KR20200133334A - 셀프 클리닝 이온 발생기 장치 - Google Patents

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Abstract

셀프 클리닝 이온 발생기 장치는 외부 가장자리로 뻗은 베이스 부분과, 상기 외부 가장자리로부터 상향으로 뻗고 코너에서 교차하여 내부에 공동(空洞)을 형성하는 첫번째 쌍의 대향 측벽과 두번째 쌍의 대향 측벽을 갖는 제1 부분을 포함한다. 제2 부분은, 상기 제1 부분에 선택적으로 고정되어 하우징을 형성하고, 외부 가장자리로 뻗은 베이스 부분, 상기 하우징으로부터 연장되는 이온방출장치, 그리고 상기 이온방출장치를 클리닝하기 위한 적어도 하나의 클리닝 장치를 포함한다.

Description

셀프 클리닝 이온 발생기 장치
본 발명은 일반적으로 공기처리에 관한 것으로서, 보다 구체적으로는 얇은 형상과, 전극 및 클리닝 어셈블리를 둘러싸는 보호 그라트(grate)를 갖는 도관 또는 덕트로부터 장치를 제거할 필요없이, 이온화 장치의 방출 부분의 클리닝을 위한 셀프 클리닝기구를 갖는 공기이용 이온화의 처리에 관한 것이다.
본 특허출원/특허는 "셀프 클리닝 이온 발생기 장치"의 명칭으로 2018. 2. 12.에 출원된 동시계류중인 미합중국 임시 특허출원 제62/629,295호의 우선권이 이익을 주장하고 내용은 여기에 전체적으로 참조로 포함되어 있다.
공기 및 기타 유체들은 일반적으로 다양한 용도를 위하여 처리되고 전달된다. 예를 들어, 난방, 환기 및 공조 (HVAC) 응용 분야에서 공기는 주거, 상업 또는 기타 공간으로 전달하기 위해 가열, 냉각, 가습, 제습, 여과 또는 기타 처리되어 진다.
이와 같은 응용 및 다른 응용분야를 위해 공기를 처리하고 전달하는 개선된 시스템 및 방법에 대한 요구가 존재한다. 본 발명이 주로 지향하는 것은 이러한 요구들을 충족시키는 개선된 시스템 및 방법의 제공이다.
본 발명의 한 실시예에 따르면, 셀프 클리닝 이온 발생기 장치는 외부 가장자리로 뻗은 베이스 부분과, 상기 외부 가장자리로부터 상향으로 뻗고 코너에서 교차하여 내부에 공동(空洞)을 형성하는 첫번째 쌍의 대향 측벽과 두번째 쌍의 대향 측벽을 갖는 제1 부분을 포함한다. 제2 부분은, 상기 제1 부분에 선택적으로 고정되어 하우징을 형성하고, 외부 가장자리로 뻗은 베이스 부분, 상기 하우징으로부터 연장되는 이온방출장치, 그리고 상기 이온방출장치를 클리닝하기 위한 적어도 하나의 클리닝 장치를 포함한다.
본 발명의 다른 실시예에 따르면, 셀프 클리닝 이온 발생기 장치는, 적어도 하나의 이온방출장치와 적어도 하나의 클리닝 장치를 둘러싸는 그라트를 포함한다.
본 발명의 또 다른 실시예에 따르면, 적어도 하나의 클리닝 장치가 상기 공동내에 수용된 모터에 의해 구동된다.
본 발명의 또 다른 실시예에 따르면, 적어도 하나의 이온방출장치를 포함하는 셀프 클리닝 이온 발생기 장치는 상부 부분과 하부 부분을 갖으며, 상기 상부 부분은 하우징 위로 연장되고 상기 하부 부분은 하우징의 공동내에 위치한다.
본 발명의 또 다른 실시예에 따르면, 셀프 클리닝 이온 발생기 장치는 서로 이격되어 있고 하우징으로부터 연장되는 적어도 2개의 방출 부분을 포함한다.
본 발명의 또 다른 실시예에 따르면, 셀프 클리닝 이온 발생기 장치는 상기 적어도 하나의 이온방출소자를 클리닝하기 위해 적어도 하나의 클리닝 장치상에 배치 된 적어도 하나의 클리닝 헤드를 포함한다.
본 발명의 또 다른 실시예에 따르면, 적어도 하나의 이온바출장치를 포함하는 상기 셀프 클리닝 이온 발생기 장치는 다수의 빗살을 갖는 이온방출장치를 포함한다.
본 발명은 다양한 도면을 참조하여 도시되고 설명되어 있는데, 여기서 유사한 참조 번호는 각각 유사한 방법 단계들 및/또는 시스템 구성 요소를 지칭한다.
도 1은 셀프 클리닝 이온 발생기 장치의 사시도;
도 2는 셀프 클리닝 이온 발생기 장치의 내부도;
도 3은 셀프 클리닝 이온 발생기 장치의 다른 사시도;
도 4는 셀프 클리닝 이온 발생기 장치의 다른 내부도;
도 5는 셀프 클리닝 이온 발생기 장치의 또 다른 사시도;
도 6은 셀프 클리닝 이온 발생기 장치의 또 다른 사시도;
도 7은 셀프 클리닝 이온 발생기 장치의 또 다른 내부도; 그리고
도 8은 셀프 클리닝 이온 발생기 장치의 분해도이다.
본 발명은, 본 명세서의 일부를 형성하는 첨부 도면과 관련하여 작성된 본 발명의 상세한 설명을 참조하여 더욱 용이하게 이해 될 수 있다. 본 발명은 본 명세서에 설명 및/또는 도시된 특정 장치, 방법, 조건 또는 매개 변수에 제한되지 않으며, 본 명세서에서 사용된 용어는 단지 예로서 특정 실시예를 설명하기 위한 것이며 특허청구된 발명을 제한하도록 의도된 것이 아님을 이해하여야 할 것이다. 본 명세서에 기재된 특허 및 기타 간행물은 여기에 잘 설명된 바와 같이 참조물로서 통합된다.
또한, 첨부된 청구 범위를 포함하여 본 명세서에서 사용된, 단수 형태의 "한(a)", "하나(an)", "그(the)"는 복수를 포함하며, 특정 수치는 문맥에서 명확하게 다르게 기재하지 않는 한, 적어도 그 특정 수치를 포함한다. 범위는 "약" 또는 "대략" 하나의 특정 값으로부터 및/또는 "약" 또는 "대략" 다른 특정 값 까지로 표현될 수 있다. 그러한 범위가 표현 될 때, 다른 실시예는 하나의 특정 값으로부터 및/또는 다른 특정 값까지 포함한다. 유사하게, 값이, 선행의 "약(about)"을 사용하여 근사치로서 표현 될 때, 특정 값은 다른 실시 예를 형성함을 이해할 것이다.
구체적으로 도면을 참조하여, 셀프 클리닝 이온 발생기 장치는 도 1, 2, 3, 5, 6에 도시되어 있으며, 참조 부호 10로 전반적으로 표시되어 있다. 장치(10)은 제1 부분(14) 및 제2 부분(16)을 갖는 하우징(12)을 포함한다. 제1 부분(14)은 직사각형이며, 선택적으로 직사각형인 제2 부분(16)에 고정된다. 제1 부분(14)은 외부 가장자리로 뻗은 베이스 부분(18)과, 상기 외부 가장자리로부터 상향으로 뻗은 첫번째 쌍의 대향측벽(20)과 두번째 쌍의 대향측벽(22)을 포함한다. 상기 첫번째 쌍의 대향측벽(20) 및 두번째 쌍의 대향측벽(22)은 코너에서 교차하여 내부에 공동(空洞)(24)을 형성한다.
제2 부분(16)은 외측 가장자리로 뻗은 베이스 부분(26)을 갖는다. 립(lip) (28)은 베이스 부분(26)로부터 위쪽으로 뻗으며, 베이스 부분(26)의 주연부 둘레에형성되어 있다. 립(28)은 베이스 부분(26)의 외연으로부터 소정 거리 오프셋된다. 다시 말하면, 립(28)은 베이스 부분(26)로부터 위쪽으로 뻗어 있으나 베이스 부분 (26)의 외연에 결합하지 않고 일정거리 떨어져 배치된다.
적어도 하나의 원통형 보어(bore)(30)는 제1 부분(14)의 베이스 부분(18)에 결합하고 베이스 부분(18)으로부터 상방으로 뻗어 있다. 도 2 및 4에 도시된 바와 같이, 원통형 보어(30)는 각 코너에 인접하게 배치되어 있으며, 제1 부분(14)의 베이스 부분(18)으로부터 상방으로 뻗어 있다. 추가적인 원통형 보어들(16)이 베이스 부분(18)의 중앙부 근처에 배치되어 있으며, 이들은 베이스 부분(18)으로부터 상향으로 뻗어 있다. 원통형 보어들(30)은 미리 결정된 높이를 가지며, 도시된 바와 같이, 첫번째 쌍의 대향 측벽(20) 및 두번째 쌍의 대향측벽(22)의 높이와 실질적으로 유사한 높이를 갖는다.
상응 홀(32)이 제2 부분(16)에 위치해 있고 베이스 부분(26)의 상부면으로부터 바닥면까지 뻗어 있다. 제2 부분(16)이 제1 부분(14)의 위에 놓여질 때, 홀(32)은 원통형 보어(30)위에 놓여지고, 도 8에 도시 된 바와 같이, 스크류, 볼트 등과 같은 체결장치(34)를 삽입하여 제1 부분(14)을 제2 부분(16)에 고정한다.
도 2, 4, 7 및 8에 도시 된 바와 같이 이온방출장치(36)가 공동(24)내부에 위치하고 회로보드(38)와 전기적으로, 그리고 통신적으로 연결된다. 도시된 바와 같이, 장치(10)는 두 개의 이격된 이온방출장치(36)를 포함한다. 회로보드(38)는 공동(24)내에 포함되고 제1 부분(14)에 결합된다. 회로보드(38)는 장치(10)에 전력을 제공하기 위하여 전력공급원을 포함할 수 있다. 전력공급원은 이온방출장치(36)에 전력을 공급하기 위하여 전기를 제공하여, 이온을 생성한다. 이온방출장치(36)는 니이들 또는 브러시와 같은 이온을 발생할 수 있는 부품인 방출부분을 포함한다. 도면에 도시된 바와 같이, 이온방출장치(36)는 상부 부분과 하부 부분을 포함한다. 이온방출장치(36)의 상부 부분은 장치(10)로부터 외부로 뻗는데, 특히 제1 부분(14)과 제2 부분(16)이 결합되어 있을 때 제1 부분(14)과 제2 부분(16)의 측벽으로부터 외부로 뻗는다. 상부 부분은 이온을 방출하기 위한 방출부분이 포함되어 있다. 이온방출장치(36)의 하부 부분은 공동(24)내에 배치되고 전원에 전기적으로 결합된 회로 보드(38)에 전기적으로 결합된다. 대안적으로, 이온방출(36)의 하부가 전원에 직접 전기적으로 결합 될 수 있다.
이온방출장치(36)의 방출부분은 니이들 또는 브러시일 수 있다. 니이들은 한쪽 끝이 좁아지는 긴 부분이 있다. 다시 말하면 니이들에는 하부와 상부가 있다. 하부는 상부보다 넓은 폭을 가지며, 여기서 상부는 이온을 방출 하는 포인트를 의미한다. 대안적으로, 상기 방출 부분은 외부로 뻗은 다수의 빗살을 갖는 브러시를 포함할 수 있다. 브러시와 그 빗살들은 전기를 전도하는 재질로 제조되고, 빗살을 갖는 브러시와 고전압 전선 또는 전극의 조합은 여기서 일괄적으로 전극으로 언급된다. 한 실시예에서, 브러시의 빗살들은 폴리머로 하여금 전기를 전달하게 하는 전도성재료가 삽입된 열가소성 폴리머로 형성된다. 예를 들어 브러시의 빗살들은 폴리프로필렌 또는 폴리에틸렌으로 구성되고 탄소가 함침될 수 있다. 일반적으로 브러시의 빗살들은 약 20 내지 약 80중량%의 폴리프로필렌 코폴리머 또는 폴리에틸렌 코폴리머, 약 5 내지 약 40 중량%의 탈크(talc), 및 약 5 내지 40중량%의 카본 블랙을 함유 할 수 있다. 그러나 브러시의 빗살에는 다른 전기저항, 유도성, 반응성 또는 전도성을 갖는 플라스틱 또는 비금속 재료를 사용할 수 있다. 브러시는 교체가 가능하며 쉽게 분리 할 수 있도록 결합되어 있고 새로운 빗살들이 삽입되고 유지될 수 있다.
클리닝 어셈블리(42)는 장치(10)내에 배치되어 있다. 도 8에 도시 된 바와 같이, 클리닝 어셈블리(42)는 모터(44), 구동기어(46), 제1 슬레이브 기어(48), 제2 슬레이브 기어(slave gear)(50), 제1 클리닝장치(52),그리고 제2 클리닝장치(54)를 포함한다. 모터(44)는 바람직하게는 구동기어(46)를 회전시키는 DC 스텝퍼 모터(stepper moter)이다. 구동기어(46)는 제1 슬레이브 기어(48) 및 제2 슬레이브 기어(54)에 맞물려 있다. 구동기어(46)의 톱니는 제1 슬레이브 기어(48) 및 제2 슬레이브 기어(54)의 톱니와 상호 연결되어 있다. 구동기어(46)가 회전함에 따라 제 1 슬레이브 기어(48)와 제 2 슬레이브 기어(50)를 회전시킨다. 제1 슬레이브 기어 (48) 및 제2 슬레이브 기어(50)는 구동기어(46)의 양측에 배치되어 있다. 제1 클리닝 장치(52)는 제1 슬레이브 기어(48)에 맞물려 있다. 제2 클리닝 장치(54)는 제2 슬레이브 기어(50)에 맞물려 있다.
제1 클리닝 장치(52)는 제1 슬레이브 기어(48)로부터 외측으로 뻗은 긴 부분(56)을 포함한다. 제2 클리닝 장치(54)는 제2 슬레이브 기어(50)로부터 외측으로 뻗은 긴 부분(56)을 포함한다. 클리닝 부분(58)은 제1 및 제2 클리닝 장치(52, 54)에 형성되어 있다. 클리닝 부분(58)은 각각의 이온방출장치(36)의 상부 부분과 접촉할 수 있도록 긴 부분(56)으로부터 외측으로 연장되어 있다.
제1 부분(14) 및 제2 부분(16)의 상부 측벽은 적어도 하나의 보어(bore)(60)가 형성되어 있으며, 도1에 도시되어 있는 바와 같이, 상단은 적어도 두개의 보어(60)를 포함한다. 상부 측벽은 첫번째 쌍의 대향 측벽(20) 또는 두번째 쌍의 대향측벽(22) 중 하나의 측벽이다. 보어(60)는 상부 측벽의 내측에서 외측으로 연장 된다. 이온방출장치(36)들은 보어(60)를 관통하는데, 그 상부는 보어(60) 위로 뻗고 그 하부는 보어(60) 아래로 뻗는다.
도 4에 도시된 바와 같이, 전기를 공급하여 이온방출장치(36)의 상부로부터 이온을 발생하기 위하여, 제1 고전압 전선은 어느 한 이온방출장치(36)에 연결되고 제2 고전압 전선은 다른 이온방출장치(36)에 연결된다.
이격된 두개의 개구(62)는 제1 부분(14)의 상부 측벽에 형성되어 있다. 도 2, 4, 7 및 8에 도시된 바와 같이, 개구는 일측이 개방된 상부 측벽에 형성된 U자형 부분을 포함한다. 제2 부분(16)이 제1 부분(14)에 결합 될 때, 베이스 부분 (26)은 개방된 측면을 둘러싸는 역할을 한다. 도 2 및 도 8에 도시된 바와 같이, 제1 원호부(64)는 제1 부분(14)에 있는 개구(62)위로 연장되어 있다. 제1 원호부(64)는 U자 형상의 개구(62)의 하부에 인접해 있으며 개구(62)로부터 상방으로 뻗는다. 한쌍의 제2 원호부(66)는 제2 부분(16)상에 위치하여 있다. 도 2에 도시 된 바와 같이, 제2 원호부(66)는 제2 부분(16)의 상부 끝단에 인접하게 배치된다. 제1 부분(14)과 제2 부분(16)이 선택적으로 고정 될 때, 제1 원호부(64)와 제2 원호부(66)는 개구(62)로부터 상향으로 뻗는 원형 칼라(circular collar)를 형성한다. 선택적으로 고정 될 때, 원형 칼라는 중공이고 개구(62)를 완전히 둘러싸고 상부 측벽으로부터 상향으로 수직으로 뻗는다. 도 2에 도시 된 바와 같이, 제1 원호부(64)와 제2 원호부(66)의 결합에 의해 형성된 원형 칼라는 클리닝 어셈블리(42)의 긴 부분(56)을 둘러싼다. 도 2에 도시 된 바와 같이, 모터(44), 구동기어(46), 제1 슬레이브 기어(48), 및 제2 슬레이브 기어(50)는 장치(10)의 공동(24)내에 위치한다. 긴 부분(56)의 첫번째 부분도 공동(24) 내에 위치하지만, 개구(62)를 통해, 제1 원호부(64)와 제2 원호부(66)의 결합에 의해 형성된 원형칼라의 상단 위로 뻗는다.
클리닝 헤드(68)는 이온발생장치(36)의 발생부분에 접촉하여 클리닝하기 위하여 클리닝 부분(58)에 위치해 있다. 바람직하게는, 클리닝 헤드(68)는 제거가능하고 교체가능하다. 클리닝 헤드(68)는 브러시, 천, 폼 패드(foam pad) 등과 같이, 이온방출장치(36)의 방출부분을 클리닝할 수 있는 임의의 장치를 포함할 수 있다.
회로 보드(38)의 회로망은 또한 설정된 시간에 동작 또는 활성화를 위하여 모터(44)를 타이밍하기 위한 타이밍 회로를 포함한다. 구동기어(46)는 모터(44)에 의해 구동되고, 소정간격으로 모터(44)를 동작시키는 타이밍 회로에 기능적으로 연결되어 있다. 예를 들어, 구동기어(46)는 매 12시간 내지 24시간마다 작동될 수 있으며, 그에 따라 이온방출장치(36)의 방출부분을 클리닝하기 위하여 제1 클리닝 장치(52) 및 제2 클리닝 장치(54)를 회전시키는 제1 슬레이브 기어(48) 및 제2 슬레이브 기어(50)를 회전시킨다. 클리닝 장치(52,54)가 작동되는 동안, 장치(10)는 이온방출을 중단하고, 따라서 클리닝 헤드(68)에 떠돌아 다니는 입자들이 달라붙는 것을 방지한다.
그라트(grate)(70)는 장치(10)의 일측에 형성되어 있다. 그라트(70)는 일측부분(72)과 타측부분(74)을 갖는다. 그라트(70)의 일측부분은 상부 측벽의 외부측면에 배치되어 있다. 일측부분(72)은, 서로 떨어져 있고 측벽의 외부측면의 표면을 따라 연장되는 일단부 및 타단부를 갖는다. 그라트(70)의 일측부분은 측벽의 길이를 따라 뻗어 있고, 일측부분의 일단부는 일측 끝단부분의 끝단에 연결된다. 일측부분의 타단부는 타측 끝단부분의 끝단에 연결된다. 바람직하게는, 일측 끝단부분과 타측 끝단부분은 중실(中實)이고, 일측부분은, 공기가 일측부분의 내측에서 외측으로 일측부분을 관통하여 흐르도록 하는, 길이방향으로 뻗은 다수의 슬롯(80)들을 갖는다.
그라트(70)의 타측부분(74)은 제2 부분(16)의 베이스 부분(26)의 상부 가장자리로부터 위로 연장되어 형성되어 있다. 타측부분은, 공기가 타측부분의 내측에서 외측으로 타측부분을 관통하여 외부로 흐르도록 하는, 길이방향으로 뻗은 다수의 슬롯(80)들을 갖는다. 제1 부분(14)과 제2 부분(16)이 서로 결합 될 때, 타측부분(74)의 일단이 일측 끝단부분의 단부에 결합하고 타측부분(74)의 타단은 타측 끝단부분의 단부에 결합한다. 그라트(70)의 일측부분과 타측부분이 서로 맞물릴 때, 그라트(70)는 직사각형 형상이며, 이온방출장치(36)와 제1 클리닝 장치(52) 및 제 2 클리닝 장치(54)를 둘러싸게 된다. 그라트(70)의 상부는 개방되어 있다. 그라트(70)는 클리닝 부분(58)이 긴 부분(56) 주위를 완전히 회전 할 수 있을 정도로 충분히 넓다.
본 발명의 다른 실시예에서, 장치(10)는, 장치(10)에 의해 이온을 발생하지 않을 경우에 빌딩관리시스템에 시그널을 보내는 빌딩관리시스템과 통신으로 연결되어 있는, 알람접합을 포함하는, 알람 특성을 갖고 있다. 그리고 빌딩관리시스템은 사용자에게 장치(10)가 이온을 발생하지 않는다는 사실을 알리는 경보를 보낸다. 시험버튼(76)이 예방정비 동안에 모터 상태를 체크하기 위하여 또한 장치(10)에 구성되어 있으며, LED 등과 같은 등(78)이 점등되어 클리닝 시험이 행해지고 있음을 표시할 수 있다. 또한 LED 등과 같은 등이 점등되어 전원이 장치(10)에 공급되고 있음을 표시할 수 있다.
장치(10)는, 공기 유속 또는 습도 및 온도와 같은 다른 조건에도 불구하고, 대략적으로 같은 양의 정이온과 음이온을 발생한다. 예시적인 형태에서, 장치(10)는 적어도 약 2억 이온/cc의 농도로 양이온 및 음이온을 생성하고, 외부 변압기를 사용하지 않고 24VAC, 110VAC 또는 200VAC 내지 240VAC로 작동한다. 대안적인 실시 예에서, 장치는 음이온만 생성하거나, 양이온만 생성하거나, 음이온과 양이온을 동일하지 않은 양으로 생성한다. 장치(10)는 10 와트/이온 발생기 모듈보다 적게 요구하며, 장치가 매우 컴팩트하게 되도록, 선택적으로 나노전자부품을 이용한다. 바닥 부분은 24VAC, 110-240VAC 및 중성 입력을 연결하기 위해 그로부터 연장되는 단자들을 포함할 수 있다.
장치(10)는, 양으로 충전된 이온과 음으로 충전된 이온의 재결합을 방지하기 위하여, 이온발생부분이 장치를 가로지르는 공기흐름방향과 수직으로 정렬되도록, 도관, 또는 덕트와 같은 공기 핸들러 유닛의 하우징 내에 위치할 수 있다. 장치(10)는 어느 곳에 설치되기 위하여 부착장치를 수용하기 위한, 중앙에 위치한 보어가 있는 부착장치(82)를 구비하고 있다. 장치(10)는 덕트가 있는 유닛과 덕트리스 유닛을 포함하는 가변냉매흐름 HVAC 시스템내의 도관에 장착 될 수 있다.
본 발명의 시스템 및 방법에 따른, 도관 내의 기류로의 양극 이온화의 전달에 의한 공기의 처리는 다양한 용도로 이용 될 수 있다. 예를 들어, 공기 핸들러 하우징 또는 덕트와 같은 HVAC 도관 내의 기류에 양극 이온화를 적용하면, 공기흐름이 유도되는 처리된 공기 공간에, 알레르겐, 병원체, 냄새, 가스, 휘발성 유기 화합물, 박테리아, 바이러스, 곰팡이, 비듬, 곰팡이, 집먼지 진드기, 동물 및 연기 냄새, 및/또는 정전기를 줄일 수 있다. 생활 및 작업 공간의 공기 이온화는 건물 관련 질병을 줄이고 실내 공기질을 개선 할 수 있으며, 부가적으로, 공기의 재순환의 정도를 보다 크게 함으로써 가열 및 냉각 비용을 감소하면서, 처리된 실내 공기와 혼합하는데 필요한 실외공기의 양을 감소시킬 수 있다.
사용하는 동안, 전력이 장치(10)에 공급되고, 장치(10)는 모든 시스템에 대해 내부검사를 개시한다. 내부검사를 개시하여 모든 시스템이 작동하는지 확인한 후, LED 표시등(78)이 장치에 전원이 공급되었음을 알리는 "켜짐"으로 깜박거린다. 장치(10)는 또한 푸시되었을 때, 모터(44)를 작동시키고 구동기어(46)를 회전하게 하고, 제1 및 제2 클리닝장치(52, 54)를 회전하게 하고 이온방출장치(36)의 방출부분을 클리닝하며, 장치(10)의 클리닝 사이클을 개시하는 시험 버튼(76)을 포함한다.
본 발명은 도시되고 바람직한 실시예 및 이들의 특정예를 참조하여 설명되었지만, 다른 구체예들 및 실시예들도 유사한 기능들을 수행하고 및/또는 유사한 결과를 얻을 수 있음을 당업자에게 명백 할 것이다. 이러한 모든 균등한 구체예 및 실시예는 본 발명의 사상 및 범위 내에 있으며 다음의 청구범위에 속하는 것으로 의도되었다 해야 한다.

Claims (15)

  1. 외측 가장자리로 뻗은 베이스 부분과, 외측 가장자리로부터 상향으로 뻗고 코너에서 교차하며 내부에 공동을 형성하는 첫번째 쌍의 대향 측벽 및 두번째 쌍의 대향 측벽을 갖는 제1 부분;
    상기 제1 부분에 선택적으로 고정되어 하우징을 형성하며, 외부 가장자리로 연장하는 베이스 부분을 포함하는 제2 부분 ;
    상기 하우징으로부터 연장되는 적어도 하나의 이온방출장치; 그리고
    상기 적어도 하나의 이온 방출 장치를 클리닝하는 적어도 하나의 클리닝 장치;
    를 포함하는 셀프 클리닝 이온발생기 장치.
  2. 제1항에 있어서, 적어도 하나의 이온방출장치와 적어도 하나의 클리닝 장치를 둘러싸는 그라트를 포함하는 셀프 클리닝 이온발생기 장치.
  3. 제1항에 있어서, 상기 클리닝 장치는 공동내에 수용된 모터에 의해 구동되는 셀프 클리닝 이온발생기 장치.
  4. 제1항에 있어서, 상기 적어도 하나의 이온방출장치는 상부부분과 하부부분을 가지며, 상부부분은 하우징 위로 연장되고 하부 부분은 하우징의 공동내에 배치되는 셀프 클리닝 이온발생기 장치.
  5. 제1항에 있어서, 서로 이격되고 하우징으로부터 연장되는 적어도 2개의 이온 방출 장치를 추가로 포함하는 셀프 클리닝 이온발생기 장치.
  6. 제1항에 있어서, 상기 적어도 하나의 이온방출장치를 클리닝하기 위한 적어도 하나의 클리닝장치 상에 배치된 적어도 하나의 클리닝 헤드를 포함하는 셀프 클리닝 이온발생기 장치.
  7. 제1항에 있어서, 상기 적어도 하나의 이온방출장치는 그로부터 연장되는 복수의 빗살로 구성되는 셀프 클리닝 이온발생기 장치.
  8. 제1항에 있어서, 상기 제1 부분은 측벽들중 하나로부터 위쪽으로 연장되는 제1 측면 그라트를 포함하고, 상기 제2 부분은 상기 측벽들 중 하나로부터 위쪽으로 연장되는 제2 측면 그라트를 포함하며, 상기 제1 부분 및 제2 부분이 함께 선택적으로 고정될 때 제1 측면 그라트와 제2 측면 그라트가 적어도 하나의 이온 방출장치 및 적어도 하나의 클리닝 장치를 보호하는 셀프 클리닝 이온발생기 장치.
  9. 제1항에 있어서, 상기 장치는 하우징 상에 배치된 부착 장치에 의해 장착되는 셀프 클리닝 이온발생기 장치.
  10. 외측 가장자리로 뻗은 베이스 부분과, 외측 가장자리로부터 상향으로 뻗고 코너에서 교차하며 내부에 공동을 형성하는 첫번째 쌍의 대향측벽 및 두번째 쌍의 대향측벽을 갖는 제1 부분;
    상기 제1 부분에 선택적으로 고정되어 하우징을 형성하며, 외부 가장자리로 연장하는 베이스 부분을 포함하는 제2 부분 ;
    상기 하우징으로부터 연장되는 제1 이온방출장치와 제2 이온방출장치; 그리고
    상기 제1 이온방출장치를 클리닝하기 위한 제1 클리닝 장치와, 상기 제2 이온방출장치를 클리닝하기 위한 제2 클리닝 장치로 구성된 클리닝 어셈블리;
    를 포함하는 셀프 클리닝 이온발생기 장치.
  11. 제10항에 있어서, 상기 제2 부분의 베이스 부분은 베이스 부분으로부터 외측으로 연장되는 립을 포함하는 셀프 클리닝 이온발생기 장치.
  12. 제10항에 있어서, 상기 클리닝 어셈블리는, 상기 제1 클리닝 장치와 제2 클리닝 장치를 회전시키기 위하여 제1 클리닝 장치의 기어와 제2 클리닝 장치의 기어에 맞물리는 모터를 포함하는 셀프 클리닝 이온발생기 장치.
  13. 제10항에 있어서, 상기 적어도 하나의 방출부분은 하우징 내에 배치된 이온 발생기에 선택적으로 고정되는 셀프 클리닝 이온발생기 장치.
  14. 외측 가장자리로 뻗은 베이스 부분과, 외측 가장자리로부터 상향으로 뻗고 코너에서 교차하며 내부에 공동을 형성하는 첫번째 쌍의 대향측벽 및 두번째 쌍의 대향측벽을 갖는 제1 부분;
    상기 제1 부분에 선택적으로 고정되어 하우징을 형성하며, 외부 가장자리로 연장하는 베이스 부분을 포함하는 직사각형의 제2 부분;
    상기 하우징으로부터 연장되는 제1 이온방출장치와 제2 이온방출장치; 그리고
    상기 제1 이온방출장치를 클리닝하기 위한 제1 클리닝 장치와, 상기 제2 이온방출장치를 클리닝하기 위한 제2 클리닝 장치로 구성된 클리닝 어셈블리;
    를 포함하는 셀프 클리닝 이온발생기 장치.
  15. 제14항에 있어서, 상기 공동내에 회로 보드를 더 포함하는 셀프 클리닝 이온발생기 장치.
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