합체인 베이스 수지(base resin)가 높은 흡수능을 지녀야 한다. 이러한 베이스 수지를 만들기 위해서 일반적으로 내부 가교제의 존재 하에 아크릴산계 단량체를 중합하여 중합체 내부의 가교밀도를 조절할 수 있다. 내부 가교제는 아크릴산계 단량체가 중합된 중합체, 즉, 베이스 수지의 내부를 가교시키기 위한 것으로서, 내부 가교제의 종류 및 함량에 따라 베이스 수지의 내부 가교밀도를 조절할 수 있다. 베이스 수지의 가교밀도가 낮으면 흡수능은 높아지지만 강도가 약하여 후속하는 공정에서 형태가 유지되지 못하는 문제점이 발생할 수 있고, 가교밀도가 너무 높으면 강도는 높아지지만 수분 흡수능이 떨어질 수 있어, 베이스 수지의 강도 및 흡수능의 관점에서 적절한 가교밀도를 조절하는 것이 매우 중요하다.
이러한 가교제로서 분자 내 에틸렌 카보네이트(ethylene carbonate)를 포함하는 화합물을 사용할 수 있다. 그 중에서 하기와 같은 분자 내 에틸렌 카보네이트(ethylene carbonate)를 포함하는 화합물을 합성하는 방법이 공지되어 있다.
다만, 기존의 공지된 방법은 상기 P2 및 P4의 합성에 어려움이 있다.
따라서, 상기 P2 및 P4의 수율 및 순도를 높일 수 있는 제조방법에 대한 연구가 필요한 상황이다.
Designed Monomers and Polymers, Vol.8, No.6, (2016)
본 발명은 하기 화학식 2 및 화학식 4로 표시되는 화합물의 수율 및 순도를 높일 수 있는 제조하는 방법을 제공하고자 한다.
본 발명의 일 실시상태에 있어서, 하기 화학식 1로 표시되는 화합물; 및 아세트산을 반응시켜 하기 화학식 2로 표시되는 화합물을 포함하는 반응액 A를 준비하는 단계; 상기 반응액 A에 톨루엔 및 아세톤을 첨가하여 하기 화학식 2로 표시되는 화합물을 포함하는 반응액 B를 준비하는 단계; 및 상기 반응액 B에 포함된 화학식 2로 표시되는 화합물을 톨루엔을 용매로 하여 재결정하는 단계를 포함하는 하기 화학식 2로 표시되는 화합물의 제조방법을 제공한다.
본 발명의 또 다른 일 실시상태에 있어서, 하기 화학식 2로 표시되는 화합물 및 에틸 클로로폼에이트를 반응시켜 하기 화학식 3으로 표시되는 화합물 및 메탄올을 포함하는 반응액 C를 준비하는 단계; 상기 반응액 C에 산을 첨가하여 pH 1 이하로 반응액 C의 산성도를 조절하는 단계; 및 상기 산과 반응액 C를 반응시켜 하기 화학식 4로 표시되는 화합물을 포함하는 반응액 D를 제조하는 단계; 및 상기 반응액 D에 포함된 화학식 4로 표시되는 화합물을 물을 용매로 하여 재결정하는 단계를 포함하는 하기 화학식 4로 표시되는 화합물의 제조방법을 제공한다.
[화학식 1]
[화학식 2]
[화학식 3]
[화학식 4]
본 발명의 실시상태에 따른 화합물 제조방법을 사용하면, 하기 화학식 2 및 화학식 4로 표시되는 화합물의 수율을 높일 수 있다.
본 발명의 실시상태에 따른 화합물 제조방법을 사용하면, 하기 화학식 2 및 화학식 4로 표시되는 화합물의 순도를 높일 수 있다.
도 1 및 도2는 실시예 1 및 3의 최종 합성물의 proton NMR 결과를 나타낸 도이다.
도 3은 실시예 4 및 비교예 4의 반응 후의 모습을 나타낸 도이다.
도 4는 비교예 4의 의 최종 합성물의 proton NMR 결과를 나타낸 도이다.
도 5는 P4의 proton NMR 결과를 나타낸 도이다.
도 3은 실시예 4 및 비교예 4의 반응 후의 모습을 나타낸 도이다.
도 4는 비교예 4의 의 최종 합성물의 proton NMR 결과를 나타낸 도이다.
도 5는 P4의 proton NMR 결과를 나타낸 도이다.
이하, 본 명세서에 대하여 더욱 상세하게 설명한다.
본 명세서에 있어서, 어떤 부분이 어떤 구성 요소를 '포함'한다고 할 때, 이는 특별히 반대되는 기재가 없는 한 다른 구성 요소를 제외하는 것이 아니라 다른 구성 요소를 더 포함할 수 있다는 것을 의미한다.
본 명세서에 있어서, "반응액"이란 특정 화합물을 제조하는 과정에서 필요한 2종 이상의 화합물들로 구성된 혼합물을 의미하며, 물질의 상태에 관계 없이 두 가지 이상의 물질이 균일 또는 불균일하게 섞인 상태를 모두 포함한다.
본 명세서에 있어서, "농축"이란 용액에서 용매 등을 제거하는 것을 의미하며, 예를 들어 용액을 전기 히터나 증기 등의 열원을 이용하여 가열함으로써 행해질 수 있다.
본 명세서에서, "교반"은 해당 기술 분야에서 통상적인 방법인 이용될 수 있으며, 그 예로는 환류 교반을 들 수 있으며, 이에 한정되는 것은 아니다.
본 명세서에서, "상온"은 20℃ 내지 25℃의 온도 범위를 의미한다.
본 발명의 일 실시상태에 있어서, 하기 화학식 1로 표시되는 화합물; 및 아세트산을 반응시켜 하기 화학식 2로 표시되는 화합물을 포함하는 반응액 A를 준비하는 단계; 상기 반응액 A에 톨루엔 및 아세톤을 첨가하여 하기 화학식 2로 표시되는 화합물을 포함하는 반응액 B를 준비하는 단계; 및 상기 반응액 B에 포함된 화학식 2로 표시되는 화합물을 톨루엔을 용매로 하여 재결정하는 단계를 포함하는 하기 화학식 2로 표시되는 화합물의 제조방법을 제공한다.
[화학식 1]
[화학식 2]
상기 제조방법은 톨루엔을 용매로 하여 재결정하여 상기 화학식 2로 표시되는 화합물의 제조함으로써, 상기 화학식 2로 표시되는 화합물의 순도를 높일 수 있고, 여과 과정에서 불순물만을 제거하기 용이하다.
본 발명의 일 실시상태에 있어서, 상기 아세트산의 농도는 60 % 내지 80%일 수 있으며, 바람직하게는 65 % 내지 75%일 수 있다.
본 발명의 일 실시상태에 있어서, 상기 반응액 B에 포함된 화학식 2로 표시되는 화합물을 재결정하는 단계의 상기 톨루엔과 아세톤의 부피비는 부피비는 1:1.1 내지 1:3, 바람직하게는 1:1.1 내지 1:2일 수 있다. 상기 톨루엔과 아세톤의 부피비가 상기 범위를 만족시킬 경우 상기 화학식 2로 표시되는 화합물의 순도가 높다.
본 발명의 일 실시상태에 있어서, 상기 화학식 1로 표시되는 화합물; 및 아세트산을 반응시켜 상기 화학식 2로 표시되는 화합물을 포함하는 반응액 A를 준비하는 단계는 40℃ 내지 60℃의 승온된 온도, 바람직하게는 40℃ 내지 50℃ 의 승온된 온도에서 이루어지는 것일 수 있다. 또한, 상기 화학식 1로 표시되는 화합물; 및 아세트산을 반응은 교반시간 20분 이상인 조건으로 교반하여 이루어질 수 있다. 보다 구체적으로 상기 교반시간은 20 분 내지 40분일 수 있다.
본 발명의 일 실시상태에 있어서, 상기 반응액 A에 톨루엔 및 아세톤을 첨가하여 상기 화학식 2로 표시되는 화합물을 포함하는 반응액 B를 준비하는 단계는 상기 반응액 A를 감압 농축하는 단계; 상기 감압 농축된 반응액 A에 톨루엔을 첨가하고 다시 감압 농축하는 단계; 및 상기 농축된 톨루엔이 첨가된 반응액 A에 아세톤을 첨가하는 것일 수 있다.
또한, 상기 농축된 톨루엔이 첨가된 반응액 A에 아세톤을 첨가한 이 후, 교반하여 반응시켜 상기 반응액 B를 준비할 수 있다. 상기 교반하여 반응시키는 경우, 교반시간 20분 이상, 보다 구체적으로 상기 교반시간은 20 분 내지 40분일 수 있다.
본 발명의 일 실시상태에 있어서, 상기 반응액 A에 톨루엔 및 아세톤을 첨가하여 상기 화학식 2로 표시되는 화합물을 포함하는 반응액 B를 준비하는 단계; 및 상기 반응액 B에 포함된 화학식 2로 표시되는 화합물을 톨루엔을 용매로 하여 재결정하는 단계 사이에 상기 반응액 B를 40℃ 내지 60℃의 온도로 승온시키는 단계를 더 포함할 수 있다.
또한, 상기 반응액 A에 톨루엔 및 아세톤을 첨가하여 상기 화학식 2로 표시되는 화합물을 포함하는 반응액 B를 준비하는 단계 및 상기 반응액 B에 포함된 화학식 2로 표시되는 화합물을 톨루엔을 용매로 하여 재결정하는 단계 사이에 상기 반응액 B를 상온으로 감온하는 단계; 상기 감온된 반응액 B를 감압 여과하는 단계; 및 상기 감압 여과된 반응액 B를 농축하는 단계를 더 포함할 수 있다.
보다 구체적으로, 상기 반응액 A에 톨루엔 및 아세톤을 첨가하여 상기 화학식 2로 표시되는 화합물을 포함하는 반응액 B를 준비하는 단계; 및 상기 반응액 B에 포함된 화학식 2로 표시되는 화합물을 톨루엔을 용매로 하여 재결정하는 단계 사이에 상기 반응액 B를 40℃ 내지 60℃의 온도로 승온시키는 단계; 상기 반응액 B를 상온으로 감온하는 단계; 상기 감온된 반응액 B를 감압 여과하는 단계; 및 상기 감압 여과된 반응액 B를 농축하는 단계를 더 포함할 수 있다.
상기 감압 여과된 반응액 B를 농축하는 단계는 회전 감압 농축기를 25℃, 80mbar의 조건으로 사용하여 아세톤을 제거하는 단계; 및 회전 감압 농축기를 45℃, 10mbar의 조건으로 사용하여 톨루엔을 제거하는 단계를 포함할 수 있다.
상기 승온 온도 범위, 감온 온도 범위 및 교반 조건을 만족시킬 경우에 상기 화학식 2로 표시되는 화합물의 수율 및 순도가 높다. 또한, 상기 승온하는 단계 및 감온하는 단계에서 승온 속도 및 감온 속도가 중요한 것은 아니다.
본 발명의 일 실시 상태에 있어서, 상기 반응액 B에 포함된 화학식 2로 표시되는 화합물을 톨루엔을 용매로 하여 재결정하는 단계 후에 감압 여과하는 단계를 더 포함하는 것일 수 있다. 상기 감압 여과는 유리필터에 종이여과지를 깔고 반응액에 소량 포함된 고체를 여과 진행하여 제거하고 여과된 용액을 감압농축 진행하는 것을 의미할 수 있다.
본 발명의 또 다른 일 실시상태에 있어서, 하기 화학식 2로 표시되는 화합물 및 에틸 클로로폼에이트를 반응시켜 하기 화학식 3으로 표시되는 화합물 및 메탄올을 포함하는 반응액 C를 준비하는 단계; 상기 반응액 C와 pH 1 이하의 산을 반응시켜 하기 화학식 4로 표시되는 화합물을 포함하는 반응액 D를 제조하는 단계; 및 상기 반응액 D에 포함된 화학식 4로 표시되는 화합물을 물을 용매로 하여 재결정하는 단계를 포함하는 하기 화학식 4로 표시되는 화합물의 제조방법을 제공한다.
[화학식 2]
[화학식 3]
[화학식 4]
상기 화학식 3으로 표시되는 화합물을 및 pH 1 이하의 산과 반응시킴으로써, 고수율의 상기 화학식 4로 표시되는 화합물을 합성할 수 있고, 상기 화학식 4로 표시되는 화합물을 물을 용매로 하여 재결정하는 단계를 통하여 고순도의 상기 화학식 4로 표시되는 화합물을 얻을 수 있다.
본 발명의 일 실시상태에 있어서, 상기 pH 1 이하의 산은 염산일 수 있다.
본 발명의 일 실시상태에 있어서, 상기 반응액 C와 pH 1 이하의 산을 반응시켜 하기 화학식 4로 표시되는 화합물을 포함하는 반응액 D를 제조하는 단계는 40℃ 내지 60℃의 승온된 온도, 바람직하게는 40℃ 내지 50℃ 의 승온된 온도에서 이루어지는 것일 수 있다.
상기 반응액 D 및 pH 1 이하의 산을 반응시키는 단계는 밀봉된 상태에서 5시간 이상의 교반시간 조건으로 교반하여 이루어질 수 있다. 보다 구체적으로 상기 교반시간은 구체적으로 5시간 내지 7시간일 수 있다.
본 발명의 일 실시상태에 있어서, 상기 반응액 C와 pH 1 이하의 산을 반응시켜 상기 화학식 4로 표시되는 화합물을 포함하는 반응액 D를 제조하는 단계; 및 상기 반응액 E에 포함된 화학식 4로 표시되는 화합물을 물을 용매로 하여 재결정하는 단계 사이에 상기 반응액 D를 농축시키는 단계; 및 상기 농축된 반응액 D를 건조하는 단계를 더 포함하는 것일 수 있다.
상기 반응액 D를 농축하는 단계는 회전 감압 농축기를 50℃, 5mbar의 조건으로 사용하여 물을 제거하는 단계를 포함할 수 있다. 상기 물을 제거하는 단계에서 온도는 서서히 승온시키고, 압력은 서서히 진공에 가깝게 낮추어준다. 예를 들어, 반응액이 감압 농축 과정에서 주변으로 튈 우려가 있으므로, 40℃, 100 mbar의 조건에서 회전 감압 농축기를 사용하기 시작하여 30분에 걸쳐서 50℃, 5mbar의 조건까지 승온 및 감압할 수 있다. 다만, 이는 회전 감압 농축기를 사용한 일 예에 불과하다.
상기 농축된 반응액 D를 건조하는 단계는 고진공 펌프를 이용한 것일 수 있다. 구체적으로 고진공 펌프를 상온에서 30분간 사용하여 감압 증발시키는 것일 수 있다.
본 발명의 일 실시 상태에 있어서, 상기 반응액 D에 포함된 화학식 4로 표시되는 화합물을 물을 용매로 하여 재결정하는 단계 후에 감압 여과하는 단계를 더 포함하는 것일 수 있다.
상기 감압 여과는 유리필터에 종이여과지를 깔고 재결정 진행한 용액을 여과 진행한 후, 걸러진 고체만을 수득하는 것일 수 있다. 이 때, 걸러진 고체는 진공 오븐(vacuum oven)을 이용하여 50℃에서 고진공 펌프 작동하에 8시간 건조할 수 있다.
이하, 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 본 발명의 실시예에 대하여 상세히 설명한다. 그러나 본 발명은 여러 가지 상이한 형태로 구현될 수 있으며 여기에서 설명하는 실시예에 한정되지 않는다.
<실시예 및 비교예> - 최종 화합물(생성물)의 제조
<반응식 1>
<실시예 1>
P1 20g이 담긴 플라스크에 아세트산 70% 수용액 300 ml를 첨가한 후 500ml의 3구 둥근 반응 플라스크를 45 ℃ 로 승온시키고 30분간 교반하였다. 이후 반응액을 감압 농축한 후 톨루엔(toluene) 150 ml 첨가한 후 다시 감압 농축하였다. 감압 농축되어 슬러리(slurry) 상태가 된 반응물에 아세톤(acetone) 150 ml를 투입하고 30분간 환류 교반하였다. 상온으로 식힌 용액을 감압여과하여 부유물을 제거한 후 여과된 용액을 다시 감압 농축하였다. 이후, 톨루엔(toluene) 100 ml를 투입하여 재결정 과정을 거친 후 생성된 고체를 감압여과하여 14 g 의 P2를 95 %의 반응 수율로 합성하였다.
<실시예 2>
실시예 1에서 P1 20g이 담긴 플라스크에 아세트산 70% 수용액 300 ml를 첨가하는 대신 P1 2g 이 담긴 플라스크에 아세트산 70% 수용액 30 ml 를 첨가한 것을 제외하고 동일한 방법으로 P2를 합성하였다. 그 결과 1.35g의 P2를 92 %의 반응 수율로 합성하였다.
<비교예 1>
P1 2g이 담긴 플라스크에 아세트산 30% 수용액 40 ml를 첨가한 후 500ml의 3구 둥근 반응 플라스크를 45 ℃ 로 승온시키고 30분간 교반하였다. 이후 반응액을 감압 농축한 후 톨루엔(toluene) 150 ml 첨가한 후 다시 감압 농축하였다. 감압 농축되어 슬러리(slurry) 상태가 된 반응물에 아세톤(acetone) 150 ml를 투입하고 탄산칼륨(K2CO3)를 2eq 첨가한 후 2분간 교반하였다. 이후 용액을 감압여과하여 부유물을 제거한 후 여과된 용액을 다시 감압 농축하였다. 이후, 에틸렌 아세테이트(ethtyl acetate)를 100 ml를 투입하여 재결정 과정을 거친 후 생성된 고체를 감압여과하여 1g 의 P2를 합성하였다. 다만, 이 경우 순수한 P2는 얻을 수 없었다.
<비교예 2>
비교예 1에서 감압 농축되어 슬러리(slurry) 상태가 된 반응물에 아세톤(acetone) 150 ml를 투입하고 탄산칼륨(K2CO3)를 2eq 첨가하는 것 대신 탄산칼륨(K2CO3)를 5eq 첨가하는 것을 제외하고 동일한 방법으로 2분간 교반하였다. 다만, 이 경우 P2를 얻을 수 없었다.
실시예 1 및 2와 비교예 1 및 2의 사용한 물질의 함량, 반응 결과, 재결정 용매 및 생성량(수율)은 하기 표 1에 정리하였다.
| P1 | 아세트산(농도) | K2CO3 | 재결정 용매 | P2 (수율) | |
| 실시예 1 | 20.0 g | 300ml (70%) | - | 톨루엔 | 14.0g (95%) |
| 실시예 2 | 2.0 g | 30ml (70%) | - | 톨루엔 | 1.35g (92%) |
| 비교예 1 | 2.0 g | 40ml (30%) | 2eq | 에틸렌 아세테이트 | 1.0g (Crude) |
| 비교예 2 | 2.0 g | 40ml (30%) | 5eq | 에틸렌 아세테이트 | - |
<반응식 2>
<실시예 3>
반응용 바이알(vial)에 P3 500 mg과 메탄올(MeOH) 2ml를 투입하였다. 상기 반응용 바이알에 HCl 3.0 ml 를 투입하여 pH 1이하로 산성도를 조절 완벽하게 밀봉된 상태에서 45 ℃로 유지하면서 6시간 동안 교반하였다. 반응 종료 후 반응액을 감압 농축하고 고진공 펌프를 이용하여 최대한 건조 시켰다. 건조가 끝난 후 H2O 3ml를 투입하여 재결정 과정을 거쳤다. 상온에서 결정을 성장 시킨 후 감압여과하여 397 mg 의 P4를 93 %의 반응 수율로 합성하였다.
<실시예 4>
반응용 바이알(vial)에 P3 100 mg과 메탄올(MeOH) 1ml를 투입하였다. 상기 반응용 바이알에 HCl 3.0 ml 를 투입하여 pH 1 이하로 산성도를 조절하고 완벽하게 밀봉된 상태에서 45 ℃로 유지하면서 6시간 동안 교반하였다. 반응 종료 후 반응액을 감압 농축하고 고진공 펌프를 이용하여 최대한 건조 시켰다. 건조가 끝난 후 H2O 3ml를 투입하여 재결정 과정을 거쳤다. 상온에서 결정을 성장 시킨 후 감압여과하여 P4를 합성하였다.
<비교예 3>
반응용 바이알(vial)에 P3 75 mg과 물(H2O) 0.5ml를 투입하였다. 상기 반응용 바이알에 트리플루오로아세트산(Trifluoroacetic acid, TFA) 3.0 ml 를 투입하고 완벽하게 밀봉된 상태에서 45 ℃로 유지하면서 6시간 동안 교반하였다. 반응 종료 후 반응액을 감압 농축하고 고진공 펌프를 이용하여 최대한 건조 시켰다. 건조가 끝난 후 H2O 3ml를 투입하여 재결정 과정을 거쳤다.
이 때, 생성된 생성물의 일부를 에틸 아세테이트(Ethyl acetae) 를 전개 용매로 사용하여 TLC(Thin Layer Chromatography) 전개시킨 후 과망간산칼륨으로 발색하여 반응진행여부를 확인하였다. 확인 결과 Rf 값(Rf value)이 타겟(target) 화합물인 상기 반응식의 P4의 Rf 값인 0.1이 아니라, 반응물인 P3의 Rf 값인 0.7임을 확인할 수 있었다. 즉, 반응용 바이알로부터 P3가 미반응하였음을 확인할 수 있었다.
<비교예 4>
반응용 바이알(vial)에 P3 100 mg과 메탄올(MeOH) 1ml를 투입하였다. 상기 반응용 바이알에 트리플루오로아세트산(Trifluoroacetic acid, TFA) 3.0 ml 를 투입하고 완벽하게 밀봉된 상태에서 45 ℃로 유지하면서 6시간 동안 교반하였다. 반응 종료 후 반응액을 감압 농축하고 고진공 펌프를 이용하여 최대한 건조 시켰다. 건조가 끝난 후 H2O 3ml를 투입하여 재결정 과정을 거쳤다.
이 때, 생성된 생성물의 일부를 비교예 3과 동일한 방법으로 TLC(Thin Layer Chromatography) 전개시킴으로써 반응용 바이알로부터 P3가 미반응하였음을 확인할 수 있었다. 비교예 4의 경우 보다 명확하게 확인하기 위하여 상기 생성물에서 용매를 완전히 제거시킨 후 조혼합물(crude mixture)를 양성자 NMR(Proton Nuclear Magnetic Resonance, Proton NMR) 분석하여 타겟(target) 화합물인 상기 반응식의 P4는 생성되지 않은 것을 재확인하였다. 그 비교예 4의 Proton NMR 결과는 도 4에 나타내었다.
실시예 4 및 비교예 4의 반응 후의 모습은 도 3에 나타내었다. 도 3에 나타난 바와 같이 좌측의 반응용 바이알(HCl 이라고 기재됨)이 실시예 4에 해당하며, 우측의 반응용 바이알(TFA라고 기재됨)이 비교예 4에 해당한다. 상기 도 3에 의해서, 실시예 4의 경우 반응용 바이알이 맑은 용액의 상태로 반응이 전부 진행되어 P4가 생성되었음을 확인할 수 있었고, 비교예 4의 경우 반응용 바이알이 불투명하여 P3가 미반응하였음을 확인할 수 있었다.
상기 실시예 3 및 4와 비교예 3 및 4의 반응용 바이알에서 교반 반응시에 사용한 P3 및 용매의 함량, 산의 종류 및 함량 및 생성량(수율)은 하기 표 2에 정리하였다.
| P3 | 산 | 용매 | P4 (수율) | |
| 실시예 3 | 500 mg | HCl 3ml | MeOH 2ml | 397mg (93%) |
| 실시예 4 | 100 mg | HCl 3ml | MeOH 1ml | 반응 진행 확인 |
| 비교예 3 | 500 mg | TFA 3ml | H2O 0.5ml | - |
| 비교예 4 | 500 mg | TFA 3ml | MeOH 1ml | - |
<실험예>
실시예 1, 3 및 비교예 4의 최종 생성물을 proton NMR분석을 하였다. 구체적으로, DMSO-d6 용매에 약 5mg의 반응생성물을 녹여서 Agilent社 500MHz FT-NMR 장비를 이용하여 측정하였다. 측정된 proton NMR 결과를 결과를 하기 도 1, 도 2 및 도 4에 나타내었다.
도 5는 P4의 proton NMR 결과를 나타낸 도이며, 상기 도 5에는 P4의 proton에 번호를 임의로 지정하였다. 즉, P4의 경우 가장 미차폐(deshielded) 되는 3번 proton이 가장 다운-필드(down-field)에 위치하며 이하 순서대로 좌/우 대칭이 되는 proton이 하나의 peak를 형성하는 proton NMR 결과가 나타남을 확인할 수 있었다.
즉, 이를 도 2 및 도 4와 비교하면 실시예 3의 경우 P4가 합성되어 있음을 확인할 수 있었다.
도 4는 비교예 4의 proton NMR 결과를 나타낸 도이며, 상기 도 4에는 P3 및 P4의 proton에 번호를 임의로 지정하였다. 즉, 비교예 4의 경우 1 내지 9번의 proton에 의한 피크(peak)가 각각 2개씩 존재하며, 반응물 P3의 10번 proton의 경우 CH3가 양쪽에서 합해져서 6개의 피크로 1.39 ppm에서 확인되는 proton NMR 결과가 나타남을 확인할 수 있었다.
이를 통해 비교예 4의 반응 진행이 잘 되지 않아서 반응물 P3와 목적화합물인 P4 같이 공존하며, 대부분 반응물인 P3(major)로 존재하는 것을 확인할 수 있었다. 보다 구체적으로, 반응물인 P3와 생성물인 P4의 integration 비율은 대략 5:1 비율로 약 20%만 반응이 진행됨을 알 수 있었다.
해당 결과를 통해, 톨루엔으로 재결정한 실시예 1 및 2로부터 본 발명의 제조방법에 의해 제조된 P2의 경우 수율이 높고 순도가 높음을 확인할 수 있었다.
또한, HCl과 같은 강산을 사용하여 pH 1 이하의 조건을 만족시킨 실시예 3 및 4로부터 본 발명의 제조방법에 의해 제조된 P4의 경우 수율이 높고 순도가 높음을 확인할 수 있었다.
Claims (7)
- 하기 화학식 1로 표시되는 화합물; 및 아세트산을 반응시켜 하기 화학식 2로 표시되는 화합물을 포함하는 반응액 A를 준비하는 단계;
상기 반응액 A에 톨루엔 및 아세톤을 첨가하여 하기 화학식 2로 표시되는 화합물을 포함하는 반응액 B를 준비하는 단계; 및
상기 반응액 B에 포함된 화학식 2로 표시되는 화합물을 톨루엔을 용매로 하여 재결정하는 단계를 포함하는 하기 화학식 2로 표시되는 화합물의 제조방법:
[화학식 1]
[화학식 2]
- 제1항에 있어서,
상기 반응액 A에 톨루엔 및 아세톤을 첨가하여 상기 화학식 2로 표시되는 화합물을 포함하는 반응액 B를 준비하는 단계; 및 상기 반응액 B에 포함된 화학식 2로 표시되는 화합물을 톨루엔을 용매로 하여 재결정하는 단계 사이에 상기 반응액 B를 40℃ 내지 60℃의 온도로 승온시키는 단계를 더 포함하는 것인 상기 화학식 2로 표시되는 화합물의 제조방법. - 제1항에 있어서,
상기 반응액 B에 포함된 화학식 2로 표시되는 화합물을 톨루엔을 용매로 하여 재결정하는 단계 후에 감압 여과하는 단계를 더 포함하는 것인 상기 화학식 2로 표시되는 화합물의 제조방법. - 하기 화학식 2로 표시되는 화합물 및 에틸 클로로폼에이트를 반응시켜 하기 화학식 3으로 표시되는 화합물 및 메탄올을 포함하는 반응액 C를 준비하는 단계;
상기 반응액 C와 pH 1 이하의 산을 반응시켜 하기 화학식 4로 표시되는 화합물을 포함하는 반응액 D를 제조하는 단계; 및
상기 반응액 D에 포함된 화학식 4로 표시되는 화합물을 물을 용매로 하여 재결정하는 단계를 포함하는 하기 화학식 4로 표시되는 화합물의 제조방법:
[화학식 2]
[화학식 3]
[화학식 4]
- 제4항에 있어서,
상기 pH 1 이하의 산은 염산인 것인 상기 화학식 4로 표시되는 화합물의 제조방법. - 제4항에 있어서,
상기 반응액 C와 pH 1 이하의 산을 반응시켜 하기 화학식 4로 표시되는 화합물을 포함하는 반응액 D를 제조하는 단계는 40℃ 내지 60℃의 승온된 온도에서 이루어지는 것인 상기 화학식 4로 표시되는 화합물의 제조방법. - 제4항에 있어서,
상기 반응액 C와 pH 1 이하의 산을 반응시켜 하기 화학식 4로 표시되는 화합물을 포함하는 반응액 D를 제조하는 단계; 및
상기 반응액 D에 포함된 화학식 4로 표시되는 화합물을 물을 용매로 하여 재결정하는 단계 사이에 상기 반응액 D를 농축시키는 단계; 및
상기 농축된 반응액 D를 건조하는 단계를 더 포함하는 것인 상기 화학식 4로 표시되는 화합물의 제조방법.
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Non-Patent Citations (1)
| Title |
|---|
| Designed Monomers and Polymers, Vol.8, No.6, (2016) |
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