KR20190139283A - 어레이 기판 구조체 및 어레이 기판의 제조방법 - Google Patents

어레이 기판 구조체 및 어레이 기판의 제조방법 Download PDF

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KR20190139283A
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Abstract

본 발명은 어레이 기판 구조체 및 어레이 기판의 제조방법에 관한 것이다. 상기 어레이 기판의 제조방법은: 기판(30) 상에 제1 금속층(31)을 제조하고, 제1 금속층(31)을 패터닝하고, 게이트 전극(32)을 제조하는, 단계 1; 기판(30) 상에 게이트 절연층(33)을 제조하고, 액티브층(34)을 제조하는, 단계 2; 상기 게이트 절연층(33) 상에 제1 금속층(31)에 대응하여 제1 스루홀(38)을 형성하는, 단계 3; 게이트 절연층(33) 상에 제2 금속층(35)을 제조하고, 제2 금속층(35)을 패터닝하고, 소스/드레인 전극(36)을 제조하고, 액티브층(34)에 대응하여 제2 스루홀(39)을 형성하고, 제1 금속층(31)과 제2 금속층(35)은 제1 스루홀(38)에서 연결되는, 단계 4; 픽셀 전극(37)을 제조하고, 픽셀 전극(37)과 소스/드레인 전극(36)은 제2 스루홀(39)에서 직접 연결되고, 제2 금속층(35)은 픽셀 전극(37)에 의해 커버되어 보호되는, 단계 5;를 포함한다. 또한, 이에 대응하는 어레이 기판 구조체를 더 제공한다. 상기 방안은 고해상도에서의 픽셀 개구율 및 액정 디스플레이의 디스플레이 효과 및 품질을 향상시키고, 패널의 전기적 특성을 개선한다.

Description

어레이 기판 구조체 및 어레이 기판의 제조방법
본 발명은 액정 디스플레이 분야에 관한 것으로, 특히 어레이 기판 구조체 및 어레이 기판의 제조방법에 관한 것이다.
액정 디스플레이는 현재 가장 널리 사용되고 있는 패널 디스플레이로서, 휴대 전화, 개인 휴대 정보 단말기(PDA), 디지털 카메라, 컴퓨터 스크린 또는 노트북 스크린과 같은 다양한 전자장치에 광범위하게 사용되고 있는 고해상도 컬러 스크린 디스플레이이다. 현재 일반적으로 사용되는 액정 디스플레이는, 통상적으로 상부 및 하부 기판과 중간 액정층으로 구성되고, 기판은 유리와 전극 등으로 구성된다. 상부 및 하부 기판 모두가 전극을 갖는 경우, 종방향 전계 모드의 디스플레이를 형성할 수 있는데, 예를 들어 트위스트 네마틱(TN, Twist Nematic) 모드, 수직 배향(VA, Vertical Alignment) 모드, 및 시야각이 너무 좁은 문제를 해결하기 위해 개발한 다중-도메인 수직 배향(MVA, Multi-domain Vertical Alignment) 모드가 있다. 상술의 디스플레이과 달리, 다른 한 종류의 디스플레이에서 전극은 기판의 일측에만 위치하여, 횡방향 전계 모드의 디스플레이를 형성하는데, 예를 들어 인-플레인 스위칭(IPS, In-plane switching) 모드, 프린지 필드 스위칭(FFS, Fringe Field Switching) 모드 등이 있다.
박막 트랜지스터 디스플레이는 높은 개구율, 고해상도, 넓은 시야각 등 특징으로 액정 TV와 같은 큰 사이즈의 패널에 사용되고 있으나, 고해상도 패널에서, 종래의 제조 공정의 방법으로 설계된 경우, 픽셀 개구율이 낮고, 프레임 폭의 어레이 기판의 행 구동(GOA） 회로가 넓다.
도 1은 종래의 어레이 기판의 5 포토 마스크 제조 공정의 예시도이다. 종래의 5 포토 마스크 제조 공정은 주로: 기판(10)을 제공하고, 기판(10) 상에 제1 금속층(11)을 제조하고, 제1 포토 마스크를 통하여 제1 금속층(11)을 패터닝하고, 게이트(Gate) 전극(12)을 제조하고, 게이트 전극(12) 외의 제1 금속층(11)은 스캐닝 라인과 공통 전극 라인 등 구조를 형성할 수 있고; 기판(10) 상에 게이트 절연층（GI, 13)을 제조하고, 제2 포토 마스크를 통하여 액티브층(14)을 제조하고; 제2 금속층(15)을 제조하고, 제3 포토 마스크를 통하여 제2 금속층(15)을 패터닝하고, 소스/드레인（Source/Drain） 전극(16)을 제조하고, 소스/드레인 전극(16) 외의 제2 금속층(15)은 데이타 라인 등 구조를 형성할 수 있고; 보호층(17)을 제조하고, 제4 포토 마스크의 제조를 통하여 보호층(17) 상에 스루홀을 형성하고, 스루홀의 위치는 소스/드레인 전극(16), 액정 디스플레이 주변 구동회로 부분의 제1 금속층(11)과 제2 금속층(15)에 각각 대응되고; 제5 포토 마스크를 통하여 픽셀 전극(18)을 제조하고, 픽셀 전극의 재료는 인듐 주석 산화물（ITO）일 수 있는 것을 포함한다.
도 2는 종래의 5 포토 마스크 제조 공정에 따른 픽셀 구조의 예시도이고, 도면은 VA픽셀 구조를 나타냈으나, VA 픽셀 외에 IPS등 픽셀 구조일 수도 있다. 액티브층（Active layer）및 그 주변의 게이트 전극, 소스 전극 및 드레인 전극은 픽셀 전극（Pixel electrode）을 구동하는 박막 트랜지스터를 구성하고, 픽셀 전극과 소스/드레인 전극은 스루홀（VIA）을 통하여 서로 연결된다. 액정 디스플레이 주변 구동회로는 주로 스캐닝 라인（Gate line）, 데이타 라인（Data line）, 공통 전극 라인（Com line）을 포함한다.
상기 기술에 따라 제조된 고해상도 액정 디스플레이의 단점은 아래와 같다:
1. 픽셀 내의 소스/드레인（Source/Drain）전극과 픽셀 전극의 연결에 스루홀이 필요하는데, 고해상도 액정 디스플레이에서, 상기 스루홀은 액정 디스플레이의 개구율을 낮추고, 나아가 액정 디스플레이의 액정 효율에 영향을 준다.
2. 액정 디스플레이 주변 구동회로에서, 제1층 금속과 제2 층 금속의 연결에 ITO브리징이 필요하는데, 상기 브리징 구조는 프레임을 추가하고, 특히 GOA회로의 면적에 영향을 주고, 또한 ITO브리징 구조는 브리징의 저항을 증가시켜 패널의 전기적 특성에 영향을 준다.
본 발명의 목적은 고해상도 액정 디스플레이의 투과율을 향상시키고, 프레임의 폭을 줄이는 어레이 기판의 제조방법을 제공하기 위한 것이다.
본 발명의 또 다른 목적은 액정 디스플레이의 투과율을 향상시키고, 프레임의 폭을 줄이는 어레이 기판 구조체를 제공하기 위한 것이다.
상기 목적을 실현하기 위하여, 본 발명은 어레이 기판의 제조방법을 제공하고,
기판을 제공하고, 기판 상에 제1 금속층을 제조하고, 제1 포토 마스크를 통하여 제1 금속층을 패터닝하고, 게이트 전극을 제조하는, 단계 1;
기판 상에 게이트 절연층을 제조하고, 제2 포토 마스크를 통하여 액티브층을 제조하는, 단계 2;
제3 포토 마스크를 통하여 상기 게이트 절연층 상에 제1 금속층에 대응하여 제1 스루홀을 형성하는, 단계 3;
게이트 절연층 상에 제2 금속층을 제조하고, 제4 포토 마스크를 통하여 제2 금속층을 패터닝하고, 소스/드레인 전극을 제조하고, 액티브층에 대응하여 제2 스루홀을 형성하고, 제1 금속층과 제2 금속층은 제1 스루홀에서 연결되는, 단계 4;
제5 포토 마스크를 통하여 픽셀 전극을 제조하고, 픽셀 전극과 소스/드레인 전극은 제2 스루홀에서 직접 연결되고, 제2 금속층은 픽셀 전극에 의해 커버되어 보호되는, 단계 5;를 포함한다.
상기 어레이 기판은 VA형 액정 디스플레이의 어레이 기판이다.
상기 어레이 기판은 IPS형 액정 디스플레이의 어레이 기판이다.
상기 픽셀 전극 재료는 인듐 주석 산화물이다.
상기 단계 1에서, 상기 제1 금속층을 패터닝한 후 스캐닝 라인과 공통 전극 라인을 더 형성한다.
상기 단계 4에서, 상기 제2 금속층을 패터닝한 후 데이타 라인을 더 형성한다.
본 발명은 이에 대응하는 어레이 기판 구조체를 더 제공하는데, 층별 순차적으로 제조된 기판, 제1 금속층과 게이트 전극, 게이트 절연층, 액티브층, 제2 금속층과 소스/드레인 전극, 및 픽셀 전극을 포함하고; 상기 게이트 절연층 상에 제1 금속층에 대응하여 제1 스루홀을 설치하고, 소스/드레인 전극은 액티브층의 위치에 대응하여 제2 스루홀을 형성하고, 제1 금속층과 제2 금속층은 제1 스루홀에서 연결되고, 픽셀 전극과 소스/드레인 전극은 제2 스루홀에서 직접 연결되고, 제2 금속층은 픽셀 전극에 의해 커버되어 보호된다.
상기 어레이 기판은 VA형 액정 디스플레이의 어레이 기판이다.
상기 어레이 기판은 IPS형 액정 디스플레이의 어레이 기판이다.
상기 픽셀 전극의 재료는 인듐 주석 산화물이다.
본 발명은 어레이 기판의 제조방법을 더 제공하고,
기판을 제공하고, 기판 상에 제1 금속층을 제조하고, 제1 포토 마스크를 통하여 제1 금속층을 패터닝하고, 게이트 전극을 제조하는, 단계 1;
기판 상에 게이트 절연층을 제조하고, 제2 포토 마스크를 통하여 액티브층을 제조하는, 단계 2;
제3 포토 마스크를 통하여 게이트 절연층 상에 제1 금속층에 대응하여 제1 스루홀을 형성하는, 단계 3;
게이트 절연층 상에 제2 금속층을 제조하고, 제4 포토 마스크를 통하여 제2 금속층을 패터닝하고, 소스/드레인 전극을 제조하고, 액티브층에 대응하여 제2 스루홀을 형성하고, 제1 금속층과 제2 금속층은 제1 스루홀에서 연결되는, 단계 4;
제5 포토 마스크를 통하여 픽셀 전극을 제조하고, 픽셀 전극과 소스/드레인 전극은 제2 스루홀에서 직접 연결되고, 제2 금속층은 픽셀 전극에 의해 커버되어 보호되는, 단계 5;를 포함하고,
상기 단계 1에서, 상기 제1 금속층을 패터닝한 후 스캐닝 라인과 공통 전극 라인을 더 형성하고;
상기 단계 4에서, 상기 제2 금속층을 패터닝한 후 데이타 라인을 더 형성한다.
이상과 같이, 본 발명의 어레이 기판 구조체 및 어레이 기판의 제조 방법은 고해상도에서의 픽셀 개구율과 액정 디스플레이의 디스플레이 효과 및 품질을 향상시키고, 패널의 전기적 특성을 개선한다.
이하에서, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 구체적인 실시예들을 자세히 설명하고, 본 발명의 기술 방안 및 기타 유익한 효과는 명백하게 설명될 것이다.
도면에서,
도 1은 종래의 어레이 기판의 5 포토 마스크 제조 공정의 예시도이다.
도 2는 종래의 5 포토 마스크 제조 공정에 따른 픽셀 구조의 예시도이다.
도 3은 본 발명의 어레이 기판의 제조방법의 제조 공정 예시도이다.
도 4는 본 발명의 어레이 기판의 픽셀 구조의 예시도이다.
도 5는 본 발명의 어레이 기판의 픽셀 구조의 층별 예시도이다.
도 6은 본 발명의 어레이 기판의 제조방법의 흐름도이다.
도 6은 본 발명의 어레이 기판의 제조방법의 흐름도이고, 상기 방법은 주로 아래 단계를 포함한다:
단계 1, 기판을 제공하고, 기판 상에 제1 금속층을 제조하고, 제1 포토 마스크를 통하여 제1 금속층을 패터닝하고, 게이트 전극을 제조한다;
단계 2, 기판 상에 게이트 절연층을 제조하고, 제2 포토 마스크를 통하여 액티브층을 제조한다;
단계 3, 제3 포토 마스크를 통하여 게이트 절연층 상에 제1 금속층에 대응하여 제1 스루홀을 형성한다;
단계 4, 게이트 절연층 상에 제2 금속층을 제조하고, 제4 포토 마스크를 통하여 제2 금속층을 패터닝하고, 소스/드레인 전극을 제조하고, 액티브층에 대응하여 제2 스루홀을 형성하고, 제1 금속층과 제2 금속층은 제1 스루홀에서 연결된다;
단계 5, 제5 포토 마스크를 통하여 픽셀 전극을 제조하고, 픽셀 전극과 소스/드레인 전극은 제2 스루홀에서 직접 연결되고, 제2 금속층은 픽셀 전극에 의해 커버되어 보호된다.
본 발명은 새로운 액정 디스플레이 어레이 기판의 제조 공정을 제공하는데, 해당 공정에서, 제1 금속층과 제2 금속층은 스루홀을 통하여 직접 연결되고, 제2 금속층은 ITO를 사용하여 커버되어 보호되고, 상기 제조 공정에 따라 제조된 액정 디스플레이는 높은 픽셀 개구율과 협소 프레임 등 장점을 가지고 있다.
도 3은 본 발명의 어레이 기판의 제조방법의 제조 공정의 예시도이고, 본 발명의 어레이 기판의 제조방법을 더 설명하기 위한 것이다.
기판(30)을 제공하고, 기판(30) 상에 제1 금속층(31)을 제조하고, 제1 포토 마스크를 통하여 제1 금속층(31)을 패터닝하고, 게이트 전극(32)을 제조하고, 게이트 전극(32) 외의 제1 금속층(31)은 스캐닝 라인과 공통 전극 라인 등 구조를 형성할 수 있다;
다음으로, 기판(30) 상에 게이트 절연층(33)을 제조하고, 제2 포토 마스크를 통하여 액티브층(34)을 제조한다;
제3 포토 마스크를 통하여 게이트 절연층(33) 상에 제1 금속층(31)에 대응하여 제1 스루홀(38)을 형성하고, 제1 스루홀(38)의 위치는 액정 디스플레이 주변 구동회로 부분의 제1 금속층(31)에 대응한다;
게이트 절연층(33) 상에 제2 금속층(35)을 제조하고, 제4 포토 마스크를 통하여 제2 금속층(35)을 패터닝하고, 소스/드레인 전극(36)을 제조하고, 액티브층(34)의 위치에 대응하여 제2 스루홀(39)을 형성하고, 제1 금속층(31)과 제2 금속층(35)은 제1 스루홀(38)에서 연결되고, 소스/드레인 전극(36) 외의 제2 금속층(35)은 데이타 라인 등 구조를 형성할 수 있다;
제5 포토 마스크를 통하여 픽셀 전극(37)을 제조하고, 픽셀 전극(37)과 소스/드레인 전극(36)은 제2 스루홀(39)에서 직접 연결되고, 제2 금속층(35)은 픽셀 전극(37)에 의해 커버되어 보호되고, 픽셀 전극(37)의 재료는 인듐 주석 산화물(ITO）일 수 있다.
본 발명의 공정에서, 제1 금속층(31)과 제2 금속층(35)은 제1 스루홀(38)을 통하여 직접 연결되고, 제2 금속층(35)은 ITO를 사용하여 커버되어 보호된다.
본 발명의 어레이 기판의 제조방법에 따라, 본 발명은 이에 대응하는 어레이 기판 구조체를 제공하고, 도 3과 같이, 층별 순차적으로 제조된 기판(30), 제1 금속층(31)과 게이트 전극(32), 게이트 절연층(33), 액티브층(34), 제2 금속층(35)과 소스/드레인 전극(36), 및 픽셀 전극(37)을 포함하고; 게이트 절연층(33) 상에 제1 금속층(31)에 대응하여 제1 스루홀(38)을 설치하고, 소스/드레인 전극(36)은 액티브층(34)의 위치에 대응하여 제2 스루홀(39)을 형성하고, 제1 금속층(31)과 제2 금속층(35)은 제1 스루홀(38)에서 연결되고, 픽셀 전극(37)과 소스/드레인 전극(36)은 제2 스루홀(39)에서 직접 연결되고, 제2 금속층(35)은 픽셀 전극(37)에 의해 커버되어 보호된다.
도 4는 본 발명의 어레이 기판의 픽셀 구조의 예시도이다. 도면은 VA 픽셀 구조를 나타냈으나, VA 픽셀 외에 IPS 등 픽셀 구조일 수도 있다. 액티브층（Active layer） 및 그 주변의 게이트 전극, 소스 전극과 드레인 전극은 픽셀 전극（Pixel electrode）을 구동하는 박막 트랜지스터를 구성하고, 픽셀 전극과 소스/드레인 전극은 액티브층 위치의 스루홀에서 직접 연결된다. 액정 디스플레이 주변 구동회로는 주로 스캐닝 라인（Gate line）, 데이타 라인（Data line）, 공통 전극 라인（Com line）을 포함한다.
상기 기술에 따라 제조된 고해상도 액정 디스플레이의 장점은 아래와 같다:
1. 픽셀 내의 소스/드레인 전극과 픽셀 전극은 스루홀을 통하여 직접 연결되어, 고해상도 액정 디스플레이에서, 해당 스루홀을 통하여 액정 디스플레이의 개구율을 높이고, 나아가 액정 디스플레이의 액정 효율을 향상시킨다.
2. 액정 디스플레이 주변 구동회로에서, 제1 금속층과 제2 금속층의 연결에 ITO브리징을 사용하지 않으므로, 본 발명의 브리징 방식은 프레임의 폭을 줄이고, 특히 GOA회로의 면적을 감소시키고, 또한, 해당 브리징 방식은 브리징의 저항을 낮추어 패널의 전기적 특성을 개선한다.
도 5는 본 발명의 어레이 기판의 픽셀 구조의 층별 예시도이고, 도 4의 픽셀구조를 층별로 설명하였고, 5 포토 마스크 제조 공정에 대응할 수 있다. 제1 포토 마스크 제조 공정은, 게이트 전극 및 기타 제1 금속층의 패턴을 형성하고, 스캐닝 라인과 공통 전극 라인 등을 포함할 수 있고; 제2 포토 마스크 제조 공정은, 게이트 전극의 위치에 대응하여 액티브층을 형성하고; 제3 포토 마스크 제조 공정은, 나머지 제1 금속층 패턴에 대응하여 스루홀을 형성하고; 제4 포토 마스크 제조 공정은, 소스/드레인 전극을 형성하고; 제5 포토 마스크 제조 공정은, 픽셀 전극을 형성하고, 제2 금속층은 인듐 주석 산화물을 이용하여 커버되어 보호된다.
이상과 같이, 본 발명의 어레이 기판 구조체 및 어레이 기판의 제조방법은 고해상도에서의 픽셀 개구율과 액정 디스플레이의 디스플레이 효과 및 품질을 향상시키고, 패널의 전기적 특성을 개선한다.
상술한 내용에 있어서, 해당 기술 분야의 통상의 지식을 가진 자라면 본 발명의 기술방안과 기술 구상으로부터 다양한 수정 및 변형이 가능하고, 이러한 수정 및 변형도 후술되는 특허청구범위의 보호범위에 속한다.

Claims (14)

  1. 어레이 기판의 제조방법에 있어서,
    기판을 제공하고, 기판 상에 제1 금속층을 제조하고, 제1 포토 마스크를 통하여 제1 금속층을 패터닝하고, 게이트 전극을 제조하는, 단계 1;
    기판 상에 게이트 절연층을 제조하고, 제2 포토 마스크를 통하여 액티브층을 제조하는, 단계 2;
    제3 포토 마스크를 통하여 상기 게이트 절연층 상에 제1 금속층에 대응하여 제1 스루홀을 형성하는, 단계 3;
    게이트 절연층 상에 제2 금속층을 제조하고, 제4 포토 마스크를 통하여 제2 금속층을 패터닝하고, 소스/드레인 전극을 제조하고, 액티브층에 대응하여 제2 스루홀을 형성하고, 제1 금속층과 제2 금속층은 제1 스루홀에서 연결되는, 단계 4;
    제5 포토 마스크를 통하여 픽셀 전극을 제조하고, 픽셀 전극과 소스/드레인 전극은 제2 스루홀에서 직접 연결되고, 제2 금속층은 픽셀 전극에 의해 커버되어 보호되는, 단계 5;를 포함하는, 어레이 기판의 제조방법.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 어레이 기판은 VA형 액정 디스플레이의 어레이 기판인 것인, 어레이 기판의 제조방법.
  3. 제1항에 있어서,
    상기 어레이 기판은 IPS형 액정 디스플레이의 어레이 기판인 것인, 어레이 기판의 제조방법.
  4. 제1항에 있어서,
    상기 픽셀 전극 재료는 인듐 주석 산화물인 것인, 어레이 기판의 제조방법.
  5. 제1항에 있어서,
    상기 단계 1에서, 상기 제1 금속층을 패터닝한 후 스캐닝 라인과 공통 전극 라인을 더 형성하는 것인, 어레이 기판의 제조방법.
  6. 제1항에 있어서,
    상기 단계 4에서, 상기 제2 금속층을 패터닝한 후 데이타 라인을 더 형성하는 것인, 어레이 기판의 제조방법.
  7. 어레이 기판 구조체에 있어서,
    층별 순차적으로 제조된, 기판, 제1 금속층과 게이트 전극, 게이트 절연층, 액티브층, 제2 금속층과 소스/드레인 전극, 및 픽셀 전극을 포함하고; 상기 게이트 절연층 상에 제1 금속층에 대응하여 제1 스루홀을 설치하고, 소스/드레인 전극은 액티브층의 위치에 대응하여 제2 스루홀을 형성하고, 제1 금속층과 제2 금속층은 제1 스루홀에서 연결되고, 픽셀 전극과 소스/드레인 전극은 제2 스루홀에서 직접 연결되고, 제2 금속층은 픽셀 전극에 의해 커버되어 보호되는 것인, 어레이 기판 구조체.
  8. 제7항에 있어서,
    상기 어레이 기판은 VA형 액정 디스플레이의 어레이 기판인 것인, 어레이 기판 구조체.
  9. 제7항에 있어서,
    상기 어레이 기판은 IPS형 액정 디스플레이의 어레이 기판인 것인, 어레이 기판 구조체.
  10. 제7항에 있어서,
    상기 픽셀 전극의 재료는 인듐 주석 산화물인 것인, 어레이 기판 구조체.
  11. 어레이 기판의 제조방법에 있어서,
    기판을 제공하고, 기판 상에 제1 금속층을 제조하고, 제1 포토 마스크를 통하여 제1 금속층을 패터닝하고, 게이트 전극을 제조하는, 단계 1;
    기판 상에 게이트 절연층을 제조하고, 제2 포토 마스크를 통하여 액티브층을 제조하는, 단계 2;
    제3 포토 마스크를 통하여 게이트 절연층 상에 제1 금속층에 대응하여 제1 스루홀을 형성하는, 단계 3;
    게이트 절연층 상에 제2 금속층을 제조하고, 제4 포토 마스크를 통하여 제2 금속층을 패터닝하고, 소스/드레인 전극을 제조하고, 액티브층에 대응하여 제2 스루홀을 형성하고, 제1 금속층과 제2 금속층은 제1 스루홀에서 연결되는, 단계 4;
    제5 포토 마스크를 통하여 픽셀 전극을 제조하고, 픽셀 전극과 소스/드레인 전극은 제2 스루홀에서 직접 연결되고, 제2 금속층은 픽셀 전극에 의해 커버되어 보호되는, 단계 5;를 포함하고,
    상기 단계 1에서, 상기 제1 금속층을 패터닝한 후 스캐닝 라인과 공통 전극 라인을 더 형성하고;
    상기 단계 4에서, 상기 제2 금속층을 패터닝한 후 데이타 라인을 더 형성하는 것인, 어레이 기판의 제조방법.
  12. 제11항에 있어서,
    상기 어레이 기판은 VA형 액정 디스플레이의 어레이 기판인 것인, 어레이 기판의 제조방법.
  13. 제11항에 있어서,
    상기 어레이 기판은 IPS형 액정 디스플레이의 어레이 기판인 것인, 어레이 기판의 제조방법.
  14. 제11항에 있어서,
    상기 픽셀 전극의 재료는 인듐 주석 산화물인 것인, 어레이 기판의 제조방법.
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