KR20210015662A - Workpiece transfer device, workpiece transfer chuck, and workpiece transfer method - Google Patents

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Abstract

The present invention relates to a work transfer device, a work chuck, and a work transfer method for preventing excessive deformation of a plurality of plate works due to excessive pressure of an adhesive part in order to receive the plurality of plate works on a transfer member from a first substrate. The work transfer device comprises: a transfer member moving between a first opposing position opposite to a first substrate and a second opposing position opposite to a second substrate; an adhesive part provided at a transfer surface of the transfer member opposite to a plurality of plate works arranged on the first substrate and including an adhesive surface elastically deformed in a direction opposite to the plurality of plate works; a reaction force support part protruding to a first receiving surface outward of a plurality of plate works at a first surface of the substrate outward of the adhesive part in the transfer surface of the transfer member to have a reaction surface of a light material as compared with that of the adhesive surface; a first folding driver to relatively approach and separate the adhesive part of the transfer member from a first opposing direction to an opposing direction with respect to the first substrate; and a controller to control an operation of the first folding driver. An adhesive force of the adhesive surface is stronger than retention of each plate work of a first maintenance part of the first substrate but is weaker than retention of each plate work of a second maintenance part of the second substrate. The controller controls to stick a plurality of plate works by touching the adhesive surface and the plurality of plate works to be compressed by relative approach between a transfer member and the first substrate by the first folding driver. The controller controls to stop relative approach between the transfer member and the first substrate by the first folding driver by touch the repulsive surface and a first receiving surface of the first substrate by compression deformation of the adhesive surface.

Description

워크 전사 장치와 워크 전사 척 및 워크 전사 방법{WORKPIECE TRANSFER DEVICE, WORKPIECE TRANSFER CHUCK, AND WORKPIECE TRANSFER METHOD}Work transfer device, work transfer chuck, and work transfer method {WORKPIECE TRANSFER DEVICE, WORKPIECE TRANSFER CHUCK, AND WORKPIECE TRANSFER METHOD}

본 발명은, 마이크로 LED 등의 미소(微小) 소자를 포함하는 판상의 워크를 제1 기판으로부터 수취하여, 전사처인 제2 기판의 소정 위치에 전달하기 위하여 이용되는 워크 전사 장치와, 워크 전사 장치에 이용되는 워크 전사 척, 및, 워크 전사 장치나 워크 전사 척을 이용한 워크 전사 방법에 관한 것이다.The present invention provides a work transfer device and a work transfer device used to receive a plate-like work including micro-elements such as micro LEDs from a first substrate and transfer them to a predetermined position on a second substrate as a transfer destination. It relates to a work transfer chuck to be used, and a work transfer method using a work transfer device or a work transfer chuck.

종래, 이 종류의 워크 전사 방법으로서, 웨이퍼 상에 소정의 주기로 배열된 복수의 소자를, 복수의 소자의 배열을 유지한 채로 개개의 소자로 분리하는 소자 분리 공정과, 개개로 분리한 소자를 조작하여 각 소자를 가기판(假基板)에 재배열하는 재배열 공정과, 가기판에 재배열한 상태를 유지한 채로 각 소자를 실장 기판에 전사하는 전사 공정으로 이루어지는 소자 실장 방법이 있다(예를 들면, 특허문헌 1 참조).Conventionally, as this kind of work transfer method, an element separation process in which a plurality of elements arranged on a wafer at a predetermined period are separated into individual elements while maintaining the arrangement of the plurality of elements, and the individually separated elements are operated. There is an element mounting method comprising a rearrangement process in which each element is rearranged on a substrate and a transfer process in which each element is transferred to a mounting substrate while maintaining the rearrangement on the substrate (for example, , See Patent Document 1).

소자로서는, 20 평방μm까지 미세화된 LED 칩에 한정되지 않고, 박막 트랜지스터 등이 포함된다.As an element, it is not limited to the LED chip refined to 20 square micrometers, A thin film transistor etc. are included.

소자 분리 공정에서는, 소자 형성용 웨이퍼로 이루어지는 사파이어 기판에, 복수의 소자를 평면적으로 배열 형성한 후, 각 소자의 주위에 분리 홈이 격자상으로 형성되고, 분리 홈에 의하여 배열을 유지한 채로 개개의 소자로 분리된다.In the element separation process, a plurality of elements are arranged in a planar arrangement on a sapphire substrate made of a wafer for element formation, and then separation grooves are formed in a lattice shape around each element, and the alignment is maintained by the separation grooves. Is separated into the elements of.

재배열 공정에서 이용되는 가기판(일시 유지용 기판)의 표면에는 점착재층이 도포되어, 사파이어 기판과 일시 유지용 기판의 접근 이동으로, 점착재층의 표면을 소자의 표면 측에 압착시키고 있다. 이 소자의 표면 측에 대한 점착재층의 압접에 의하여, 점착재층의 표면이 압축 변형되어 소자의 표면 측을 점착 유지한다.An adhesive layer is applied to the surface of the substrate (temporary holding substrate) used in the rearrangement process, and the surface of the adhesive layer is pressed against the surface side of the element by moving the sapphire substrate and the temporary holding substrate closer together. By the pressure bonding of the pressure-sensitive adhesive layer to the surface side of the device, the surface of the pressure-sensitive adhesive layer is compressed and deformed to adhere and hold the surface side of the device.

다음으로 복수의 소자 중 선택한 소자에 대해서만, 사파이어 기판의 이면으로부터 펄스 자외선 레이저의 레이저광을 표면 측으로 투과하도록 조사함으로써, 사파이어 기판과의 사이의 접합력이 약해진다. 이것에 계속해서 사파이어 기판으로부터 일시 유지용 기판을 떼어냄으로써, 선택된 소자만이 사파이어 기판으로부터 박리하여 일시 유지용 기판에 전사된다.Next, by irradiating only the selected element among the plurality of elements so that the laser light of the pulsed ultraviolet laser is transmitted from the rear surface of the sapphire substrate to the surface side, the bonding force with the sapphire substrate is weakened. Subsequently, by removing the temporary holding substrate from the sapphire substrate, only the selected element is separated from the sapphire substrate and transferred to the temporary holding substrate.

이 후, 일시 유지용 기판에 전사된 소자를, 다른 가기판에 재전사한다. 이 다른 가기판도 일시 유지용 기판과 동일하게 점착재층을 구비하고 있으며, 일시 유지용 기판에 의한 전사와 동일하도록 재전사가 행해진다.After that, the element transferred to the temporary holding substrate is retransferred to another substrate. This other substrate is also provided with an adhesive layer similarly to the temporary holding substrate, and retransfer is performed in the same manner as the transfer by the temporary holding substrate.

전사 공정에서 이용되는 실장 기판(배선용 기판) 상에는 배선 전극이 형성되고, 반전된 다른 가기판을 배선용 기판에 근접시켜 소자를 배선 전극에 압착시킴으로써, 배선 전극에 대하여 소자가 확실히 고정(전기적인 접속)되어, 실장 기판에 대한 소자의 실장을 완료한다.A wiring electrode is formed on the mounting substrate (wiring substrate) used in the transfer process, and the element is securely fixed to the wiring electrode by pressing the element to the wiring electrode by placing another inverted substrate close to the wiring substrate (electrical connection). As a result, mounting of the device to the mounting substrate is completed.

특허문헌 1: 일본 공개특허공보 2002-118124호Patent Document 1: Japanese Laid-Open Patent Publication No. 2002-118124

그런데, 미소 소자 중에서도 미세화된 LED 칩은, 표시의 소형화, 고해상도화와 비용 저감을 위하여 소형화되고, 소형화한 LED 칩을 고속·고정밀도로 실장하기 위한 대처가 행해지고 있다. 특히 LED 디스플레이에 이용되는 LED는, 마이크로 LED라고 불리는 사이즈가 50μm×50μm 이하이며 또한 박판상(박막상)의 LED 칩을, 인접하는 칩끼리의 간격이 1mm 미만이 되도록 정렬 형성하여, LED 칩을 수 μm의 정밀도로 고속으로 전사하여 실장하는 것이 요구되고 있다.By the way, among the micro-elements, the miniaturized LED chip has been miniaturized in order to reduce the display size, high resolution, and cost, and measures are being taken to mount the miniaturized LED chip at high speed and high precision. In particular, LEDs used in LED displays have a size called micro LED of 50 μm × 50 μm or less, and thin-plate (thin-film) LED chips are aligned and formed so that the distance between adjacent chips is less than 1 mm. It is required to transfer and mount at high speed with precision of μm.

그러나, 특허문헌 1에서는, 웨이퍼로부터 가기판 등으로의 각 소자의 수취 시나 가기판으로부터 다른 가기판 등으로의 각 소자의 전달 시에 있어서, 점착재층의 표면만이 각 소자의 표면 측에 압착하여 점착재층의 표면을 압축 변형시키기 때문에, 점착재층의 표면의 압축 변형에 따라 각 소자의 표면 측에 과잉된 압압력이 가해지기 쉽다.However, in Patent Document 1, only the surface of the adhesive layer is pressed against the surface side of each element when receiving each element from a wafer to a substrate or the like or when transferring each element from a substrate to another substrate, etc. Since the surface of the pressure-sensitive adhesive layer is compressively deformed, excessive pressing force is liable to be applied to the surface side of each element according to the compressive deformation of the surface of the pressure-sensitive adhesive layer.

상세하게 설명하면, 각 소자에 대하여 점착력을 작용시켜 점착 유지하기 위해서는, 점착재층을 일정량만 압축 변형시키는 압축력에 의하여, 필요한 점착력을 얻을 필요가 있다. 이와 같은 평면 상태로부터의 압축 변형에 있어서의 필요 변형(변위)은 일반적으로 "압궤 부분" 등이라고 불리며, 점착재층을 각 소자의 표면 측으로 압압하여, 압궤 부분만큼의 압축 변형을 시키지 않으면, 필요한 점착력은 얻어지지 않는다.In detail, in order to maintain adhesion by applying adhesive force to each element, it is necessary to obtain necessary adhesive force by compressive force that compresses and deforms the adhesive layer by only a certain amount. The necessary deformation (displacement) in the compression deformation from such a flat state is generally referred to as a "crushing part", and if the adhesive layer is pressed toward the surface of each element and compression deformation is not performed as much as the crushed part, the necessary adhesive strength Is not obtained.

그런데, 점착재층으로 이루어지는 압축 변형(탄성 변형) 가능한 점착 재료는, 금속 등의 강체와 달리 사이즈 오차가 크고 고정밀도의 가공이 곤란하여, 각 소자의 표면 측에 대한 압축 변형량을 미조정하는 것은 지난(至難)했다. 또한 점착재층의 가공 정밀도나 웨이퍼에 대한 가기판의 조립 정밀도에 따라서는, 웨이퍼 상의 각 소자를 향하여 가기판의 점착재층을 완전한 평행 상태에서 접근 이동시키는 것도 곤란하다.However, the pressure-sensitive adhesive material made of the pressure-sensitive adhesive layer, unlike rigid bodies such as metal, has a large size error and is difficult to process with high precision, so it is difficult to fine-tune the amount of compressive deformation on the surface side of each element (至難). Further, depending on the processing precision of the pressure-sensitive adhesive layer and the accuracy of assembling the substrate to the wafer, it is difficult to move the pressure-sensitive adhesive layer of the substrate in a completely parallel state toward each element on the wafer.

이 때문에, 각 소자의 표면 측에 대한 점착재층의 압축 변형 시에는, 점착재층의 가공 정밀도나 조립 정밀도 등의 변화 요인의 영향에 의하여, 과잉된 압압력으로 각 소자의 표면 측을 무리하게 변형시켜 버려, 균열이나 손상 등의 파손을 발생시키기 쉽다는 문제가 있었다. 특히 미소 소자가 취성(脆性)의 얇은 칩인 경우에는, 파손의 발생률이 높아져 제품 수율을 저하시키는 원인이 된다.Therefore, at the time of compressive deformation of the pressure-sensitive adhesive layer on the surface side of each element, the surface side of each element is unreasonably deformed by excessive pressing pressure due to the influence of factors such as processing precision and assembly precision of the pressure-sensitive adhesive layer. There is a problem that it is easy to cause breakage such as cracking or damage. In particular, when the microelement is a brittle thin chip, the incidence of breakage increases, which causes a decrease in product yield.

이와 같은 과제를 해결하기 위하여 본 발명에 관한 워크 전사 장치는, 제1 기판에 배열한 미소 소자가 포함되는 복수의 판상 워크를, 상기 제1 기판으로부터 수취하여, 전사처인 제2 기판의 소정 위치에 전달하는 워크 전사 장치로서, 상기 제1 기판과 대향하는 제1 대향 위치부터 상기 제2 기판과 대향하는 제2 대향 위치에 걸쳐 이동 가능하게 마련되는 전사 부재와, 상기 제1 기판에 배열한 상기 복수의 판상 워크와 대향하는 상기 전사 부재의 전사면에 마련되어, 상기 복수의 판상 워크와의 대향 방향으로 탄성 변형 가능한 점착면을 갖는 점착부와, 상기 전사 부재의 상기 전사면에 있어서 상기 점착부보다 외측에, 상기 제1 기판의 제1 표면에 있어서 상기 복수의 판상 워크보다 외측의 제1 수용면을 향하여 돌출상으로 마련되어, 상기 점착면보다 경질인 반력면을 갖는 반력 지지부와, 상기 제1 기판에 대하여 상기 전사 부재의 상기 점착부를 상기 제1 대향 위치로부터 상기 대향 방향으로 상대적으로 접근 이동 및 격리 이동시키는 제1 접리(接離) 구동부와, 상기 제1 접리 구동부를 작동 제어하는 제어부를 구비하고, 상기 점착면의 점착력은, 상기 제1 기판의 제1 유지부가 갖는 각 판상 워크의 유지력보다 강하며, 또한 상기 제2 기판의 제2 유지부가 갖는 상기 각 판상 워크의 유지력보다 약하게 설정되고, 상기 제어부는, 상기 제1 접리 구동부에 의한 상기 전사 부재와 상기 제1 기판과의 상대적인 접근 이동에 의하여, 상기 점착면이 상기 복수의 판상 워크에 맞닿아 압축 변형함과 함께, 상기 복수의 판상 워크를 점착 유지하며, 상기 점착면의 압축 변형에 따라 상기 반력면이 상기 제1 기판의 상기 제1 수용면에 맞닿아, 상기 제1 접리 구동부에 의한 상기 전사 부재와 상기 제1 기판과의 상대적인 접근 이동을 정지하도록 제어되는 것을 특징으로 한다.In order to solve such a problem, the workpiece transfer device according to the present invention receives a plurality of plate-like workpieces including microelements arranged on a first substrate from the first substrate, and places them at a predetermined position on the second substrate as a transfer destination. A work transfer device for transferring, comprising: a transfer member provided to be movable from a first facing position facing the first substrate to a second facing position facing the second substrate; and the plurality of pieces arranged on the first substrate An adhesive portion provided on the transfer surface of the transfer member facing the plate-like work of, and having an adhesive surface elastically deformable in a direction opposite to the plurality of plate-like work, and an outer side of the adhesive portion on the transfer surface of the transfer member In the first surface of the first substrate, a reaction force support portion provided in a protruding shape toward a first receiving surface outside the plurality of plate-like workpieces, and having a reaction force surface that is harder than the adhesive surface, with respect to the first substrate A first folding driving unit for relatively approaching and isolated moving the adhesive part of the transfer member in the opposite direction from the first facing position, and a control unit for operating and controlling the first folding driving unit, the The adhesive force of the adhesive surface is stronger than the holding force of each plate-like workpiece of the first holding portion of the first substrate, and is set weaker than the holding force of the plate-shaped workpieces of the second holding portion of the second substrate, and the control unit , By the relative approach movement between the transfer member and the first substrate by the first folding driving unit, the adhesive surface contacts and compressively deforms the plurality of plate-shaped workpieces, and the plurality of plate-shaped workpieces are adhered and maintained. And, according to the compression deformation of the adhesive surface, the reaction force surface abuts the first receiving surface of the first substrate, so that the relative approach movement between the transfer member and the first substrate by the first folding driver is stopped. It characterized in that it is controlled to be.

또한, 이와 같은 과제를 해결하기 위하여 본 발명에 관한 워크 전사 척은, 제1 기판에 배열한 미소 소자가 포함되는 복수의 판상 워크를, 상기 제1 기판으로부터 수취하여, 전사처인 제2 기판의 소정 위치에 전달하는 워크 전사 척으로서, 상기 제1 기판과 대향하는 제1 대향 위치로부터 상기 복수의 판상 워크의 수취 위치를 향하여 상대적으로 접근 이동함과 함께, 상기 수취 위치로부터 상기 제2 기판에 대한 상기 복수의 판상 워크의 전달 위치를 향하여 이동 가능하게 마련되는 전사 부재와, 상기 제1 기판에 배열한 상기 복수의 판상 워크와 대향하는 상기 전사 부재의 전사면에 마련되어, 상기 복수의 판상 워크와의 대향 방향으로 탄성 변형 가능한 점착면을 갖는 점착부와, 상기 전사 부재의 상기 전사면에 있어서 상기 점착부보다 외측에, 상기 제1 기판의 제1 표면에 있어서 상기 복수의 판상 워크보다 외측의 제1 수용면을 향하여 돌출상으로 마련되어, 상기 점착면보다 경질인 반력면을 갖는 반력 지지부를 구비하고, 상기 점착면의 점착력은, 상기 제1 기판의 제1 유지부가 갖는 각 판상 워크의 유지력보다 강하며, 또한 상기 제2 기판의 제2 유지부가 갖는 상기 각 판상 워크의 유지력보다 약하게 설정되고, 상기 점착면은, 상기 제1 대향 위치로부터 상기 수취 위치를 향하는 상기 제1 기판에 대한 상기 전사 부재의 상대적인 접근 이동에 의하여, 상기 복수의 판상 워크에 맞닿아 압축 변형함과 함께, 상기 복수의 판상 워크를 점착 유지하며, 상기 반력면은, 상기 수취 위치에 있어서의 상기 점착면의 압축 변형에 따라, 상기 제1 기판의 상기 제1 수용면과 맞닿아, 상기 전사 부재는, 상기 제1 수용면에 대한 상기 반력면의 맞닿음에 의하여, 상기 제1 기판에 대한 상대적인 접근 이동이 정지되는 것을 특징으로 한다.In addition, in order to solve such a problem, the workpiece transfer chuck according to the present invention receives a plurality of plate-like workpieces including microelements arranged on a first substrate from the first substrate, As a work transfer chuck for transferring to a position, while relatively approaching and moving from a first opposite position facing the first substrate toward a receiving position of the plurality of plate-like work, from the receiving position to the second substrate A transfer member provided to be movable toward a transfer position of a plurality of plate-like workpieces, and a transfer member provided on a transfer surface of the transfer member facing the plurality of plate-like workpieces arranged on the first substrate, and facing the plurality of plate-like workpieces An adhesive portion having an adhesive surface that is elastically deformable in a direction, and a first accommodation outside the adhesive portion on the transfer surface of the transfer member and outside the plurality of plate-like workpieces on the first surface of the first substrate It is provided in a protruding shape toward the surface, and has a reaction force support portion having a reaction force surface that is harder than the adhesive surface, and the adhesive force of the adhesive surface is stronger than the holding force of each plate-like work possessed by the first holding portion of the first substrate, and The second holding portion of the second substrate is set weaker than the holding force of each of the plate-like workpieces, and the adhesive surface moves the transfer member relative to the first substrate toward the receiving position from the first facing position. Thus, while being in contact with the plurality of plate-like workpieces and compressively deforming, the plurality of plate-like workpieces are adhered and held, and the reaction force surface is in accordance with the compression deformation of the adhesive surface at the receiving position, the first In contact with the first receiving surface of the substrate, the transfer member may stop moving relative to the first substrate by abutting the reaction force surface with respect to the first receiving surface.

또, 이와 같은 과제를 해결하기 위하여 본 발명에 관한 워크 전사 방법은, 제1 기판에 배열한 미소 소자가 포함되는 복수의 판상 워크를, 상기 제1 기판으로부터 수취하여 제2 기판의 소정 위치에 전달하는 워크 전사 방법으로서, 전사 부재의 전사면에 마련되는 점착부를, 상기 제1 기판에 배열된 상기 복수의 판상 워크와 대향시킴과 함께, 상기 전사 부재의 상기 전사면에 있어서 상기 점착부보다 외측의 반력 지지부가, 상기 제1 기판의 제1 표면에 있어서 상기 복수의 판상 워크보다 외측의 제1 수용면과 대향한 상태에서, 상기 전사 부재를 상기 제1 기판을 향하여 상대적으로 접근 이동시키는 접근 이동 공정과, 상대적으로 접근 이동한 상기 전사면의 상기 점착부에 있어서 상기 복수의 판상 워크와의 대향 방향으로 탄성 변형 가능한 점착면을, 상기 복수의 판상 워크에 맞닿게 함과 함께, 상기 전사 부재의 상기 반력 지지부에 있어서 상기 점착면보다 경질인 반력면을, 상기 제1 기판의 상기 제1 수용면에 맞닿게 하는 접촉 공정과, 상기 전사 부재를 상기 제1 기판으로부터 격리 이동시키는 이동(離動) 공정을 포함하며, 상기 점착면의 점착력은, 상기 제1 기판의 제1 유지부가 갖는 각 판상 워크의 유지력보다 강하고, 또한 상기 제2 기판의 제2 유지부가 갖는 상기 각 판상 워크의 유지력보다 약하게 설정되며, 상기 접촉 공정에서는, 상기 복수의 판상 워크와의 맞닿음에 의하여 상기 점착면이 압축 변형되어, 상기 복수의 판상 워크를 점착 유지함과 함께, 상기 점착면의 압축 변형에 따르는 상기 제1 기판의 상기 제1 수용면에 대한 상기 반력면의 맞닿음에 의하여, 상기 전사 부재의 그 이상의 상기 제1 기판으로의 접근 이동을 정지시키는 것을 특징으로 한다.In addition, in order to solve such a problem, in the work transfer method according to the present invention, a plurality of plate-like works including microelements arranged on a first substrate are received from the first substrate and transferred to a predetermined position on the second substrate. A method for transferring a work, wherein an adhesive portion provided on a transfer surface of a transfer member is opposed to the plurality of plate-like workpieces arranged on the first substrate, and is located outside the adhesive portion on the transfer surface of the transfer member. Approach movement process of relatively approaching and moving the transfer member toward the first substrate while the reaction force support part faces the first receiving surface outside the plurality of plate-like workpieces on the first surface of the first substrate And, an adhesive surface capable of elastically deforming in a direction opposite to the plurality of plate-like workpieces in the adhesive portion of the transfer surface that has been moved relatively close to each other, while abutting against the plurality of plate-like workpieces, the transfer member A contact step of bringing a reaction force surface harder than the adhesive surface in the reaction force support portion into contact with the first receiving surface of the first substrate, and a movement step of moving the transfer member away from the first substrate. Including, the adhesive force of the adhesive surface is set to be stronger than the holding force of each plate-like work of the first holding portion of the first substrate, and weaker than the holding force of each of the plate-like work of the second holding portion of the second substrate, In the contact process, the adhesive surface is compressed and deformed by contact with the plurality of plate-like workpieces, and the first substrate of the first substrate according to the compressive deformation of the adhesive surface while adherently holding the plurality of plate-like workpieces 1 It is characterized in that by the contact of the reaction force surface with respect to the receiving surface, the transfer member is characterized in that the further approaching movement to the first substrate is stopped.

도 1은 본 발명의 실시형태(제1 실시형태)에 관한 워크 전사 장치와 워크 전사 척 및 워크 전사 방법으로서 "선택 전사 방식"을 채용한 경우의 전체 구성을 나타내는 설명도이며, (a)가 초기 상태의 종단 정면도, (b)가 도 1(a)의 (1B)-(1B)선을 따르는 제1 기판의 평면도, (c)가 도 1(a)의 (1C)-(1C)선을 따르는 전사 부재의 바닥면도이다.
도 2는 워크 수취 과정과 워크 전달 과정의 설명도이며, (a)가 워크 수취 과정(접촉 공정)의 확대 종단 정면도, (b)가 워크 전달 과정(접촉 공정)의 확대 종단 정면도이다.
도 3은 "선택 전사 방식"에 있어서 "간격 선택 절차"와 "부분 전사 절차"를 반복했을 때의 설명도이며, (a)가 워크 수취 과정(접촉 공정)의 확대 종단 정면도, (b)가 워크 전달 과정(접촉 공정)의 확대 종단 정면도이다.
도 4는, 워크 수취 과정과 워크 전달 과정을 상세하게 나타내는 설명도이며, (a)가 워크 수취 과정(접촉 공정)의 부분 확대 종단 정면도, (b)가 워크 전달 과정(접촉 공정)의 부분 확대 종단 정면도이다.
도 5는 점착부의 변형예를 나타내는 설명도이며, (a)가 초기 상태의 종단 정면도, (b)가 워크 수취 과정(접촉 공정)의 종단 정면도이다.
도 6은 반력 지지부의 변형예를 나타내는 설명도이며, (a)~(c)가 연질 재료로 이루어지는 전사 부재의 축소 바닥면도이다.
도 7은 반력 지지부의 변형예를 나타내는 설명도이며, (a)~(c)가 경질 재료로 이루어지는 전사 부재의 축소 바닥면도이다.
도 8은 본 발명의 실시형태(제2 실시형태)에 관한 워크 전사 장치와 워크 전사 척 및 워크 전사 방법으로서 "전체면 전사 방식"을 채용한 경우의 설명도이며, (a)가 초기 상태의 확대 종단 정면도, (b)가 도 8(a)의 (8B)-(8B)선을 따르는 전사 부재의 확대 바닥면도, (c)가 워크 수취 과정(접촉 공정)의 확대 종단 정면도이다.
도 9는 판상 워크에 대하여 점착부가 비평행한 상태에서 접근 이동한 경우의 확대 종단 정면도이다.
Fig. 1 is an explanatory diagram showing the entire configuration of a work transfer device according to an embodiment (first embodiment) of the present invention, a work transfer chuck, and a case where a "selective transfer method" is adopted as a work transfer method, (a) The longitudinal front view in the initial state, (b) is a plan view of the first substrate along the lines (1B)-(1B) in Fig. 1(a), and (c) is (1C)-(1C) in Fig. 1(a) It is a bottom view of the transfer member along the line.
2 is an explanatory view of the work receiving process and the work transfer process, (a) is an enlarged longitudinal front view of the work receiving process (contact process), and (b) is an enlarged longitudinal front view of the work transfer process (contact process).
Fig. 3 is an explanatory view when repeating the "interval selection procedure" and the "partial transfer procedure" in the "selective transfer method", (a) is an enlarged longitudinal front view of the workpiece receiving process (contact process), (b) It is an enlarged longitudinal front view of the workpiece transfer process (contact process).
4 is an explanatory view showing in detail the work receiving process and the work transfer process, (a) is a partially enlarged longitudinal front view of the work receiving process (contact process), and (b) is a part of the work transfer process (contact process) It is an enlarged longitudinal front view.
5 is an explanatory view showing a modified example of the adhesive portion, where (a) is a longitudinal front view in an initial state, and (b) is a longitudinal front view of a workpiece receiving process (contact process).
6 is an explanatory view showing a modified example of the reaction force support portion, and (a) to (c) are reduced bottom views of a transfer member made of a soft material.
Fig. 7 is an explanatory view showing a modified example of the reaction force support, and (a) to (c) are reduced bottom views of the transfer member made of a hard material.
Fig. 8 is an explanatory diagram of a case where a "full surface transfer method" is adopted as a work transfer device, a work transfer chuck, and a work transfer method according to an embodiment (second embodiment) of the present invention, where (a) is in an initial state. An enlarged longitudinal front view, (b) is an enlarged bottom view of the transfer member along lines (8B)-(8B) in Fig. 8(a), and (c) is an enlarged longitudinal front view of a work receiving process (contact process).
Fig. 9 is an enlarged longitudinal front view of a case where the adhesive portion moves in a non-parallel state with respect to a plate-like work.

이하, 본 발명의 실시형태를 도면에 근거하여 상세하게 설명한다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail based on the drawings.

본 발명의 실시형태에 관한 워크 전사 장치(A)는, 도 1~도 8에 나타내는 바와 같이, 제1 기판(10)에 배열된 복수의 판상 워크(W)를, 제1 기판(10)으로부터 수취하여 유지(파지)하며, 전사처인 제2 기판(20)까지 반송한 후, 제2 기판(20)의 소정 위치에 전달하기 위한 반송 척 장치이다. 특히, 진공 분위기나 감압 분위기에서도 이용 가능한 점착 부재에 의하여, 복수의 판상 워크(W)를 착탈 가능하게 유지(파지)하는 점착 타입의 반송 척 장치이다.In the work transfer device A according to the embodiment of the present invention, as shown in FIGS. 1 to 8, a plurality of plate-like workpieces W arranged on the first substrate 10 are transferred from the first substrate 10. It is a conveyance chuck device for receiving, holding (holding), conveying to the second substrate 20 as a transfer destination, and then transferring it to a predetermined position on the second substrate 20. In particular, it is an adhesive-type conveyance chuck apparatus which holds (holds) a plurality of plate-like workpieces W in a detachable manner by an adhesive member usable in a vacuum atmosphere or a reduced pressure atmosphere.

즉, 본 발명의 실시형태에 관한 워크 전사 장치(A)는, 실내 압력이 조정 가능한 변압실(B)의 내부에 배치하는 것도 가능하며, 워크 전사 척(C)을 구비하고 있다.That is, the work transfer device A according to the embodiment of the present invention can also be disposed inside the transformation chamber B in which the indoor pressure can be adjusted, and includes the work transfer chuck C.

상세하게 설명하면, 본 발명의 실시형태에 관한 워크 전사 장치(A) 및 워크 전사 척(C)은, 제1 기판(10)과 대향하는 제1 대향 위치(P1)로부터 수취 위치(P2)를 향하여 상대적으로 이동 가능하게 마련되는 전사 부재(1)와, 제1 기판(10)에 배열한 복수의 판상 워크(W)와 대향하는 전사 부재(1)의 전사면(1a)에 마련되는 점착부(2)와, 전사 부재(1)의 전사면(1a)에 있어서 점착부(2)보다 외측에 마련되는 반력 지지부(3)를 주요한 구성 요소로서 구비하고 있다.In detail, the work transfer device A and the work transfer chuck C according to the embodiment of the present invention have a receiving position P2 from a first facing position P1 facing the first substrate 10. A transfer member 1 provided to be relatively movable toward the front and an adhesive portion provided on the transfer surface 1a of the transfer member 1 facing a plurality of plate-like workpieces W arranged on the first substrate 10 (2) and a reaction force support portion 3 provided outside the adhesive portion 2 in the transfer surface 1a of the transfer member 1 as main components.

그 외에 본 발명의 실시형태에 관한 워크 전사 장치(A)는, 전사 부재(1)의 점착부(2)를 제1 대향 위치(P1)로부터 제1 기판(10)을 향하여 상대적으로 접근 이동 및 격리 이동시키는 제1 접리 구동부(4)와, 전사 부재(1)를 제1 대향 위치(P1)부터 제2 기판(20)과 대향하는 제2 대향 위치(P3)에 걸쳐 이동시키는 반송 구동부(5)와, 전사 부재(1)의 점착부(2)를 제2 대향 위치(P3)로부터 제2 기판(20)을 향하여 상대적으로 접근 이동 및 격리 이동시키는 제2 접리 구동부(6)와, 제1 접리 구동부(4) 등을 작동 제어하는 제어부(7)를 주요한 구성 요소로서 구비하고 있다.In addition, in the work transfer device A according to the embodiment of the present invention, the adhesive portion 2 of the transfer member 1 is moved relatively approaching from the first opposing position P1 toward the first substrate 10 and The first folding driving unit 4 to be separated and moved, and the transfer driving unit 5 for moving the transfer member 1 from the first facing position P1 to the second facing position P3 facing the second substrate 20. ) And a second folding driving unit 6 for relatively approaching and separating the adhesive portion 2 of the transfer member 1 from the second opposing position P3 toward the second substrate 20, and a first A control unit 7 for operating and controlling the folding drive unit 4 or the like is provided as a main component.

또한, 전사 부재(1)는 통상, 제1 기판(10)이나 제2 기판(20)에 대하여 상하 방향으로 대향하도록 배치되고, 상하의 대향 방향을 이하 "Z 방향"이라고 한다. Z 방향과 교차하는 제1 기판(10)이나 제2 기판(20)을 따른 방향을 이하 "XY 방향"이라고 한다.In addition, the transfer member 1 is usually disposed so as to face the first substrate 10 or the second substrate 20 in the vertical direction, and the upward and downward facing direction is hereinafter referred to as "Z direction". The direction along the first substrate 10 or the second substrate 20 crossing the Z direction is hereinafter referred to as "XY direction".

복수의 판상 워크(W)는, 적어도 그 표면 측(W1)이 평활한 대략 직사각형(직사각형 및 정사각형을 포함하는 각이 직각인 사변형)의 박판상이나 박막상으로 형성되고, 제1 기판(10)의 제1 표면(10a)에 복수의 판상 워크(W)를 배열하고 있다.The plurality of plate-like workpieces W is formed in the shape of a thin plate or thin film of a substantially rectangular (rectangular shape and a quadrangle having a right angle including a square) on which the surface side W1 is smooth, and the first substrate 10 A plurality of plate-like workpieces W are arranged on the first surface 10a.

복수의 판상 워크(W)의 구체예로서는, 주로 마이크로 LED라고 불리는 50μm×50μm 이하, 상세하게는 30μm×30μm 이하, 더 상세하게는 수십 평방μm의 LED 칩이나, 그 외의 마이크로 디바이스 등의 미세화된 미소 소자 등을 들 수 있다.As a specific example of a plurality of plate-like workpieces (W), such as 50 μm × 50 μm or less, specifically 30 μm × 30 μm or less, more specifically called a micro LED, and more specifically several tens of square μm LED chips, other micro-devices, etc. Elements, etc. are mentioned.

이 미소 소자에는, 유리나 박막 소자 등의 형상이 매우 얇은 취성 소판(小板)도 포함된다.These microelements also include brittle platelets having very thin shapes such as glass and thin film elements.

또 복수의 판상 워크(W)의 다른 예로서는, 100 평방μm 미만의 미소 소자나, 미소 소자 이외의 미세한 평판체나, 예를 들면 300 평방μm 등의 LED 칩 등이 일반적인 사이즈의 워크를 포함하는 것도 가능하다.In addition, as another example of the plurality of plate-like workpieces W, it is also possible to include a workpiece of a general size, such as a micro element of less than 100 square μm, a fine flat plate other than the micro element, and an LED chip such as 300 square μm. Do.

도시예의 경우에는, 복수의 판상 워크(W)의 전부가 동일한 사이즈로 설정되어 있다.In the case of the illustrated example, all of the plurality of plate-like workpieces W are set to the same size.

본 발명의 선행 기술이 되는 일본 공개특허공보 2002-118124호에 기재된 소자 실장 방법에서는, 소자 형성용 웨이퍼(사파이어 기판) 상에 복수의 소자(한 변이 5μm~100μm 정도인 발광 다이오드)가 소정의 주기로 배열되어 형성됨과 함께, 복수의 소자의 배열을 유지한 채로 개개의 소자로 분리되어 있다.In the device mounting method described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2002-118124, which is the prior art of the present invention, a plurality of devices (light emitting diodes having a side of about 5 μm to 100 μm) are placed on a wafer for element formation (sapphire substrate) at a predetermined cycle. While being arranged and formed, they are separated into individual elements while maintaining the arrangement of a plurality of elements.

또한 일본 공개특허공보 2002-118124호에 기재된 소자 실장 방법에서는, 개개로 분리된 소자를 조작하여 각 소자를 재배열하는 재배열 공정이, 주기의 정수배에 상당하는 간격으로 띄엄띄엄 소자를 선택하여 재배열하는 간격 선택 절차를 포함하고, 재배열한 상태를 유지한 채로 각 소자를 실장 기판에 전사하는 전사 공정이, 선택된 소자를 실장 기판의 일부분에 전사하는 부분 전사 절차를 포함하고 있다.In addition, in the element mounting method described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2002-118124, the rearrangement process of rearranging each element by manipulating individually separated elements is performed by selecting and cultivating elements spaced at intervals corresponding to an integer multiple of the cycle. The transfer process of transferring each element to a mounting substrate while maintaining the rearranged state includes a procedure for selecting an interval to be aligned, and a partial transfer procedure for transferring the selected element to a portion of the mounting substrate.

복수의 소자를 실장 기판에 실장할 때에는, 간격 선택 절차와 부분 전사 절차를 반복하는 선택 전사 방식을 채용하고 있다.When a plurality of elements are mounted on a mounting substrate, a selective transfer method in which an interval selection procedure and a partial transfer procedure are repeated is adopted.

간격 선택 절차는, 배열된 복수의 소자 중 선택한 소자만을 가기판(일시 유지용 기판)에 가전사하여 재배열하고, 부분 전사 절차는, 가기판(일시 유지용 기판)에 가전사된 소자를 다른 가기판에 재전사하며, 최종적으로는 다른 가기판으로부터 실장 기판(배선용 기판)에 본 전사하고 있다.In the spacing selection procedure, only selected elements from among a plurality of arrayed elements are re-arranged on a top plate (temporary holding substrate), and in the partial transfer procedure, the elements transferred to the top plate (temporary holding substrate) are different It is retransferred to the substrate, and finally, it is transferred from another substrate to the mounting substrate (wiring substrate).

본 발명에 있어서 복수의 판상 워크(W)는, 상술한 일본 공개특허공보 2002-118124호에 기재된 소자 실장 방법의 "복수의 소자"에 상당하고 있으며, 본 발명의 전사 부재(1)는, "가기판(일시 유지용 기판)"이나 "다른 가기판"에 상당하고 있다. 본 발명의 제1 기판(10)은, "소자 형성용 웨이퍼(사파이어 기판)" 등에 상당하고 있다.In the present invention, the plurality of plate-like workpieces W correspond to "multiple elements" of the element mounting method described in Japanese Patent Laid-Open No. 2002-118124 described above, and the transfer member 1 of the present invention is It is equivalent to a cut board (temporary holding board)" or a "other cut board". The first substrate 10 of the present invention is equivalent to a "element formation wafer (sapphire substrate)" or the like.

즉, 본 발명에서 말하는 제1 기판(10)이란, 도 1~도 8에 나타나는 바와 같이, 그 적어도 표면 측이 사파이어나 갈륨 비소 등으로 이루어지는 소자 형성용 웨이퍼에만 한정하지 않고, 워크 반송용 캐리어 기판도 포함된다.That is, the first substrate 10 referred to in the present invention is not limited to a wafer for element formation whose at least the surface side is made of sapphire, gallium arsenide, etc., as shown in FIGS. 1 to 8, but a carrier substrate for transporting work Also included.

제1 기판(10)에 있어서 후술하는 전사 부재(1)와 Z 방향으로 대향하는 제1 표면(10a)은, 개개로 분리된 복수의 판상 워크(W)를 착탈 가능하게 가고정하는 제1 유지부(11)를 갖고 있다. 제1 유지부(11)는, 제1 표면(10a)에 있어서 내측 부위에 마련된다. 이 때문에, 제1 표면(10a)의 내측 부위에 대하여 복수의 판상 워크(W)는, 제1 유지부(11)에 의하여 X 방향이나 Y 방향으로 소정의 주기로 배열한 상태에서 이동 불가능하게 유지된다.In the first substrate 10, the transfer member 1 to be described later and the first surface 10a facing in the Z direction are a first holding unit for temporarily fixing a plurality of individually separated plate-like workpieces W in a detachable manner. (11) has. The 1st holding|maintenance part 11 is provided in the inner part in the 1st surface 10a. For this reason, with respect to the inner part of the first surface 10a, the plurality of plate-like workpieces W are held immovably in a state arranged in a predetermined period in the X direction or Y direction by the first holding portion 11. .

또한 제1 표면(10a)에 있어서 제1 유지부(11)보다 외측의 부위에는, 제1 수용면(10b)이 마련된다.Further, a first receiving surface 10b is provided at a portion outside the first holding portion 11 on the first surface 10a.

제1 기판(10)의 구체예로서 도시예의 경우에는, 직사각형의 제1 표면(10a)을 갖는 캐리어 기판 등으로 구성되고, 제1 표면(10a)의 대략 전체에 제1 유지부(11)가 되는 가고정층을 적층하고 있다. 제1 표면(10a)의 내측 부위에는, 복수의 판상 워크(W)를 X 방향 및 Y 방향으로 각각 소정의 주기로 격자상으로 배열하고 있다. 제1 유지부(가고정층)(11)는, 레이저광 등의 조사에 따라 분리 가능한 UV 경화 수지 등으로 이루어지는 점착 재료를, 전사 부재(1)를 향하여 Z 방향으로 탄성 변형 가능하게 돌출시켜 배치하는 것이 바람직하다.As a specific example of the first substrate 10, in the case of the illustrated example, it is composed of a carrier substrate or the like having a rectangular first surface 10a, and the first holding portion 11 is disposed over approximately the entire first surface 10a. Temporarily fixed layers are stacked. In the inner portion of the first surface 10a, a plurality of plate-like workpieces W are arranged in a grid in a predetermined period in the X and Y directions, respectively. The first holding portion (temporary fixing layer) 11 is arranged by protruding an adhesive material made of a UV curable resin, etc., which can be separated by irradiation with laser light, etc., so as to be elastically deformable in the Z direction toward the transfer member 1. It is desirable.

또 도시예에서는, 제1 유지부(가고정층)(11)의 표면에 있어서 외측 부위에 제1 수용면(10b)을 일체 형성하고 있다. 또한, 그 외의 예로서 도시하지 않지만, 제1 표면(10a)의 내측 부위에만 제1 유지부(11)가 되는 가고정층을 적층하여, 제1 표면(10a)의 표면에 있어서 외측 부위를 제1 수용면(10b)으로 변경하는 것도 가능하다.Further, in the illustrated example, the first receiving surface 10b is integrally formed at an outer portion of the surface of the first holding portion (temporary fixing layer) 11. In addition, although not shown as another example, by laminating a temporary fixing layer serving as the first holding portion 11 only on the inner portion of the first surface 10a, the outer portion on the surface of the first surface 10a is first It is also possible to change to the receiving surface 10b.

본 발명에 있어서 제2 기판(20)은, "실장 기판(배선용 기판)" 등에 상당하고 있다.In the present invention, the second substrate 20 corresponds to a "mounting substrate (wiring substrate)" or the like.

즉, 본 발명에서 말하는 제2 기판(20)은, 도 2나 도 3에 나타나는 바와 같이, 실장 기판(배선용 기판)이나 회로 기판에만 한정하지 않고, 워크 반송용 캐리어 기판도 포함된다.That is, the second substrate 20 referred to in the present invention is not limited only to a mounting substrate (a wiring substrate) or a circuit board, as shown in Figs. 2 or 3, and includes a carrier substrate for transporting a work.

제2 기판(20)에 있어서 후술하는 전사 부재(1)와 Z 방향으로 대향하는 제2 표면(20a)은, 전사 부재(1)로 반송된 복수의 판상 워크(W)가 맞닿는 제2 유지부(21)를 갖고 있다. 제2 유지부(21)는, 제2 표면(20a)에 있어서 내측 부위에 마련된다. 이 때문에, 제2 기판(20)의 제2 표면(20a)에 대하여 복수의 판상 워크(W)는, 제2 유지부(21)에 의하여 전사 부재(1)로부터 X 방향이나 Y 방향으로 소정의 주기로 배열한 상태를 유지한 채로 이동 불가능하게 유지된다.In the second substrate 20, a transfer member 1 to be described later and a second surface 20a facing the Z direction are a second holding portion in which a plurality of plate-like workpieces W conveyed by the transfer member 1 abut It has (21). The 2nd holding part 21 is provided in the inner part in the 2nd surface 20a. For this reason, the plurality of plate-like workpieces W with respect to the second surface 20a of the second substrate 20 are provided by the second holding portion 21 from the transfer member 1 in the X or Y direction. It remains unmovable while maintaining its arrangement in a periodic manner.

또한 제2 표면(20a)에 있어서 제2 유지부(21)보다 외측에는, 제2 수용면(20b)이 마련된다.Further, a second receiving surface 20b is provided outside the second holding portion 21 in the second surface 20a.

제2 기판(20)의 구체예로서 도시예의 경우에는, 직사각형의 제2 표면(20a)을 갖는 캐리어 기판 등으로 구성되고, 제2 표면(20a)의 대략 전체에 제2 유지부(21)가 되는 가고정층을 적층하고 있다. 제2 유지부(가고정층)(21)는, 페이스트 등으로 이루어지는 점착 재료를, 전사 부재(1)를 향하여 Z 방향으로 탄성 변형 가능하게 돌출시켜 배치하는 것이 바람직하다. 이 가고정층 중 적어도 내측 부위는, 일본 공개특허공보 2002-118124호에 기재된 소자 실장 방법의 배선 전극이나 접합용 도전재와 동일하게, 복수의 판상 워크(W)의 이면 측(W2)이 압접함으로써, 변형하면서 전기적인 접속을 하도록 구성되어 있다.As a specific example of the second substrate 20, in the case of the illustrated example, it is composed of a carrier substrate or the like having a rectangular second surface 20a, and the second holding portion 21 is disposed substantially over the second surface 20a. Temporarily fixed layers are stacked. It is preferable that the second holding portion (temporary fixing layer) 21 protrudes toward the transfer member 1 so as to be elastically deformable in the Z direction so that an adhesive material made of a paste or the like is disposed. At least the inner portion of the temporary fixing layer is formed by pressing the rear side W2 of the plurality of plate-like workpieces W in the same manner as the wiring electrode or the conductive material for bonding of the element mounting method described in Japanese Patent Laid-Open No. 2002-118124. , It is configured to make electrical connection while deforming.

또 도시예에서는, 제2 유지부(가고정층)(21)의 표면에 있어서 외측 부위에 제2 수용면(20b)을 일체 형성하고 있다. 또한, 그 외의 예로서 도시하지 않지만, 제2 표면(20a)의 내측 부위에만 제2 유지부(21)가 되는 가고정층을 적층하고, 제2 표면(20a)의 표면에 있어서 외측 부위를 제2 수용면(20b)으로 변경하는 것도 가능하다.Further, in the illustrated example, the second receiving surface 20b is integrally formed at an outer portion of the surface of the second holding portion (temporary fixing layer) 21. In addition, although not shown as another example, a temporary fixing layer serving as the second holding portion 21 is laminated only on the inner portion of the second surface 20a, and the outer portion on the surface of the second surface 20a is second It is also possible to change to the receiving surface 20b.

본 발명의 제1 실시형태에 관한 워크 전사 장치(A) 및 워크 전사 척(C)으로서 도 1~도 7에 나타나는 경우에는, 상술한 "선택 전사 방식"에서 채용한 예이다.When the work transfer device A and the work transfer chuck C according to the first embodiment of the present invention are shown in Figs. 1 to 7, it is an example adopted by the above-described "selective transfer method".

"선택 전사 방식"에서는, 먼저 "간격 선택 절차"로서 도 2(a)에 나타나는 바와 같이, 제1 기판(10)에 배열된 복수의 판상 워크(W) 중 선택한 판상 워크(W)만을, 그 배열 상태인 채로 후술하는 전사 부재(1)의 점착부(2)에 가전사하여 재배열한다(수취한다). 다음으로 "부분 전사 절차"로서 도 2(b)에 나타나는 바와 같이, 전사 부재(1)에 수취한 판상 워크(W)를 전사처인 제2 기판(20)을 향하여 반송한 후, 제2 기판(20)의 제2 유지부(21)에 재전사한다(전달한다). 이것에 계속해서 도 3(a), (b)에 나타나는 바와 같이, "간격 선택 절차"와 "부분 전사 절차"를 복수 회 반복한다. 이로써, 제1 기판(10)에 배열된 복수의 판상 워크(W) 중 선택한 판상 워크(W)만이, 제1 기판(10)에 있어서의 각 판상 워크(W)의 배열 주기의 정수배에 상당하는 간격으로 띄엄띄엄 수취되고, 배열 주기의 정수배의 간격인 채로 제2 기판(20)에 전달하여 재배열된다.In the "selective transfer method", first, as shown in Fig. 2(a) as the "interval selection procedure", only the plate-shaped workpieces W selected from among the plurality of plate-shaped workpieces W arranged on the first substrate 10 are selected. In an arrayed state, a household appliance is transferred to the adhesive portion 2 of the transfer member 1 described later and rearranged (received). Next, as shown in Fig. 2(b) as a "partial transfer procedure", the plate-like work W received on the transfer member 1 is transferred to the second substrate 20 as the transfer destination, and then the second substrate ( It retransfers (transfers) to the 2nd holding part 21 of 20). Subsequently, as shown in Figs. 3(a) and (b), the "interval selection procedure" and the "partial transfer procedure" are repeated a plurality of times. Thereby, only the plate-shaped workpiece W selected among the plurality of plate-shaped workpieces W arranged on the first substrate 10 corresponds to an integer multiple of the arrangement period of each plate-shaped workpiece W in the first substrate 10. They are received at intervals, transferred to the second substrate 20 with an interval of an integer multiple of the arrangement period, and rearranged.

또 본 발명의 제2 실시형태에 관한 워크 전사 장치(A) 및 워크 전사 척(C)으로서 도 8에 나타나는 경우에는, "선택 전사 방식" 대신에 "전체면 전사 방식"을 채용한 예이다.Further, in the case shown in Fig. 8 as the work transfer device A and the work transfer chuck C according to the second embodiment of the present invention, it is an example in which the "full surface transfer method" is adopted instead of the "selective transfer method".

"전체면 전사 방식"으로는, 도 8(a), (c)에 나타나는 바와 같이, 제1 기판(10)에 배열된 복수의 판상 워크(W)의 전부를, 그 배열 상태인 채로 후술하는 전사 부재(1)의 점착부(2)에서 수취한다. 이것에 계속해서 도시하지 않지만, 전사처인 제2 기판(20)을 향하여 반송하여 전달한다.In the "full-surface transfer method", as shown in Figs. 8(a) and (c), all of the plurality of plate-like workpieces W arranged on the first substrate 10 are described later in the arrangement state. It is received from the adhesive portion 2 of the transfer member 1. Although not shown following this, it is conveyed and transmitted toward the 2nd board|substrate 20 which is a transfer destination.

전사 부재(1)는, 도 1~도 8에 나타나는 바와 같이, 예를 들면 금속, 합성 석영이나 세라믹스 등의 강체이며, 평면도가 관리되고 또한 균일한 두께를 가짐으로써, 왜곡(휨) 변형하지 않는 평판상으로 형성된 정반 등으로 구성되며, 그 일면에 전사면(1a)을 갖는다.As shown in Figs. 1 to 8, the transfer member 1 is a rigid body such as metal, synthetic quartz, or ceramics, and the plan view is managed and has a uniform thickness, so that it is not distorted (warped). It is composed of a platen formed in a flat plate shape, and has a transfer surface 1a on one surface thereof.

전사 부재(1)는, 전사면(1a)을 제1 기판(10)의 제1 유지부(11)나 제2 기판(20)의 제2 유지부(21)와 Z 방향으로 평행하게 대향하도록 배치됨과 함께, 이 평행 상태를 유지한 채로 Z 방향 및 XY 방향으로 이동 가능하게 지지된다.The transfer member 1 faces the transfer surface 1a parallel to the first holding portion 11 of the first substrate 10 or the second holding portion 21 of the second substrate 20 in a Z direction. While being disposed, it is supported so as to be movable in the Z direction and the XY direction while maintaining this parallel state.

전사 부재(1)의 전사면(1a)은, 제1 기판(10)의 제1 표면(10a)이나 제2 기판(20)의 제2 표면(20a)의 형상에 맞추어 직사각형 등으로 형성된다.The transfer surface 1a of the transfer member 1 is formed in a rectangle or the like in conformity with the shape of the first surface 10a of the first substrate 10 or the second surface 20a of the second substrate 20.

전사면(1a)은, 복수의 판상 워크(W)와의 대향 방향(Z 방향)으로 압축 변형 가능하게 배치되는 점착부(2)와, 점착부(2)보다 외측에 배치되는 반력 지지부(3)를 갖고 있다.The transfer surface 1a includes an adhesive portion 2 disposed to be compressively deformable in a direction opposite to the plurality of plate-like workpieces W (Z direction), and a reaction force support portion 3 disposed outside the adhesive portion 2 Has.

점착부(2)는, 전사 부재(1)의 두께 방향(Z 방향)으로 탄성 변형 가능한 재료로 전사면(1a)에 형성되고, 제1 기판(10)에 배열된 복수의 판상 워크(W)의 표면 측(W1)과 Z 방향으로 평행하게 대향하는 선단면에, 평활한 점착면(2a)을 갖는다.The adhesive portion 2 is formed on the transfer surface 1a of a material that is elastically deformable in the thickness direction (Z direction) of the transfer member 1 and is arranged on the first substrate 10. It has a smooth adhesive surface 2a on the front end surface which faces parallel to the surface side W1 of the Z direction.

점착부(2)의 점착면(2a)은, 제1 기판(10)의 제1 유지부(11)나 제2 기판(20)의 제2 유지부(21)와 Z 방향으로 대향하도록 선단면의 내측 부위에 배치되며, 소정의 점착력을 갖는다. 점착면(2a)의 점착력은, 제1 기판(10)의 제1 유지부(11)가 갖는 각 판상 워크(W)의 유지력보다 강하며, 또한 제2 기판(20)의 제2 유지부(21)가 갖는 각 판상 워크(W)의 유지력보다 약하게 설정되어 있다. 이로써, 제1 유지부(11)로부터의 점착면(2a)으로의 판상 워크(W)의 수취를 가능하게 함과 함께, 점착면(2a)으로부터 제2 유지부(21)로의 판상 워크(W)의 전달을 가능하게 하고 있다.The adhesive surface 2a of the adhesive portion 2 is a front end surface facing the first holding portion 11 of the first substrate 10 or the second holding portion 21 of the second substrate 20 in the Z direction. It is placed on the inner part of the, and has a predetermined adhesive strength. The adhesive force of the adhesive surface 2a is stronger than the holding force of each plate-like work W of the first holding portion 11 of the first substrate 10, and the second holding portion of the second substrate 20 ( It is set weaker than the holding force of each plate-like work W possessed by 21). Thereby, while making it possible to receive the plate-like work W from the first holding part 11 to the adhesive surface 2a, the plate-like work W from the adhesive surface 2a to the second holding part 21 ).

또한 점착부(2)는, 도 4(a)에 나타나는 바와 같이, 후술하는 제1 접리 구동부(4)에서 제1 기판(10)을 향하여 전사 부재(1)가 Z 방향으로 상대적으로 접근 이동함으로써, 점착면(2a)이 복수의 판상 워크(W)의 표면 측(W1)에 맞닿는다. 그 후의 접근 이동에 의한 압압력으로 점착부(2)가 Z 방향으로 압축 변형하도록 구성된다. 복수의 판상 워크(W)의 표면 측(W1)에 대한 점착부(2)의 압축량은, 점착면(2a)이 계속 압접함으로써, 각 판상 워크(W)의 상승에 필요한 점착력을 얻도록 설정되어 있다.In addition, as shown in Fig. 4(a), the transfer member 1 moves relatively close in the Z direction toward the first substrate 10 in the first folding driving unit 4 to be described later. , The adhesion surface 2a abuts against the surface side W1 of the plurality of plate-like workpieces W. It is configured such that the pressure-sensitive adhesive portion 2 compresses and deforms in the Z direction by the pressing pressure due to the subsequent approach movement. The amount of compression of the adhesive portion 2 with respect to the surface side W1 of the plurality of plate-like workpieces W is set so that the adhesive force required for the rise of each plate-like workpiece W is obtained by continuously pressing the adhesive surface 2a. Has been.

또 도 4(b)에 나타나는 바와 같이, 후술하는 제2 접리 구동부(6)에서 전사 부재(1)가 제2 기판(20)을 향하여 Z 방향으로 상대적으로 접근 이동함으로써, 복수의 판상 워크(W)의 이면 측(W2)이 제2 기판(20)의 제2 유지부(21)에 맞닿는다. 그 후의 접근 이동에 의한 압압력으로 점착부(2)가 Z 방향으로 압축 변형하도록 구성된다. 복수의 판상 워크(W)의 표면 측(W1)에 대한 점착부(2)의 압축량은, 점착면(2a)이 계속 압접함으로써, 제2 유지부(21)에 대한 각 판상 워크(W)의 이면 측(W2)의 점착에 필요한 압압력을 얻도록 설정되어 있다.In addition, as shown in Fig. 4(b), the transfer member 1 is relatively approached and moved in the Z direction toward the second substrate 20 in the second folding drive 6 to be described later, so that a plurality of plate-like workpieces W The rear side W2 of) abuts against the second holding part 21 of the second substrate 20. It is configured such that the pressure-sensitive adhesive portion 2 compresses and deforms in the Z direction by the pressing pressure due to the subsequent approach movement. The amount of compression of the adhesive portion 2 with respect to the surface side W1 of the plurality of plate-shaped workpieces W is determined by continuous pressure contact with the adhesive surface 2a, so that each plate-shaped workpiece W with respect to the second holding portion 21 It is set so as to obtain a pressing pressure required for adhesion of the back side W2 of the.

점착부(2)의 단면 형상으로서는, 도 1~도 4 등에 나타나는 오목 형상이나, 도 5(a), (b)에 나타나는 기둥 형상이나, 도 8(a)~(c)에 나타나는 판 형상 등을 들 수 있다.As the cross-sectional shape of the adhesive portion 2, a concave shape shown in Figs. 1 to 4, a column shape shown in Figs. 5(a) and (b), a plate shape shown in Figs. 8(a) to (c), etc. Can be mentioned.

도 1~도 4 등의 오목 형상은, 전사면(1a)을 따라 점착부(2)의 기부(基部)(2b)가 적층 형성되고, 기부(2b)의 일부로부터 점착면(2a)만을 부분적으로 돌출시키고 있다. 도 5(a), (b)의 기둥 형상은, 전사면(1a)의 일부에 기둥 형상의 점착부(2)가 형성되고, 그 선단면에 전사면(1a)으로부터 점착면(2a')을 부분적으로 돌출시키고 있다. 도 8(a)~(c)의 판 형상은, 전사면(1a)을 따라 평판상의 점착부(2)가 적층 성형되고, 그 선단면에 평활한 점착면(2a'')을 갖고 있다.In the concave shape of FIGS. 1 to 4, the base 2b of the adhesive portion 2 is laminated along the transfer surface 1a, and only the adhesive surface 2a is partially formed from a part of the base 2b. It is protruding. In the columnar shape of Figs. 5(a) and (b), a columnar adhesive portion 2 is formed on a part of the transfer surface 1a, and the adhesive surface 2a' from the transfer surface 1a on the tip surface thereof. Is partially protruding. In the plate shape of Figs. 8A to 8C, a flat adhesive portion 2 is laminated and molded along the transfer surface 1a, and has a smooth adhesive surface 2a'' on the tip surface thereof.

또한 점착면(2a)의 형상은, 상술한 "선택 전사 방식"과 "전체면 전사 방식"에서 다르다.In addition, the shape of the adhesive surface 2a is different from the above-described "selective transfer method" and "full surface transfer method".

즉, 도 1~도 7에 나타나는 "선택 전사 방식"에서는, 제1 기판(10)의 제1 유지부(11)에 배열된 복수의 판상 워크(W) 중 선택한 판상 워크(W)만과 대향하도록 점착면(2a)이 복수 또는 단수 배치된다.That is, in the "selective transfer method" shown in FIGS. 1 to 7, the plate-shaped workpiece W selected from among the plurality of plate-shaped workpieces W arranged on the first holding portion 11 of the first substrate 10 is opposed. The adhesion surface 2a is arranged in plural or singular.

도시예에서는, 각 판상 워크(W)의 표면 측(W1)과 대략 동일한 사이즈로 형성된 복수의 점착면(2a)을, 복수의 판상 워크(W)의 배열 주기의 정수배에 상당하는 간격으로 띄엄띄엄 재배열되도록(간격 선택 절차) 배치하고 있다. 또한, 도 6(a)~(c) 및 도 7(a)~(c)에 나타나는 점착부(2)의 단면 형상은, 오목 형상 또는 기둥 형상 중 어느 하나이다.In the illustrated example, a plurality of adhesive surfaces 2a formed of approximately the same size as the surface side W1 of each plate-like workpiece W are spaced apart at intervals corresponding to an integer multiple of the arrangement period of the plurality of plate-shaped workpieces W. They are arranged to be rearranged (interval selection procedure). In addition, the cross-sectional shape of the adhesive part 2 shown in FIGS. 6(a)-(c) and 7(a)-(c) is either a concave shape or a column shape.

이에 대하여, 도 8에 나타나는 "전체면 전사 방식"에서는, 제1 기판(10)의 제1 유지부(11)에 배열된 복수의 판상 워크(W)의 전부와 대향하도록 점착부(2)가 단수 또는 복수 배치된다.In contrast, in the "full-surface transfer method" shown in FIG. 8, the adhesive portion 2 is arranged to face all of the plurality of plate-like workpieces W arranged on the first holding portion 11 of the first substrate 10. Arranged singular or plural.

도시예에서는, 점착부(2)의 단면 형상이 평판 형상이며, 복수의 판상 워크(W)의 표면 측(W1)의 전부를 덮는 사이즈로 형성된 단수의 점착면(2a)이 배치되어 있다. 또한, 그 외의 예로서 도시하지 않지만, 점착부(2)의 단면 형상을 평판상 대신에, 오목 형상이나 기둥 형상으로 변경하고, 각 판상 워크(W)의 표면 측(W1)과 대략 동일한 사이즈로 형성된 복수의 점착면(2a)을, 제1 기판(10)의 제1 유지부(11)에 배열된 복수의 판상 워크(W)와 동일한 주기로 격자상으로 배열하는 것도 가능하다.In the illustrated example, the cross-sectional shape of the adhesive portion 2 is a flat plate shape, and a single number of adhesive surfaces 2a formed in a size covering all of the surface side W1 of the plurality of plate-like workpieces W is disposed. In addition, although not shown as other examples, the cross-sectional shape of the adhesive portion 2 is changed to a concave shape or a column shape instead of a flat plate shape, and the size is approximately the same as that of the surface side W1 of each plate-shaped workpiece W. It is also possible to arrange the formed plurality of adhesive surfaces 2a in a grid shape at the same period as the plurality of plate-like workpieces W arranged on the first holding portion 11 of the first substrate 10.

반력 지지부(3)는, 점착부(2)가 되는 탄성 변형 가능한 재료와 대략 동일한 변형률의 연질 재료나, 점착부(2)가 되는 탄성 변형 가능한 재료보다 변형률이 작은 경질 재료로 전사면(1a)에 형성된다. 반력 지지부(3)는, 제1 기판(10)의 제1 수용면(10b)이나 제2 기판(20)의 제2 수용면(20b)과 Z 방향으로 평행하게 대향하는 선단면에, 평활한 반력면(3a)을 갖는다.The reaction force support portion 3 is a soft material having a strain substantially equal to that of the elastically deformable material serving as the adhesive portion 2 or a hard material having a lower strain than the elastically deformable material serving as the adhesive portion 2, and the transfer surface 1a Is formed in The reaction force support part 3 is smooth on a front end surface that faces parallel to the first receiving surface 10b of the first substrate 10 or the second receiving surface 20b of the second substrate 20 in the Z direction. It has a reaction force surface 3a.

반력면(3a)은, 전사 부재(1)의 전사면(1a)에 있어서 점착부(2)가 배치되는 내측 부위보다 외측의 부위에, 점착부(2)의 점착면(2a)과 평행하게 배치된다.The reaction force surface 3a is parallel to the adhesive surface 2a of the adhesive portion 2 at a portion outside of the inner portion where the adhesive portion 2 is disposed in the transfer surface 1a of the transfer member 1 Is placed.

제1 수용면(10b)에 대한 반력면(3a)의 돌출량은, 도 4(a)에 나타나는 바와 같이, 후술하는 제1 접리 구동부(4)에 의하여 제1 기판(10)과 전사 부재(1)가 Z 방향으로 상대적으로 접근 이동하여 양자 간의 제1 간격(L1)이 소정 치수에 도달했을 때에, 반력면(3a)과 제1 수용면(10b)의 맞닿음에 의한 반발력으로, 제1 기판(10)과 전사 부재(1)의 제1 간격(L1)이 소정 치수 미만이 되지 않도록 설정되어 있다. 상세하게 설명하면, 제1 기판(10)과 전사 부재(1)의 상대적인 접근 이동에 의하여, 복수의 판상 워크(W)의 표면 측(W1)에 점착면(2a)이 맞닿아 점착부(2)를 Z 방향으로 소정량만 압축 변형시킨 시점에서, 점착부(2)의 압축 변형을 정지시킨다. 즉, 점착부(2)가 Z 방향으로의 압축 변형에 의하여, 판상 워크(W)의 상승에 필요한 점착력을 얻은 시점에서, 복수의 판상 워크(W)에 대한 점착부(2)의 과잉된 압축 변형을 방지하여, 각 판상 워크(W)의 두께에 준한 점착력이 얻어지도록 설정되어 있다.The amount of protrusion of the reaction force surface 3a with respect to the first receiving surface 10b is determined by the first folding driving unit 4 to be described later, as shown in Fig. 4(a), to the first substrate 10 and the transfer member ( When 1) approaches and moves relatively in the Z direction and the first gap L1 between the two reaches a predetermined dimension, it is a repulsive force due to the abutment between the reaction force surface 3a and the first receiving surface 10b. It is set so that the first distance L1 between the substrate 10 and the transfer member 1 does not fall below a predetermined dimension. In detail, the adhesive surface 2a comes into contact with the surface side W1 of the plurality of plate-like workpieces W due to the relative approach movement between the first substrate 10 and the transfer member 1, and thus the adhesive portion 2 When) is compressed by only a predetermined amount in the Z direction, compression deformation of the adhesive portion 2 is stopped. That is, when the adhesive portion 2 obtains the adhesive force required for the rise of the plate-like work W due to compression deformation in the Z direction, excessive compression of the adhesive portion 2 to the plurality of plate-like work W It is set so as to prevent deformation and obtain adhesive force corresponding to the thickness of each plate-like work W.

또 제2 수용면(20b)에 대한 반력면(3a)의 돌출량은, 도 4(b)에 나타나는 바와 같이, 후술하는 제2 접리 구동부(6)에 의하여 전사 부재(1)와 제2 기판(20)이 Z 방향으로 상대적으로 접근 이동하여 양자 간의 제2 간격(L2)이 소정 치수에 도달했을 때에, 반력면(3a)과 제2 수용면(20b)의 맞닿음에 의한 반발력으로, 전사 부재(1)와 제2 기판(20)의 제2 간격(L2)이 소정 치수 미만이 되지 않도록 설정되어 있다. 상세하게 설명하면, 전사 부재(1)와 제2 기판(20)의 상대적인 접근 이동에 의하여, 복수의 판상 워크(W)의 이면 측(W2)이 제2 기판(20)의 제2 유지부(21)에 맞닿아 점착부(2)를 Z 방향으로 소정량만 압축 변형시킨 시점에서, 점착부(2)의 압축 변형을 정지시킨다. 즉, 점착부(2)가 Z 방향으로의 압축 변형에 의하여, 제2 유지부(21)에 대한 각 판상 워크(W)의 이면 측(W2)의 점착에 필요한 압압력을 얻은 시점에서, 복수의 판상 워크(W)에 대한 점착부(2)의 과잉된 압축 변형을 방지하여, 각 판상 워크(W)의 두께에 준한 압압력이 얻어지도록 설정되어 있다.In addition, the amount of protrusion of the reaction force surface 3a with respect to the second receiving surface 20b is determined by the transfer member 1 and the second substrate by the second folding driving unit 6 described later, as shown in Fig. 4(b). When (20) approaches and moves relatively in the Z direction and the second gap (L2) between the two reaches a predetermined dimension, it is transferred by the repulsive force due to the contact between the reaction force surface (3a) and the second receiving surface (20b). The second distance L2 between the member 1 and the second substrate 20 is set so as not to be less than a predetermined dimension. In detail, due to the relative approach movement of the transfer member 1 and the second substrate 20, the rear side W2 of the plurality of plate-like workpieces W is a second holding part ( When the adhesive portion 2 is compressed by only a predetermined amount in the Z direction in contact with 21), the compression deformation of the adhesive portion 2 is stopped. That is, when the pressure required for adhesion of the back side (W2) of each plate-like work (W) to the second holding part (21) is obtained by compressive deformation of the adhesion part (2) in the Z direction, a plurality of It is set so as to prevent excessive compressive deformation of the adhesive portion 2 with respect to the plate-like workpieces W, and to obtain a pressing pressure corresponding to the thickness of each plate-like workpiece W.

또한 반력 지지부(3)는, 전사 부재(1)의 전사면(1a)에 대하여 점착부(2)가 배치되는 내측 부위를 둘러싸도록 배치되고, 반력 지지부(3)의 일부에는, 점착부(2)가 배치되는 내측 부위와 외측 부위에 연통하는 통기부(3b)를 갖는 것이 바람직하다.Further, the reaction force support portion 3 is disposed so as to surround the inner portion where the adhesive portion 2 is disposed with respect to the transfer surface 1a of the transfer member 1, and in a part of the reaction force support portion 3, the adhesive portion 2 It is preferable to have a ventilation portion (3b) communicating with the inner portion and the outer portion in which) is disposed.

또 반력 지지부(3)에 있어서 반력면(3a)의 사이즈(면적)는, 반력 지지부(3)의 구성 재료에 따라 다르다. 즉, 도 1(c) 및 도 8(b)나 도 6(a), (b), (c)에 나타나는 바와 같이, 반력 지지부(3)의 구성 재료가 점착부(2)와 동질인 탄성 재료로 일체 성형 또는 일체적으로 형성된 경우에는, 점착부(2)의 경시 열화에 따라 점착부(2)와 반력 지지부(3)가 동시 교환 가능해진다.In addition, the size (area) of the reaction force surface 3a in the reaction force support portion 3 differs depending on the constituent material of the reaction force support portion 3. That is, as shown in FIGS. 1(c) and 8(b) or 6(a), (b), and (c), the material of the reaction force support part 3 is the same as the adhesive part 2 In the case of being integrally molded or integrally formed of a material, the adhesive portion 2 and the reaction force support portion 3 can be exchanged at the same time as the adhesive portion 2 deteriorates with time.

연질 재료로 이루어지는 반력 지지부(3)의 형상으로서는, 도 1(c) 및 도 8(b)에 나타나는 사다리꼴 형상이나, 도 6(a)에 나타나는 장척 직사각형 형상이나, 도 6(b)에 나타나는 단척 직사각형 형상이나, 도 6(c)에 나타나는 태형(太型) L자상 등을 들 수 있다.As a shape of the reaction force support part 3 made of a soft material, a trapezoidal shape shown in Figs. 1(c) and 8(b), a long rectangular shape shown in Fig. 6(a), or a short scale shown in Fig. 6(b) A rectangular shape, a large L-shape shown in Fig. 6(c), etc. are mentioned.

도 1(c) 및 도 8(b)의 사다리꼴 형상은, 직사각형 등으로 형성된 전사면(1a)의 바깥 가장자리를 따라 사다리꼴의 반력 지지 부재(31)를 복수(4개) 이산(離散) 배치하고 있다. 복수의 반력 지지 부재(31)의 사이이며 또한 전사면(1a)의 모서리부에는, 통기부(3b)가 배치된다. 도 6(a)의 장척 직사각형 형상은, 장척인 직사각형의 반력 지지 부재(32)가 복수(4개) 각각의 사이에 통기부(3b)를 사이에 두고 이산 배치되어 있다. 도 6(b)의 단척 직사각형 형상은, 단척인 직사각형의 반력 지지 부재(33)가 복수(8개), 각각의 사이에 통기부(3b)를 사이에 두고 이산 배치되어 있다. 도 6(c)의 태형 L자상은, 굵은 L자상의 반력 지지 부재(34)가 복수(4개) 각각의 사이에 통기부(3b)를 사이에 두고 배치되어 있다.In the trapezoidal shape of FIGS. 1(c) and 8(b), a plurality (4) of trapezoidal reaction force supporting members 31 are disposed along the outer edge of the transfer surface 1a formed in a rectangle or the like. have. A ventilation portion 3b is disposed between the plurality of reaction force supporting members 31 and at a corner portion of the transfer surface 1a. In the elongated rectangular shape of Fig. 6(a), a plurality (four) of elongated rectangular reaction force supporting members 32 are discretely disposed between each of the vents 3b. In the short rectangular shape of Fig. 6(b), a plurality (eight) of short rectangular reaction force supporting members 33 are arranged discretely with a vent portion 3b interposed therebetween. In the large L-shape of Fig. 6(c), a large L-shaped reaction force support member 34 is disposed between a plurality (four) of each with a vent portion 3b interposed therebetween.

또한, 그 외의 예로서 도시하지 않지만, 반력 지지부(3)의 형상이나 수 등을 도시예 이외의 형상이나 수 등으로 변경하는 것도 가능하다.In addition, although not shown as another example, it is also possible to change the shape, number, etc. of the reaction force support part 3 to a shape, number, etc. other than the illustrated example.

또 반력 지지부(3)의 구성 재료가 점착부(2)가 되는 탄성 변형 가능한 재료보다 변형률이 작은 경질 재료인 경우에는, 도 7(a), (b), (c)에 나타나는 바와 같이, Z 방향으로의 변형률이 작기 때문에, 반력 지지부(3)의 형상의 소형화에 의하여 총 수용 면적을 작게 해도 소정의 반발력을 얻는 것이 가능해진다.In addition, when the constituent material of the reaction force support portion 3 is a hard material having a lower strain rate than the elastically deformable material used as the adhesive portion 2, as shown in Figs. 7(a), (b), and (c), Z Since the strain in the direction is small, it becomes possible to obtain a predetermined repulsive force even if the total accommodation area is reduced by miniaturization of the shape of the reaction force support portion 3.

경질 재료로 이루어지는 반력 지지부(3)의 형상으로서는, 도 7(a)에 나타나는 모서리 직사각형 형상이나, 도 7(b)에 나타나는 둥근 형상이나, 도 7(c)에 나타나는 세형(細型) L자상 등을 들 수 있다.As the shape of the reaction force support part 3 made of a hard material, a rectangular shape shown in Fig. 7(a), a round shape shown in Fig. 7(b), a thin L shape shown in Fig. 7(c), etc. Can be mentioned.

도 7(a)의 모서리 직사각형 형상은, 전사면(1a)의 네 귀퉁이에 직사각형 형상의 반력 지지 부재(35)가 복수(4개) 각각의 사이에 통기부(3b)를 사이에 두고 이산 배치되어 있다. 도 7(b)의 둥근 형상은, 전사면(1a)의 네 귀퉁이와 바깥가장자리의 중간 위치에 둥근 형상의 반력 지지 부재(36)가 복수(8개) 각각의 사이에 통기부(3b)를 사이에 두고 이산 배치되어 있다. 도 7(c)의 세형 L자상은, 가는 L자상의 반력 지지 부재(37)가 복수(4개) 각각의 사이에 통기부(3b)를 사이에 두고 이산 배치되어 있다.In the rectangular shape of the corners of Fig. 7 (a), a plurality of (four) rectangular reaction force supporting members 35 are disposed at four corners of the transfer surface 1a with a vent portion 3b interposed therebetween. Has been. In the round shape of Fig. 7(b), a plurality of round-shaped reaction force support members 36 (8) are provided at an intermediate position between the four corners and the outer edge of the transfer surface 1a. They are arranged separately. In the narrow L-shape of Fig. 7(c), a plurality of (four) reaction force supporting members 37 of a thin L-shape are discretely disposed between each of the vents 3b.

또한, 그 외의 예로서 도시하지 않지만, 반력 지지부(3)의 형상이나 수 등을 도시예 이외의 형상이나 수 등으로 변경하는 것도 가능하다.In addition, although not shown as another example, it is also possible to change the shape, number, etc. of the reaction force support part 3 to a shape, number, etc. other than the illustrated example.

제1 접리 구동부(4)는, 전사 부재(1)가 제1 기판(10)으로부터 떨어진 제1 대향 위치(P1)와, 점착부(2)가 제1 기판(10)에 배열한 복수의 판상 워크(W)의 표면 측(W1)과 맞닿는(압접하는) 수취 위치(P2)에 걸쳐, 전사 부재(1)의 점착부(2)를 Z 방향으로 상대적으로 접근 이동 및 격리 이동시키는 액추에이터 등으로 구성된다.The first folding driving unit 4 has a plurality of plate shapes in which the transfer member 1 is arranged at a first opposing position P1 away from the first substrate 10 and the adhesive unit 2 is arranged on the first substrate 10. Through the receiving position (P2) in contact with (press contacting) the surface side (W1) of the work (W), the adhesive portion (2) of the transfer member (1) is relatively approached and separated in the Z direction by an actuator, etc. Is composed.

제1 접리 구동부(4)가 되는 액추에이터 등은, 후술하는 제어부(7)에 의하여 전사 부재(1) 또는 제1 기판(10) 중 어느 일방이거나, 혹은 전사 부재(1) 및 제1 기판(10)의 양방을, 전사면(1a)(점착면(2a), 반력면(3a))과 제1 표면(10a)(제1 유지부(11), 제1 수용면(10b))이 평행 상태로 유지된 채로 Z 방향으로 상대적으로 접근 혹은 이격하도록 이동시키도록 작동 제어된다.The actuator or the like, which becomes the first folding drive unit 4, is either one of the transfer member 1 or the first substrate 10, or the transfer member 1 and the first substrate 10 by the control unit 7 described later. The transfer surface 1a (adhesive surface 2a, reaction force surface 3a) and the first surface 10a (first holding part 11, first receiving surface 10b) are parallel It is operated and controlled to move relative to or away from the Z direction while being held at.

제1 접리 구동부(4)에 의하여 전사 부재(1)의 점착부(2)는, 도 4(a)에 나타나는 바와 같이, 제1 대향 위치(P1)로부터 수취 위치(P2)를 향하여 접근 이동하여, 복수의 판상 워크(W)의 수취가 행해지고, 그 종료 후에 수취 위치(P2)로부터 제1 대향 위치(P1)를 향하여 격리 이동한다. 상세하게 설명하면, 수취 위치(P2)에 있어서, 점착부(2)의 점착면(2a)이 복수의 판상 워크(W)의 표면 측(W1)에 맞닿아(압접하여) 점착부(2)를 압축 변형시킨다. 이것과 대략 동시에, 반력 지지부(3)가 제1 기판(10)의 제1 수용면(10b)에 맞닿아(압접하여), 제1 접리 구동부(4)에 의한 그 이상의 전사 부재(1)와 제1 기판(10)의 상대적인 접근 이동을 정지시킨다.By the first folding driving part 4, the adhesive part 2 of the transfer member 1 approaches and moves from the first facing position P1 toward the receiving position P2, as shown in Fig. 4(a). , The plurality of plate-like workpieces W are received, and after the end, they are separated from the receiving position P2 toward the first opposing position P1. In detail, in the receiving position P2, the adhesive surface 2a of the adhesive portion 2 abuts (press contact) the surface side W1 of the plurality of plate-like workpieces W, and the adhesive portion 2 Compressively transform At approximately the same time as this, the reaction force support 3 abuts (press contact) the first receiving surface 10b of the first substrate 10, and the further transfer member 1 by the first folding drive 4 The relative approaching movement of the first substrate 10 is stopped.

제1 접리 구동부(4)의 구체예로서 도 1~도 8에 나타나는 예의 경우에는, 전사 부재(1)를 제1 기판(10)을 향하여 하강시키고 있다.In the case of the example shown in FIGS. 1 to 8 as a specific example of the first folding drive unit 4, the transfer member 1 is lowered toward the first substrate 10.

또, 그 외의 예로서 도시하지 않지만, 전사 부재(1) 대신에 제1 기판(10)을 상승시키는 것이나, 전사 부재(1) 및 제1 기판(10)의 양방을 서로 접근 혹은 격리 이동시키는 등의 변경이 가능하다.In addition, although not shown as other examples, raising the first substrate 10 instead of the transfer member 1, moving both the transfer member 1 and the first substrate 10 closer to each other or moving away from each other, etc. Can be changed.

반송 구동부(5)는, 전사 부재(1)가 제1 기판(10)으로부터 떨어진 제1 대향 위치(P1)와, 전사 부재(1)가 제2 기판(20)으로부터 떨어진 제2 대향 위치(P3)에 걸쳐, 전사 부재(1)의 점착부(2)를 Z 방향과 교차하는 X 방향이나 Y 방향 등으로 상대적으로 이동시키는 구동원이다.The transfer driving unit 5 includes a first facing position P1 where the transfer member 1 is away from the first substrate 10 and a second facing position P3 where the transfer member 1 is away from the second substrate 20. ), it is a driving source that relatively moves the adhesive portion 2 of the transfer member 1 in the X direction or the Y direction intersecting the Z direction.

반송 구동부(5)가 되는 구동원은, 액추에이터 등으로 구성되고, 후술하는 제어부(7)에 의하여 전사 부재(1) 또는 이간 배치된 제1 기판(10)과 제2 기판(20) 중 어느 일방이거나, 혹은 전사 부재(1) 및 제1 기판(10)과 제2 기판(20)의 양방을 X 방향이나 Y 방향 등으로 상대적으로 이동시키도록 작동 제어된다.The driving source serving as the transfer driving unit 5 is composed of an actuator or the like, and is either the transfer member 1 or the first substrate 10 and the second substrate 20 spaced apart by the control unit 7 to be described later. Alternatively, the operation is controlled to relatively move the transfer member 1 and both the first and second substrates 10 and 20 in the X direction or the Y direction.

반송 구동부(5)의 구체예로서 도 1~도 8에 나타나는 예의 경우에는, 전사 부재(1)만을 제1 기판(10)으로부터 제2 기판(20)을 향하여 왕복 이동시키고 있다.In the case of the example shown in FIGS. 1 to 8 as a specific example of the transfer drive unit 5, only the transfer member 1 is reciprocated from the first substrate 10 to the second substrate 20.

또, 그 외의 예로서 도시하지 않지만, 전사 부재(1) 대신에 제1 기판(10)과 제2 기판(20)을 이동시키는 것이나, 전사 부재(1) 및 제1 기판(10)과 제2 기판(20)의 양방을 서로 이동시키는 등의 변경이 가능하다.In addition, although not shown as other examples, moving the first substrate 10 and the second substrate 20 instead of the transfer member 1, and the transfer member 1 and the first substrate 10 and the second Changes such as moving both sides of the substrate 20 to each other are possible.

제2 접리 구동부(6)는, 전사 부재(1)가 제2 기판(20)으로부터 떨어진 제2 대향 위치(P3)와, 점착부(2)에서 수취한 복수의 판상 워크(W)의 이면 측(W2)이 제2 기판(20)과 맞닿는(압접하는) 전달 위치(P4)에 걸쳐, 전사 부재(1)의 점착부(2)를 Z 방향으로 상대적으로 접근 이동 및 격리 이동시키는 액추에이터 등으로 구성된다.The second folding driving unit 6 includes a second opposite position P3 where the transfer member 1 is separated from the second substrate 20 and the rear side of the plurality of plate-like workpieces W received from the adhesive unit 2. Over the delivery position P4 where (W2) abuts (presses) the second substrate 20, the adhesive portion 2 of the transfer member 1 is relatively approached and separated in the Z direction by an actuator, etc. Is composed.

제2 접리 구동부(6)가 되는 액추에이터 등은, 후술하는 제어부(7)에 의하여 전사 부재(1) 또는 제2 기판(20) 중 어느 일방이거나, 혹은 전사 부재(1) 및 제2 기판(20)의 양방을, 전사면(1a)(점착면(2a), 반력면(3a))과 제2 표면(20a)(제2 유지부(21), 제2 수용면(20b))이 평행 상태로 유지된 채로 Z 방향으로 상대적으로 접근 혹은 이격하도록 이동시키도록 작동 제어된다.The actuator or the like, which becomes the second folding driving unit 6, is either one of the transfer member 1 or the second substrate 20, or the transfer member 1 and the second substrate 20 by the control unit 7 described later. ), the transfer surface 1a (adhesive surface 2a, reaction force surface 3a) and the second surface 20a (second holding part 21, second receiving surface 20b) are parallel It is operated and controlled to move relative to or away from the Z direction while being held at.

제2 접리 구동부(6)에 의하여 전사 부재(1)의 점착부(2)에서 수취한 복수의 판상 워크(W)는, 도 4(b)에 나타나는 바와 같이, 제2 대향 위치(P3)로부터 전달 위치(P4)를 향하여 접근 이동하여, 복수의 판상 워크(W)의 전달이 행해지고, 그 종료 후에 전달 위치(P4)로부터 제2 대향 위치(P3)를 향하여 격리 이동한다. 상세하게 설명하면, 전달 위치(P4)에 있어서, 점착부(2)의 점착면(2a)에서 수취한 복수의 판상 워크(W)의 이면 측(W2)이 제2 기판(20)의 제2 유지부(21)에 맞닿아(압접하여) 점착부(2)를 압축 변형시킨다. 이것과 대략 동시에, 반력 지지부(3)가 제2 기판(20)의 제2 수용면(20b)에 맞닿아(압접하여), 제2 접리 구동부(6)에 의한 그 이상의 전사 부재(1)와 제2 기판(20)의 상대적인 접근 이동을 정지시킨다.A plurality of plate-like workpieces W received from the adhesive portion 2 of the transfer member 1 by the second folding driving portion 6 are, as shown in Fig. 4B, from the second opposing position P3. It approaches and moves toward the delivery position P4, the plurality of plate-like workpieces W are transferred, and after the end of the transfer, it moves in isolation from the delivery position P4 toward the second opposing position P3. In detail, in the delivery position P4, the rear side W2 of the plurality of plate-like workpieces W received from the adhesive surface 2a of the adhesive portion 2 is the second substrate 20 In contact with the holding part 21 (by pressure contact), the adhesive part 2 is compressed and deformed. At approximately the same time as this, the reaction force support portion 3 abuts (presses contact) the second receiving surface 20b of the second substrate 20, and the further transfer member 1 by the second folding driving portion 6 and The relative approach movement of the second substrate 20 is stopped.

제2 접리 구동부(6)의 구체예로서 도 1~도 8에 나타나는 예의 경우에는, 전사 부재(1)를 제2 기판(20)을 향하여 하강시키고 있다.In the case of the example shown in FIGS. 1 to 8 as a specific example of the second folding driving part 6, the transfer member 1 is lowered toward the second substrate 20.

또, 그 외의 예로서 도시하지 않지만, 전사 부재(1) 대신에 제2 기판(20)을 상승시키는 것이나, 전사 부재(1) 및 제2 기판(20)의 양방을 서로 접근 혹은 격리 이동시키는 등의 변경이 가능하다.In addition, although not shown as other examples, raising the second substrate 20 instead of the transfer member 1, moving both the transfer member 1 and the second substrate 20 closer to each other or moving in isolation, etc. Can be changed.

제어부(7)는, 제1 접리 구동부(4)나 반송 구동부(5)나 제2 접리 구동부(6)뿐만 아니라 변압실(B)의 실압 조정 수단 등과 각각 전기적으로 접속한 제어 회로(도시하지 않음)를 갖는 컨트롤러이다. 제어부(7)가 되는 컨트롤러는, 제어 회로에 미리 설정된 프로그램에 따라, 사전에 설정된 타이밍에 순차 각각 작동 제어하고 있다.The control unit 7 is a control circuit (not shown) electrically connected to the actual pressure adjusting means of the transformer chamber B, as well as the first folding driving unit 4, the conveying driving unit 5, and the second folding driving unit 6 ). The controllers serving as the control unit 7 sequentially control each operation at a preset timing according to a program set in advance in the control circuit.

제어부(7)의 제어 회로에 설정된 프로그램을, 워크 전사 장치(A) 및 워크 전사 척(C)을 이용한 워크 전사 방법으로서 설명한다.A program set in the control circuit of the control unit 7 will be described as a work transfer method using the work transfer device A and the work transfer chuck C.

본 발명의 실시형태에 관한 워크 전사 장치(A) 및 워크 전사 척(C)에 의한 워크 전사 방법은, 제1 기판(10)으로부터 전사 부재(1)로의 워크 수취 과정과, 전사 부재(1)로부터 제2 기판(20)으로의 워크 전달 과정을 주요한 공정으로서 포함하고 있다.The method of transferring a work using the work transfer device A and the work transfer chuck C according to the embodiment of the present invention includes a process of receiving a work from the first substrate 10 to the transfer member 1 and the transfer member 1 The transfer process of the work from the to the second substrate 20 is included as a main process.

워크 수취 과정은, 제1 기판(10) 및 전사 부재(1)의 상대적인 접근 이동에 따라 전사 부재(1)의 점착부(2)를 제1 기판(10)의 제1 유지부(11)를 향하여 접근 이동시키며, 또한 전사 부재(1)의 반력 지지부(3)를 제1 기판(10)의 제1 수용면(10b)을 향하여 접근 이동시키는 접근 이동 공정과, 점착부(2)를 복수의 판상 워크(W)에 맞닿게 하고, 또한 반력 지지부(3)를 제1 수용면(10b)에 맞닿게 하는 접촉 공정과, 전사 부재(1)를 제1 기판(10)으로부터 격리 이동시키는 이동 공정을 포함하고 있다.In the process of receiving the work, the adhesive portion 2 of the transfer member 1 is moved to the first holding portion 11 of the first substrate 10 according to the relative movement of the first substrate 10 and the transfer member 1. And moving the reaction force support part 3 of the transfer member 1 toward the first receiving surface 10b of the first substrate 10 and moving the adhesive part 2 to a plurality of A contact process in which the plate-like work W is brought into contact and the reaction force support part 3 is brought into contact with the first receiving surface 10b, and a transfer process in which the transfer member 1 is separated from the first substrate 10 It includes.

워크 수취 과정의 접근 이동 공정에서는, 제1 접리 구동부(4)에 의하여 전사 부재(1)의 점착부(2)를 제1 기판(10)에 배열한 복수의 판상 워크(W)에 대하여 Z 방향으로 상대적으로 접근 이동시키고 있다. 이것과 동시에 전사 부재(1)의 반력 지지부(3)를 제1 기판(10)의 제1 수용면(10b)에 대하여 Z 방향으로 상대적으로 접근 이동시키고 있다.In the approach movement process of the workpiece receiving process, the Z direction with respect to the plurality of plate-like workpieces W arranged on the first substrate 10 with the adhesive portion 2 of the transfer member 1 by the first folding driving portion 4 It is moving relatively close. Simultaneously with this, the reaction force support portion 3 of the transfer member 1 is relatively approached and moved in the Z direction with respect to the first receiving surface 10b of the first substrate 10.

워크 수취 과정의 접촉 공정에서는, 그 후의 제1 접리 구동부(4)에 의하여 전사 부재(1)의 점착부(2)를 복수의 판상 워크(W)의 표면 측(W1)에 맞닿아(압접하여) 점착시키고 있다. 이 때문에, 점착부(2)의 점착면(2a)에 복수의 판상 워크(W)의 표면 측(W1)이 점착 유지된다.In the contact process in the process of receiving the workpiece, the adhesive portion 2 of the transfer member 1 is brought into contact with the surface side W1 of the plurality of plate-like workpieces W by the first folding driving portion 4 thereafter (press contacting ) It is sticking. For this reason, the surface side W1 of the plurality of plate-like workpieces W is adhered and held to the adhesive surface 2a of the adhesive portion 2.

또한 이와 동시에, 전사 부재(1)의 반력 지지부(3)를 제1 기판(10)의 제1 수용면(10b)에 맞닿게 하고(압접시키고) 있다. 이 때문에, 제1 접리 구동부(4)에 의한 그 이상의 전사 부재(1) 및 제1 기판(10)의 상대적인 접근 이동이 정지된다.In addition, at the same time, the reaction force support portion 3 of the transfer member 1 is brought into contact with the first receiving surface 10b of the first substrate 10 (press contacting). For this reason, the relative approach movement of the further transfer member 1 and the first substrate 10 by the first folding drive unit 4 is stopped.

워크 수취 과정의 이동 공정에서는, 제1 접리 구동부(4)에 의하여 전사 부재(1)를 제1 기판(10)으로부터 격리 이동시키고 있다. 그 때에 점착면(2a)의 점착력은, 제1 기판(10)의 제1 유지부(11)가 갖는 각 판상 워크(W)의 유지력보다 강하게 설정되기 때문에, 제1 기판(10)의 점착부(2)에서 수취한 복수의 판상 워크(W)의 이면 측(W2)이, 제1 기판(10)의 제1 유지부(11)로부터 박리되고, 워크 수취 과정이 완료된다.In the moving step of the work receiving process, the transfer member 1 is moved separately from the first substrate 10 by the first folding driving unit 4. At that time, since the adhesive force of the adhesive surface 2a is set to be stronger than the holding force of each plate-like work W of the first holding portion 11 of the first substrate 10, the adhesive portion of the first substrate 10 The rear side W2 of the plurality of plate-like workpieces W received in (2) is peeled from the first holding portion 11 of the first substrate 10, and the process of receiving the workpiece is completed.

워크 전달 과정은, 제2 기판(20)을 향한 전사 부재(1)의 접근 이동에 따라 전사 부재(1)의 점착부(2)를 제2 기판(20)의 제2 유지부(21)를 향하여 접근 이동시키며 또한 전사 부재(1)의 반력 지지부(3)를 제2 기판(20)의 제2 수용면(20b)을 향하여 접근 이동시키는 접근 이동 공정과, 점착부(2)를 제2 기판(20)의 제2 유지부(21)에 맞닿게 하고 또한 반력 지지부(3)를 제2 수용면(20b)에 맞닿게 하는 접촉 공정과, 전사 부재(1)를 제2 기판(20)으로부터 격리 이동시키는 이동 공정을 포함하고 있다.In the process of transferring the work, the adhesive portion 2 of the transfer member 1 is moved to the second holding portion 21 of the second substrate 20 according to the approach movement of the transfer member 1 toward the second substrate 20. An approach moving process of moving the reaction force support part 3 of the transfer member 1 toward the second receiving surface 20b of the second substrate 20 and moving the adhesive part 2 to the second substrate A contact step of bringing the second holding part 21 in contact with the second holding part 21 of (20) and bringing the reaction force support part 3 in contact with the second receiving surface 20b, and the transfer member 1 from the second substrate 20 It includes a transfer process that is quarantined.

워크 전달 과정의 접근 이동 공정에서는, 제2 접리 구동부(6)에 의하여 전사 부재(1)의 점착부(2)에서 수취한 복수의 판상 워크(W)를 제2 기판(20)의 제2 유지부(21)에 대하여 Z 방향으로 상대적으로 접근 이동시키고 있다. 이와 동시에 전사 부재(1)의 반력 지지부(3)를 제2 기판(20)의 제2 수용면(20b)에 대하여 Z 방향으로 상대적으로 접근 이동시키고 있다.In the approach movement process of the workpiece transfer process, the second folding drive unit 6 holds the plurality of plate-like workpieces W received from the adhesive unit 2 of the transfer member 1 as a second of the second substrate 20 The part 21 is relatively approached and moved in the Z direction. At the same time, the reaction force support portion 3 of the transfer member 1 is relatively approached and moved in the Z direction with respect to the second receiving surface 20b of the second substrate 20.

워크 전달 과정의 접촉 공정에서는, 그 후의 제2 접리 구동부(6)에 의하여 전사 부재(1)의 점착부(2)의 점착면(2a)에서 수취한 복수의 판상 워크(W)의 이면 측(W2)을, 제2 기판(20)의 제2 유지부(21)에 맞닿아(압접하여) 점착시키고 있다. 이 때문에, 제2 기판(20)의 제2 유지부(21)에 복수의 판상 워크(W)의 이면 측(W2)이 점착 유지된다.In the contact process of the workpiece transfer process, the rear side of the plurality of plate-like workpieces W received from the adhesive surface 2a of the adhesive portion 2 of the transfer member 1 by the second folding driving portion 6 thereafter ( W2) is brought into contact with (press contacting) the second holding portion 21 of the second substrate 20 and adhered thereto. For this reason, the back side W2 of the plurality of plate-like workpieces W is adhered and held to the second holding portion 21 of the second substrate 20.

또한 이와 동시에, 전사 부재(1)의 반력 지지부(3)를 제2 기판(20)의 제2 수용면(20b)에 맞닿게 하고(압접시키고) 있다. 이 때문에, 제2 접리 구동부(6)에 의한 그 이상의 전사 부재(1) 및 제2 기판(20)의 상대적인 접근 이동이 정지된다.In addition, at the same time, the reaction force support portion 3 of the transfer member 1 is brought into contact with the second receiving surface 20b of the second substrate 20 (press contacting). For this reason, the relative approach movement of the further transfer member 1 and the second substrate 20 by the second folding driving unit 6 is stopped.

워크 전달 과정의 이동 공정에서는, 제2 접리 구동부(6)에 의하여 전사 부재(1)를 제2 기판(20)으로부터 격리 이동시키고 있다. 그때에 점착면(2a)의 점착력은, 제2 기판(20)의 제2 유지부(21)가 갖는 각 판상 워크(W)의 유지력보다 약하게 설정되기 때문에, 제2 기판(20)의 제2 유지부(21)에 점착 유지한 복수의 판상 워크(W)의 표면 측(W1)으로부터 제1 기판(10)의 점착부(2)가 박리되어, 워크 전달 과정이 완료된다.In the moving step of the work transfer process, the transfer member 1 is moved separately from the second substrate 20 by the second folding driving unit 6. At this time, the adhesive force of the adhesive surface 2a is set to be weaker than the holding force of each of the plate-like workpieces W of the second holding portion 21 of the second substrate 20. The adhesive portion 2 of the first substrate 10 is peeled off from the surface side W1 of the plurality of plate-shaped workpieces W adhered to the holding portion 21, and the workpiece transfer process is completed.

한편, 점착부(2)는, 전사 부재(1)와 제1 기판(10) 또는 제2 기판(20)의 접근 이동에 따라 각 판상 워크(W)와 맞닿아(압접하여) Z 방향으로 압축 변형하지만, 점착부(2)의 탄성 변형 한계에 서서히 근접하여, 최종적으로는 탄성 변형 한계에 도달해 버린다. 탄성 변형 한계를 초과한 점착부(2)는, 그 이상으로 압축 불가능하며, 그 이후의 접근 이동은, 과잉된 압압력이 되어 판상 워크(W)를 무리하게 변형시켜, 균열이나 손상 등의 파손의 발생 원인이 된다.On the other hand, the adhesive portion 2 is compressed in the Z direction by contacting (press contacting) each plate-like work W according to the approaching movement of the transfer member 1 and the first substrate 10 or the second substrate 20 It deforms, but gradually approaches the elastic deformation limit of the adhesive portion 2 and finally reaches the elastic deformation limit. The adhesive portion (2) exceeding the elastic deformation limit cannot be compressed beyond that, and the approach movement after that becomes excessive pressing force and forcefully deforms the plate-like work (W), causing damage such as cracks or damage. It causes the occurrence of.

이와 같은 문제점을 해결하기 위해서는, 전사 부재(1)와 제1 기판(10) 또는 제2 기판(20)의 접근 이동으로 점착부(2)에 압축력을 가했을 때의 변형 변위와, 그 변형 변위에 의하여 얻어지는 압축력과의 상관 관계를 미리 계측해 두고, 이 측정값에 근거하여 점착부(2)의 압축 시에 있어서의 변형 변위를 적정 범위로 설정하는 것이 바람직하다. 즉, 점착부(2)에 대하여 반력 지지부(3)를 고저차가 나도록 설정하는 것이 바람직하다.In order to solve such a problem, the deformation displacement when a compressive force is applied to the adhesive portion 2 due to the proximity movement of the transfer member 1 and the first substrate 10 or the second substrate 20 and the deformation displacement It is preferable to measure the correlation with the compression force obtained by measuring in advance, and to set the deformation displacement at the time of compression of the adhesive part 2 in an appropriate range based on this measured value. In other words, it is preferable to set the reaction force support portion 3 with respect to the adhesive portion 2 so that a difference in elevation occurs.

점착부(2)의 압축력은, 제1 접리 구동부(4)에 의한 접근 이동으로 전사 부재(1)와 제1 기판(10)의 간격이 좁아져, 점착부(2)의 점착면(2a)이 복수의 판상 워크(W)의 표면 측(W1)에 맞닿음으로써 발생한다. 이 압축력은, 제1 기판(10) 또는 전사 부재(1) 중 어느 일방에 로드 셀 등의 하중 센서(도시하지 않음)를 설치하는 것이나, 제1 접리 구동부(4)의 구동 토크를 감시함으로써 계측 가능해진다.The compressive force of the adhesive portion 2 is that the distance between the transfer member 1 and the first substrate 10 is narrowed due to the approach movement by the first folding driving portion 4, and the adhesive surface 2a of the adhesive portion 2 It occurs by contacting the surface side W1 of the plurality of plate-like workpieces W. This compressive force is measured by installing a load sensor (not shown) such as a load cell on either the first substrate 10 or the transfer member 1 or by monitoring the driving torque of the first folding drive unit 4 It becomes possible.

그러나, 복수의 판상 워크(W)가 마이크로 LED 등과 같은 미소 소자인 경우에는, 점착부(2)와의 접촉 면적이 매우 작기 때문에, 점착부(2)의 압축 시에 있어서의 변형 변위나 압축력도 미소하여 매우 검출하기 어렵다.However, in the case where the plurality of plate-like workpieces W are micro-elements such as micro LEDs, etc., since the contact area with the adhesive portion 2 is very small, the deformation displacement and compressive force during compression of the adhesive portion 2 are also small. So it is very difficult to detect.

그래서, 본 발명의 실시형태에 관한 워크 전사 장치(A) 및 워크 전사 척(C)은, 전사 부재(1)의 전사면(1a)에 있어서 점착부(2)보다 외측에 반력 지지부(3)를 마련하고, 전사 부재(1)와 제1 기판(10)의 접근 이동으로 점착부(2)의 점착면(2a)이 복수의 판상 워크(W)의 표면 측(W1)에 맞닿음과 동시에, 반력 지지부(3)를 제1 기판(10)의 제1 수용면(10b)에 맞닿게 하고 있다. 이 경우에는, 반력 지지부(3)와 제1 수용면(10b)의 맞닿음 면적을, 로드 셀 등의 하중 센서나 제1 접리 구동부(4)의 구동 토크에서도 검출이 가능한 면적으로 설정할 필요가 있다.Therefore, the work transfer device (A) and the work transfer chuck (C) according to the embodiment of the present invention have a reaction force support part (3) outside the adhesive part (2) on the transfer surface (1a) of the transfer member (1). And, as the transfer member 1 and the first substrate 10 approach and move, the adhesive surface 2a of the adhesive portion 2 abuts against the surface side W1 of the plurality of plate-like workpieces W. , The reaction force support 3 is brought into contact with the first receiving surface 10b of the first substrate 10. In this case, it is necessary to set the abutting area between the reaction force support part 3 and the first receiving surface 10b to an area that can be detected by a load sensor such as a load cell or the driving torque of the first folding drive unit 4. .

즉, 제1 기판(10)의 복수의 판상 워크(W)에 대한 전사 부재(1)의 점착부(2)의 수압 면적을 확대함으로써, 단위 면적당 압축 응력이 감소되고, 동시에 반력을 발생시키기 쉬워진다.That is, by increasing the pressure receiving area of the adhesive portion 2 of the transfer member 1 with respect to the plurality of plate-like workpieces W of the first substrate 10, the compressive stress per unit area is reduced, and it is easy to generate reaction force at the same time. Lose.

이로써, 점착부(2)의 압축 시에 있어서의 변형 변위나 압축력이 정확하게 검출 가능해져, 미리 계측한 상관 관계에 근거하여 점착부(2)의 압축 시에 있어서의 변형 변위를 적정 범위로 설정할 수 있다.This makes it possible to accurately detect the deformation displacement and compressive force during compression of the adhesive portion 2, and the deformation displacement during compression of the adhesive portion 2 can be set in an appropriate range based on the previously measured correlation. have.

그리고, 전사 부재(1)의 전사면(1a)에 점착부(2)보다 외측에 반력 지지부(3)를 배치한 기능에 대하여 설명한다.Then, the function of disposing the reaction force support portion 3 outside the adhesive portion 2 on the transfer surface 1a of the transfer member 1 will be described.

·워크 수취 과정의 접근 이동 공정에 있어서, 소수의 판상 워크(W)에 대한 점착부(2)의 맞닿음 시와 같이 반력이 얻어지기 어려운 경우여도, 소수의 판상 워크(W)와 점착부(2)의 맞닿음 후에, 반력 지지부(3)를 제1 기판(10)의 제1 수용면(10b)에 맞닿게 함으로써, 명확한 반력이 발생하여, 소수의 판상 워크(W)와의 접촉 변위를 정확하게 검출 가능해진다.In the approaching and moving step of the process of receiving the workpiece, even when it is difficult to obtain a reaction force such as when the adhesive portion 2 contacts a small number of plate-shaped workpieces (W), a small number of plate-shaped workpieces (W) and the adhesive portion ( After the contact of 2), by bringing the reaction force support part 3 into contact with the first receiving surface 10b of the first substrate 10, a clear reaction force is generated, and the contact displacement with a small number of plate-like workpieces W is accurately Becomes detectable.

예를 들면 도 2(a), (b) 및 도 3(a), (b)에 나타낸 "선택 전사 방식"과 같이, 제1 기판(10)에 배열된 복수의 판상 워크(W) 중 소수의 판상 워크(W)에만, 점착부(2)의 점착면(2a)을 맞닿게 하는 경우여도, 소수의 판상 워크(W)의 표면 측(W1)에 대한 점착부(2)의 점착면(2a)의 접촉 변위를 정확하게 검출할 수 있다.For example, as in the "selective transfer method" shown in Figs. 2(a), (b) and 3(a) and (b), a small number of the plurality of plate-like workpieces W arranged on the first substrate 10 Even in the case where the adhesive surface 2a of the adhesive portion 2 is brought into contact with only the plate-like work W of the few, the adhesive surface of the adhesive portion 2 to the surface side W1 of the small number of plate-shaped workpieces W ( The contact displacement of 2a) can be accurately detected.

·워크 수취 과정의 접촉 공정에 있어서, 복수의 판상 워크(W)에 점착부(2)가 과잉되게 가압하는 경우여도, 점착부(2)에 의한 가압에 대하여 반력 지지부(3)와 제1 수용면(10b)의 맞닿음에 의한 반력을 발생시켜, 압압력에 대한 압축 저항이 될 수 있다.In the contact process during the process of receiving the workpiece, even if the adhesive portion 2 is excessively pressed against the plurality of plate-like workpieces W, the reaction force support portion 3 and the first reception against the pressure by the adhesive portion 2 By generating a reaction force due to the abutment of the surface 10b, it may become a compression resistance against the pressing pressure.

이로써, 각 판상 워크(W)에 대한 과잉된 압축력이 방지 가능해짐과 함께, 미세한 구조의 점착부(2)의 소성(塑性) 변형, 균열이나 파단이 미연에 방지 가능해진다.This makes it possible to prevent excessive compressive force with respect to each of the plate-like workpieces W, and prevent plastic deformation, cracks and fractures of the finely structured adhesive portion 2 in advance.

·워크 수취 과정의 접근 이동 공정에 있어서 도 9에 나타나는 바와 같이, 복수의 판상 워크(W)에 대하여 점착부(2)가 비평행한 상태에서 접근 이동하는 경우여도, 판상 워크(W)와 점착부(2)의 맞닿음보다 전에 반력 지지부(3)가 제1 수용면(10b)에 맞닿아 압압력을 수취함으로써, 반력이 발생하여 압압력의 이상(異常) 발생을 정확하게 검출 가능해진다.As shown in Fig. 9 in the approach movement process of the process of receiving the workpiece, even when the adhesive portion 2 moves in a non-parallel state with respect to the plurality of plate-shaped workpieces W, the plate-shaped workpiece W and the adhesive portion Before the contact of (2), the reaction force support portion 3 abuts against the first receiving surface 10b and receives the pressing force, whereby a reaction force is generated and occurrence of an abnormality in the pressing pressure can be accurately detected.

도 9에 나타나는 예에서는, 전사 부재(1)의 전사면(1a)의 바깥 가장자리를 따라 반력 지지부(3)가 액자상으로 형성되어 있다. 제1 기판(10)의 제1 수용면(10b)에 대하여 전사 부재(1)의 점착면(2a) 및 반력 지지부(3)가 경사진 상태에서 접근 이동함으로써, 최초로 반력 지지부(3)의 반력면(3a)의 바깥 가장자리(3a')가 제1 수용면(10b)에 맞닿아 있다. 이 때문에, 제1 기판(10)에 대한 전사 부재(1)의 경사를 미연에 검출할 수 있다.In the example shown in FIG. 9, the reaction force support portion 3 is formed in a frame shape along the outer edge of the transfer surface 1a of the transfer member 1. The reaction force of the reaction force support part 3 is initially moved by approaching and moving the adhesive surface 2a of the transfer member 1 and the reaction force support part 3 in an inclined state with respect to the first receiving surface 10b of the first substrate 10 The outer edge 3a' of the surface 3a abuts the first receiving surface 10b. For this reason, the inclination of the transfer member 1 with respect to the first substrate 10 can be detected beforehand.

또한, 점착부(2)의 압접에 의한 각 판상 워크(W)의 수취 시나 전달 시에 있어서, 전사 부재(1)로부터 점착부(2)의 점착면(2a) 등에 대하여 미소 진동이 전파되도록 구성하는 것도 가능하다.In addition, when receiving or transferring each plate-like workpiece W by pressure welding of the adhesive portion 2, it is configured to propagate minute vibrations from the transfer member 1 to the adhesive surface 2a of the adhesive portion 2, etc. It is also possible to do.

또한 각 판상 워크(W)의 표면 측(W1)에는, 미세한 요철이 있어, 각 판상 워크(W)가 마이크로 LED나 얇은 취성 소판 등의 미소 소자나 평판체 등이어도, 그 표면 측(W1)에는 미세한 요철이 있는 것에 변함없다. 이것과 동일하게 점착부(2)의 점착면(2a)에도 미세한 요철이 있다.In addition, there are fine irregularities on the surface side W1 of each plate-like work W, and even if each plate-like work W is a micro element such as a micro LED or a thin brittle platelet or a flat plate, the surface side W1 It is unchanged that there are fine irregularities. Similarly to this, the adhesion surface 2a of the adhesion portion 2 also has fine irregularities.

또, 점착면(2a)을 구성하는 점착 재료는, 각 판상 워크(W)의 표면 측(W1)보다 유연하여 변형하기 쉽다.In addition, the adhesive material constituting the adhesive surface 2a is more flexible than the surface side W1 of each plate-like work W and is easily deformed.

이 때문에 하기의 이유에 의하여, 제1 기판(10)에 배열된 복수의 판상 워크(W)의 표면 측(W1)에 대하여 점착부(2)의 점착면(2a)을 압접시키는 맞닿음 시(워크 수취 과정의 접촉 공정)에서는, 각 판상 워크(W)의 표면 측(W1)과 점착부(2)의 점착면(2a)이 필요 이상의 강도로 점착되고, 그 후의 전달 시(워크 전달 과정의 접촉 공정)에 있어서 박리하는 것이 곤란해진다.For this reason, for the following reasons, at the time of contact by pressing the adhesive surface 2a of the adhesive portion 2 with the surface side W1 of the plurality of plate-like workpieces W arranged on the first substrate 10 ( In the contact process of the process of receiving the workpiece), the surface side (W1) of each plate-shaped workpiece (W) and the adhesive surface (2a) of the adhesive portion (2) are adhered to a greater strength than necessary, and during subsequent delivery ( It becomes difficult to peel in a contact process).

박리 곤란한 제1 이유로서는, 외적인 압압력에 의하여 점착부(2)의 점착면(2a)의 미세한 요철이 탄성적으로 압축 변형되어, 점착면(2a)의 미세한 요철 내의 공기가 압출되어 버린다. 압압력이 해제된 후에는, 점착면(2a)의 미세한 요철이 복원(팽창) 변형하기 때문에, 각 판상 워크(W)의 표면 측(W1)의 미세한 요철과의 사이에 감압 공간이 발생하여 박리하기 어려워진다.As a first reason for difficulty in peeling, the fine irregularities of the adhesive surface 2a of the adhesive portion 2 are elastically compressed and deformed by external pressing pressure, and air in the fine irregularities of the adhesive surface 2a is extruded. After the pressing pressure is released, since the fine irregularities on the adhesive surface 2a are restored (expanded) and deformed, a decompression space is generated between the fine irregularities on the surface side W1 of each plate-like work W and peeling off. It becomes difficult to do.

박리 곤란한 제2 이유로서는, 외적인 압압력에 의하여 각 판상 워크(W)의 표면 측(W1)이, 점착부(2)의 유연한 점착면(2a)에 메워져 버린다. 이 때문에, 각 판상 워크(W)의 외주 에지부에 점착면(2a)의 점착 재료가 휘감겨 박리하기 어려워진다.As a second reason for difficulty in peeling, the surface side W1 of each plate-like work W is buried in the flexible adhesion surface 2a of the adhesion portion 2 due to external pressing pressure. For this reason, the adhesive material of the adhesive surface 2a is wound around the outer peripheral edge part of each plate-like work W, and peeling becomes difficult.

그래서, 본 발명의 실시형태에 관한 워크 전사 장치(A) 및 워크 전사 척(C)의 작동은, 대기 분위기에서 행하는 "대기 작동"도 가능하지만, 감압 분위기에서 행하는 "감압 작동"의 쪽이 바람직하다.Therefore, the operation of the work transfer device A and the work transfer chuck C according to the embodiment of the present invention can be "atmospheric operation" performed in an atmospheric atmosphere, but a "pressure reduction operation" performed in a reduced pressure atmosphere is preferable. Do.

"감압 작동"의 경우에는, 도 2나 도 3에 나타나는 바와 같이, 실내 압력이 조정 가능한 변압실(B)의 내부에 워크 전사 장치(A)를 배치하고, 제1 접리 구동부(4)에 의한 제1 기판(10)으로부터 전사 부재(1)로의 각 판상 워크(W)의 수취와, 반송 구동부(5)에 의한 각 판상 워크(W)의 반송과, 제2 접리 구동부(6)에 의한 전사 부재(1)로부터 제2 기판(20)으로의 전달을 변압실(B)의 실내에서 행하는 것이 바람직하다.In the case of "depressurization operation", as shown in Fig. 2 or 3, the work transfer device (A) is disposed inside the transformation chamber (B) in which the indoor pressure is adjustable, and the first folding drive unit (4) Receiving of each plate-like work W from the first substrate 10 to the transfer member 1, transfer of each plate-like work W by the transfer drive unit 5, and transfer by the second folding drive unit 6 It is preferable to transfer from the member 1 to the second substrate 20 in the interior of the transformer chamber B.

변압실(B)은, 챔버(도시하지 않음)의 내부에 형성되고, 변압실(B)의 실내를 대기 분위기로부터 소정 진공도의 감압 분위기로 조정하는 실압 조정 수단(도시하지 않음)을 갖고 있다.The transformation chamber B is formed inside a chamber (not shown) and has an actual pressure adjusting means (not shown) that adjusts the interior of the transformation chamber B from an atmospheric atmosphere to a reduced pressure atmosphere with a predetermined vacuum degree.

실압 조정 수단은, 진공 펌프 등의 배기원으로 이루어지고, 제어부(7)에 의하여 작동 제어된다.The actual pressure adjusting means is made of an exhaust source such as a vacuum pump, and is operated and controlled by the control unit 7.

실압 조정 수단의 제어예로서는, 각 판상 워크(W)의 수취 시에 있어서, 변압실(B) 내를 대기압보다 저압인 제1 감압 분위기로 제어하는 것이 바람직하다. 제2 기판(20)으로의 반송 시 및 전달 시에는, 대기압에서 제어하는 것이 바람직하다. 각 판상 워크(W)로부터의 점착부(2)의 박리 시에는, 제1 감압 분위기와 동일하거나 또는 그것보다 저압인 제2 감압 분위기로 제어하는 것이 바람직하다.As a control example of the actual pressure adjusting means, it is preferable to control the inside of the transformation chamber B in a first reduced pressure atmosphere that is lower than atmospheric pressure when receiving each plate-like work W. It is preferable to control at atmospheric pressure during transfer and transfer to the second substrate 20. At the time of peeling of the adhesive portion 2 from each of the plate-like work W, it is preferable to control the second decompression atmosphere equal to or lower than the first decompression atmosphere.

제1 감압 분위기나 제2 감압 분위기의 구체예로서는, 제1 감압 분위기를 약 90Kpa, 제2 감압 분위기를 약 80Kpa 등과 같이 대기압(약 101.3KPa) P0으로부터 약 10Kpa 정도씩 감압되도록 설정하는 것이 바람직하다.As a specific example of the first decompression atmosphere or the second decompression atmosphere, it is preferable to set the first decompression atmosphere to be about 90 Kpa, the second decompression atmosphere to about 80 Kpa, etc. from atmospheric pressure (about 101.3 KPa) P0 to about 10 Kpa.

이와 같은 본 발명의 실시형태에 관한 워크 전사 장치(A)와 워크 전사 척(C) 및 워크 전사 방법에 의하면, 제1 접리 구동부(4)에서 전사 부재(1)가 제1 기판(10)과 떨어진 제1 대향 위치(P1)로부터 제1 기판(10)을 향하여(Z 방향으로) 접근 이동한다.According to the work transfer device A, the work transfer chuck C, and the work transfer method according to the embodiment of the present invention, the transfer member 1 and the first substrate 10 in the first folding drive unit 4 It approaches and moves toward the first substrate 10 (in the Z direction) from the separated first opposing position P1.

이로써, 전사 부재(1)의 점착부(2)(점착면(2a))가, 복수의 판상 워크(W)(표면 측(W1))에 맞닿아, 그 후의 접근 이동에 따라 점착부(2)가 압축 변형한다. 이 압축 변형에 따라, 점착부(2)(점착면(2a))가 복수의 판상 워크(W)(표면 측(W1))에 계속 압접함으로써, 점착부(2)(점착면(2a))에 복수의 판상 워크(W)(표면 측(W1))가 점착 유지된다.Thereby, the adhesive portion 2 (adhesive surface 2a) of the transfer member 1 abuts against a plurality of plate-like workpieces W (surface side W1), and according to the subsequent approach movement, the adhesive portion 2 ) Is compressed and transformed. In accordance with this compression deformation, the adhesive portion 2 (adhesive surface 2a) is continuously press-contacted to a plurality of plate-like workpieces W (surface side W1), so that the adhesive portion 2 (adhesive surface 2a) A plurality of plate-like workpieces W (surface side W1) are adhered and held.

이 워크 점착 유지와 대략 동시에 반력 지지부(3)가 제1 기판(10)의 제1 수용면(10b)에 맞닿아, 제1 접리 구동부(4)에 의한 그 이상의 전사 부재(1) 및 제1 기판(10)의 상대적인 접근 이동이 정지된다. 이 때문에, 복수의 판상 워크(W)(표면 측(W1))에 대한 점착부(2)의 과잉된 압축 변형을 회피하여, 각 판상 워크(W)의 두께에 준한 점착력이 얻어진다.The reaction force support part 3 abuts against the first receiving surface 10b of the first substrate 10 at approximately the same time as the work adhesion is maintained, and the further transfer member 1 and the first by the first folding driving part 4 The relative approach movement of the substrate 10 is stopped. For this reason, excessive compressive deformation of the adhesive portion 2 with respect to the plurality of plate-like workpieces W (surface side W1) is avoided, and an adhesive force corresponding to the thickness of each plate-like workpiece W is obtained.

그 후에 제1 접리 구동부(4)에서 전사 부재(1)가 제1 기판(10)과 (Z 방향으로) 상대적으로 격리 이동하여, 제1 기판(10)의 제1 표면(10a)으로부터 복수의 판상 워크(W)(이면 측(W2))가 박리된다. 이 때문에, 제1 기판(10)으로부터 복수의 판상 워크(W)가 전사 부재(1)에 수취된다.Thereafter, in the first folding driving part 4, the transfer member 1 moves relatively isolated from the first substrate 10 (in the Z direction), and a plurality of transfer members 1 from the first surface 10a of the first substrate 10 The plate-like work W (back side side W2) is peeled. For this reason, a plurality of plate-like workpieces W are received by the transfer member 1 from the first substrate 10.

따라서, 제1 기판(10)으로부터 전사 부재(1)로의 복수의 판상 워크(W)의 수취 시에 있어서의, 점착부(2)의 과잉된 압압에 의한 복수의 판상 워크(W)의 무리한 변형을 방지할 수 있다.Therefore, when receiving the plurality of plate-like workpieces W from the first substrate 10 to the transfer member 1, excessive deformation of the plurality of plate-like workpieces W due to excessive pressure of the adhesive portion 2 Can be prevented.

그 결과, 각 소자의 수취 시에 있어서 점착재층의 표면만이 각 소자의 표면 측에 압착하여 점착재층의 표면을 압축 변형시키는 종래의 것에 비하여, 제1 기판(10)으로부터 복수의 판상 워크(W)를 파손시키지 않고 전사 부재(1)에 수취할 수 있다.As a result, compared to the conventional method in which only the surface of the adhesive material layer is compressed to the surface side of each element at the time of receiving each element, the surface of the adhesive material layer is compressed ) Can be received in the transfer member 1 without damage.

이 때문에, 복수의 판상 워크(W)가 마이크로 LED나 얇은 취성 소판과 같은 미소 소자여도, 워크 수취에 따른 파손의 발생률을 저하시켜 제품 수율의 향상이 도모된다.For this reason, even if the plurality of plate-like workpieces W are micro-elements such as micro LEDs or thin brittle platelets, the incidence of damage due to receipt of the workpieces is reduced, and the product yield is improved.

또한 점착부(2)와 반력 지지부(3)를 동질 재료로 일체 성형 또는 일체적으로 형성한 경우에는, 점착부(2)의 경시 열화에 의한 마모 또는 점착력이나 평면도의 저하로, 점착부(2)와 반력 지지부(3)를 동시에 교환하는 것이 가능해진다. 이로써, 점착부(2) 및 반력 지지부(3)의 보수 관리가 용이해져 편리성이 우수하다.In addition, when the adhesive portion 2 and the reaction force support portion 3 are integrally molded or integrally formed of a homogeneous material, the adhesive portion 2 may be caused by wear due to deterioration of the adhesive portion 2 or a decrease in adhesive force or flatness. ) And the reaction force support (3) can be exchanged at the same time. Thereby, the maintenance and management of the adhesive part 2 and the reaction force support part 3 become easy, and the convenience is excellent.

또, 반력 지지부(3)를 점착부(2)의 구성 재료보다 경질인 재료로 형성한 경우에는, 반력 지지부(3)를 점착부(2)와 동일한 연질인 재료로 형성한 경우에 비하여, Z 방향으로의 변형률이 작기 때문에, 반력 지지부(3)의 맞닿음 면적이 비교적 좁아도 소정의 반발력을 얻는 것이 가능해진다. 이로써, 전사 부재(1)의 전사면(1a)을 콤팩트화할 수 있어 경량화가 도모된다.In addition, when the reaction force support portion 3 is formed of a material that is harder than the constituent material of the adhesive portion 2, compared to the case where the reaction force support portion 3 is formed of the same soft material as the adhesive portion 2, Z Since the strain in the direction is small, it becomes possible to obtain a predetermined repulsive force even if the abutting area of the reaction force supporting portion 3 is relatively narrow. Thereby, the transfer surface 1a of the transfer member 1 can be made compact, and weight reduction is achieved.

이에 더하여, 전사 부재(1)와 제1 기판(10)의 접근 이동으로 점착부(2)의 점착면(2a)이 복수의 판상 워크(W)의 표면 측(W1)에 맞닿음과 동시에, 반력 지지부(3)를 제1 기판(10)의 제1 수용면(10b)에 맞닿게 한 경우에는, 점착부(2)의 압축 시에 있어서의 변형 변위나 압축력이 정확하게 검출 가능해진다. 이로써, 점착부(2)의 압축 시에 있어서의 변형 변위를 미리 계측한 상관 관계에 근거하여 적정 범위로 설정할 수 있어, 판상 워크(W)의 파손 발생률을 확실히 저하시킬 수 있다.In addition, as the transfer member 1 and the first substrate 10 approach movement, the adhesive surface 2a of the adhesive portion 2 abuts against the surface side W1 of the plurality of plate-like workpieces W, When the reaction force support portion 3 is brought into contact with the first receiving surface 10b of the first substrate 10, the deformation displacement and the compressive force at the time of compression of the adhesive portion 2 can be accurately detected. Thereby, the deformation displacement at the time of compression of the adhesive portion 2 can be set in an appropriate range based on the previously measured correlation, and the incidence of breakage of the plate-like work W can be reliably reduced.

특히, 전사 부재(1)의 점착부(2)를 제1 대향 위치(P1)부터 제2 대향 위치(P3)에 걸쳐 대향 방향(Z 방향)과 교차하는 방향(X 방향이나 Y 방향)으로 이동시키는 반송 구동부(5)와, 제2 기판(20)에 대하여 전사 부재(1)의 점착부(2)를 제2 대향 위치(P3)로부터 대향 방향(Z 방향)으로 상대적으로 접근 이동 및 격리 이동시키는 제2 접리 구동부(6)를 구비하고, 제2 기판(20)의 제2 표면(20a)이, 전사 부재(1)와 대향하여 마련되는 복수의 판상 워크(W)의 유지부(제2 유지부)(21)와, 유지부(21)보다 외측에 마련되는 제2 수용면(20b)을 가지며, 제어부(7)는, 제2 접리 구동부(6)에 의한 전사 부재(1)와 제2 기판(20)의 상대적인 접근 이동에 의하여, 점착부(2)에서 수취한 복수의 판상 워크(W)가 제2 기판(20)의 유지부(제2 유지부)(21)에 맞닿아 점착부(2)를 압축 변형함과 함께, 반력 지지부(3)가 제2 기판(20)의 제2 수용면(20b)에 맞닿아, 제2 접리 구동부(6)에 의한 전사 부재(1)와 제2 기판(20)의 상대적인 접근 이동을 정지하도록 제어되는 것이 바람직하다.In particular, the adhesive portion 2 of the transfer member 1 is moved from the first facing position (P1) to the second facing position (P3) in a direction crossing the opposite direction (Z direction) (X direction or Y direction) The transfer driving unit 5 and the adhesive unit 2 of the transfer member 1 relative to the second substrate 20 are moved from the second facing position (P3) to the opposite direction (Z direction) in a relatively approaching and isolated movement The second folding driving part 6 is provided, and the second surface 20a of the second substrate 20 faces the transfer member 1 and the holding part (the second It has a holding part) 21 and a second receiving surface 20b provided outside the holding part 21, and the control part 7 includes the transfer member 1 and the second folding driving part 6 2 Due to the relative approach movement of the substrate 20, a plurality of plate-like workpieces W received from the adhesive portion 2 abut against the holding portion (second holding portion) 21 of the second substrate 20 and adhered. While compressively deforming the part 2, the reaction force support part 3 abuts the second receiving surface 20b of the second substrate 20, and the transfer member 1 by the second folding driving part 6 It is preferable that the control is controlled to stop the relative approaching movement of the second substrate 20.

이 경우에는, 제1 기판(10)으로부터 전사 부재(1)로의 복수의 판상 워크(W)의 수취 후에, 반송 구동부(5)에서 전사 부재(1)가 제1 대향 위치(P1)로부터 제2 대향 위치(P3)를 향하여(X 방향이나 Y 방향으로) 반송된다. 이것에 계속해서 제2 접리 구동부(6)에서 전사 부재(1)가 제2 기판(20)과 떨어진 제2 대향 위치(P3)로부터 제2 기판(20)을 향하여(Z 방향으로) 접근 이동한다.In this case, after receiving the plurality of plate-like workpieces W from the first substrate 10 to the transfer member 1, the transfer member 1 is transferred from the first opposing position P1 to the second It is conveyed toward the opposite position P3 (in the X direction or Y direction). Subsequently, the transfer member 1 moves toward the second substrate 20 (in the Z direction) from the second opposite position P3 away from the second substrate 20 by the second folding driving unit 6. .

이로써, 전사 부재(1)의 복수의 점착부(2)에서 수취한 복수의 판상 워크(W)(이면 측(W2))가, 제2 기판(20)의 유지부(제2 유지부)(21)에 맞닿아, 그 후의 접근 이동에 따라 복수의 판상 워크(W)(이면 측(W2))가 제2 기판(20)의 유지부(제2 유지부)(21)에 압접함으로써, 제2 기판(20)의 유지부(제2 유지부)(21)에 복수의 판상 워크(W)(이면 측(W2))가 점착 등으로 유지(파지)된다.Thereby, the plurality of plate-like workpieces W (rear side W2) received from the plurality of adhesive portions 2 of the transfer member 1 are held in the second substrate 20 (the second holding portion) ( 21), and a plurality of plate-like workpieces W (rear side W2) in pressure contact with the holding portion (second holding portion) 21 of the second substrate 20 according to the subsequent approach movement, 2 A plurality of plate-like workpieces W (rear side W2) are held (held) by adhesion or the like on the holding portion (second holding portion) 21 of the substrate 20.

이 워크 유지와 대략 동시에 반력 지지부(3)가 제2 기판(20)의 제2 수용면(20b)에 맞닿아, 제2 접리 구동부(6)에 의한 그 이상의 전사 부재(1) 및 제2 기판(20)의 접근 이동이 정지된다. 이 때문에, 복수의 판상 워크(W)(표면 측(W1))에 대한 점착부(2)의 과잉인 압축 변형을 회피하여, 점착부(2)의 과잉된 반발력에 의하여 각 판상 워크(W)(이면 측(W2))가 제2 기판(20)의 유지부(제2 유지부)(21)를 향하여 과잉되게 압압되지 않는다.At approximately the same time as the workpiece is held, the reaction force support portion 3 abuts the second receiving surface 20b of the second substrate 20, and further transfer members 1 and the second substrate by the second folding driving portion 6 The approach movement of (20) is stopped. For this reason, the excessive compressive deformation of the adhesive portion 2 with respect to the plurality of plate-shaped workpieces W (surface side W1) is avoided, and each plate-shaped workpiece W due to the excessive repulsive force of the adhesive portion 2 The (rear side W2) is not excessively pressed toward the holding portion (second holding portion) 21 of the second substrate 20.

그 후에 제2 접리 구동부(6)에서 전사 부재(1)가 제2 기판(20)과 (Z 방향으로) 상대적으로 격리 이동하여, 복수의 판상 워크(W)(표면 측(W1))로부터 전사 부재(1)의 점착부(2)(점착면(2a))가 박리된다. 이 때문에, 전사 부재(1)로부터 복수의 판상 워크(W)가 제2 기판(20)에 전달된다.After that, the transfer member 1 moves relatively isolated from the second substrate 20 (in the Z direction) in the second folding drive 6, and transfers from a plurality of plate-like workpieces W (surface side W1). The adhesive portion 2 (adhesive surface 2a) of the member 1 is peeled off. For this reason, a plurality of plate-like workpieces W are transferred from the transfer member 1 to the second substrate 20.

따라서, 전사 부재(1)로부터 제2 기판(20)으로의 복수의 판상 워크(W)의 전달 시에 있어서의, 점착부(2)의 과잉된 가압에 의한 복수의 판상 워크(W)의 무리한 변형을 방지할 수 있다.Therefore, at the time of transfer of the plurality of plate-like workpieces W from the transfer member 1 to the second substrate 20, the plurality of plate-like workpieces W due to excessive pressure of the adhesive portion 2 are unreasonable. It can prevent deformation.

그 결과, 각 소자의 전달 시에 있어서 점착재층의 표면만이 각 소자의 표면 측에 압착하여 점착재층의 표면을 압축 변형시키는 종래의 것에 비하여, 전사 부재(1)로부터 복수의 판상 워크(W)를 파손시키지 않고 제2 기판(20)에 전달할 수 있다.As a result, compared to the conventional one in which only the surface of the adhesive material layer is compressed to the surface side of each element at the time of transfer of each element, the surface of the adhesive material layer is compressed and deformed, a plurality of plate-like workpieces (W) from the transfer member 1 Can be transferred to the second substrate 20 without damage.

이 때문에, 복수의 판상 워크(W)가 마이크로 LED나 얇은 취성 소판과 같은 미소 소자여도, 워크 전달에 따른 파손의 발생률을 저하시켜 제품 수율의 향상이 도모된다.For this reason, even if the plurality of plate-like workpieces W are micro-elements such as micro LEDs or thin brittle platelets, the incidence of breakage due to the transfer of the workpieces is reduced, and the product yield is improved.

또한 전사 부재(1)의 반력 지지부(3)가, 제1 기판(10)의 제1 수용면(10b) 또는 제2 기판(20)의 제2 수용면(20b)과 평행하게 대향하는 반력면(3a)을 갖고, 반력면(3a)을 점착부(2)의 점착면(2a)과 평행하도록 또한 점착부(2)의 배치 부위를 둘러싸도록 배치하는 것이 바람직하다.In addition, the reaction force support portion 3 of the transfer member 1 faces parallel to the first receiving surface 10b of the first substrate 10 or the second receiving surface 20b of the second substrate 20. It has (3a), and it is preferable to arrange|position so that the reaction force surface 3a may be parallel with the adhesion surface 2a of the adhesion part 2, and may surround the placement part of the adhesion part 2.

이 경우에는, 전사 부재(1) 및 제1 기판(10)의 상대적인 접근 이동으로, 제1 기판(10)의 제1 수용면(10b)이나 제2 기판(20)의 제2 수용면(20b)에 반력 지지부(3)의 반력면(3a)을 맞닿게 함으로써, 반력 지지부(3)를 통하여 전사 부재(1)가 제1 수용면(10b)이나 제2 수용면(20b)을 따라 전체적으로 자세 제어된다.In this case, the first receiving surface 10b of the first substrate 10 or the second receiving surface 20b of the second substrate 20 due to the relative approach movement of the transfer member 1 and the first substrate 10 ) By contacting the reaction force surface (3a) of the reaction force support unit (3), the transfer member (1) through the reaction force support unit (3) is generally posture along the first receiving surface (10b) or the second receiving surface (20b) Is controlled.

이 때문에, 반력면(3a)과 평행한 점착부(2)의 점착면(2a)이 복수의 판상 워크(W)(표면 측(W1))와 평행하게 맞닿아 압접한다.For this reason, the adhesive surface 2a of the adhesive portion 2 parallel to the reaction force surface 3a abuts in parallel with the plurality of plate-like workpieces W (surface side W1) and press-contacts.

따라서, 복수의 판상 워크(W)의 수취 시나 전달 시에 있어서의, 점착부(2)의 과잉된 편압에 의한 복수의 판상 워크(W)의 무리한 변형을 방지할 수 있다.Accordingly, it is possible to prevent the plurality of plate-like workpieces W from being unreasonably deformed due to excessive biasing of the adhesive portion 2 at the time of receiving or transferring the plurality of plate-like workpieces W.

그 결과, 사이즈 오차가 크고 고정밀도의 가공이 곤란한 탄성 재료로 점착부(2)를 작성하는 경우나, 제1 기판(10)에 배열한 복수의 판상 워크(W)에 대한 전사 부재(1)의 조립 정밀도가 뒤떨어지는 경우여도, 점착부(2)에 의하여 복수의 판상 워크(W)를 평행하게 압압할 수 있다.As a result, when the adhesive portion 2 is made of an elastic material that has a large size error and is difficult to process with high precision, or a transfer member 1 for a plurality of plate-like workpieces W arranged on the first substrate 10 Even when the assembly accuracy of is inferior, a plurality of plate-like workpieces W can be pressed in parallel by the adhesive portion 2.

이 때문에, 워크 수취나 워크 전달에 따르는 파손의 발생률을 확실히 저하시켜 제품 수율의 가일층의 향상이 도모된다. 파손의 발생률을 저하시키면서 수취를 확실히 행할 수 있어, 제품 수율의 향상이 도모된다.For this reason, the incidence of breakage due to the receipt of the work or transfer of the work is reliably reduced, and the product yield is further improved. Receiving can be reliably performed while reducing the incidence of damage, and the product yield is improved.

이에 더하여 반력면(3a)이 점착부(2)의 배치 부위를 둘러싸도록 배치되기 때문에, 전사 부재(1) 및 제1 기판(10)의 상대적인 접근 이동으로, 반력 지지부(3)의 반력면(3a)이 제1 기판(10)의 제1 수용면(10b)이나 제2 기판(20)의 제2 수용면(20b)에 맞닿으면, 반력면(3a)으로 둘러싸인 점착부(2)의 배치 부위(내측 부위)가 기밀 상태로 된다. 이 기밀 상태에서는, 점착부(2)의 압축 변형에 의하여, 반력면(3a)으로 둘러싸인 내측 부위의 내압이 과잉되게 상승할 우려가 있다.In addition, since the reaction force surface 3a is disposed so as to surround the placement portion of the adhesive portion 2, a relative approach movement of the transfer member 1 and the first substrate 10 results in a reaction force surface of the reaction force support unit 3 ( When 3a) contacts the first receiving surface 10b of the first substrate 10 or the second receiving surface 20b of the second substrate 20, the adhesive portion 2 surrounded by the reaction force surface 3a The placement part (inner part) becomes airtight. In this airtight state, there is a possibility that the internal pressure of the inner portion surrounded by the reaction force surface 3a may increase excessively due to compression deformation of the adhesive portion 2.

그래서, 반력 지지부(3)의 일부에 점착부(2)의 배치 부위의 내외로 연통하는 통기부(3b)를 갖는 것이 바람직하다. 이 경우에는, 반력면(3a)으로 둘러싸인 점착부(2)의 배치 부위(내측 부위)의 내압이 상승해도, 통기부(3b)를 통과하여 외측 부위로 빠져나가, 과잉된 내압 상승을 방지할 수 있다.Therefore, it is preferable to have a vent portion 3b communicating in and out of a portion where the adhesive portion 2 is placed in a part of the reaction force support portion 3. In this case, even if the internal pressure of the placement portion (inner portion) of the adhesive portion 2 surrounded by the reaction force surface 3a increases, it passes through the ventilation portion 3b and escapes to the outer portion, thereby preventing excessive internal pressure increase. I can.

또, 전사 부재(1) 및 점착부(2)나 제1 기판(10) 또는 제2 기판(20)이 변압실(B)의 내부에 배치되고, 변압실(B)은, 제어부(7)에서 작동 제어되는 실압 조정 수단을 가지며, 제어부(7)는, 실압 조정 수단에 의하여 변압실(B)을, 점착부(2)에 의한 복수의 판상 워크(W)의 수취 시에 대기압보다 저압인 제1 감압 분위기로 제어하고, 제2 접리 구동부(6)에 의한 제2 기판(20)으로의 전달 시에 대기압으로 되돌려, 제2 접리 구동부(6)에 의한 복수의 판상 워크(W)로부터의 점착부(2)의 박리 시에 제1 감압 분위기와 동일하거나 또는 그것보다 저압인 제2 감압 분위기로 제어하는 것이 바람직하다.In addition, the transfer member 1 and the adhesive portion 2 or the first substrate 10 or the second substrate 20 are disposed inside the transformation chamber B, and the transformation chamber B is a control unit 7 It has an actual pressure adjustment means that is operated and controlled at, and the control unit 7 has a pressure control chamber (B) that is lower than atmospheric pressure when receiving a plurality of plate-like workpieces (W) by the adhesive unit (2) by the actual pressure adjustment means. Controlled by the first reduced pressure atmosphere, and returned to atmospheric pressure at the time of transfer to the second substrate 20 by the second folding driving unit 6, and from the plurality of plate-like workpieces W by the second folding driving unit 6 At the time of peeling of the adhesive portion 2, it is preferable to control the pressure to a second pressure reducing atmosphere equal to or lower than that of the first pressure reducing atmosphere.

이 경우에는, 압압력에 의하여 복수의 판상 워크(W)의 표면 측(W1)이나 점착부(2)의 점착면(2a)의 미세한 요철이 탄성적으로 압축 변형하거나, 압압력에 의하여 복수의 판상 워크(W)의 표면 측(W1)이, 유연한 점착부(2)의 점착면(2a)에 메워져 각 판상 워크(W)의 외주 에지부에 점착부(2)의 점착 재료가 휘감기거나 해도, 그 후에 박리 곤란해지지 않는다.In this case, fine irregularities on the surface side (W1) of the plurality of plate-like workpieces (W) or the adhesive surface (2a) of the adhesive portion (2) are elastically compressed and deformed by the pressing pressure, or Even if the surface side (W1) of the plate-like work (W) is filled with the adhesion surface (2a) of the flexible adhesion part (2), and the adhesive material of the adhesion part (2) is wound around the outer peripheral edge of each plate-like work (W). Then, peeling does not become difficult.

따라서, 변압실(B)의 내압 제어로 복수의 판상 워크(W)의 점착과 박리를 보다 확실히 행할 수 있다.Therefore, adhesion and peeling of a plurality of plate-like workpieces W can be performed more reliably by controlling the internal pressure of the transformer chamber B.

그 결과, 제1 기판(10)으로부터 복수의 판상 워크(W)를 확실히 수취하여 제2 기판(20)의 소정 위치에 확실히 전달할 수 있어, 가일층의 전달 정밀도의 향상을 도모할 수 있다.As a result, the plurality of plate-like workpieces W can be reliably received from the first substrate 10 and transferred to a predetermined position on the second substrate 20, thereby further improving the transfer accuracy.

또한, 전시의 실시형태에 있어서 도시예에서는, 제1 기판(10)이 직사각형의 제1 표면(10a)을 갖는 캐리어 기판으로 구성되는 경우를 설명했지만, 이것에 한정되지 않고, 제1 기판(10)을 소자 형성용 웨이퍼 등으로 변경해도 된다.In addition, in the embodiment of the exhibition, in the illustrated example, the case where the first substrate 10 is composed of a carrier substrate having a rectangular first surface 10a has been described, but is not limited thereto, and the first substrate 10 ) May be changed to an element formation wafer or the like.

또한 제2 기판(20)이 직사각형의 제2 표면(20a)을 갖는 캐리어 기판으로 구성되는 경우를 설명했지만, 이것에 한정되지 않고, 제2 기판(20)을 실장 기판(배선용 기판)이나 회로 기판 등으로 변경해도 된다.In addition, although the case where the second substrate 20 is composed of a carrier substrate having a rectangular second surface 20a is described, it is not limited to this, and the second substrate 20 is mounted on a mounting substrate (a wiring substrate) or a circuit board. You may change it to etc.

이들의 경우에 있어서도, 상술한 제1 실시형태 및 제2 실시형태와 동일한 작용이나 이점이 얻어진다.Also in these cases, the same actions and advantages as those of the first and second embodiments described above are obtained.

A 워크 전사 장치
C 워크 전사 척
1 전사 부재
1a 전사면
2 점착부
2a 점착면
3 반력 지지부
3a 반력면
4 제1 접리 구동부
5 반송 구동부
6 제2 접리 구동부
7 제어부
10 제1 기판
10a 제1 표면
10b 제1 수용면
20 제2 기판
20a 제2 표면
20b 제2 수용면
21 유지부(제2 유지부)
P1 제1 대향 위치
P2 수취 위치
P3 제2 대향 위치
P4 전달 위치
W 판상 워크
A work transfer device
C work transfer chuck
1 transfer member
1a transfer surface
2 Adhesive part
2a adhesive side
3 reaction support
3a reaction surface
4 first folding driving part
5 Transfer drive
6 second folding driving part
7 control unit
10 first substrate
10a first surface
10b first receiving surface
20 second substrate
20a second surface
20b second receiving surface
21 maintenance part (2nd maintenance part)
P1 first opposing position
P2 receiving location
P3 second facing position
P4 delivery position
W plate work

Claims (5)

제1 기판에 배열한 미소 소자가 포함되는 복수의 판상 워크를, 상기 제1 기판으로부터 수취하여, 전사처인 제2 기판의 소정 위치에 전달하는 워크 전사 장치로서,
상기 제1 기판과 대향하는 제1 대향 위치부터 상기 제2 기판과 대향하는 제2 대향 위치에 걸쳐 이동 가능하게 마련되는 전사 부재와,
상기 제1 기판에 배열한 상기 복수의 판상 워크와 대향하는 상기 전사 부재의 전사면에 마련되어, 상기 복수의 판상 워크와의 대향 방향으로 탄성 변형 가능한 점착면을 갖는 점착부와,
상기 전사 부재의 상기 전사면에 있어서 상기 점착부보다 외측에, 상기 제1 기판의 제1 표면에 있어서 상기 복수의 판상 워크보다 외측의 제1 수용면을 향하여 돌출상으로 마련되어, 상기 점착면보다 경질인 반력면을 갖는 반력 지지부와,
상기 제1 기판에 대하여 상기 전사 부재의 상기 점착부를 상기 제1 대향 위치로부터 상기 대향 방향으로 상대적으로 접근 이동 및 격리 이동시키는 제1 접리 구동부와,
상기 제1 접리 구동부를 작동 제어하는 제어부를 구비하고,
상기 점착면의 점착력은, 상기 제1 기판의 제1 유지부가 갖는 각 판상 워크의 유지력보다 강하며, 또한 상기 제2 기판의 제2 유지부가 갖는 상기 각 판상 워크의 유지력보다 약하게 설정되고,
상기 제어부는, 상기 제1 접리 구동부에 의한 상기 전사 부재와 상기 제1 기판과의 상대적인 접근 이동에 의하여, 상기 점착면이 상기 복수의 판상 워크에 맞닿아 압축 변형함과 함께, 상기 복수의 판상 워크를 점착 유지하며, 상기 점착면의 압축 변형에 따라 상기 반력면이 상기 제1 기판의 상기 제1 수용면에 맞닿아, 상기 제1 접리 구동부에 의한 상기 전사 부재와 상기 제1 기판과의 상대적인 접근 이동을 정지하도록 제어되는 것을 특징으로 하는 워크 전사 장치.
A work transfer device for receiving a plurality of plate-like workpieces including microelements arranged on a first substrate from the first substrate and transferring them to a predetermined position on a second substrate as a transfer destination,
A transfer member provided to be movable from a first facing position facing the first substrate to a second facing position facing the second substrate;
An adhesive portion provided on a transfer surface of the transfer member facing the plurality of plate-like workpieces arranged on the first substrate and having an adhesive surface elastically deformable in a direction opposite to the plurality of plate-like workpieces;
It is provided in a protruding shape toward a first receiving surface outside the plurality of plate-like workpieces on the first surface of the first substrate on the transfer surface of the transfer member outside the adhesive portion, and is harder than the adhesive surface A reaction force support having a reaction force surface,
A first folding driving part for relatively approaching and separating the adhesive part of the transfer member with respect to the first substrate in the opposite direction from the first opposite position;
And a control unit for operating and controlling the first folding driving unit,
The adhesive force of the adhesive surface is stronger than the holding force of each plate-like workpiece of the first holding portion of the first substrate, and is set weaker than the holding force of the plate-shaped workpieces of the second holding portion of the second substrate,
The control unit is configured to compress and deform the adhesive surface against the plurality of plate-like workpieces by a relative approach movement between the transfer member and the first substrate by the first folding driving unit, and the plurality of plate-like workpieces And maintaining the adhesion, the reaction force surface abuts the first receiving surface of the first substrate according to the compression deformation of the adhesive surface, the relative access between the transfer member and the first substrate by the first folding driving unit A work transfer device, characterized in that it is controlled to stop the movement.
청구항 1에 있어서,
상기 전사 부재의 상기 점착부를 상기 제1 대향 위치부터 상기 제2 대향 위치에 걸쳐 상기 대향 방향과 교차하는 방향으로 이동시키는 반송 구동부와,
상기 제2 기판에 대하여 상기 전사 부재의 상기 점착부를 상기 제2 대향 위치로부터 상기 대향 방향으로 상대적으로 접근 이동 및 격리 이동시키는 제2 접리 구동부를 구비하고,
상기 제2 기판의 제2 표면이, 상기 전사 부재와 대향하여 마련되는 상기 복수의 판상 워크의 제2 유지부와, 상기 제2 유지부보다 외측에 마련되는 제2 수용면을 가지며,
상기 제어부는, 상기 제2 접리 구동부에 의한 상기 전사 부재와 상기 제2 기판의 상대적인 접근 이동에 의하여, 상기 점착면에서 수취한 상기 복수의 판상 워크가 상기 제2 기판의 상기 제2 유지부에 맞닿아 상기 점착면을 압축 변형함과 함께, 상기 복수의 판상 워크가 상기 제2 유지부로 유지되고, 상기 점착면의 압축 변형에 따라 상기 반력면이 상기 제2 기판의 상기 제2 수용면에 맞닿아, 상기 제2 접리 구동부에 의한 상기 전사 부재와 상기 제2 기판의 상대적인 접근 이동을 정지하도록 제어되는 것을 특징으로 하는 워크 전사 장치.
The method according to claim 1,
A conveyance driving part for moving the adhesive part of the transfer member from the first opposite position to the second opposite position in a direction crossing the opposite direction,
And a second folding driving part for relatively approaching and separating the adhesive part of the transfer member with respect to the second substrate in the opposite direction from the second opposite position,
The second surface of the second substrate has a second holding portion of the plurality of plate-like workpieces provided to face the transfer member, and a second receiving surface provided outside the second holding portion,
The control unit, by the relative approach movement of the transfer member and the second substrate by the second folding driving unit, the plurality of plate-like workpieces received from the adhesive surface fit into the second holding unit of the second substrate. And compressively deform the adhesive surface, and the plurality of plate-like workpieces are held by the second holding portion, and the reaction force surface abuts against the second receiving surface of the second substrate according to the compression deformation of the adhesive surface. And control to stop a relative approach movement between the transfer member and the second substrate by the second folding driving unit.
청구항 2에 있어서,
상기 반력면이, 상기 제1 기판의 상기 제1 수용면 또는 상기 제2 기판의 상기 제2 수용면과 평행하게 대향하고, 상기 점착부의 점착면과 평행하도록 또한 상기 점착부의 배치 부위를 둘러싸도록 배치되는 것을 특징으로 하는 워크 전사 장치.
The method according to claim 2,
Arranged so that the reaction force surface faces parallel to the first receiving surface of the first substrate or the second receiving surface of the second substrate, parallel to the adhesive surface of the adhesive portion, and surrounds the placement portion of the adhesive portion Work transfer device, characterized in that.
제1 기판에 배열한 미소 소자가 포함되는 복수의 판상 워크를, 상기 제1 기판으로부터 수취하여, 전사처인 제2 기판의 소정 위치에 전달하는 워크 전사 척으로서,
상기 제1 기판과 대향하는 제1 대향 위치로부터 상기 복수의 판상 워크의 수취 위치를 향하여 상대적으로 접근 이동함과 함께, 상기 수취 위치로부터 상기 제2 기판에 대한 상기 복수의 판상 워크의 전달 위치를 향하여 이동 가능하게 마련되는 전사 부재와,
상기 제1 기판에 배열한 상기 복수의 판상 워크와 대향하는 상기 전사 부재의 전사면에 마련되어, 상기 복수의 판상 워크와의 대향 방향으로 탄성 변형 가능한 점착면을 갖는 점착부와,
상기 전사 부재의 상기 전사면에 있어서 상기 점착부보다 외측에, 상기 제1 기판의 제1 표면에 있어서 상기 복수의 판상 워크보다 외측의 제1 수용면을 향하여 돌출상으로 마련되어, 상기 점착면보다 경질인 반력면을 갖는 반력 지지부를 구비하고,
상기 점착면의 점착력은, 상기 제1 기판의 제1 유지부가 갖는 각 판상 워크의 유지력보다 강하며, 또한 상기 제2 기판의 제2 유지부가 갖는 상기 각 판상 워크의 유지력보다 약하게 설정되고,
상기 점착면은, 상기 제1 대향 위치로부터 상기 수취 위치를 향하는 상기 제1 기판에 대한 상기 전사 부재의 상대적인 접근 이동에 의하여, 상기 복수의 판상 워크에 맞닿아 압축 변형함과 함께, 상기 복수의 판상 워크를 점착 유지하며,
상기 반력면은, 상기 수취 위치에 있어서의 상기 점착면의 압축 변형에 따라, 상기 제1 기판의 상기 제1 수용면과 맞닿아,
상기 전사 부재는, 상기 제1 수용면에 대한 상기 반력면의 맞닿음에 의하여, 상기 제1 기판에 대한 상대적인 접근 이동이 정지되는 것을 특징으로 하는 워크 전사 척.
A work transfer chuck for receiving a plurality of plate-like workpieces including microelements arranged on a first substrate from the first substrate and transferring them to a predetermined position on a second substrate as a transfer destination,
From the first opposing position facing the first substrate toward the receiving position of the plurality of plate-like workpieces, while relatively approaching and moving from the receiving position toward the transfer position of the plurality of plate-shaped workpieces to the second substrate A transfer member provided to be movable,
An adhesive portion provided on a transfer surface of the transfer member facing the plurality of plate-like workpieces arranged on the first substrate and having an adhesive surface elastically deformable in a direction opposite to the plurality of plate-like workpieces;
It is provided in a protruding shape toward a first receiving surface outside the plurality of plate-like workpieces on the first surface of the first substrate on the transfer surface of the transfer member outside the adhesive portion, and is harder than the adhesive surface It has a reaction force support having a reaction force surface,
The adhesive force of the adhesive surface is stronger than the holding force of each plate-like workpiece of the first holding portion of the first substrate, and is set weaker than the holding force of the plate-shaped workpieces of the second holding portion of the second substrate,
The adhesive surface is in contact with the plurality of plate-like workpieces and compressively deformed by a relative approach movement of the transfer member with respect to the first substrate from the first opposing position toward the receiving position, and the plurality of plate-shaped Keeps the work sticky,
The reaction force surface is in contact with the first receiving surface of the first substrate according to the compressive deformation of the adhesive surface at the receiving position,
The transfer member is a work transfer chuck, characterized in that the relative approach movement to the first substrate is stopped by the contact of the reaction force surface with respect to the first receiving surface.
제1 기판에 배열한 미소 소자가 포함되는 복수의 판상 워크를, 상기 제1 기판으로부터 수취하여 제2 기판의 소정 위치에 전달하는 워크 전사 방법으로서,
전사 부재의 전사면에 마련되는 점착부를, 상기 제1 기판에 배열된 상기 복수의 판상 워크와 대향시킴과 함께, 상기 전사 부재의 상기 전사면에 있어서 상기 점착부보다 외측의 반력 지지부가, 상기 제1 기판의 제1 표면에 있어서 상기 복수의 판상 워크보다 외측의 제1 수용면과 대향한 상태에서, 상기 전사 부재를 상기 제1 기판을 향하여 상대적으로 접근 이동시키는 접근 이동 공정과,
상대적으로 접근 이동한 상기 전사면의 상기 점착부에 있어서 상기 복수의 판상 워크와의 대향 방향으로 탄성 변형 가능한 점착면을, 상기 복수의 판상 워크에 맞닿게 함과 함께, 상기 전사 부재의 상기 반력 지지부에 있어서 상기 점착면보다 경질인 반력면을, 상기 제1 기판의 상기 제1 수용면에 맞닿게 하는 접촉 공정과,
상기 전사 부재를 상기 제1 기판으로부터 격리 이동시키는 이동 공정을 포함하고,
상기 점착면의 점착력은, 상기 제1 기판의 제1 유지부가 갖는 각 판상 워크의 유지력보다 강하며, 또한 상기 제2 기판의 제2 유지부가 갖는 상기 각 판상 워크의 유지력보다 약하게 설정되고,
상기 접촉 공정에서는, 상기 복수의 판상 워크와의 맞닿음에 의하여 상기 점착면이 압축 변형되어, 상기 복수의 판상 워크를 점착 유지함과 함께, 상기 점착면의 압축 변형에 따른 상기 제1 기판의 상기 제1 수용면에 대한 상기 반력면의 맞닿음에 의하여, 상기 전사 부재의 그 이상의 상기 제1 기판으로의 접근 이동을 정지시키는 것을 특징으로 하는 워크 전사 방법.
A work transfer method for receiving a plurality of plate-like workpieces including microelements arranged on a first substrate from the first substrate and transferring them to a predetermined position on a second substrate,
The adhesive portion provided on the transfer surface of the transfer member faces the plurality of plate-like workpieces arranged on the first substrate, and a reaction force support portion outside the adhesive portion on the transfer surface of the transfer member is provided. 1 An approach movement step of relatively approaching and moving the transfer member toward the first substrate while facing a first receiving surface outside the plurality of plate-like workpieces on the first surface of the substrate,
The reaction force support part of the transfer member while bringing an adhesive surface elastically deformable in a direction opposite to the plurality of plate-like workpieces in the adhesive portion of the transfer surface that has been relatively approached and moved to abut against the plurality of plate-like workpieces. A contact step of bringing a reaction force surface harder than the adhesive surface into contact with the first receiving surface of the first substrate,
A moving step of moving the transfer member to be isolated from the first substrate,
The adhesive force of the adhesive surface is stronger than the holding force of each plate-like workpiece of the first holding portion of the first substrate, and is set weaker than the holding force of the plate-shaped workpieces of the second holding portion of the second substrate,
In the contacting step, the adhesive surface is compressed and deformed by contact with the plurality of plate-shaped workpieces, and the first substrate of the first substrate according to the compressive deformation of the adhesive surface while maintaining the adhesiveness of the plurality of plate-shaped workpieces. 1 A method of transferring a work, characterized in that by abutting the reaction force surface to the receiving surface, further movement of the transfer member to the first substrate is stopped.
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