KR20200093555A - 색 보정 부재, 및 색 보정 부재를 사용한 광학 필름 - Google Patents

색 보정 부재, 및 색 보정 부재를 사용한 광학 필름 Download PDF

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KR20200093555A
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위펑 웡
펑 왕
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Abstract

종래와 같이 점착제층 중에 색소를 함유하는 경우에는, 특정 파장 (560 ∼ 610 ㎚) 의 범위에 흡수 극대 파장을 나타내는 색소로서, 종래 테트라아자포르피린이 사용되고 있다. 그러나, 본 발명자들의 검토에 의하면, 테트라아자포르피린을 함유시킨 점착제층을 색 보정 부재로 했을 경우, 545 ㎚ 부근의 광도 흡수해 버리기 때문에, 패널의 휘도가 저하되어 버리는 것을 알 수 있었다. 본 발명은, 광색역화와 휘도의 저하를 양호하게 양립할 수 있는 색 보정 부재를 제공하는 것을 목적으로 한다. 흡수 스펙트럼의 특정 파장 (560 ∼ 610 ㎚) 의 범위에 흡수 피크를 갖고, 당해 흡수 피크와 545 ㎚ 에 있어서의 흡광도의 비가 특정한 값 이하인 것을 만족시키는 색 보정 부재 또는 감압 점착제층 형성 편광 필름에 의해 해결한다.

Description

색 보정 부재, 및 색 보정 부재를 사용한 광학 필름
본 발명은 광학 필름이나 화상 표시 장치 등에 사용되는 색 보정 부재에 관한 것이다. 색 보정 부재는 이것 단독으로, 또는 이것을 적층한 광학 필름으로서 액정 표시 장치 (LCD), 유기 EL 표시 장치 등의 화상 표시 장치를 형성할 수 있다.
화상 표시 장치 등은, 그 화상 형성 방식으로부터 액정 셀의 양면에 편광 소자를 배치하는 것이 필요 불가결하고, 일반적으로는 편광 필름이 첩착 (貼着) 되어 있다. 상기 편광 필름을 액정 셀에 첩착할 때에는, 통상, 점착제가 사용된다. 또, 편광 필름과 액정 셀의 접착은, 통상, 광의 손실을 저감시키기 위해, 각각의 재료는 점착제를 사용하여 밀착되어 있다. 이와 같은 경우에, 편광 필름을 고착시키는 데에 건조 공정을 필요로 하지 않는 것 등의 장점을 가지므로, 점착제는, 편광 필름의 편면에 미리 점착제층으로서 형성된 점착제층 형성 편광 필름이 일반적으로 사용된다.
또, 상기 점착제층에, 염료 또는 안료를 첨가하여 착색함으로써, 편광 필름에 임의의 색상을 부여하여 고콘트라스트의 액정 표시체를 얻는 것이 제안되어 있다 (특허문헌 1). 최근에는, 화상 표시 장치에 밝기, 선명함 (즉, 광색역화) 이 요구되고 있어 유기 EL 표시 장치 (OLED) 가 주목받고 있지만, 액정 표시 장치에 대해서도 광색역화가 요구되고 있다. 예를 들어, 액정 표시 장치를 광색역화시키는 방법으로서, 특정 파장 (560 ∼ 610 ㎚) 의 범위에 흡수 극대 파장을 나타내는 색소를 함유하는 점착제층을 개재하여 상기 액정 셀의 편면 또는 양면에 편광 필름을 적층하는 것이 제안되어 있다 (특허문헌 2, 3).
일본 실용신안등록 제3052812호 명세서 일본 공개특허공보 2011-039093호 일본 공개특허공보 2014-092611호
특허문헌 2 및 3 과 같이 점착제층 중에 색소를 함유하는 경우에는, 특정 파장 (560 ∼ 610 ㎚) 의 범위에 흡수 극대 파장을 나타내는 색소로서, 종래 테트라아자포르피린이 사용되고 있다. 그러나, 본 발명자들의 검토에 의하면, 테트라아자포르피린을 함유시킨 점착제층을 색 보정 부재로 했을 경우, 545 ㎚ 부근의 광도 흡수해 버리기 때문에, 패널의 휘도가 저하되어 버리는 것을 알 수 있었다.
본 발명은, 광색역화와 휘도의 저하를 양호하게 양립할 수 있는 색 보정 부재를 제공하는 것을 목적으로 한다.
본 발명자들은 상기 과제를 해결하기 위하여 예의 검토를 거듭한 결과, 하기 색 보정 부재를 알아내어, 본 발명을 완성하기에 이르렀다. 즉, 본 발명은 이하 [1] ∼ [8] 에 있다.
[1] 흡수 스펙트럼의 580 ㎚ ∼ 610 ㎚ 에 있어서의 흡수 피크의 값을 Amax 로 하고 545 ㎚ 에 있어서의 흡광도의 값 A545 로 했을 때의 A545/Amax 가 0.13 이하인 것을 특징으로 하는 색 보정 부재.
(단, 상기 흡수 스펙트럼은, 상기 색 보정 부재를 유기 용매에 분산 또는 용해시켜 분산액 또는 용액을 조제하고, 400 ㎚ ∼ 700 ㎚ 의 범위에 있어서의 상기 분산액 또는 상기 용액의 흡광도를 측정하여 얻어진다.)
[2] 상기 흡수 스펙트럼의 530 ㎚ ∼ 570 ㎚ 에 흡수 피크를 갖지 않는 것을 특징으로 하는 상기 [1] 에 기재된 색 보정 부재.
[3] 상기 580 ㎚ ∼ 610 ㎚ 에 갖는 흡수 피크의 반치폭이 35 ㎚ 이하인 것을 특징으로 하는 상기 [1] 또는 [2] 에 기재된 색 보정 부재.
[4] 상기 색 보정 부재는 하기 식 (I) 또는 (II) 로 나타내는 화합물을 함유하는 것을 특징으로 하는 상기 [1] 내지 [3] 중 어느 하나에 기재된 색 보정 부재.
[화학식 1]
Figure pct00001
식 (I) 에 있어서, R1, R2, R3, R4, R5, R6, R7 및 R8 은 각각 독립적으로 수소 원자, 할로겐 원자, 탄소수 1 이상 20 이하의 치환 혹은 비치환의 알킬기, 식 (a) 로 나타내는 치환기 또는 식 (b) 로 나타내는 치환기이거나 ;
R1 과 R2 가 5 또는 6 의 탄소 원자로 구성되는 포화 고리형 골격을 형성하고, R3, R4, R5, R6, R7 및 R8 은 각각 독립적으로 수소 원자, 할로겐 원자 (바람직하게는 Cl), 탄소수 1 이상 20 이하의 치환 혹은 비치환의 알킬기, 식 (a) 로 나타내는 치환기 또는 식 (b) 로 나타내는 치환기이거나 ;
R2 와 R3 이 5 ∼ 7 의 탄소 원자로 구성되는 포화 고리형 골격을 형성하고, R1, R4, R5, R6, R7 및 R8 은 각각 독립적으로 수소 원자, 할로겐 원자 (바람직하게는 Cl), 탄소수 1 이상 20 이하의 치환 혹은 비치환의 알킬기, 식 (a) 로 나타내는 치환기 또는 식 (b) 로 나타내는 치환기이거나 ;
R5 와 R6 이 5 또는 6 의 탄소 원자로 구성되는 포화 고리형 골격을 형성하고, R1, R2, R3, R4, R7 및 R8 은 각각 독립적으로 수소 원자, 할로겐 원자 (바람직하게는 Cl), 탄소수 1 이상 20 이하의 치환 혹은 비치환의 알킬기, 식 (a) 로 나타내는 치환기 또는 식 (b) 로 나타내는 치환기이거나 ;
R6 과 R7 이 5 ∼ 7 의 탄소 원자로 구성되는 포화 고리형 골격을 형성하고, R1, R2, R3, R4, R5 및 R8 은 각각 독립적으로 수소 원자, 할로겐 원자 (바람직하게는 Cl), 탄소수 1 이상 20 이하의 치환 혹은 비치환의 알킬기, 식 (a) 로 나타내는 치환기 또는 식 (b) 로 나타내는 치환기이거나 ;
R1 과 R2 가 5 또는 6 의 탄소 원자로 구성되는 포화 고리형 골격을 형성하고, R5 와 R6 이 5 또는 6 의 탄소 원자로 구성되는 포화 고리형 골격을 형성하고, R3, R4, R7 및 R8 은 각각 독립적으로 수소 원자, 할로겐 원자 (바람직하게는 Cl), 탄소수 1 이상 20 이하의 치환 혹은 비치환의 알킬기, 식 (a) 로 나타내는 치환기 또는 식 (b) 로 나타내는 치환기이거나 ; 혹은,
R2 와 R3 이 5 ∼ 7 의 탄소 원자로 구성되는 포화 고리형 골격을 형성하고, R6 과 R7 이 5 ∼ 7 의 탄소 원자로 구성되는 포화 고리형 골격을 형성하고, R1, R4, R5 및 R8 은 각각 독립적으로 수소 원자, 할로겐 원자 (바람직하게는 Cl), 탄소수 1 이상 20 이하의 치환 혹은 비치환의 알킬기, 식 (a) 로 나타내는 치환기 또는 식 (b) 로 나타내는 치환기이고 ;
식 (II) 에 있어서, R4, 및 R8 은 각각 독립적으로 수소 원자 또는 탄소수 1 이상 20 이하의 치환 혹은 비치환의 알킬기이다.
[5] 편광 필름과 감압 점착제층을 갖는 광학 필름으로서,
상기 감압 점착제층은, 흡수 스펙트럼의 580 ㎚ ∼ 610 ㎚ 에 있어서의 흡수 피크의 값을 Amax 로 하고 상기 흡수 스펙트럼의 545 ㎚ 에 있어서의 흡광도의 값 A545 로 했을 때, A545/Amax 가 0.13 이하인 것을 특징으로 하는 광학 필름.
(단, 상기 흡수 스펙트럼은, 상기 감압 점착제를 유기 용매에 분산 또는 용해시켜 분산액 또는 용액을 조제하고, 400 ㎚ ∼ 700 ㎚ 의 범위에 있어서의 상기 분산액 또는 상기 용액의 흡광도를 측정하여 얻어진다.)
[6] 상기 감압 점착제층은, 흡수 스펙트럼의 530 ㎚ ∼ 570 ㎚ 에, 흡수 피크를 갖지 않는 것을 특징으로 하는 상기 [5] 에 기재된 광학 필름.
[7] 상기 580 ㎚ ∼ 610 ㎚ 에 있어서의 흡수 피크의 반치폭이 35 ㎚ 이하인 것을 특징으로 하는 상기 [5] 또는 [6] 에 기재된 광학 필름.
[8] 상기 감압 점착제층에 하기 식 (I) 또는 (II) 로 나타내는 화합물을 함유하는 것을 특징으로 하는 상기 [5] 내지 [7] 중 어느 하나에 기재된 광학 필름.
[화학식 2]
Figure pct00002
식 (I) 에 있어서, R1, R2, R3, R4, R5, R6, R7 및 R8 은 각각 독립적으로 수소 원자, 할로겐 원자, 탄소수 1 이상 20 이하의 치환 혹은 비치환의 알킬기, 식 (a) 로 나타내는 치환기 또는 식 (b) 로 나타내는 치환기이거나 ;
R1 과 R2 가 5 또는 6 의 탄소 원자로 구성되는 포화 고리형 골격을 형성하고, R3, R4, R5, R6, R7 및 R8 은 각각 독립적으로 수소 원자, 할로겐 원자 (바람직하게는 Cl), 탄소수 1 이상 20 이하의 치환 혹은 비치환의 알킬기, 식 (a) 로 나타내는 치환기 또는 식 (b) 로 나타내는 치환기이거나 ;
R2 와 R3 이 5 ∼ 7 의 탄소 원자로 구성되는 포화 고리형 골격을 형성하고, R1, R4, R5, R6, R7 및 R8 은 각각 독립적으로 수소 원자, 할로겐 원자 (바람직하게는 Cl), 탄소수 1 이상 20 이하의 치환 혹은 비치환의 알킬기, 식 (a) 로 나타내는 치환기 또는 식 (b) 로 나타내는 치환기이거나 ;
R5 와 R6 이 5 또는 6 의 탄소 원자로 구성되는 포화 고리형 골격을 형성하고, R1, R2, R3, R4, R7 및 R8 은 각각 독립적으로 수소 원자, 할로겐 원자 (바람직하게는 Cl), 탄소수 1 이상 20 이하의 치환 혹은 비치환의 알킬기, 식 (a) 로 나타내는 치환기 또는 식 (b) 로 나타내는 치환기이거나 ;
R6 과 R7 이 5 ∼ 7 의 탄소 원자로 구성되는 포화 고리형 골격을 형성하고, R1, R2, R3, R4, R5 및 R8 은 각각 독립적으로 수소 원자, 할로겐 원자 (바람직하게는 Cl), 탄소수 1 이상 20 이하의 치환 혹은 비치환의 알킬기, 식 (a) 로 나타내는 치환기 또는 식 (b) 로 나타내는 치환기이거나 ;
R1 과 R2 가 5 또는 6 의 탄소 원자로 구성되는 포화 고리형 골격을 형성하고, R5 와 R6 이 5 또는 6 의 탄소 원자로 구성되는 포화 고리형 골격을 형성하고, R3, R4, R7 및 R8 은 각각 독립적으로 수소 원자, 할로겐 원자 (바람직하게는 Cl), 탄소수 1 이상 20 이하의 치환 혹은 비치환의 알킬기, 식 (a) 로 나타내는 치환기 또는 식 (b) 로 나타내는 치환기이거나 ; 혹은,
R2 와 R3 이 5 ∼ 7 의 탄소 원자로 구성되는 포화 고리형 골격을 형성하고, R6 과 R7 이 5 ∼ 7 의 탄소 원자로 구성되는 포화 고리형 골격을 형성하고, R1, R4, R5 및 R8 은 각각 독립적으로 수소 원자, 할로겐 원자 (바람직하게는 Cl), 탄소수 1 이상 20 이하의 치환 혹은 비치환의 알킬기, 식 (a) 로 나타내는 치환기 또는 식 (b) 로 나타내는 치환기이고 ;
식 (II) 에 있어서, R4, 및 R8 은 각각 독립적으로 수소 원자 또는 탄소수 1 이상 20 이하의 치환 혹은 비치환의 알킬기이다.
본 발명에 의하면, 화상 표시 장치의 광색역화를 달성할 수 있을 뿐만 아니라, 545 ㎚ 부근의 광의 흡수가 억제되어 있기 때문에, 종래 할 수 없었던 휘도의 향상도 달성할 수 있다는 효과를 발휘한다.
이하, 본 발명에 대해 설명하지만, 본 발명은 이하의 실시형태에 한정되는 것은 아니며, 임의로 변형하여 실시할 수 있다.
본 발명의 색 보정 부재는, 흡수 스펙트럼의 580 ㎚ ∼ 610 ㎚ 에 흡수 피크를 갖고, 또한 흡수 스펙트럼의 580 ㎚ ∼ 610 ㎚ 에 있어서의 최대 흡수 피크의 값을 Amax 로 하고 545 ㎚ 에 있어서의 흡광도의 값 A545 로 했을 때, A545/Amax 가 A545/Amax ≤ 0.13 의 관계를 만족시키는 것이면 형태는 특별히 한정되지 않는다. 예를 들어, 580 ㎚ ∼ 610 ㎚ 에 흡수 피크를 갖고 또한 흡수 스펙트럼의 580 ㎚ ∼ 610 ㎚ 에 있어서의 최대 흡수 피크의 값을 Amax 로 하고 545 ㎚ 에 있어서의 흡광도의 값 A545 로 했을 때, A545/Amax 가 A545/Amax ≤ 0.13 의 관계를 만족시키는 화합물을 함유하는 수지 필름을 들 수 있다. 다른 예로는, 점착제 중에 상기 화합물을 함유하는 광학용 점착 시트를 들 수 있고, 또, 색 보정 부재를 구비한 광학 필름의 예로는, 상기 화합물을 함유하는 점착제층을 갖는 광학 필름을 들 수 있다. 광학 필름으로는, 편광 필름을 들 수 있다.
이하에서는, 본 발명의 색 보정 부재를, 흡수 스펙트럼의 580 ㎚ ∼ 610 ㎚ 에 흡수 피크를 갖고, 또한 흡수 스펙트럼의 580 ㎚ ∼ 610 ㎚ 에 있어서의 최대 흡수 피크의 값을 Amax 로 하고 545 ㎚ 에 있어서의 흡광도의 값 A545 로 했을 때, A545/Amax 가 A545/Amax ≤ 0.13 의 관계를 만족시키는 화합물을 함유하는 광학용 점착 시트를 예로 들어 설명한다. 또, 본 발명의 광학 필름을, 폴리비닐알코올계 편광자를 갖는 편광 필름 및 상기 화합물을 함유하는 점착제층을 갖는 점착제층 형성 편광 필름을 예로 들어 설명한다.
A. 색 보정 부재
A-1. 광학용 점착 시트
광학용 점착 시트는, 베이스 폴리머 및 후술하는 화합물 X 를 함유하는 점착제 조성물로 형성할 수 있다.
당해 광학용 점착 시트는, 흡수 스펙트럼의 580 ㎚ ∼ 610 ㎚ 에 흡수 피크를 갖고, 또한 흡수 스펙트럼의 580 ㎚ ∼ 610 ㎚ 에 있어서의 최대 흡수 피크의 값을 Amax 로 하고 545 ㎚ 에 있어서의 흡광도의 값 A545 로 했을 때, A545/Amax 가 A545/Amax ≤ 0.13 의 관계를 만족시킨다. 상기 흡수 스펙트럼은, 당해 광학용 점착 시트를 유기 용매에 분산 또는 용해시켜 분산액 또는 용액을 조제하고, 400 ㎚ ∼ 700 ㎚ 의 범위에 있어서의 상기 분산액 또는 상기 용액의 흡광도를 측정하여 얻어진다. 상기 광학용 점착 시트는, 바람직하게는, 흡수 스펙트럼의 530 ㎚ ∼ 570 ㎚ 의 범위 내에 흡수 피크를 갖지 않는다. 또, 당해 광학용 점착 시트는, 추가적인 광색역화의 관점에서, 보다 바람직하게는, 흡수 스펙트럼의 580 ㎚ ∼ 610 ㎚ 에 갖는 흡수 피크의 반치폭이 35 ㎚ 이하이다.
베이스 폴리머의 종류에 대해, 특별히 제한은 없지만, 예를 들어, 고무계 폴리머, (메트)아크릴계 폴리머, 실리콘계 폴리머, 우레탄계 폴리머, 비닐알킬에테르계 폴리머, 폴리비닐알코올계 폴리머, 폴리비닐피롤리돈계 폴리머, 폴리아크릴아미드계 폴리머, 셀룰로오스계 폴리머 등의 각종 폴리머를 들 수 있다.
광학용 점착 시트는, 베이스 폴리머를 주성분으로서 포함한다. 주성분이란, 점착제 조성물에 포함되는 전체 고형분 중 가장 함유 비율이 많은 성분을 가리키고, 예를 들어, 점착제 조성물에 포함되는 전체 고형분 중 50 중량％ 보다 많이 차지하는 성분이고, 나아가서는 70 중량％ 보다 많이 차지하는 성분을 가리킨다.
이들 베이스 폴리머 중에서도, 광학적 투명성이 우수하고, 적절히 젖음성과 응집성과 접착성의 점착 특성을 나타내고, 내후성이나 내열성 등이 우수한 것이 바람직하게 사용된다. 이와 같은 특징을 나타내는 것으로서 (메트)아크릴계 폴리머가 바람직하게 사용된다. 이하, 점착제 조성물의 형성 재료의, 알킬(메트)아크릴레이트를 모노머 단위로서 함유하는 (메트)아크릴계 폴리머를 베이스 폴리머로 하는 아크릴계 점착제에 대해 설명한다.
A-2. (메트)아크릴계 폴리머
상기 (메트)아크릴계 폴리머는, 통상, 모노머 단위로서, 알킬(메트)아크릴레이트를 주성분으로서 함유한다. 또한, (메트)아크릴레이트는 아크릴레이트 및/또는 메타크릴레이트를 말하고, 본 발명의 (메트) 와는 동일한 의미이다.
상기 (메트)아크릴계 폴리머의 주골격을 구성하는, 알킬(메트)아크릴레이트로는, 직사슬형 또는 분기 사슬형의 알킬기의 탄소수 1 ∼ 18 의 것을 예시할 수 있다. 이들은 단독으로 혹은 조합하여 사용할 수 있다. 이들 알킬기의 평균 탄소수는 3 ∼ 9 인 것이 바람직하다.
상기 (메트)아크릴계 폴리머 중에는, 접착성이나 내열성의 개선을 목적으로, (메트)아크릴로일기 또는 비닐기 등의 불포화 이중 결합을 갖는 중합성의 관능기를 갖는, 1 종류 이상의 공중합 모노머를 공중합에 의해 도입할 수 있다.
상기 (메트)아크릴계 폴리머는, 전체 구성 모노머의 중량 비율에 있어서, 알킬(메트)아크릴레이트를 주성분으로 하고, (메트)아크릴계 폴리머 중의 상기 공중합 모노머의 비율은, 특별히 제한되지 않지만, 상기 공중합 모노머의 비율은, 전체 구성 모노머의 중량 비율에 있어서, 0 ∼ 20 ％ 정도, 0.1 ∼ 15 ％ 정도, 나아가서는 0.1 ∼ 10 ％ 정도인 것이 바람직하다.
본 발명의 (메트)아크릴계 폴리머는, 통상, 중량 평균 분자량이 50 만 ∼ 300 만인 범위의 것이 사용된다. 내구성, 특히 내열성을 고려하면, 중량 평균 분자량은 70 만 ∼ 270 만인 것을 사용하는 것이 바람직하다. 나아가서는 80 만 ∼ 250 만인 것이 바람직하다. 중량 평균 분자량이 50 만보다 작으면, 내열성의 점에서 바람직하지 않다. 또, 중량 평균 분자량이 300 만보다 커지면, 도공하기 위한 점도로 조정하기 위해서 다량의 희석 용제가 필요하여, 비용이 상승되므로 바람직하지 않다. 또한, 중량 평균 분자량은, GPC (겔·퍼미에이션·크로마토그래피) 에 의해 측정하고, 폴리스티렌 환산에 의해 산출된 값을 말한다.
이와 같은 (메트)아크릴계 폴리머의 제조는, 용액 중합, UV 중합 등의 방사선 중합, 괴상 중합, 유화 중합, 각종 라디칼 중합 등의 공지된 제조 방법을 적절히 선택할 수 있다. 또, 얻어지는 (메트)아크릴계 폴리머는, 랜덤 공중합체, 블록 공중합체, 그래프트 공중합체 등 중 어느 것이어도 된다.
또한, 용액 중합에 있어서는, 중합 용매로서 예를 들어, 아세트산에틸, 톨루엔 등이 사용된다. 구체적인 용액 중합예로는, 반응은 질소 등의 불활성 가스 기류하에서, 중합 개시제를 첨가하고, 통상, 50 ∼ 70 ℃ 정도에서, 5 ∼ 30 시간 정도의 반응 조건으로 실시된다.
라디칼 중합에 사용되는 중합 개시제, 연쇄 이동제, 유화제 등은 특별히 한정되지 않고 적절히 선택하여 사용할 수 있다. 또한, (메트)아크릴계 폴리머의 중량 평균 분자량은, 중합 개시제, 연쇄 이동제의 사용량, 반응 조건에 따라 제어 가능하고, 이들 종류에 따라 적절히 그 사용량이 조정된다.
라디칼 중합 개시제로는, 예를 들어, 2,2'-아조비스이소부티로니트릴, 2,2'-아조비스(2-아미디노프로판)디하이드로클로라이드, 2,2'-아조비스[2-(5-메틸-2-이미다졸린-2-일)프로판]디하이드로클로라이드, 2,2'-아조비스(2-메틸프로피온아미딘) 2 황산염, 2,2'-아조비스(N,N'-디메틸렌이소부틸아미딘), 2,2'-아조비스[N-(2-카르복시에틸)-2-메틸프로피온아미딘]하이드레이트 (와코 순약사 제조, VA-057) 등의 아조계 개시제, 과황산칼륨, 과황산암모늄 등의 과황산염, 디(2-에틸헥실)퍼옥시디카보네이트, 디(4-t-부틸시클로헥실)퍼옥시디카보네이트, 디-sec-부틸퍼옥시디카보네이트, t-부틸퍼옥시네오데카노에이트, t-헥실퍼옥시피발레이트, t-부틸퍼옥시피발레이트, 디라우로일퍼옥사이드, 디-n-옥타노일퍼옥사이드, 1,1,3,3-테트라메틸부틸퍼옥시-2-에틸헥사노에이트, 디(4-메틸벤조일)퍼옥사이드, 디벤조일퍼옥사이드, t-부틸퍼옥시이소부틸레이트, 1,1-디(t-헥실퍼옥시)시클로헥산, t-부틸하이드로퍼옥사이드, 과산화수소 등의 과산화물계 개시제, 과황산염과 아황산수소나트륨의 조합, 과산화물과 아스코르브산나트륨의 조합 등의 과산화물과 환원제를 조합한 레독스계 개시제 등을 들 수 있지만, 이들에 한정되는 것은 아니다.
상기 라디칼 중합 개시제는, 단독으로 사용해도 되고, 또 2 종 이상을 혼합하여 사용해도 되지만, 전체적인 함유량은 모노머 100 중량부에 대하여, 0.005 ∼ 1 중량부 정도인 것이 바람직하고, 0.02 ∼ 0.5 중량부 정도인 것이 보다 바람직하다.
연쇄 이동제로는, 예를 들어, 라우릴메르캅탄, 글리시딜메르캅탄, 메르캅토아세트산, 2-메르캅토에탄올, 티오글리콜산, 티오글루콜산2-에틸헥실, 2,3-디메르탑토-1-프로판올 등을 들 수 있다. 연쇄 이동제는, 단독으로 사용해도 되고, 또 2 종 이상을 혼합하여 사용해도 되지만, 전체적인 함유량은 모노머 성분의 전체량 100 중량부에 대하여, 0.1 중량부 정도 이하이다.
또, 유화 중합하는 경우에 사용하는 유화제로는, 예를 들어, 라우릴황산나트륨, 라우릴황산암모늄, 도데실벤젠술폰산나트륨, 폴리옥시에틸렌알킬에테르황산암모늄, 폴리옥시에틸렌알킬페닐에테르황산나트륨 등의 아니온계 유화제, 폴리옥시에틸렌알킬에테르, 폴리옥시에틸렌알킬페닐에테르, 폴리옥시에틸렌 지방산 에스테르, 폴리옥시에틸렌-폴리옥시프로필렌 블록 폴리머 등의 논이온계 유화제 등을 들 수 있다. 이들 유화제는, 단독으로 사용해도 되고 2 종 이상을 병용해도 된다.
또한 반응성 유화제로서, 프로페닐기, 알릴에테르기 등의 라디칼 중합성 관능기가 도입된 유화제로서 구체적으로는, 예를 들어, 아쿠아론 HS-10, HS-20, KH-10, BC-05, BC-10, BC-20 (이상, 모두 다이이치 공업 제약사 제조), 아데카리아소프 SE10N (아사히 전화 공사 제조) 등이 있다. 반응성 유화제는, 중합 후에 폴리머 사슬에 도입되기 때문에, 내수성이 양호해져 바람직하다. 유화제의 사용량은, 모노머 성분의 전체량 100 중량부에 대하여, 0.3 ∼ 5 중량부, 중합 안정성이나 기계적 안정성에서 0.5 ∼ 1 중량부가 보다 바람직하다.
A-3. 화합물 X
광학용 점착 시트가 함유하는 화합물 X 로는, 흡수 스펙트럼의 580 ㎚ ∼ 610 ㎚ 에 흡수 피크를 갖고, 또한 흡수 스펙트럼의 580 ㎚ ∼ 610 ㎚ 에 있어서의 최대 흡수 피크의 값을 Amax 로 하고 545 ㎚ 에 있어서의 흡광도의 값 A545 로 했을 때, A545/Amax 가 A545/Amax ≤ 0.13 의 관계를 만족시키는 화합물이면 특별히 한정되지 않는다.
화합물 X 는, 바람직하게는, 흡수 스펙트럼의 530 ㎚ ∼ 570 ㎚ 의 범위 내에 흡수 피크를 갖지 않는다.
또, 상기 화합물 X 는, 추가적인 광색역화의 관점에서, 보다 바람직하게는 흡수 스펙트럼의 580 ㎚ ∼ 610 ㎚ 에 갖는 흡수 피크의 반치폭이 35 ㎚ 이하이다.
이와 같은 화합물 X 로는, 하기 식 (I) 또는 (II) 로 나타내는 화합물을 예시할 수 있다.
[화학식 3]
Figure pct00003
식 (I) 에 있어서, R1, R2, R3, R4, R5, R6, R7 및 R8 은 각각 독립적으로 수소 원자, 할로겐 원자, 탄소수 1 이상 20 이하의 치환 혹은 비치환의 알킬기, 식 (a) 로 나타내는 치환기 또는 식 (b) 로 나타내는 치환기이거나 ;
R1 과 R2 가 5 또는 6 의 탄소 원자로 구성되는 포화 고리형 골격을 형성하고, R3, R4, R5, R6, R7 및 R8 은 각각 독립적으로 수소 원자, 할로겐 원자 (바람직하게는 Cl), 탄소수 1 이상 20 이하의 치환 혹은 비치환의 알킬기, 식 (a) 로 나타내는 치환기 또는 식 (b) 로 나타내는 치환기이거나 ;
R2 와 R3 이 5 ∼ 7 의 탄소 원자로 구성되는 포화 고리형 골격을 형성하고, R1, R4, R5, R6, R7 및 R8 은 각각 독립적으로 수소 원자, 할로겐 원자 (바람직하게는 Cl), 탄소수 1 이상 20 이하의 치환 혹은 비치환의 알킬기, 식 (a) 로 나타내는 치환기 또는 식 (b) 로 나타내는 치환기이거나 ;
R5 와 R6 이 5 또는 6 의 탄소 원자로 구성되는 포화 고리형 골격을 형성하고, R1, R2, R3, R4, R7 및 R8 은 각각 독립적으로 수소 원자, 할로겐 원자 (바람직하게는 Cl), 탄소수 1 이상 20 이하의 치환 혹은 비치환의 알킬기, 식 (a) 로 나타내는 치환기 또는 식 (b) 로 나타내는 치환기이거나 ;
R6 과 R7 이 5 ∼ 7 의 탄소 원자로 구성되는 포화 고리형 골격을 형성하고, R1, R2, R3, R4, R5 및 R8 은 각각 독립적으로 수소 원자, 할로겐 원자 (바람직하게는 Cl), 탄소수 1 이상 20 이하의 치환 혹은 비치환의 알킬기, 식 (a) 로 나타내는 치환기 또는 식 (b) 로 나타내는 치환기이거나 ;
R1 과 R2 가 5 또는 6 의 탄소 원자로 구성되는 포화 고리형 골격을 형성하고, R5 와 R6 이 5 또는 6 의 탄소 원자로 구성되는 포화 고리형 골격을 형성하고, R3, R4, R7 및 R8 은 각각 독립적으로 수소 원자, 할로겐 원자 (바람직하게는 Cl), 탄소수 1 이상 20 이하의 치환 혹은 비치환의 알킬기, 식 (a) 로 나타내는 치환기 또는 식 (b) 로 나타내는 치환기이거나 ; 혹은,
R2 와 R3 이 5 ∼ 7 의 탄소 원자로 구성되는 포화 고리형 골격을 형성하고, R6 과 R7 이 5 ∼ 7 의 탄소 원자로 구성되는 포화 고리형 골격을 형성하고, R1, R4, R5 및 R8 은 각각 독립적으로 수소 원자, 할로겐 원자 (바람직하게는 Cl), 탄소수 1 이상 20 이하의 치환 혹은 비치환의 알킬기, 식 (a) 로 나타내는 치환기 또는 식 (b) 로 나타내는 치환기이고 ;
식 (II) 에 있어서, R4, 및 R8 은 각각 독립적으로 수소 원자 또는 탄소수 1 이상 20 이하의 치환 혹은 비치환의 알킬기이다.
R1 과 R2 를 포함하여 형성되는 상기 포화 고리형 골격 (탄소수 : 5 또는 6) 및 R5 와 R6 을 포함하여 형성되는 상기 포화 고리형 골격 (탄소수 : 5 또는 6) 은, 치환기를 가지고 있어도 된다. 당해 치환기로는, 예를 들어, 탄소수 1 ∼ 4 의 알킬기를 들 수 있다. 또, R2 와 R3 을 포함하여 형성되는 상기 포화 고리형 골격 (탄소수 : 5 ∼ 7) 및 R6 과 R7 을 포함하여 형성되는 상기 포화 고리형 골격 (탄소수 : 5 ∼ 7) 은, 치환기를 가지고 있어도 된다. 당해 치환기로는, 예를 들어, 탄소수 1 ∼ 4 의 알킬기를 들 수 있다.
하나의 실시형태에 있어서는, R4 및/또는 R8 은, 치환기로서 벤젠 고리 또는 나프탈렌 고리를 갖는다.
상기 식 (I) 또는 (II) 로 나타내는 구체적인 화합물로는, 다음의 스쿠아레인계 화합물 (스쿠아릴륨계 화합물) 을 들 수 있다. 또한, 하기 표에 있어서는, 화합물의 흡수 피크가 나타나 있다. (I-1) ∼ (I-23) 에 대해서는, 지방족 폴리카보네이트에 화합물을 혼합하여 조제된 수지 조성물로 이루어지는 필름의 흡광도를 측정하여 얻어진 흡수 피크가 나타나고, (I-24) ∼ (I-27) 및 (II-1) 에 대해서는, 폴리메타크릴산메틸 수지에 화합물을 혼합하여 조제된 수지 조성물로 이루어지는 필름의 흡광도를 측정하여 얻어진 흡수 피크가 나타나 있다.
[화학식 4]
Figure pct00004
[화학식 5]
Figure pct00005
[화학식 6]
Figure pct00006
[화학식 7]
Figure pct00007
[화학식 8]
Figure pct00008
[화학식 9]
Figure pct00009
상기의 관계를 만족시키는 화합물 X 는, 색 표현에 불필요한 광원으로부터의 발광을 흡수하여, 그 발광을 억제할 수 있어, 광색역화에 유효하다. 또, 시감도가 높은 545 ㎚ 부근의 광원으로부터의 발광을 잘 흡수하지 않기 때문에, 휘도의 저하를 저감시킬 수 있다. 또한, 화합물 X 의 흡수 스펙트럼의 측정은, 분광 광도계 (주식회사 히타치 하이테크놀로지즈 제조 U-4100) 에 의해 실시한 것이다.
광학 점착 시트에 있어서의 상기 화합물의 함유량은, 화합물 X 의 흡광 계수나 (메트)아크릴계 폴리머 등의 베이스 폴리머의 종류에 따라 조정되지만, 통상, 베이스 폴리머 100 중량부에 대하여 0.01 ∼ 5 중량부인 것이 바람직하고, 나아가서는 0.05 ∼ 1 중량부가 바람직하고, 나아가서는 0.1 ∼ 0.5 중량부가 바람직하다.
A-4. 가교제
또한, 본 발명에 있어서는, 상기 화합물 X 를 함유하는 점착제층을 형성하는 점착제 조성물 중에 가교제를 함유할 수 있다. 가교제로는, 유기계 가교제나 다관능성 금속 킬레이트를 사용할 수 있다. 유기계 가교제로는, 이소시아네이트계 가교제, 에폭시계 가교제, 이민계 가교제 등을 들 수 있다. 다관능성 금속 킬레이트는, 다가 금속이 유기 화합물과 공유 결합 또는 배위 결합하고 있는 것이다. 다가 금속 원자로는, Al, Cr, Zr, Co, Cu, Fe, Ni, V, Zn, In, Ca, Mg, Mn, Y, Ce, Sr, Ba, Mo, La, Sn, Ti 등을 들 수 있다. 공유 결합 또는 배위 결합하는 유기 화합물 중의 원자로는 산소 원자 등을 들 수 있고, 유기 화합물로는 알킬에스테르, 알코올 화합물, 카르복실산 화합물, 에테르 화합물, 케톤 화합물 등을 들 수 있다.
이소시아네이트계 가교제에 관련되는 화합물로는, 예를 들어, 톨릴렌디이소시아네이트, 클로르페닐렌디이소시아네이트, 테트라메틸렌디이소시아네이트, 자일릴렌디이소시아네이트, 디페닐메탄디이소시아네이트, 수첨된 디페닐메탄디이소시아네이트 등의 이소시아네이트 모노머 및 이들 이소시아네이트 모노머를 트리메틸올프로판 등과 부가한 이소시아네이트 화합물이나 이소시아누레이트화물, 뷰렛형 화합물, 나아가서는 폴리에테르폴리올이나 폴리에스테르폴리올, 아크릴폴리올, 폴리부티디엔폴리올, 폴리이소프렌폴리올 등 부가 반응시킨 우레탄 프레폴리머형의 이소시아네이트 등을 들 수 있다. 특히 바람직하게는, 폴리이소시아네이트 화합물이고, 헥사메틸렌디이소시아네이트, 수첨 자일릴렌디이소시아네이트, 및 이소포론디이소시아네이트로 이루어지는 군에서 선택되는 1 종 또는 그것에서 유래하는 폴리이소시아네이트 화합물이다. 여기서, 헥사메틸렌디이소시아네이트, 수첨 자일릴렌디이소시아네이트, 및 이소포론디이소시아네이트로 이루어지는 군에서 선택되는 1 종 또는 그것에서 유래하는 폴리이소시아네이트 화합물에는, 헥사메틸렌디이소시아네이트, 수첨 자일릴렌디이소시아네이트, 이소포론디이소시아네이트, 폴리올 변성 헥사메틸렌디이소시아네이트, 폴리올 변성 수첨 자일릴렌디이소시아네이트, 트리머형 수첨 자일릴렌디이소시아네이트, 및 폴리올 변성 이소포론디이소시아네이트 등이 포함된다. 예시한 폴리이소시아네이트 화합물은, 수산기와의 반응이, 특히 폴리머에 포함되는 산, 염기를 촉매와 같이 하여, 신속히 진행되기 때문에, 특히 가교의 속도에 기여하여, 바람직하다.
상기 가교제의 사용량은, 점착제 조성물 중, (메트)아크릴계 폴리머 등의 베이스 폴리머 100 중량부에 대하여, 20 중량부 이하가 바람직하고, 나아가서는 0.01 ∼ 20 중량부가 바람직하고, 나아가서는 0.03 ∼ 10 중량부가 바람직하다. 또한, 상기 가교제가 20 중량부보다 많으면, 내습성이 충분하지 않고, 신뢰성 시험 등에서 벗겨짐이 발생하기 쉬워진다.
상기 점착제 조성물에 의해, 상기 화합물 X 를 갖는 광학 점착 시트를 형성하지만, 점착 시트의 형성에 있어서는, 가교제의 첨가량을 조정하는 것과 함께, 가교 처리 온도나 가교 처리 시간의 영향을 충분히 고려하는 것이 바람직하다.
사용하는 가교제에 따라 가교 처리 온도나 가교 처리 시간은, 조정이 가능하다. 가교 처리 온도는 170 ℃ 이하인 것이 바람직하다.
또, 이러한 가교 처리는, 점착 시트의 건조 공정시의 온도에서 실시해도 되고, 건조 공정 후에 별도로 가교 처리 공정을 마련하여 실시해도 된다.
또, 가교 처리 시간에 관해서는, 생산성이나 작업성을 고려하여 설정할 수 있지만, 통상 0.2 ∼ 20 분간 정도이고, 0.5 ∼ 10 분간 정도인 것이 바람직하다.
A-5. 광학용 점착 시트의 제조 방법
상기 화합물 X 를 갖는 점착 시트를 형성하는 방법으로는, 예를 들어, 상기 점착제 조성물을 박리 처리한 세퍼레이터 등에 도포하고, 중합 용제 등을 건조 제거하여 점착 시트를 형성한 후에, 상기 점착 시트의 상기 세퍼레이터가 없는 면에 다른 세퍼레이터를 형성하여, 세퍼레이터 형성 광학용 점착 시트로 할 수 있다.
박리 처리한 세퍼레이터로는, 실리콘 박리 라이너가 바람직하게 사용된다. 이와 같은 라이너 상에 본 발명의 접착제 조성물을 도포, 건조시켜 점착제층을 형성하는 공정에 있어서, 점착제를 건조시키는 방법으로는, 목적에 따라, 적절히, 적절한 방법이 채용될 수 있다. 바람직하게는, 상기 도포막을 가열 건조시키는 방법이 사용된다. 가열 건조 온도는, 바람직하게는 40 ℃ ∼ 200 ℃ 이고, 더욱 바람직하게는, 50 ℃ ∼ 180 ℃ 이고, 특히 바람직하게는 70 ℃ ∼ 170 ℃ 이다. 가열 온도를 상기의 범위로 함으로써, 우수한 점착 특성을 갖는 점착제를 얻을 수 있다.
건조 시간은, 적절히, 적절한 시간이 채용될 수 있다. 상기 건조 시간은, 바람직하게는 5 초 ∼ 20 분, 더욱 바람직하게는 5 초 ∼ 10 분, 특히 바람직하게는, 10 초 ∼ 5 분이다.
상기 점착 시트를 얻기 위해서 세퍼레이터에 점착제층을 형성하는 방법으로는, 각종 방법이 사용된다. 구체적으로는, 예를 들어, 롤 코트, 키스 롤 코트, 그라비아 코트, 리버스 코트, 롤 브러시, 스프레이 코트, 딥 롤 코트, 바 코트, 나이프 코트, 에어 나이프 코트, 커튼 코트, 립 코트, 다이 코터 등에 의한 압출 코트법 등의 방법을 들 수 있다.
상기 점착제층의 두께는, 특별히 제한되지 않고, 예를 들어, 1 ㎛ 이상 100 ㎛ 정도이다. 상기 점착제층의 두께의 하한은, 바람직하게는, 2 ㎛ 이상이고, 보다 바람직하게는 5 ㎛ 이상이다. 한편, 상기 점착제층의 두께의 상한은, 바람직하게는 50 ㎛ 이하이고, 보다 바람직하게는 40 ㎛ 이하이고, 더욱 바람직하게는 35 ㎛ 이하이다.
상기 세퍼레이터의 구성 재료로는, 예를 들어, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리에스테르 필름 등의 플라스틱 필름, 종이, 천, 부직포 등의 다공질 재료, 네트, 발포 시트, 금속박, 및 이들 라미네이트체 등의 적절한 박엽체 (薄葉體) 등을 들 수 있지만, 표면 평활성이 우수한 점에서 플라스틱 필름이 바람직하게 사용된다.
그 플라스틱 필름으로는, 상기 점착제층을 보호할 수 있는 필름이면 특별히 한정되지 않고, 예를 들어, 폴리비닐알코올 필름, 폴리에틸렌 필름, 폴리프로필렌 필름, 폴리부텐 필름, 폴리부티디엔 필름, 폴리메틸펜텐 필름, 폴리염화비닐 필름, 염화비닐 공중합체 필름, 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름, 폴리부틸렌테레프탈레이트 필름, 폴리우레탄 필름, 에틸렌-아세트산비닐 공중합체 필름 등을 들 수 있다.
상기 세퍼레이터의 두께는, 통상 5 ∼ 200 ㎛, 바람직하게는 5 ∼ 100 ㎛ 정도이다. 상기 세퍼레이터에는, 필요에 따라, 실리콘계, 불소계, 장사슬 알킬계 혹은 지방산 아미드계의 이형제, 실리카 분말 등에 의한 이형 및 방오 처리나, 도포형, 반죽형, 증착형 등의 대전 방지 처리도 할 수도 있다. 특히, 상기 세퍼레이터의 표면에 실리콘 처리, 장사슬 알킬 처리, 불소 처리 등의 박리 처리를 적절히 실시함으로써, 상기 점착제층으로부터의 박리성을 보다 높일 수 있다.
B. 점착제층 형성 편광 필름
본 발명의 광학 필름의 일 양태인 점착제층 형성 편광 필름에 대해 설명한다.
본 발명의 편광 필름은, 상기 폴리비닐알코올계 편광자를 갖는다. 감압 점착제층의 형성 양태로는, 폴리비닐알코올계 편광자를 갖는 편광 필름에 A. 색 보정 부재에서 상세히 서술한 상기 베이스 폴리머 및 상기 화합물 X 를 함유하는 점착제 조성물을 도포하고, 중합 용제 등을 건조 제거하여 감압 점착제층을 폴리비닐알코올계 편광자를 갖는 편광 필름에 형성하는 방법을 들 수 있다. 또한, 점착제 조성물의 도포에 있어서는, 적절히, 중합 용제 이외의 1 종 이상의 용제를 새롭게 첨가해도 된다. 또, 다른 감압 점착제층의 형성 양태로는, 폴리비닐알코올계 편광자를 갖는 편광 필름에, A. 색 보정 부재에서 상세히 서술한 점착 시트를 첩합 (貼合) 하여 감압 점착제층 형성 편광 필름으로 하고, 전사하는 방법도 들 수 있다.
또, 폴리비닐알코올계 편광자를 갖는 편광 필름의 표면에, 앵커층 (예를 들어 두께 0.5 ∼ 2 ㎛ 정도) 을 형성하거나, 코로나 처리, 플라즈마 처리 등의 각종 용이 접착 처리를 실시한 후에 도포 또는 전사에 의해 감압 점착제층을 형성할 수 있다. 또, 점착제층의 표면에는 용이 접착 처리를 실시해도 된다.
상기 감압 점착제층 형성 편광 필름의 감압 점착제층은, 흡수 스펙트럼의 580 ㎚ ∼ 610 ㎚ 에 흡수 피크를 갖고, 또한 흡수 스펙트럼의 580 ㎚ ∼ 610 ㎚ 에 있어서의 최대 흡수 피크의 값을 Amax 로 하고 545 ㎚ 에 있어서의 흡광도의 값 A545 로 했을 때, A545/Amax 가 A545/Amax ≤ 0.13 의 관계를 만족시킨다. 상기 흡수 스펙트럼은, 당해 감압 점착제층을 유기 용매에 분산 또는 용해시켜 분산액 또는 용액을 조제하고, 400 ㎚ ∼ 700 ㎚ 의 범위에 있어서의 상기 분산액 또는 상기 용액의 흡광도를 측정하여 얻어진다. 상기 감압 점착제층은, 바람직하게는, 흡수 스펙트럼의 530 ㎚ ∼ 570 ㎚ 의 범위 내에 흡수 피크를 갖지 않는다. 보다 구체적으로는, 상기 광학 기능 필름은, 530 ㎚ ∼ 570 ㎚ 의 범위 내에서, 흡광도 0.1 이상의 흡수 피크를 갖지 않는다. 또, 당해 감압 점착제층은, 추가적인 광색역화의 관점에서, 보다 바람직하게는, 흡수 스펙트럼의 580 ㎚ ∼ 610 ㎚ 에 갖는 흡수 피크의 반치폭이 35 ㎚ 이하이다.
상기 편광 필름은, 통상, 폴리비닐알코올계 편광자의 편면 또는 양면에는 투명 보호 필름을 갖는 것이 일반적으로 사용된다.
상기 폴리비닐알코올계 편광자는, 특별히 한정되지 않고, 각종 것을 사용할 수 있다. 편광자로는, 예를 들어, 폴리비닐알코올계 필름, 부분 포르말화 폴리비닐알코올계 필름, 에틸렌·아세트산비닐 공중합체계 부분 비누화 필름 등의 친수성 고분자 필름에, 요오드나 이색성 염료의 이색성 물질을 흡착시켜 1 축 연신한 것, 폴리비닐알코올의 탈수 처리물이나 폴리염화비닐의 탈염산 처리물 등 폴리엔계 배향 필름 등을 들 수 있다. 이들 중에서도, 폴리비닐알코올계 필름과 요오드 등의 이색성 물질로 이루어지는 편광자가 바람직하다. 이들 편광자의 두께는 특별히 제한되지 않지만, 일반적으로 80 ㎛ 정도 이하이다.
폴리비닐알코올계 필름을 요오드로 염색하고 1 축 연신한 편광자는, 예를 들어, 폴리비닐알코올계 필름을 요오드의 수용액에 침지함으로써 염색하고, 원래 길이의 3 ∼ 7 배로 연신함으로써 제조할 수 있다. 필요에 따라 붕산이나 황산아연, 염화아연 등을 포함하고 있어도 되는 요오드화칼륨 등의 수용액에 침지할 수도 있다. 또한 필요에 따라 염색 전에 폴리비닐알코올계 필름을 물에 침지하여 수세해도 된다. 폴리비닐알코올계 필름을 수세함으로써 폴리비닐알코올계 필름 표면의 오염이나 블로킹 방지제를 세정할 수 있는 것 외에, 폴리비닐알코올계 필름을 팽윤시킴으로써 염색의 불균일 등의 불균일을 방지하는 효과도 있다. 연신은 요오드로 염색한 후에 실시해도 되고, 염색하면서 연신해도 되고, 또 연신하고 나서 요오드로 염색해도 된다. 붕산이나 요오드화칼륨 등의 수용액이나 수욕 중에서도 연신할 수 있다.
또 편광자의 두께는 특별히 한정되지 않고 통상 30 ㎛ 이하이다. 박형화의 관점에서, 편광자의 두께의 상한은, 10 ㎛ 이하가 바람직하고, 7 ㎛ 이하가 보다 바람직하다. 한편 하한은 1 ㎛ 이상이다. 이와 같은 박형의 편광자는, 두께 불균일이 적고, 시인성이 우수하고, 또 치수 변화가 적기 때문에 내구성이 우수하고, 나아가서는 편광 필름으로서의 두께도 박형화가 도모되는 점이 바람직하다.
박형의 편광자로는, 대표적으로는, 일본 공개특허공보 소51-069644호나 일본 공개특허공보 2000-338329호나, WO2010/100917호 팜플렛, PCT/JP2010/001460 의 명세서, 또는 일본 특허출원 2010-269002호 명세서나 일본 특허출원 2010-263692호 명세서에 기재되어 있는 박형 편광막을 들 수 있다. 이들 박형 편광막은, 폴리비닐알코올계 수지 (이하, PVA 계 수지라고도 한다) 층과 연신용 수지 기재를 적층체의 상태에서 연신하는 공정과 염색하는 공정을 포함하는 제법에 의해 얻을 수 있다. 이 제법이면, PVA 계 수지층이 얇아도, 연신용 수지 기재에 지지되어 있음으로써 연신에 의한 파단 등의 문제 없이 연신하는 것이 가능해진다.
상기 박형 편광막으로는, 적층체의 상태에서 연신하는 공정과 염색하는 공정을 포함하는 제법 중에서도, 고배율로 연신할 수 있어 편광 성능을 향상시킬 수 있는 점에서, WO2010/100917호 팜플렛, PCT/JP2010/001460 의 명세서, 또는 일본 특허출원 2010-269002호 명세서나 일본 특허출원 2010-263692호 명세서에 기재되어 있는 바와 같은 붕산 수용액 중에서 연신하는 공정을 포함하는 제법으로 얻어지는 것이 바람직하고, 특히 일본 특허출원 2010-269002호 명세서나 일본 특허출원 2010-263692호 명세서에 기재되어 있는 붕산 수용액 중에서 연신하기 전에 보조적으로 공중 연신하는 공정을 포함하는 제법에 의해 얻어지는 것이 바람직하다.
투명 보호 필름을 구성하는 재료로는, 예를 들어 투명성, 기계적 강도, 열안정성, 수분 차단성, 등방성 등이 우수한 열가소성 수지가 사용된다. 이와 같은 열가소성 수지의 구체예로는, 트리아세틸셀룰로오스 등의 셀룰로오스 수지, 폴리에스테르 수지, 폴리에테르술폰 수지, 폴리술폰 수지, 폴리카보네이트 수지, 폴리아미드 수지, 폴리이미드 수지, 폴리올레핀 수지, (메트)아크릴 수지, 고리형 폴리올레핀 수지 (노르보르넨계 수지), 폴리아릴레이트 수지, 폴리스티렌 수지, 폴리비닐알코올 수지, 및 이들의 혼합물을 들 수 있다. 또한, 편광자의 편면에는, 투명 보호 필름이 접착제층에 의해 첩합되지만, 다른 편면에는, 투명 보호 필름으로서, (메트)아크릴계, 우레탄계, 아크릴우레탄계, 에폭시계, 실리콘계 등의 열경화성 수지 또는 자외선 경화형 수지를 사용할 수 있다. 투명 보호 필름 중에는 임의의 적절한 첨가제가 1 종류 이상 포함되어 있어도 된다. 첨가제로는, 예를 들어, 자외선 흡수제, 산화 방지제, 활제, 가소제, 이형제, 착색 방지제, 난연제, 핵제, 대전 방지제, 안료, 착색제 등을 들 수 있다. 투명 보호 필름 중의 상기 열가소성 수지의 함유량은, 바람직하게는 50 ∼ 100 중량％, 보다 바람직하게는 50 ∼ 99 중량％, 더욱 바람직하게는 60 ∼ 98 중량％, 특히 바람직하게는 70 ∼ 97 중량％ 이다. 투명 보호 필름 중의 상기 열가소성 수지의 함유량이 50 중량％ 이하인 경우, 열가소성 수지를 본래 갖는 고투명성 등이 충분히 발현될 수 없을 우려가 있다.
투명 보호 필름의 두께는, 특별히 제한되지 않고, 예를 들어, 10 ∼ 90 ㎛ 정도이다. 바람직하게는, 15 ∼ 60 ㎛, 보다 바람직하게는 20 ∼ 50 ㎛ 이다.
상기 편광자와 투명 보호 필름의 첩합에 사용하는 접착제는 광학적으로 투명하면, 특별히 제한되지 않고 수계, 용제계, 핫 멜트계, 라디칼 경화형, 카티온 경화형의 각종 형태의 것이 사용되지만, 수계 접착제 또는 라디칼 경화형 접착제가 바람직하다.
C. 액정 패널
본 발명의 감압 점착제층 형성 편광 필름은, 액정 셀의 어느 적어도 일방의 면에, 당해 감압 점착제층 형성 편광 필름의 점착제층을 개재하여 첩합되어 액정 패널을 형성한다. 본 발명의 감압 점착제층 형성 편광 필름은, 액정 셀의 시인측에 바람직하게 사용된다.
액정 셀은, 예를 들어 TN 형이나 STN 형, π 형, VA 형, IPS 형 등의 임의의 타입의 것을 사용할 수 있지만, 본 발명의 액정 패널에는, IPS 모드의 액정 셀이 바람직하게 사용된다.
액정 패널의 형성에는, 상기 편광 필름 외에, 다른 광학층을 적용할 수 있다. 그 광학층에 대해서는 특별히 한정은 없지만, 예를 들어 반사판이나 반투과판, 위상차판 (1/2 나 1/4 등의 파장판을 포함한다), 시각 보상 필름, 휘도 향상 필름 등의 액정 패널의 형성에 사용되는 경우가 있는 광학층을, 액정 셀의 시인측 및/또는 배면측에 있어서 1 층 또는 2 층 이상 사용할 수 있다.
D. 액정 표시 장치
액정 표시 장치에는, 상기 액정 패널이 사용되고, 필요에 따라 조명 시스템 등의 구성 부품을 적절히 조립하여 구동 회로를 장착하는 것 등에 의해 형성된다. 또한 액정 표시 장치의 형성시에는, 예를 들어 확산판, 안티 글레어층, 반사 방지막, 보호판, 프리즘 어레이, 렌즈 어레이 시트, 광 확산판, 백라이트 등의 적절한 부품을 적절한 위치에 1 층 또는 2 층 이상 배치할 수 있다. 또, 조명 시스템에 백라이트 혹은 반사판을 사용한 것 등의 적절한 액정 표시 장치를 형성할 수 있다.
실시예
이하에, 실시예에 의해 본 발명을 구체적으로 설명하지만, 본 발명은 이들 실시예에 의해 한정되는 것은 아니다. 또한, 각 예 중의 부 및 ％ 는 모두 중량 기준이다. 이하에 특별히 규정이 없는 실온 방치 조건은 모두 23 ℃ 65 ％RH 이다.
<흡수 스펙트럼 및 흡광도의 측정>
본 발명의 색 보정 부재 및 감압 점착제층 형성 편광 필름의 감압 점착제층의 흡수 피크 및 흡광도를 확인하기 위해서, 다음의 수법으로 흡수 스펙트럼의 측정을 실시한다.
아세트산에틸이나 톨루엔 등의 유기 용제를 용매로 하여, 점착 시트나 감압 점착제층 형성 편광 필름의 감압 점착제층을 용해 또는 분산시켜, 측정 샘플을 조제한다.
그 측정 샘플을 사용하여, 분광 광도계 (주식회사 히타치 하이테크놀로지즈 제조 U-4100) 에 의해 흡수 스펙트럼 및 흡광도를 측정한다.
상기 A545/Amax 의 값은, 흡수 스펙트럼의 580 ㎚ ∼ 610 ㎚ 에 있어서의 흡수 피크의 값 Amax 를 규격화에 의해 1 로 하고, 545 ㎚ 에 있어서의 흡광도의 값 A545 를 산출한 후에, 계산에 의해 얻어진다.
<휘도 및 색역의 측정 방법>
LG 일렉트로닉스사 제조의 액정 TV (43UF7710) 로부터 액정 패널 (IPS 모드의 액정 셀을 포함하는 액정 패널) 을 취출하고, 또한 액정 셀로부터 시인측의 감압 점착제층 형성 편광 필름을 제거하였다.
상기 점착제층 형성 편광 필름을 제거한 액정 셀의 시인측에, 실시예 및 참고예에서 제조한 감압 점착층 형성 편광 필름 (P1) 을 첩부 (貼付) 하여, 액정 패널 (C1) 을 제조하였다.
제조한 액정 패널 (C1) 을, 각각, 상기 액정 TV 로 되돌린 후, 암실에 있어서, 액정 TV 의 측정 지점을 백, 적, 청 및 녹 표시시키고, 동일한 백라이트의 조건하에서 휘도 및 색도 (x, y) 를 색채 휘도계 ((주) 탑콘 테크노 하우스 제조의 SR-UL1) 를 사용하여 측정하였다. 그리고, 각 단색 (RGB) 의 색도 좌표를 연결하여 형성되는 삼각형의 면적을 산출하고, 또, 상기 삼각형과 DCI 의 색역 규격이 겹치는 영역의 면적을 산출하고, 원래의 면적에 대한 비율을 산출하였다 (DCI 비).
<(메트)아크릴계 폴리머의 중량 평균 분자량의 측정>
(메트)아크릴계 폴리머의 중량 평균 분자량 (Mw) 은, GPC (겔·퍼미에이션·크로마토그래피) 에 의해 측정하였다. Mw/Mn 에 대해서도, 동일하게 측정하였다.
·분석 장치 : 토소사 제조, HLC-8120GPC
·칼럼 : 토소사 제조, G7000HXL + GMHXL + GMHXL
·칼럼 사이즈 : 각 7.8 ㎜φ × 30 ㎝ 계 90 ㎝
·칼럼 온도 : 40 ℃
·유량 : 0.8 ㎖/min
·주입량 : 100 ㎕
·용리액 : 테트라하이드로푸란
·검출기 : 시차 굴절계 (RI)
·표준 시료 : 폴리스티렌
실시예 1
<편광 필름의 제조>
박형 편광층을 제조하기 위해, 먼저, 비정성 PET 기재에 9 ㎛ 두께의 PVA 층이 제막 (製膜) 된 적층체를 연신 온도 130 ℃ 의 공중 보조 연신에 의해 연신 적층체를 생성하고, 다음으로, 연신 적층체를 염색에 의해 착색 적층체를 생성하고, 추가로 착색 적층체를 연신 온도 65 도의 붕산 수중 연신에 의해 총연신 배율이 5.94 배가 되도록 비정성 PET 기재와 일체로 연신된 4 ㎛ 두께의 PVA 층을 포함하는 광학 필름 적층체를 생성하였다. 이와 같은 2 단 연신에 의해 비정성 PET 기재에 제막된 PVA 층의 PVA 분자가 고차로 배향되고, 염색에 의해 흡착된 요오드가 폴리요오드 이온 착물로서 일방향으로 고차로 배향된 고기능 편광층을 구성하는, 두께 4 ㎛ 의 PVA 층을 포함하는 광학 필름 적층체를 생성할 수 있었다. 또한, 당해 광학 필름 적층체의 편광층의 표면에 폴리비닐알코올계 접착제를 도포하면서, 비누화 처리한 40 ㎛ 두께의 아크릴 수지 필름을 첩합한 후, 비정성 PET 기재를 박리하고, 그 기재가 박리된 편광층의 표면에, 동일하게 폴리비닐알코올계 접착제를 도포하면서, 비누화 처리한 40 ㎛ 두께의 아크릴 수지 필름을 첩합하여 박형 편광자를 사용한 편광 필름을 제조하였다. 이것을 박형 편광 필름이라고 한다.
<(메트)아크릴계 폴리머의 조제>
냉각관, 질소 도입관, 온도계 및 교반 장치를 구비한 반응 용기에 아크릴산부틸 100 부, 아크릴산2-하이드록시에틸 0.01 부, 및 아크릴산 5 부를 함유하는 모노머 혼합물을 주입하였다. 또한 상기 모노머 혼합물 100 부에 대하여, 중합 개시제로서 2,2'-아조비스이소부티로니트릴 0.1 부를 아세트산에틸 100 부와 함께 주입하고, 천천히 교반하면서 질소 가스를 도입하여 질소 치환한 후, 플라스크 내의 액온을 55 ℃ 부근으로 유지하고 8 시간 중합 반응을 실시하여, 중량 평균 분자량 (Mw) 180 만, Mw/Mn = 4.1 의 아크릴계 폴리머의 용액 (고형분 농도 30 중량％) 을 조제하였다.
<점착제 조성물의 조제>
상기에서 제조한 아크릴계 폴리머 용액의 고형분 100 부에 대하여, 이소시아네이트계 가교제 (토소사 제조의 상품명 콜로네이트 L) 를 1 부, 합성예 1 에서 얻어진 하기 화학식 (I-2) 로 나타내는 스쿠아레인 화합물을 0.25 부를 배합하여, 점착제 조성물을 얻었다.
또한, 화학식 (I-2) 로 나타내는 스쿠아레인 화합물은, " This compound was made in a manner similar to a published procedure : J. Chem. Soc., Perkin Trans. 2, 1998, 779." 에 기재되는 합성 방법에 의해 합성하였다.
[화학식 10]
Figure pct00010
<점착제층 형성 편광 필름의 제조>
상기 점착제 조성물을, 상기 박형 편광 필름의 일방의 아크릴 수지 필름의 면에, 애플리케이터로 균일하게 도공하고, 155 ℃ 의 공기 순환식 항온 오븐으로 2 분간 건조시키고, 상기 편광자의 표면에 두께 20 ㎛ 의 상기 화학식 (I-2) 로 나타내는 스쿠아레인 화합물을 갖는 감압 점착제층을 형성하여, 감압 점착제층 형성 편광 필름을 제조하였다.
얻어진 감압 점착제층 형성 편광 필름의 점착제층을 아세트산에틸에 용해, 희석시켜, 흡수 스펙트럼을 측정하였다. 당해 흡수 스펙트럼은, 파장 586 ㎚ 에 흡수 피크를 가지고 있고, 당해 흡수 피크의 반치폭은 27 ㎚ 이었다. 또, 당해 흡수 스펙트럼에 있어서, 파장 586 ㎚ 에 있어서의 흡수 피크의 값 Amax 를 1 로 규격화했을 때, 파장 545 ㎚ 에 있어서의 흡광도 A545 의 값은 0.13 이었다. 이것으로부터, A545/Amax 는 0.13 이었다.
실시예 2
화학식 (I-2) 로 나타내는 스쿠아레인 화합물 대신에, 화학식 (I-27) 로 나타내는 스쿠아레인 화합물을 사용한 것 이외에는, 실시예 1 과 동일하게 하여, 점착제층 형성 편광 필름을 얻었다.
또한, 화학식 (I-27) 로 나타내는 스쿠아레인 화합물은, 이하의 방법으로 합성하였다.
<스쿠아레인 화합물의 합성>
아르곤 분위기하에서, 2-메틸시클로펜타논 0.42 g 을 1-메틸시클로헥산올 10 ㎖ 에 용해시켰다. 얻어진 용액에, 1-나프틸메틸아민 0.74 g 을 첨가하고, 80 ℃ 의 오일 배스에서 40 분간 가열하였다. 이어서, 당해 용액에, 디클로로(p-시멘)루테늄 (II) 다이머 26 ㎎ 과, 잔트포스 50 ㎎ 과, 에틸렌글리콜 0.53 ㎖ 를 첨가하고, 145 ℃ 에서 24 시간 가열하였다. 이어서, 아세트산에틸-헥산 구배에 의한 실리카 겔 크로마토그래피를 사용하여 잔류물을 정제하였다. 180 ㎎ 의 피롤 생성물이 얻어지고, 이것을 2.5 ㎖ 의 에탄올에 용해시키고, 스쿠아르산 39 ㎎ 을 첨가하고, 80 ℃ 에서 2.5 시간 가열하였다. 얻어진 슬러리를 냉각시키고, 생성물을 여과 채취하였다. 여과 채취한 생성물을 75 ℃ 에서 감압 건조시켜, 148 ㎎ 의 스쿠아레인 화합물을 얻었다.
[화학식 11]
Figure pct00011
얻어진 감압 점착제층 형성 편광 필름의 점착제층을 아세트산에틸에 용해, 희석시켜, 흡수 스펙트럼을 측정하였다. 당해 흡수 스펙트럼은, 파장 594 ㎚ 에 흡수 피크를 가지고 있고, 당해 흡수 피크의 반치폭은 23 ㎚ 이었다. 또, 당해 흡수 스펙트럼에 있어서, 파장 594 ㎚ 에 있어서의 흡수 피크의 값 Amax 를 1 로 규격화했을 때, 파장 545 ㎚ 에 있어서의 흡광도 A545 의 값은 0.10 이었다. 이것으로부터, A545/Amax 는 0.10 이었다.
참고예 1
실시예 1 에 있어서, 상기 화학식 (I-2) 로 나타내는 스쿠아레인 화합물 대신에, 포르피린계 색소 (야마모토 화성사 제조의 상품명 PD-320) 를 사용한 것 이외에는 동일하게 하여 감압 점착제층 형성 편광 필름을 제조하였다.
실시예 1 과 동일하게 하여, 감압 점착제층의 흡수 스펙트럼을 측정하였다. 당해 흡수 스펙트럼은, 파장 595 ㎚ 에 흡수 피크를 가지고 있고, 당해 흡수 피크의 반치폭은 25 ㎚ 이었다. 또, 당해 흡수 스펙트럼에 있어서, 파장 595 ㎚ 에 있어서의 흡수 피크의 값 Amax 를 1 로 규격화했을 때, 파장 545 ㎚ 에 있어서의 흡광도 A545 의 값은 0.16 이었다. 이것으로부터, A545/Amax 는 0.16 이었다.
참고예 2
실시예 1 에 있어서, 상기 화학식 (I-2) 로 나타내는 스쿠아레인 화합물을 첨가하지 않는 것 이외에는 동일하게 하여 감압 점착제층 형성 편광 필름을 제조하였다.
실시예 1 그리고 참고예 1 및 2 의 평가 결과를 표 1 에 기재한다.
Figure pct00012
표 1 의 평가 결과 의하면, 화상 표시 장치로 했을 때, 본 발명의 색 보정 부재를 사용한 편광 필름은, 색 보정 기능을 갖지 않는 종래의 점착제층 형성 편광 필름인 참고예 2 와 비교하여, 양호한 색역 확대 기능을 갖는 것을 알 수 있다. 또, 종래의 색역 확대 기능을 갖는 점착제층 형성 편광 필름인 참고예 1 과 비교하여, 색역 확대 기능을 향상시킬 뿐만 아니라, 휘도를 향상시킬 수 있는 것을 알 수 있다.

Claims (8)

  1. 흡수 스펙트럼의 580 ㎚ ∼ 610 ㎚ 에 있어서의 흡수 피크의 값을 Amax 로 하고 545 ㎚ 에 있어서의 흡광도의 값 A545 로 했을 때의 A545/Amax 가 A545/Amax ≤ 0.13 의 관계를 만족시키는 것을 특징으로 하는 색 보정 부재.
    (단, 상기 흡수 스펙트럼은, 상기 색 보정 부재를 유기 용매에 분산 또는 용해시켜 분산액 또는 용액을 조제하고, 400 ㎚ ∼ 700 ㎚ 의 범위에 있어서의 상기 분산액 또는 상기 용액의 흡광도를 측정하여 얻어진다.)
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 흡수 스펙트럼의 530 ㎚ ∼ 570 ㎚ 에 흡수 피크를 갖지 않는 것을 특징으로 하는 색 보정 부재.
  3. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
    상기 580 ㎚ ∼ 610 ㎚ 에 갖는 흡수 피크의 반치폭이 35 ㎚ 이하인 것을 특징으로 하는 색 보정 부재.
  4. 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 색 보정 부재는 하기 식 (I) 로 나타내는 화합물을 함유하는 것을 특징으로 하는 색 보정 부재 :
    Figure pct00013

    식 (I) 에 있어서, R1, R2, R3, R4, R5, R6, R7 및 R8 은 각각 독립적으로 수소 원자, 할로겐 원자, 탄소수 1 이상 20 이하의 치환 혹은 비치환의 알킬기, 식 (a) 로 나타내는 치환기 또는 식 (b) 로 나타내는 치환기이거나 ;
    R1 과 R2 가 5 또는 6 의 탄소 원자로 구성되는 포화 고리형 골격을 형성하고, R3, R4, R5, R6, R7 및 R8 은 각각 독립적으로 수소 원자, 할로겐 원자 (바람직하게는 Cl), 탄소수 1 이상 20 이하의 치환 혹은 비치환의 알킬기, 식 (a) 로 나타내는 치환기 또는 식 (b) 로 나타내는 치환기이거나 ;
    R2 와 R3 이 5 ∼ 7 의 탄소 원자로 구성되는 포화 고리형 골격을 형성하고, R1, R4, R5, R6, R7 및 R8 은 각각 독립적으로 수소 원자, 할로겐 원자 (바람직하게는 Cl), 탄소수 1 이상 20 이하의 치환 혹은 비치환의 알킬기, 식 (a) 로 나타내는 치환기 또는 식 (b) 로 나타내는 치환기이거나 ;
    R5 와 R6 이 5 또는 6 의 탄소 원자로 구성되는 포화 고리형 골격을 형성하고, R1, R2, R3, R4, R7 및 R8 은 각각 독립적으로 수소 원자, 할로겐 원자 (바람직하게는 Cl), 탄소수 1 이상 20 이하의 치환 혹은 비치환의 알킬기, 식 (a) 로 나타내는 치환기 또는 식 (b) 로 나타내는 치환기이거나 ;
    R6 과 R7 이 5 ∼ 7 의 탄소 원자로 구성되는 포화 고리형 골격을 형성하고, R1, R2, R3, R4, R5 및 R8 은 각각 독립적으로 수소 원자, 할로겐 원자 (바람직하게는 Cl), 탄소수 1 이상 20 이하의 치환 혹은 비치환의 알킬기, 식 (a) 로 나타내는 치환기 또는 식 (b) 로 나타내는 치환기이거나 ;
    R1 과 R2 가 5 또는 6 의 탄소 원자로 구성되는 포화 고리형 골격을 형성하고, R5 와 R6 이 5 또는 6 의 탄소 원자로 구성되는 포화 고리형 골격을 형성하고, R3, R4, R7 및 R8 은 각각 독립적으로 수소 원자, 할로겐 원자 (바람직하게는 Cl), 탄소수 1 이상 20 이하의 치환 혹은 비치환의 알킬기, 식 (a) 로 나타내는 치환기 또는 식 (b) 로 나타내는 치환기이거나 ; 혹은,
    R2 와 R3 이 5 ∼ 7 의 탄소 원자로 구성되는 포화 고리형 골격을 형성하고, R6 과 R7 이 5 ∼ 7 의 탄소 원자로 구성되는 포화 고리형 골격을 형성하고, R1, R4, R5 및 R8 은 각각 독립적으로 수소 원자, 할로겐 원자 (바람직하게는 Cl), 탄소수 1 이상 20 이하의 치환 혹은 비치환의 알킬기, 식 (a) 로 나타내는 치환기 또는 식 (b) 로 나타내는 치환기이고 ;
    식 (II) 에 있어서, R4, 및 R8 은 각각 독립적으로 수소 원자 또는 탄소수 1 이상 20 이하의 치환 혹은 비치환의 알킬기이다.
  5. 편광 필름과 감압 점착제층을 갖는 광학 필름으로서,
    상기 감압 점착제층은, 흡수 스펙트럼의 580 ㎚ ∼ 610 ㎚ 에 있어서의 흡광 피크의 값을 Amax 로 하고 상기 흡수 스펙트럼의 545 ㎚ 에 있어서의 흡광도의 값 A545 로 했을 때, A545/Amax 가 A545/Amax ≤ 0.13 의 관계를 만족시키는 것을 특징으로 하는 광학 필름.
    (단, 상기 흡수 스펙트럼은, 상기 감압 점착제층을 유기 용매에 분산 또는 용해시켜 분산액 또는 용액을 조제하고, 400 ㎚ ∼ 700 ㎚ 의 범위에 있어서의 상기 분산액 또는 상기 용액의 흡광도를 측정하여 얻어진다.)
  6. 제 5 항에 있어서,
    상기 감압 점착제층은, 흡수 스펙트럼의 530 ㎚ ∼ 570 ㎚ 에, 흡수 피크를 갖지 않는 것을 특징으로 하는 광학 필름.
  7. 제 5 항 또는 제 6 항에 있어서,
    상기 580 ㎚ ∼ 610 ㎚ 에 있어서의 흡수 피크의 반치폭이 35 ㎚ 이하인 것을 특징으로 하는 광학 필름.
  8. 제 5 항 내지 제 7 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 감압 점착제층에 하기 식 (I) 로 나타내는 화합물을 함유하는 것을 특징으로 하는 광학 필름 :
    Figure pct00014

    식 (I) 에 있어서, R1, R2, R3, R4, R5, R6, R7 및 R8 은 각각 독립적으로 수소 원자, 할로겐 원자, 탄소수 1 이상 20 이하의 치환 혹은 비치환의 알킬기, 식 (a) 로 나타내는 치환기 또는 식 (b) 로 나타내는 치환기이거나 ;
    R1 과 R2 가 5 또는 6 의 탄소 원자로 구성되는 포화 고리형 골격을 형성하고, R3, R4, R5, R6, R7 및 R8 은 각각 독립적으로 수소 원자, 할로겐 원자 (바람직하게는 Cl), 탄소수 1 이상 20 이하의 치환 혹은 비치환의 알킬기, 식 (a) 로 나타내는 치환기 또는 식 (b) 로 나타내는 치환기이거나 ;
    R2 와 R3 이 5 ∼ 7 의 탄소 원자로 구성되는 포화 고리형 골격을 형성하고, R1, R4, R5, R6, R7 및 R8 은 각각 독립적으로 수소 원자, 할로겐 원자 (바람직하게는 Cl), 탄소수 1 이상 20 이하의 치환 혹은 비치환의 알킬기, 식 (a) 로 나타내는 치환기 또는 식 (b) 로 나타내는 치환기이거나 ;
    R5 와 R6 이 5 또는 6 의 탄소 원자로 구성되는 포화 고리형 골격을 형성하고, R1, R2, R3, R4, R7 및 R8 은 각각 독립적으로 수소 원자, 할로겐 원자 (바람직하게는 Cl), 탄소수 1 이상 20 이하의 치환 혹은 비치환의 알킬기, 식 (a) 로 나타내는 치환기 또는 식 (b) 로 나타내는 치환기이거나 ;
    R6 과 R7 이 5 ∼ 7 의 탄소 원자로 구성되는 포화 고리형 골격을 형성하고, R1, R2, R3, R4, R5 및 R8 은 각각 독립적으로 수소 원자, 할로겐 원자 (바람직하게는 Cl), 탄소수 1 이상 20 이하의 치환 혹은 비치환의 알킬기, 식 (a) 로 나타내는 치환기 또는 식 (b) 로 나타내는 치환기이거나 ;
    R1 과 R2 가 5 또는 6 의 탄소 원자로 구성되는 포화 고리형 골격을 형성하고, R5 와 R6 이 5 또는 6 의 탄소 원자로 구성되는 포화 고리형 골격을 형성하고, R3, R4, R7 및 R8 은 각각 독립적으로 수소 원자, 할로겐 원자 (바람직하게는 Cl), 탄소수 1 이상 20 이하의 치환 혹은 비치환의 알킬기, 식 (a) 로 나타내는 치환기 또는 식 (b) 로 나타내는 치환기이거나 ; 혹은,
    R2 와 R3 이 5 ∼ 7 의 탄소 원자로 구성되는 포화 고리형 골격을 형성하고, R6 과 R7 이 5 ∼ 7 의 탄소 원자로 구성되는 포화 고리형 골격을 형성하고, R1, R4, R5 및 R8 은 각각 독립적으로 수소 원자, 할로겐 원자 (바람직하게는 Cl), 탄소수 1 이상 20 이하의 치환 혹은 비치환의 알킬기, 식 (a) 로 나타내는 치환기 또는 식 (b) 로 나타내는 치환기이고 ;
    식 (II) 에 있어서, R4 및 R8 은 각각 독립적으로 수소 원자 또는 탄소수 1 이상 20 이하의 치환 혹은 비치환의 알킬기이다.
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